CN207405087U - 一种降低光污染的双面镀膜玻璃及具有其的中空玻璃 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及玻璃生产技术领域，具体涉及一种降低光污染的双面镀膜玻璃，包括基体、镀设于所述玻璃基体一侧表面的双银Low‑e膜，其特征在于：所述玻璃基体的另一侧表面镀设有减反膜，所述减反膜包括自所述玻璃基体朝外侧依次镀设的第一高折射率介质层、第一低折射率介质层、第二高折射率介质层和第二低折射率介质层，本实用新型还涉及使用上述双面镀膜玻璃制作的中空玻璃，本实用新型采用双面镀膜技术，在玻璃基体的一面镀减反射膜，另一面镀设双银Low‑e膜，这种双面镀膜产品可进一步降低室外可见光反射率，同时保留双银Low‑e膜对红外热的反射功能，作为建筑材料，在满足节能热工参数的同时，进一步降低了室外可见光反射率，达到降低光污染的目的。

Description

一种降低光污染的双面镀膜玻璃及具有其的中空玻璃

技术领域

本实用新型涉及玻璃生产技术领域，具体涉及一种降低光污染的双面镀膜玻璃及具有其的中空玻璃。

背景技术

随着Low-e中空玻璃在公共建筑玻璃幕墙和住宅门窗中的大规模运用，光污染问题成为困扰城市居民的问题，Low-e中空玻璃将阳光中的绝大部分红外热能反射至室外，在城市中形成所谓的“热岛效应”。对阳光中的可见光同样也有反射，这种镜面反光效应特别容易造成炫光，重者造成交通事故，轻者干扰居民的日常生活。这种光污染成为城市居民不得不面对的现实。

按常规的Low-e中空玻璃的外反分类，可见光反射率低于15％的可视为低反系列，然而实际情况是这种所谓的“低反”Low-e中空玻璃的可见光反射率仍然偏高，炫光明显。可见光反射率高于15％的就更加明显了。

为减少这种因玻璃幕墙的大规模使用造成的“光污染”现象，各地方政府纷纷颁布政策法规，对建筑玻璃的外反进行限制。例如上海市规定外反必须小于15％，涉及到居民居住区的外反一般小于11％～7％不等，有些项目的外反要求小于5％。

现有常规的双银Low-e玻璃的膜层结构是在玻璃的一面镀膜，从玻璃面朝外依次为：“底部介质层/第一种子层/第一红外反射层/第一保护层/中间介质层/第二种子层第二红外反射层/第二保护层/顶部介质层”。或者还有一种低反射率的双银Low-e玻璃的膜层结构为：“底部介质层/吸收层/第一种子层/第一红外反射层/第一保护层/中间介质层/第二种子层第二红外反射层/第二保护层/顶部介质层”。

现有的Low-e玻璃中空玻璃仅包含一层Low-e膜，且镀膜面在中空玻璃的2#面，受限于热工性能以及外观颜色的要求，现有的这种Low-e中空玻璃的室外可见光反射率的最低极限是7％～9％，无法再进一步降低外反。

发明内容

本实用新型提供一种降低光污染的双面镀膜玻璃，在满足节能热工参数的同时，能进一步降低室外可见光反射率，达到降低光污染的目的。

为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种降低光污染的双面镀膜玻璃，包括玻璃基体、镀设于所述玻璃基体一侧表面的双银Low-e膜，所述玻璃基体的另一侧表面镀设有减反膜，所述减反膜包括自所述玻璃基体朝外侧依次镀设的第一高折射率介质层、第一低折射率介质层、第二高折射率介质层和第二低折射率介质层，所述第一高折射率介质层和所述第二高折射率介质层的折射率范围分别为1.90～2.50，所述第一低折射率介质层和所述第二低折射率介质层的折射率范围分别为1.40～1.60。

进一步的，所述第一高折射率介质层的膜层材料为氮化硅、氧化锌、氧化铌、氧化钛、氧化钽或氧化锆，所述第一高折射率介质层的膜层厚度为10-20nm。

进一步的，所述第二高折射率介质层的膜层材料为氮化硅、氧化锌、氧化铌、氧化钛、氧化钽或氧化锆，所述第二高折射率介质层的膜层材料与所述第一高折射率介质层的膜层材料相同或不同，所述第二高折射率介质层的厚度为100-130nm。

