CN107117832B - 低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃及其制造方法和应用 - Google Patents

低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃及其制造方法和应用 Download PDF

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Abstract

本发明属于玻璃技术领域,具体公开一种低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃。该低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃包括玻璃基板,以及包括自所述玻璃基板一表面向外依次沉积的第一电介质层、反射层、第二电介质层、第一阻挡层、红外线反射层、第二阻挡层及第三电介质层。本发明获得的低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃,镀膜层与玻璃基板结合力强,镀膜层致密、均匀,膜层抗划伤能力强,外观呈现低反低透状,不仅满足了各大城市对光污染的要求,还具有很好的外观效果,满足人们对玻璃颜色的需求,而且也能很好的满足人们对玻璃性能的要求。

Description

低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃及其制造方法和应用
技术领域
本发明属于玻璃技术领域,具体涉及一种低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃及其制造方法和应用。
背景技术
根据国家标准GB/18915.2的定义,低辐射镀膜玻璃是一种对4.5μm~25μm波段红外线有较高反射比的镀膜玻璃。具体来说,这种玻璃具有较好的隔热性能和遮阳性能,能够在保证室内采光充足的条件下,有效地屏蔽进入室内的太阳辐射能,避免室内温度升高,节约室内空调的能源消耗。
现有的单银低辐射镀膜玻璃的膜系结构基本为SiNx膜层/NiCr膜层/Ag膜层/NiCr膜层/SiNx膜层。这种常规的结构,设计简单,所制造的膜系反射和透过往往互补,也就是,透过越低反射越高或者透过越高反射越低,压根无法同时满足低反低透的效果。而现在一些经济发达地区考虑到光污染的问题,往往要求反射率极低,同时又要做到光线屏蔽的效果,当然同时还要考虑到玻璃的性能要求。双银低辐射镀膜和三银低辐射镀膜可以做到,但是带来的是成本的上升。
发明内容
针对目前的低辐射镀膜玻璃无法实现低反低透效果的问题,本发明提供一种低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃。
为了实现上述发明目的,本发明实施例的技术方案如下:
一种低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板,以及包括自所述玻璃基板一表面向外依次沉积的第一电介质层、反射层、第二电介质层、第一阻挡层、红外线反射层、第二阻挡层及第三电介质层;
所述第一电介质层为TiOx膜层、SiNx膜层、SiNxOy膜层、ZnOx膜层或ZnAlOx膜层中的任一层或任意两层;
所述反射层为NbOx膜层、NbNx膜层、NiCr膜层、NiCrOx膜层、NiCrNx膜层或CrNx膜层中的任一层;
所述第二电介质层为TiOx膜层、SiNx膜层、SiNxOy膜层、ZnOx膜层、ZnAlOx膜层、SnOx膜层、ZnSnOx膜层或AZO膜层中的任一层或任意两层;
所述第一阻挡层、第二阻挡层为NiCr膜层、NiCrOx膜层、CrNx膜层中的任一层;
所述红外线反射层为Ag膜层;
所述第三电介质层为SiNx膜层、SiOx膜层、SiNxOy膜层或TiOx膜层中的任一层或任意两层。
上述实施例中的低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃,采用七层镀膜层替换了常规的单银膜系,镀膜层与玻璃基板结合力强,镀膜层致密、均匀,膜层抗划伤能力强,外观呈现低反低透状,不仅满足了各大城市对光污染的要求,还具有很好的外观效果,满足人们对玻璃颜色的需求,而且也能很好的满足人们对玻璃性能的要求。
进一步地,本发明还提供了上述低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的制造方法。
所述的制造方法至少包括以下步骤:在洁净的玻璃基板一表面向外依次进行第一电介质层、反射层、第二电介质层、第一阻挡层、红外线反射层、第二阻挡层和第三电介质层的沉积处理,并在所述沉积处理过程中,采用在线光度计测量膜层颜色的参数。
