CN203543248U - 一种古铜色低辐射镀膜玻璃 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种古铜色低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片，在所述的玻璃基片的一侧从内向外依次设置有氮化铜层、第一电介质层、第一阻挡层、铜层、第二阻挡层及第二电介质层。本实用新型的镀膜玻璃采用氮化铜打底、中间层采用一层金属铜层的设计，使得该镀膜玻璃呈现出一种低可见光反射、低可见光透过（后简称低反低透）的古铜色效果，作为建筑物的外观设计，给人古典复古的视觉效果。同时又具备低辐射LOW-E功能，比使用银层设计的膜系成本低。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种镀膜玻璃，尤其是涉及一种古铜色低辐射镀膜玻璃。
背景技术
低辐射镀膜玻璃又称Low-E玻璃，在玻璃基片的单表面镀覆一至多层特殊的金属或金属氧化物、金属氮化物薄膜，由此形成各种视觉效果和具有不同光学和热学性能特点。对波长范围780nm～2500nm的红外线具有较高反射比，有良好的隔热保温性能，该产品集装饰建筑外观、控制光线、调节热量、节约能源、改善环境等多种功能为一体，在建筑、交通、娱乐等多种行业均可广泛应用。但是目前市场上低反低透古铜色低辐射镀膜玻璃极少见，且使用了两层银设计，价格昂贵，市场上推广受到很大的限制。
发明内容
本实用新型为解决公知技术中存在的技术问题而提供一种采用非双银镀制的古铜色低辐射镀膜玻璃。
本实用新型为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案是：
一种古铜色低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片，其特征在于：在所述的玻璃基片的一侧从内向外依次设置有氮化铜层、第一电介质层、第一阻挡层、铜层、第二阻挡层及第二电介质层。
本实用新型还可以采用如下技术措施：
所述的膜层结构依次为玻璃基片、氮化铜层、Si3N4第一电介质层、NiCr第一阻挡层、铜层、NiCr第二阻挡层以及Si3N4第二电介质层。
所述氮化铜CuNx层，膜厚为：3～8nm。
所述第一电介质层Si3N4膜层，膜厚为：30～45nm；
所述第一阻挡层NiCr膜层，膜厚为：6～15nm；
所述铜Cu层，膜厚为：10～20nm；
所述第二阻挡层NiCr膜层，膜厚为：3～8nm；
所述第二电介质层Si3N4膜层，膜厚为：45～60nm。
本实用新型具有的优点和积极效果是：本实用新型的镀膜玻璃采用氮化铜打底、中间层采用一层金属铜层的设计，使得该镀膜玻璃呈现出一种低可见光反射低可见光透过 （后称低反低透）的古铜色效果，作为建筑物的外观设计，给人古典复古的视觉效果。同时又具备低辐射LOW-E功能，比使用银层设计的膜系成本低。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图；
图2是光谱曲线。
具体实施方式
为能进一步了解本实用新型的发明内容、特点及功效，兹例举以下实施例，并配合附图详细说明如下：
请参阅图1，本实用新型公开了一种古铜色低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片，在所述的玻璃基片的一侧从内向外依次设置有氮化铜层、第一电介质层、第一阻挡层、铜层、第二阻挡层及第二电介质层。
所述氮化铜CuNx层，膜厚为：3～8nm;
所述第一电介质层Si3N4膜层，膜厚为：30～45nm；
所述第一阻挡层为NiCr膜层，膜厚为：6～15nm；
所述铜Cu层，膜厚为：10～20nm；
所述第二阻挡层为NiCr膜层，膜厚为：3～8nm；
所述第二电介质层为Si3N4膜层，膜厚为：45～60nm。
按本实例镀制出来的镀膜玻璃，光学性能（6mm普通白玻）如下：
可见光玻璃面反射率=11%；
可见光玻璃面色坐标a*值＝12.5；
可见光玻璃面色坐标b*＝15.2；
可见光膜面反射率＝18.9％；
可见光膜面色坐标a*值＝19.8；
可见光膜面色坐标b*＝-18；
玻璃可见光透过率T=9.6%；
玻璃透过色坐标a*值＝0.9；
玻璃透过色坐标b*值＝11；
本实用新型采用了Cu作为反射红外线的功能层，膜层厚度较厚，其辐射率可低至0.026，图2为本实例的光谱曲线。
本实用新型的镀膜玻璃采用氮化铜打底、中间层采用一层金属铜层的设计，使得该镀膜玻璃呈现出一种低可见光反射低可见光透过（后称低反低透）的古铜色效果，作为建筑物的外观设计，给人古典复古的视觉效果。同时又具备低辐射LOW-E功能，比使用银层设计的膜系成本低。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本实用新型所作的进一步详细说明，不能认定本实用新型的具体实施只局限于这些说明。对于本实用新型所属技术领域的技术人员来说，在本实用新型所公开的实质和基本原则范围内的任何修改、变化或者仿效变换都属于本实用新型的权利要求保护范围。
Claims (8)
1.一种古铜色低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片，其特征在于：在所述的玻璃基片的一侧从内向外依次设置有氮化铜层、第一电介质层、第一阻挡层、铜层、第二阻挡层及第二电介质层。
2.根据权利要求1所述的一种古铜色低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述的膜层结构依次为玻璃基片、氮化铜层、Si3N4第一电介质层、NiCr第一阻挡层、铜层、NiCr第二阻挡层以及Si3N4第二电介质层。
3.根据权利要求2所述的一种古铜色低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述氮化铜CuNx层，膜厚为：3～8nm。
4.根据权利要求2所述的一种古铜色低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一电介质层Si3N4膜层，膜厚为：30～45nm。
5.根据权利要求2所述的一种古铜色低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一阻挡层NiCr膜层，膜厚为：6～15nm。
6.根据权利要求2所述的一种古铜色低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述铜Cu层，膜厚为：10～20nm。
7.根据权利要求2所述的一种古铜色低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二阻挡层NiCr膜层，膜厚为：3～8nm。
8.根据权利要求2所述的一种古铜色低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二电介质层Si3N4膜层，膜厚为：45～60nm。
Priority Applications (1)
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Publications (1)
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Family Applications (1)
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Country Status (1)
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107117832A (zh) * | 2017-05-05 | 2017-09-01 | 信义节能玻璃（芜湖）有限公司 | 低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃及其制造方法和应用 |
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2013
- 2013-07-12 CN CN201320413493.2U patent/CN203543248U/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
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| CN107117832A (zh) * | 2017-05-05 | 2017-09-01 | 信义节能玻璃（芜湖）有限公司 | 低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃及其制造方法和应用 |
| CN107117832B (zh) * | 2017-05-05 | 2023-06-16 | 信义节能玻璃（芜湖）有限公司 | 低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃及其制造方法和应用 |
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