进一步的，所述第一低折射率介质层的膜层材料为氧化铝或氧化硅，所述第一低折射率介质层的膜层厚度为25-35nm。

进一步的，所述第二低折射率介质层的膜层材料为氧化铝或氧化硅，所述第二低折射率介质层的膜层材料与所述第一低折射率介质层的膜层材料相同或不同，所述第二低折射率介质层的膜层厚度为55-75nm。

进一步的，所述减反膜还包括设于所述第二低折射率介质层外侧表面的保护膜层。

进一步的，所述保护膜层的材料为氧化锆或氮化硅，所述保护膜层的厚度为4-10nm。

进一步的，所述双银Low-e膜包括自所述玻璃基体朝外依次镀设的底部介质层、第一种子层、第一红外反射层、第一保护层、中间介质层、第二种子层、第二红外反射层、第二保护层以及顶部介质层。

进一步的，所述双银Low-e膜包括自所述玻璃基体朝外依次镀设的底部介质层、吸收层、第一种子层、第一红外反射层、第一保护层、中间介质层、第二种子层、第二红外反射层、第二保护层和顶部介质层。

本实用新型还提供一种中空玻璃，包括上述的双面镀膜玻璃以及配片玻璃，所述双面镀膜玻璃的所述减反膜位于室外，所述双面镀膜玻璃的所述双银Low-e膜朝向所述配片玻璃。

采用以上技术方案后，本实用新型与现有技术相比具有如下优点：本实用新型采用双面镀膜技术，在玻璃基体的一面镀设减反膜，另一面镀设双银Low-e膜，这种双面镀膜玻璃以及具备该双银镀膜玻璃的中空玻璃可进一步降低室外可见光反射率，同时保留双银Low-e膜对红外热的反射功能，作为一种建筑材料，在满足节能热工参数的同时，达到有效降低光污染的目的。

附图说明

附图1为本实用新型中的双面镀膜玻璃的结构示意图；

附图2为本实用新型中的中空玻璃的结构示意图。

其中，1、双面镀膜玻璃；101、玻璃基体；102、减反膜；103、双银Low-e膜；2、配片玻璃；3、间隔条；4、结构胶。

具体实施方式

下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明。

如图1所示，一种降低光污染的双面镀膜玻璃1，包括玻璃基体101、镀设于玻璃基体101一侧表面的双银Low-e膜103以及镀设于玻璃基体101另一侧表面的减反膜102。

如图2所示，一种中空玻璃，包括上述双面镀膜玻璃1以及与双面镀膜玻璃1表面尺寸相同的配片玻璃2，双面镀膜玻璃1和配片玻璃2之间通过间隔条3相分隔形成中空玻璃。其中，减反膜102位于室外，双银Low-e膜103朝向配片玻璃2。

减反膜102包括自玻璃基体101朝外侧依次镀设的第一高折射率介质层、第一低折射率介质层、第二高折射率介质层和第二低折射率介质层，第一高折射率介质层和第二高折射率介质层的折射率范围分别为1.90-2.50，第一低折射率介质层和第二低折射率介质层的折射率范围分别为1.40-1.60。

第一高折射率介质层和第二高折射率介质层的膜层材料可以选用氮化硅、氧化锌、氧化铌、氧化钛、氧化钽或氧化锆，第一高折射率介质层的膜层厚度为10-20nm，第二高折射率介质层的厚度为100-130nm，第二高折射率介质层的膜层材料和第一高折射率介质层的膜层材料可以相同或不同。

第一低折射率介质层和第二低折射率介质层的膜层材料可以选用氧化铝或氧化硅，第一低折射率介质层的膜层厚度为25-35nm，第二低折射率介质层的膜层厚度为55-75nm，第二低折射率介质层的膜层材料与第一低折射率介质层的膜层材料可以相同或不同。

由于减反膜102位于室外，从耐候性的角度考虑，优选的，减反膜102还包括设置于第二低折射率介质层外层的保护膜层，保护膜层的材料为氧化锆或氮化硅，保护膜层的厚度为4-10nm。