上述实施例中,低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的制造过程中,采用在线光度计实时测量膜层颜色参数,根据颜色参数进行膜层厚度的调整与优化,使生产的玻璃在保障优异膜层质量的同时,满足人们对单银低辐射镀膜玻璃的需求。同时,由于生产工艺先进,镀膜层与玻璃基板结合力强,镀膜层致密、均匀,膜层抗划伤能力强,产品良率高,保证了单银低辐射镀膜玻璃的可加工性能及使用性能。
更进一步地,上述低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃在建筑门窗、建筑幕墙以及建筑物内部装饰领域中的应用。
建筑门窗、建筑幕墙及建筑物内部装饰采用本发明的低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃时,可大大降低玻璃的成本。
附图说明
下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明,附图中:
图1是本发明实施例低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的结构示意图;
图2是本发明实施例1提供的低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的玻面反射率光谱曲线;
图3是本发明实施例1提供的低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的膜面反射率光谱曲线;
图4是本发明实施例1提供的低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的透过率光谱曲线;
图5是本发明实施例2提供的低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的玻面反射率光谱曲线;
图6是本发明实施例2提供的低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的膜面反射率光谱曲线;
图7是本发明实施例2提供的低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的透过率光谱曲线;
图8是本发明实施例3提供的低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的玻面反射率光谱曲线;
图9是本发明实施例3提供的低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的膜面反射率光谱曲线;
图10是本发明实施例3提供的低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的透过率光谱曲线。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
如图1所示,本发明实例提供了一种低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃。该低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃包括玻璃基板1,以及自所述玻璃基板1一表面向外依次叠设的第一电介质层2、反射层3、第二电介质层4、第一阻挡层5、红外线反射层6、第二阻挡层7及第三电介质层8。
其中,在任一实施例中,玻璃基板1为浮法玻璃。
优选地,浮法玻璃的厚度为3~19mm。
在任一实施例中,第一电介质层2为TiOx膜层、SiNx膜层、SiNxOy膜层、ZnOx膜层或ZnAlOx膜层中的任一种,或者由前述任意两种叠设而成;
第一电介质层2位于玻璃基板1和反射层3之间,能够阻止玻璃基板1中的Na+向膜层中渗透,增加膜层和玻璃基片之间的吸附力,提高物理和化学性能,控制膜系的光学性能和颜色。
反射层3为NbOx膜层、NbNx膜层、NiCr膜层、NiCrOx膜层、NiCrNx膜层或CrNx膜层中的任一种;
反射层3位于第二电介质层4和第一电介质层2之间,具有调节膜层综合反射和透过的作用。
第二电介质层4为TiOx膜层、SiNx膜层、SiNxOy膜层、ZnOx膜层、ZnAlOx膜层、SnOx膜层、ZnSnOx膜层或AZO膜层中的任一层或任意两层的复合;
第二电介质层4位于第一阻挡层5和反射层3之间,具有控制膜系的光学性能和颜色的作用。
第一阻挡层5为NiCr膜层、NiCrOx膜层、CrNx膜层中的任一层;