双银Low-e膜103包括自玻璃基体101朝外依次镀设的底部介质层、第一种子层、第一红外反射层、第一保护层、中间介质层、第二种子层、第二红外反射层、第二保护层、顶部介质层或底部介质层、吸收层、第一种子层、第一红外反射层、第一保护层、中间介质层、第二种子层、第二红外反射层、第二保护层、顶部介质层。

制备上述中空玻璃具体步骤如下：

(1)清洗玻璃基体101，干燥后自玻璃基体101的一侧表面通过磁控溅射镀膜方式朝外依次镀设减反膜102中的各个膜层；

(2)清洗步骤(1)得到的单面镀膜玻璃，干燥后自玻璃基体101的另一侧表面通过磁控溅射镀膜方式朝外依次镀设双银Low-e膜103中的各个膜层，即得到双面镀膜玻璃1；

(3)以步骤(2)得到的双面镀膜玻璃1为膜玻，以配片玻璃2为配片，合成中空玻璃，双面镀膜玻璃1中的减反膜102位于室外，双面镀膜玻璃1中的双银Low-e膜103朝向配片玻璃2。

以下为具体实施例：

实施例1：

双面镀膜玻璃1的膜层结构和各膜层厚度如下表1所示：

表1

中空玻璃的制备方法如下：

步骤(1)：利用镀膜玻璃行业常用的磁控溅射镀膜线，首先在玻璃基体101的一侧表面镀制减反膜102：

玻璃基体101经过清洗机清洗干净并风干之后，传送进入真空溅射镀膜装置，采用交流中频电源，靶材为SiAl合金靶，工艺气体是Ar和N₂，反应式磁控溅射的镀膜方式在玻璃表面上沉积20nm的氮化硅层；

采用交流中频电源，靶材为SiAl合金靶，工艺气体是Ar和O₂，反应式磁控溅射的镀膜方式在上述的氮化硅层上再沉积35nm的氧化硅层；

采用交流中频电源，靶材为SiAl合金靶，工艺气体是Ar和N₂，反应式磁控溅射的镀膜方式在上述的氧化硅层上沉积100nm的氮化硅层；

采用交流中频电源，靶材为SiAl合金靶，工艺气体是Ar和O₂，反应式磁控溅射的镀膜方式在上述的氮化硅层上再沉积75nm的氧化硅层；

采用交流中频电源，靶材为SiAl合金靶，工艺气体是Ar和O₂，反应式磁控溅射的镀膜方式在上述的氧化硅上再沉积10nm的氮化硅保护膜层。

步骤(2)：利用镀膜玻璃行业常用的磁控溅射镀膜线，在玻璃基体101的另一侧表面镀制双银Low-e膜103：

清洗机清洗由步骤(1)得到的单面镀膜玻璃并风干之后，传送进入真空溅射镀膜装置，采用交流中频电源，靶材为ZnSn合金靶，工艺气体是Ar和O₂，反应磁控溅射的镀膜方式在玻璃的另一面上沉积12nm厚的氧化锌锡层；

采用交流中频电源，靶材为ZnAl合金靶，工艺气体是Ar和O₂，反应磁控溅射的镀膜方式在上述的ZnSnO层上沉积10nm厚的氧化锌层；

采用直流电源，靶材为Ag靶，工艺气体是Ar，磁控溅射的镀膜方式在上述的ZnO层上沉积9.8nm厚的银层；

采用直流电源，靶材为NiCr靶，工艺气体是Ar，磁控溅射的镀膜方式在上述的Ag层上沉积1nm厚的镍铬层；

采用交流中频电源，靶材为ZnSn合金靶，工艺气体是Ar和O₂，反应磁控溅射的镀膜方式在玻璃的另一面上沉积67nm厚的氧化锌锡层；

采用交流中频电源，靶材为ZnAl合金靶，工艺气体是Ar和O₂，反应磁控溅射的镀膜方式在上述的ZnSnO层上沉积10nm厚的氧化锌层；

采用直流电源，靶材为Ag靶，工艺气体是Ar，磁控溅射的镀膜方式在上述的ZnO层上沉积12nm厚的银层；

采用直流电源，靶材为NiCr靶，工艺气体是Ar，磁控溅射的镀膜方式在上述的Ag层上沉积1.2nm厚的镍铬层；

采用交流中频电源，靶材为SiAl合金靶，工艺气体是Ar和N₂，反应式磁控溅射的镀膜方式在上述的NiCr层上沉积35nm的氮化硅层。

通过上述步骤得到双面镀膜玻璃1。

步骤(3)：采用中空玻璃行业通常的做法，以上述双面镀膜玻璃1为膜玻，另取相同尺寸的另一片配片玻璃2作为配片，合成中空玻璃，例如合成“6+12A+6”的标准中空玻璃。双面镀膜玻璃1和配片玻璃2之间通过间隔条3相分隔，并通过结构胶4相固定。其中，中空玻璃的室外1#面是减反膜102，2#面是双银Low-e膜103。

经检测，上述的中空玻璃室外反射率为5.4％，可见光透过率70％，室外反射色度值为：“L*＝27.8,a*＝-0.8,b*＝-5.6”，是一种高透低反的节能玻璃。

实施例2：

双面镀膜玻璃1的膜层结构和各膜层厚度如下表2所示：

表2

中空玻璃的制备方法如下：

步骤(1)：利用镀膜玻璃行业常用的磁控溅射镀膜线，首先在玻璃基体101的一侧表面镀制减反膜102：

玻璃基体101经过清洗机清洗干净并风干之后，传送进入真空溅射镀膜装置，采用交流中频电源，靶材为氧化钛陶瓷靶，工艺气体是Ar和O₂，反应式磁控溅射的镀膜方式在玻璃表面上沉积10nm的氧化钛层；

采用交流中频电源，靶材为SiAl合金靶，工艺气体是Ar和O₂，反应式磁控溅射的镀膜方式在上述的氮化钛层上再沉积25nm的氧化硅层；

采用交流中频电源，靶材为SiAl合金靶，工艺气体是Ar和N₂，反应式磁控溅射的镀膜方式在上述的氧化硅层上沉积130nm的氮化硅层；

采用交流中频电源，靶材为SiAl合金靶，工艺气体是Ar和O₂，反应式磁控溅射的镀膜方式在上述的氮化硅层上再沉积55nm的氧化硅层；

采用直流电源，靶材为Zr金属靶，工艺气体是Ar和O₂，反应式磁控溅射的镀膜方式在上述的氧化硅上再沉积4nm的氧化锆保护膜层。或者采用交流中频电源，靶材为氧化锆陶瓷靶，工艺气体是Ar和O₂，反应式磁控溅射的镀膜方式在上述的氧化硅层上再沉积4nm的氧化锆保护膜层。

步骤(2)：利用镀膜玻璃行业常用的磁控溅射镀膜线，在玻璃基体101的另一侧表面镀制双银Low-e膜103：

清洗机清洗由步骤(1)得到的镀膜玻璃并风干之后，传送进入真空溅射镀膜装置，采用交流中频电源，靶材为ZnSn合金靶，工艺气体是Ar和O₂，反应磁控溅射的镀膜方式在玻璃的另一面上沉积16nm厚的氧化锌锡层；