第一阻挡层5位于红外线反射层6和第二电介质层4之间,具有保护功能层,控制膜系的光学性能和颜色的作用。
红外线反射层6为Ag膜层;
红外线反射层6位于第二阻挡层7和第一阻挡层5之间,具有降低辐射率、增强保温或隔热性能、控制膜系的光学性能和颜色的作用。
第二阻挡层7为NiCr膜层、NiCrOx膜层、CrNx膜层中的任一层;
第二阻挡层7位于第三电介质层8与红外线反射层6之间,具有保护功能层,减少氧化;控制膜系的光学性能和颜色的作用。
第三电介质层8为SiNx膜层、SiOx膜层、SiNxOy膜层或TiOx膜层中的任一层或由前述任意两种叠设而成;
第三电介质层8位于第二阻挡层7之上,具有保护整个膜层结构、减少氧化、提高物理和化学性能;控制膜系的光学性能和颜色的作用。
上述各层按顺序结合,从而保障了低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的整体性能,能够实现膜系颜色低反低透的效果。
优选地,第一电介质层2的厚度为32.0nm~58.7nm;反射层3的厚度为2.4nm~4.5nm;第二电介质层4的厚度为50.3nm~79.7nm;第一阻挡层5的厚度为2.3nm~3.1nm;红外线反射层6的厚度为5.8nm~9.2nm;第二阻挡层7的厚度为2.4nm~3.2nm;第三电介质层7的厚度为22.5nm~39.9nm。
上述各层按上述顺序结合并且在上述所限定范围内,低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的整体性能更加良好。各个膜层厚度的限定是考虑到整体效果的低反低透,在低反低透的基础上,外观颜色做到中性灰色或略微偏蓝,如果超出中性或清爽的颜色的范围,只能实现低反低透,而不能保持良好的色泽,无法满足人们对低反低透低辐射镀膜玻璃的需求。
优选地,本发明实施例获得的低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃可以经过加热处理(即钢化处理)。
钢化处理的具体操作为:将低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃置于钢化炉内,镀膜表面的加热温度为680~690℃,玻璃基板1非镀膜表面的加热温度较镀膜表面温度低,为670~680℃,因为膜层是低辐射镀膜,其性能决定了膜层的吸热能力不如非镀膜面强,为了确保镀膜面和非镀膜面面吸热一致,避免钢化处理时玻璃被烧弯,镀膜面的温度需高于非镀膜面。钢化处理时间为570~590s,即可获得低反低透单银低辐射镀膜玻璃。
经过钢化处理,本发明实施例获得的低反低透单银低辐射镀膜玻璃的各膜层有机的结合在一起,玻璃的可加工性能得到进一步的提高。
相应地,在上文所述的低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的基础上,本发明实施例还提供了本发明实施例低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的一种制备方法。
作为本发明优选实施例,该低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤:
步骤S01:前处理,清洗浮法玻璃,将清洗好的浮法玻璃作为玻璃基板1,并将所述清洗后的浮法玻璃送入真空室,保持真空室真空度在8×10-6mbar以上;
步骤S02、膜层沉积处理,控制溅射真空度为2×10-3mbar~5×10-3mbar,在所述浮法玻璃基板上依次沉积如下厚度的膜层:32.0nm~58.7nm的第一电介质层2、2.42nm~4.5nm的反射层3、50.32nm~79.7nm的第二电介质层4、2.32nm~3.1nm的第一阻挡层5、5.82nm~9.2nm的红外线反射层6、2.42nm~3.2nm的第二阻挡层7和22.52nm~39.9nm的第三电介质层8。
具体地,上述步骤S01中,采用Benteler清洗机对浮法玻璃进行清洗。
具体地,步骤S02在溅射镀膜过程中,采用德国冯·阿登那公司生产的磁控溅射镀膜设备控制溅射的真空度,并应当注意膜层厚度的调整,可使用在线光度计测量膜层颜色参数,并进行膜层厚度的调整,使颜色参数呈现低反低透的效果。
具体地,上述步骤S02中膜层沉积处理后的玻璃,应采用浓度为1mol/L的HCl溶液和浓度为1mol/L的NaOH溶液作为浸渍液,按照《GBT 18915.2镀膜玻璃第2部分低辐射镀膜玻璃镀膜玻璃》检测膜层沉积处理后的玻璃的耐酸性能和耐碱性能。与此同时,还采用台式光度计、研磨机、U4100紫外可见红外分光光度计等测试分析仪器测试获得低反低透单银低辐射镀膜玻璃的耐磨性以及玻面反射率、膜面反射率和透过光谱。
需要说明的是,在溅射靶材和镀膜的各层结构确定之后,决定产品性能特点的核心部分就是各层的厚度,即通过调整镀膜工艺,控制各层厚度,最终达到不同的效果。
本申请的一种优选方案中,第一电介质层2、反射层3、第二电介质层4、第一阻挡层5、红外线反射层6、第二阻挡层7、第三电介质层8的厚度分别为32.0nm~58.7nm、2.4nm~4.5nm、50.3nm~79.7nm、2.3nm~3.1nm、5.8nm~9.2nm、2.4nm~3.2nm和22.5nm~39.9nm。
相应地,本发明实施例制备的低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃,可应用于建筑门窗、建筑幕墙以及建筑物内部装饰等领域中。
为了更好的说明本发明的技术方案,以下通过多个实施例来举例说明本发明实施例低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的原理、作用以及达到的功效。
下述各具体实施示范例中涉及的仪器设备为:VAAT GC330H镀膜设备、Benteler清洗机、在线检测光度计、Datacolar CHECK Ⅱ(便携式测色仪)、Color I5透射比测试仪、U4100(紫外可见红外分光光度计)、BTA-5000型耐磨试验机。
实施例1
一种低反低透单银低辐射镀膜玻璃及其制备方法。
其中,低反低透单银低辐射镀膜玻璃包括玻璃基板1和自所述玻璃基板1一表面向外,依次沉积叠设的第一电介质层2、反射层3、第二电介质层4、第一阻挡层5、红外线反射层6、第二阻挡层7和第三电介质层8。
其中,第一电介质层2为58.7nm的氮化硅膜层、反射层3为4.5nm的镍铬合金膜层、第二电介质层4为63.4nm的氮化硅膜层、第一阻挡层5为2.3nm的镍铬合金膜层、红外线反射层6为9.2nm的银膜层、第二阻挡层7为2.4nm的镍铬合金膜层、第三电介质层8为39.9nm的氮化硅膜层;所述玻璃基板1为6mm的浮法玻璃。
该低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤:
1)前处理,采用Benteler清洗机清洗浮法玻璃,将清洗好的浮法玻璃作为玻璃基板1,并将所述清洗后的浮法玻璃送入真空室,保持真空室真空度在8×10-6mbar以上。
2)膜层沉积处理,在经过表面处理的玻璃基板1一表面向外依次沉积第一电介质层2、反射层3、第二电介质层4、第一阻挡层5、红外线反射层6、第二阻挡层7、第三电介质层8。具体如下:
采用氩气和氮气为工作气体,交流电源溅射旋转硅铝靶,在玻璃基板1上磁控溅射氮化硅膜层(即第一电介质层2),厚度为58.7nm;硅铝靶的质量比Si:Al=92:8,氩气与氮气的流量比为1:1。
采用氩气为工作气体,直流电源溅射平面镍铬合金靶,在氮化硅膜层上磁控溅射镍铬合金膜层(即反射层3),厚度为4.5nm;镍铬合金靶的质量比Ni:Cr=8:2。
采用氩气和氮气为工作气体,交流电源溅射旋转硅铝靶,在镍铬合金膜层上磁控溅射氮化硅膜层(即第二电介质层4),厚度为63.4nm;硅铝靶的质量比Si:Al=92:8,氩气与氮气的流量比为1:1。
采用氩气为工作气体,直流电源溅射平面镍铬合金靶,在氮化硅膜层上磁控溅射镍铬合金膜层(即第一阻挡层5),厚度为2.3nm;镍铬合金靶的质量比Ni:Cr=8:2。
采用氩气为工作气体,直流电源溅射平面金属银靶,在镍铬合金膜层上磁控溅射银膜层(即红外线反射层6),厚度为9.2nm。
采用氩气为工作气体,直流电源溅射平面镍铬合金靶,在银膜层上磁控溅射镍铬合金膜层(即第二阻挡层7),厚度为2.4nm;镍铬合金靶的质量比Ni:Cr=8:2。
采用氩气和氮气为工作气体,交流电源溅射旋转硅铝靶,在镍铬合金膜层上磁控溅射氮化硅膜层(即第三电介质层8),厚度为39.9nm;硅铝靶的质量比Si:Al=92:8,氩气与氮气的流量比为1:1。
上述步骤结束后,采用在线检测光度计、Datacolar CHECK II测量本实施例产品的外观颜色,同时,对本实施例1采用的玻璃基板进行相同的测试作对比,具体结果如表1所示。采用在线检测光度计测量光谱曲线,得到的光谱曲线如附图2、3、4所示。在实施例1获得的低反低透低辐射地面玻璃的基础上,对其进行加热处理,即钢化处理,具体为镀膜表面加热温度为680℃,浮法玻璃表面加热温度为670℃,加热时间580s。并采用相同的方法对加热处理后的玻璃进行颜色检测,结果显示玻璃面呈低反低透效果。
实施例2
一种低反低透单银低辐射镀膜玻璃及其制备方法。
其中,低反低透单银低辐射镀膜玻璃包括玻璃基板1和自所述玻璃基板1一表面向外,依次沉积叠设的第一电介质层2、反射层3、第二电介质层4、第一阻挡层5、红外线反射层6、第二阻挡层7和第三电介质层8.