采用直流电源，靶材为NiCr靶，工艺气体是Ar，磁控溅射的镀膜方式在上述的ZnSnO层上沉积3.5nm厚的镍铬层；

采用交流中频电源，靶材为ZnAl合金靶，工艺气体是Ar和O₂，反应磁控溅射的镀膜方式在上述的NiCr层上沉积40nm厚的氧化锌层；

采用直流电源，靶材为Ag靶，工艺气体是Ar，磁控溅射的镀膜方式在上述的ZnO层上沉积4nm厚的银层；

采用直流电源，靶材为Cu靶，工艺气体是Ar，磁控溅射的镀膜方式在上述的Ag层上沉积4nm厚的铜层；

采用直流电源，靶材为NiCr靶，工艺气体是Ar，磁控溅射的镀膜方式在上述的Cu层上沉积2.3nm厚的镍铬层；

采用交流中频电源，靶材为ZnSn合金靶，工艺气体是Ar和O₂，磁控溅射的镀膜方式在上述的NiCr层上沉积60nm厚的氧化锌锡层；

采用交流中频电源，靶材为ZnAl合金靶，工艺气体是Ar和O₂，反应磁控溅射的镀膜方式在上述的ZnSnO层上沉积15nm厚的氧化锌层；

采用直流电源，靶材为Ag靶，工艺气体是Ar，磁控溅射的镀膜方式在上述的ZnO层上沉积11nm厚的银层；

采用直流电源，靶材为NiCr靶，工艺气体是Ar，磁控溅射的镀膜方式在上述的Ag层上沉积2nm厚的镍铬层；

采用交流中频电源，靶材为SiAl合金靶，工艺气体是Ar和N₂，反应式磁控溅射的镀膜方式在上述的NiCr层上沉积42nm的氮化硅层。

通过上述步骤得到双面镀膜玻璃1。

步骤(3)：采用中空玻璃行业通常的做法，以上述双面镀膜玻璃1为膜玻，另取相同尺寸的另一片配片玻璃2作为配片，合成中空玻璃。双面镀膜玻璃1和配片玻璃2之间通过间隔条3相分隔，并通过结构胶4相固定。其中，中空玻璃的室外1#面是减反膜102，2#面是双银Low-e膜103。

经检测，上述的中空玻璃室外反射率为5％，可见光透过率45％，室外反射色度值为：“L*＝26.7,a*＝-1,b*＝-3.8”，是一种低透低反的节能玻璃。

实施例3：

双面镀膜玻璃1的膜层结构和各膜层厚度如下表3所示：

表3

中空玻璃的制备方法如下：

步骤(1)：利用镀膜玻璃行业常用的磁控溅射镀膜线，首先在玻璃基体101的一侧表面镀制减反膜102：

玻璃基体101经过清洗机清洗干净并风干之后，传送进入真空溅射镀膜装置，采用交流中频电源，靶材为氧化钛陶瓷靶，工艺气体是Ar和O₂，反应式磁控溅射的镀膜方式在玻璃表面上沉积15nm的氧化钛层；

采用交流中频电源，靶材为SiAl合金靶，工艺气体是Ar和O₂，反应式磁控溅射的镀膜方式在上述的氮化硅层上再沉积30nm的氧化硅层；

采用交流中频电源，靶材为SiAl合金靶，工艺气体是Ar和N₂，反应式磁控溅射的镀膜方式在上述的氧化硅层上沉积116nm的氮化硅层；

采用交流中频电源，靶材为SiAl合金靶，工艺气体是Ar和O₂，反应式磁控溅射的镀膜方式在上述的氮化硅层上再沉积60nm的氧化硅层；

采用交流中频电源，靶材为SiAl合金靶，工艺气体是Ar和O₂，反应式磁控溅射的镀膜方式在上述的氧化硅上再沉积5nm的氮化硅保护膜层。

步骤(2)：利用镀膜玻璃行业常用的磁控溅射镀膜线，在玻璃基体101的另一侧表面镀制双银Low-e膜103：

清洗机清洗由步骤(1)得到的镀膜玻璃并风干之后，传送进入真空溅射镀膜装置，采用交流中频电源，靶材为ZnSn合金靶，工艺气体是Ar和O₂，反应磁控溅射的镀膜方式在玻璃的另一面上沉积22nm厚的氧化锌锡层；