其中,第一电介质层2为40.9nm的氮化硅膜层、反射层3为4.6nm的镍铬合金膜层、第二电介质层4为79.7nm的氮化硅膜层、第一阻挡层5为2.6nm的镍铬合金膜层、红外线反射层6为8.1nm的银膜层、第二阻挡层7为2.6nm的镍铬合金膜层、第三电介质层8为33.1nm的氮化硅膜层;所述玻璃基板1为6mm的浮法玻璃。
该低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤:
1)前处理,采用Benteler清洗机清洗浮法玻璃,将清洗好的浮法玻璃作为玻璃基板1,并将所述清洗后的浮法玻璃送入真空室,保持真空室真空度在8×10-6mbar以上。
2)膜层沉积处理,在经过表面处理的玻璃基板1上依次沉积第一电介质层2,反射层3、第二电介质层4、第一阻挡层5、红外线反射层6、第二阻挡层7、第三电介质层8。具体如下:
采用氩气和氮气为工作气体,交流电源溅射旋转硅铝靶,在玻璃基板上磁控溅射氮化硅膜层(即第一电介质层2),厚度为40.9nm;硅铝靶的质量比Si:Al=92:8,氩气与氮气的流量比为1:1。
采用氩气为工作气体,直流电源溅射平面镍铬合金靶,在氮化硅膜层上磁控溅射镍铬合金膜层(即反射层3),厚度为4.6nm;镍铬合金靶的质量比Ni:Cr=8:2。
采用氩气和氮气为工作气体,交流电源溅射旋转硅铝靶,在镍铬合金膜层上磁控溅射氮化硅膜层(即第二电介质层4),厚度为79.7nm;硅铝靶的质量比Si:Al=92:8,氩气与氮气的流量比为1:1。
采用氩气为工作气体,直流电源溅射平面镍铬合金靶,在氮化硅膜层上磁控溅射镍铬合金膜层(即第一阻挡层5),厚度为2.6nm;镍铬合金靶的质量比Ni:Cr=8:2。
采用氩气为工作气体,直流电源溅射平面金属银靶,在镍铬合金膜层上磁控溅射银膜层(即红外线反射层6),厚度为8.1nm。
采用氩气为工作气体,直流电源溅射平面镍铬合金靶,在银膜层上磁控溅射镍铬合金膜层(即第二阻挡层7),厚度为2.6nm;镍铬合金靶的质量比Ni:Cr=8:2。
采用氩气和氮气为工作气体,交流电源溅射旋转硅铝靶,在镍铬合金膜层上磁控溅射氮化硅膜层(即第三电介质层8),厚度为33.1nm;硅铝靶的质量比Si:Al=92:8,氩气与氮气的流量比为1:1。
上述步骤结束后,采用在线检测光度计、Datacolar CHECK II测量本实施例产品的外观颜色,同时,对本实施例2采用的玻璃基板进行相同的测试作对比,具体结果如表1所示。采用在线检测光度计测量光谱曲线,得到的光谱曲线如附图5、6、7所示。在实施例2获得的低反低透低辐射地面玻璃的基础上,对其进行加热处理,即钢化处理,具体为镀膜表面加热温度为680℃,浮法玻璃表面加热温度为670℃,加热时间580s。并采用相同的方法对加热处理后的玻璃进行颜色检测,结果显示玻璃面呈低反低透效果。
实施例3
一种低反低透单银低辐射镀膜玻璃及其制备方法。
其中,低反低透单银低辐射镀膜玻璃包括玻璃基板1和自所述玻璃基板1一表面向外,依次沉积叠设的第一电介质层2、反射层3、第二电介质层4、第一阻挡层5、红外线反射层6、第二阻挡层7和第三电介质层8.