采用交流中频电源，靶材为ZnAl合金靶，工艺气体是Ar和O₂，反应磁控溅射的镀膜方式在上述的ZnSnO层上沉积10nm厚的氧化锌层；

采用直流电源，靶材为Ag靶，工艺气体是Ar，磁控溅射的镀膜方式在上述的ZnO层上沉积5.2nm厚的银层；

采用直流电源，靶材为Cu靶，工艺气体是Ar，磁控溅射的镀膜方式在上述的Ag层上沉积4.5nm厚的铜层；

采用直流电源，靶材为NiCr靶，工艺气体是Ar，磁控溅射的镀膜方式在上述的Cu层上沉积1.6nm厚的镍铬层；

采用交流中频电源，靶材为ZnSn合金靶，工艺气体是Ar和O₂，磁控溅射的镀膜方式在上述的NiCr层上沉积65nm厚的氧化锌锡层；

采用交流中频电源，靶材为ZnAl合金靶，工艺气体是Ar和O₂，反应磁控溅射的镀膜方式在上述的ZnSnO层上沉积12nm厚的氧化锌层；

采用直流电源，靶材为Ag靶，工艺气体是Ar，磁控溅射的镀膜方式在上述的ZnO层上沉积13nm厚的银层；

采用直流电源，靶材为NiCr靶，工艺气体是Ar，磁控溅射的镀膜方式在上述的Ag层上沉积1nm厚的镍铬层；

采用交流中频电源，靶材为SiAl合金靶，工艺气体是Ar和N₂，反应式磁控溅射的镀膜方式在上述的NiCr层上沉积36nm的氮化硅层。

通过上述步骤得到双面镀膜玻璃1。

步骤(3)：采用中空玻璃行业通常的做法，以上述双面镀膜玻璃1为膜玻，另取相同尺寸的另一片配片玻璃2作为配片，合成中空玻璃，例如合成“6+12A+6”的标准中空玻璃。双面镀膜玻璃1和配片玻璃2之间通过间隔条3相分隔，并通过结构胶4相固定。其中，中空玻璃的室外1#面是减反膜102，2#面是双银Low-e膜103。

经检测，上述的中空玻璃室外反射率为6％，可见光透过率60％，室外反射色度值为：“L*＝29,a*＝-1.1,b*＝-6.5”，是一种低透低反的节能玻璃。

当然，玻璃基体101和中空玻璃也可以采用其他规格。

本实用新型通过在玻璃基体101的两个表面分别镀制减反膜102和双银Low-e膜103，这种“双膜”的组合能达到降低反射率的效果。但同时应该注意到，在玻璃基体101的两个面分别镀制减反膜102和双银Low-e膜103，两个膜层的叠加效果会使得整体的颜色有一定的偏移，需整体进行膜层设计，对原有的双银Low-e膜103的厚度进行适当的调整，以便得到反射率低、外观颜色中性怡人的视觉效果。

双银Low-e玻璃作为建筑的幕墙玻璃，是建筑的“外衣”，因此外观颜色需中性怡人。单独在玻璃基体101的一面镀制双银Low-e膜103，通过膜层结构设计和镀膜工艺控制，能呈现较中性的颜色；同理，单独在玻璃基体101的一面镀制减反膜102，同样可以通过膜层结构设计和镀膜工艺控制，呈现出受市场欢迎的中性颜色。但是，将双银Low-e膜103和减反膜102分别镀制在玻璃基体101的两侧，由于膜层材料和结构的增多，光在“空气-双银Low-e膜103各膜层-玻璃基体101-减反膜102各膜层-空气”的多个界面经过反复多次的反射、折射、透射以及吸收之后，光谱完全发生改变，外观颜色不再中性怡人。因此，需要适当调整双银Low-e膜103的膜层厚度，来重新匹配减反膜102，达到整体中性怡人的效果。

例如，在6mm厚的白色玻璃基体101表面镀制双银Low-e膜103的膜层结构依次为：“ZnO/Ag/NiCr/ZnSnO/ZnO/Ag/NiCr/SiN”,膜层厚度分别为：“20nm/8nm/1.5nm/55nm/10nm/12nm/1.2nm/40nm”，测得玻面的反射色为：L*＝30，a*＝-0.5,b*＝-4，反射色非常中性。在6mm厚的白色玻璃基体101表面镀制减反膜102的膜层结构依次为：“TiOx/SiO/TiOx/SiO/SiN”，膜层厚度分别为：“10nm/28nm/100nm/60nm/10nm”，测得玻面的反射色为：“L*＝25，a*＝-0.6,b*＝-1”。反射色非常中性。然而，将上述的双银Low-e膜103和减反膜102分别镀在6mm厚的白色玻璃基体的两侧，整体的反射色为：“L*＝15，a*＝12,b*＝2.5”。颜色为红黄色，违背了玻璃晶莹剔透、中性怡人的本色。在保持减反膜102的膜层结构和厚度不变的情况下，对上述的双银Low-e膜103进行调整，将厚度调整为“20nm/10nm/1nm/65nm/10nm/12nm/1nm/35nm”，整体的反射色为：“L*＝18，a*＝-0.5,b*＝-5”。体现了玻璃晶莹剔透、中性怡人的本色。

本实用新型的双面镀膜玻璃和使用该双面镀膜玻璃制备的中空玻璃作为建筑材料，在满足节能热工参数的同时，进一步降低了室外可见光反射率，达到降低光污染的目的。并且本实用新型涉及的制备方法与现有的常规Low-e玻璃制程完全融合，可大规模生产。