其中,第一电介质层2为32.0nm的氮化硅膜层、反射层3为1.4nm的镍铬合金膜层、第二电介质层4为50.3nm的氮化硅膜层、第一阻挡层5为3.1nm的镍铬合金膜层、红外线反射层6为5.8nm的银膜层、第二阻挡层7为2.9nm的镍铬合金膜层、第三电介质层8为22.5nm的氮化硅膜层;所述玻璃基板1为6mm的浮法玻璃。
该低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤:
1)前处理,采用Benteler清洗机清洗浮法玻璃,将清洗好的浮法玻璃作为玻璃基板1,并将所述清洗后的浮法玻璃送入真空室,保持真空室真空度在8×10-6mbar以上。
2)膜层沉积处理,在经过表面处理的玻璃基板1上依次沉积第一电介质层2,反射层3、第二电介质层4、第一阻挡层5、红外线反射层6、第二阻挡层7、第三电介质层8。具体如下:
采用氩气和氮气为工作气体,交流电源溅射旋转硅铝靶,在玻璃基板上磁控溅射氮化硅膜层(即第一电介质层2),厚度为32.0nm;硅铝靶的质量比Si:Al=92:8,氩气与氮气的流量比为1:1。
采用氩气为工作气体,直流电源溅射平面镍铬合金靶,在氮化硅膜层上磁控溅射镍铬合金膜层(即反射层3),厚度为1.4nm;镍铬合金靶的质量比Ni:Cr=8:2。
采用氩气和氮气为工作气体,交流电源溅射旋转硅铝靶,在镍铬合金膜层上磁控溅射氮化硅膜层(即第二电介质层4),厚度为50.3nm;硅铝靶的质量比Si:Al=92:8,氩气与氮气的流量比为1:1。
采用氩气为工作气体,直流电源溅射平面镍铬合金靶,在氮化硅膜层上磁控溅射镍铬合金膜层(即第一阻挡层5),厚度为3.1nm;镍铬合金靶的质量比Ni:Cr=8:2。
采用氩气为工作气体,直流电源溅射平面金属银靶,在镍铬合金膜层上磁控溅射银膜层(即红外线反射层6),厚度为5.8nm。
采用氩气为工作气体,直流电源溅射平面镍铬合金靶,在银膜层上磁控溅射镍铬合金膜层(即第二阻挡层7),厚度为2.9nm;镍铬合金靶的质量比Ni:Cr=8:2。
采用氩气和氮气为工作气体,交流电源溅射旋转硅铝靶,在镍铬合金膜层上磁控溅射氮化硅膜层(即第三电介质层8),厚度为22.5nm;硅铝靶的质量比Si:Al=92:8,氩气与氮气的流量比为1:1。
上述步骤结束后,采用在线检测光度计、Datacolar CHECK II测量本实施例产品的外观颜色,同时,对本实施例3采用的玻璃基板进行相同的测试作对比,具体结果如表1所示。采用在线检测光度计测量光谱曲线,得到的光谱曲线如附图8、9、10所示
在实施例3获得的低反低透低辐射地面玻璃的基础上,对其进行加热处理,即钢化处理,具体为镀膜表面加热温度为680℃,浮法玻璃表面加热温度为670℃,加热时间580s。并采用相同的方法对加热处理后的玻璃进行颜色检测,结果显示玻璃面呈低反低透效果。
表1实施例1~3中低反低透单银低辐射镀膜玻璃外观颜色
Figure BDA0001287372470000121
Figure BDA0001287372470000131
其中,上表1中字母的含义如下
G表示镀膜玻璃的玻璃面,R*g表示镀膜玻璃玻璃面的反射值;a*g和b*g表示镀膜玻璃的玻璃面的颜色值,a*g越正表示颜色越红,a*g越负表示颜色越绿,b*g越正表示颜色越黄,b*g越负表示颜色越蓝;L*g表示镀膜玻璃的玻璃面的亮度。
F表示镀膜玻璃的镀膜面;R*f表示镀膜玻璃膜面的反射值;a*f和b*f表示镀膜玻璃膜面的颜色值,a*f越正表示颜色越红,a*f越负表示颜色越绿;b*f越正表示颜色越黄,b*f越负表示颜色越蓝;L*f表示镀膜玻璃膜面的亮度。
T表示镀膜玻璃的透过;Tr表示镀膜玻璃的透过率;a*T和b*T表示镀膜玻璃透过的颜色值,a*T越正表示颜色越红,a*T越负表示颜色越绿;b*T越正表示颜色越黄,b*T越负表示颜色越蓝;L*T表示镀膜玻璃透过的亮度。
表1的结果显示,实施例的低反低透单银低辐射镀膜玻璃的反射值R*g小于基板,透过Tr在40左右,因为为了达到低反低透的效果,反射值要尽量小,为了满足采光的要求,所以需要控制Tr。使产品中空后反射值<10%,透过值>35%。实施例1~3低反低透单银低辐射镀膜玻璃的颜色a*g和b*g均在0~-3之间,考虑到钢化过程的颜色变化,因此需要控制钢化前颜色。
另外,对实施例的低反低透单银低辐射镀膜玻璃进行加热处理即钢化,然后对钢化的低反低透单银低辐射镀膜玻璃进行颜色检测,结果显示,实施例的钢化的低反低透单银低辐射镀膜玻璃a*g在-1~0之间,b*g在-2~-4之间。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包括在本发明的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的制造方法,其特征在于:所述低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃包括玻璃基板,以及包括自所述玻璃基板一表面向外依次叠设的第一电介质层、反射层、第二电介质层、第一阻挡层、红外线反射层、第二阻挡层及第三电介质层;
所述制造方法至少包括如下步骤:
在真空条件下,在洁净的玻璃基板一表面向外依次进行第一电介质层、反射层、第二电介质层、第一阻挡层、红外线反射层、第二阻挡层和第三电介质层的沉积处理;
所述第一电介质层为氮化硅膜层、反射层为镍铬合金膜层、第二电介质层为氮化硅膜层、第一阻挡层为镍铬合金膜层、红外线反射层为银膜层、第二阻挡层为镍铬合金膜层、第三电介质层为氮化硅膜层;
所述第一电介质层、反射层、第二电介质层、第一阻挡层、红外线反射层、第二阻挡层和第三电介质层的厚度分别为32.0nm~58.7nm、2.4nm~4.5nm、50.3nm~79.7nm、2.3nm~3.1nm、5.8nm~9.2nm、2.4nm~3.2nm和22.5nm~39.9nm。
2.如权利要求1所述的低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的制造方法,其特征在于:所述低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的所述玻璃基板为浮法玻璃。
3.如权利要求1所述的低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的制造方法,其特征在于:所述沉积为磁控溅射沉积。
4.如权利要求1所述的低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的制造方法,其特征在于:在所述膜层的沉积过程中,控制真空度为2×10-3mbar~5×10-3mbar。
5.如权利要求1~4任一项所述的低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃的制造方法在建筑门窗、建筑幕墙以及建筑物内部装饰领域中的应用。
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