上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种降低光污染的双面镀膜玻璃，包括玻璃基体、镀设于所述玻璃基体一侧表面的双银Low-e膜，其特征在于：所述玻璃基体的另一侧表面镀设有减反膜，所述减反膜包括自所述玻璃基体朝外侧依次沉积的第一高折射率介质层、第一低折射率介质层、第二高折射率介质层和第二低折射率介质层，所述第一高折射率介质层和所述第二高折射率介质层的折射率范围分别为1.90~2.50，所述第一低折射率介质层和所述第二低折射率介质层的折射率范围分别为1.40~1.60。

2.根据权利要求1所述的一种降低光污染的双面镀膜玻璃，其特征在于：所述减反膜还包括设于所述第二低折射率介质层外侧表面的保护膜层，所述保护膜层的材料为氧化锆或氮化硅，所述保护膜层的厚度为4-10nm。

3.根据权利要求1所述的一种降低光污染的双面镀膜玻璃，其特征在于：所述第一高折射率介质层的膜层材料为氮化硅、氧化锌、氧化铌、氧化钛、氧化钽或氧化锆，所述第一高折射率介质层的膜层厚度为10-20nm。

4.根据权利要求3所述的一种降低光污染的双面镀膜玻璃，其特征在于：所述第二高折射率介质层的膜层材料为氮化硅、氧化锌、氧化铌、氧化钛、氧化钽或氧化锆，所述第二高折射率介质层的膜层材料与所述第一高折射率介质层的膜层材料相同或不同，所述第二高折射率介质层的厚度为100-130nm。

5.根据权利要求1所述的一种降低光污染的双面镀膜玻璃，其特征在于：所述第一低折射率介质层的膜层材料为氧化铝或氧化硅，所述第一低折射率介质层的膜层厚度为25-35nm。

6.根据权利要求5所述的一种降低光污染的双面镀膜玻璃，其特征在于：所述第二低折射率介质层的膜层材料为氧化铝或氧化硅，所述第二低折射率介质层的膜层材料与所述第一低折射率介质层的膜层材料相同或不同，所述第二低折射率介质层的膜层厚度为55-75nm。

7.根据权利要求2所述的一种降低光污染的双面镀膜玻璃，其特征在于：所述减反膜由自所述玻璃基体表面朝外依次镀设的10-20nm厚的所述第一高折射率介质层、25-35nm厚的所述第一低折射率介质层、100-130nm厚的所述第二高折射率介质层、55-75nm厚的所述第二低折射率介质层以及4-10nm厚的保护膜层组成。

8.根据权利要求2所述的一种降低光污染的双面镀膜玻璃，其特征在于：所述双银Low-e膜包括自所述玻璃基体朝外依次镀设的底部介质层、第一种子层、第一红外反射层、第一保护层、中间介质层、第二种子层、第二红外反射层、第二保护层以及顶部介质层或底部介质层、吸收层、第一种子层、第一红外反射层、第一保护层、中间介质层、第二种子层、第二红外反射层、第二保护层和顶部介质层。

9.根据权利要求8所述的一种降低光污染的双面镀膜玻璃，其特征在于：所述双银Low-e膜由自所述玻璃基体一侧表面朝外依次镀设的所述底部介质层、所述第一种子层、所述第一红外反射层、所述第一保护层、所述中间介质层、所述第二种子层、所述第二红外反射层、所述第二保护层以及所述顶部介质层组成，或所述双银Low-e膜由自所述玻璃基体一侧表面朝外依次镀设的所述底部介质层、所述吸收层、所述第一种子层、所述第一红外反射层、所述第一保护层、所述中间介质层、所述第二种子层、所述第二红外反射层、所述第二保护层以及所述顶部介质层组成，所述减反膜由自所述玻璃基体另一侧表面朝外依次镀设的10-20nm厚的所述第一高折射率介质层、25-35nm厚的所述第一低折射率介质层、100-130nm厚的所述第二高折射率介质层、55-75nm厚的所述第二低折射率介质层以及4-10nm厚的保护膜层组成。

10.一种具有如权利要求1至9任一项所述的双面镀膜玻璃的中空玻璃，其特征在于：还包括配片玻璃，所述双面镀膜玻璃的所述减反膜位于室外，所述双面镀膜玻璃的所述双银Low-e膜朝向所述配片玻璃。