CN112142340B - 无色双银镀膜玻璃及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本申请提供一种无色双银镀膜玻璃，包括玻璃基板，沿背离所述玻璃基板一表面方向，还依次层叠结合有第一电介质层、光学折射层、第二电介质层、第一功能层、第一功能保护层、第三电介质层、第二功能层、第二功能保护层以及第四电介质层，通过特定的膜层设置顺序以调节膜层的关系，使镀膜玻璃的反射率Y为(4～5)，透过率Tr为(40％～45％)，反射颜色a*(Rg)为(1～‑1)，b*(Rg)为(1～‑1)，室外颜色显示无色，辐射率低于0.1，得到的无色双银镀膜玻璃能够广泛使用。

Description

无色双银镀膜玻璃及其制备方法

技术领域

本申请属于玻璃技术领域，尤其涉及一种无色双银镀膜玻璃及其制备方法。

背景技术

玻璃是非晶无机非金属材料，一般是用多种无机矿物(如石英砂、硼砂、硼酸、重晶石、碳酸钡、石灰石、长石、纯碱等)为主要原料，另外加入少量辅助原料制成的。它的主要成分为二氧化硅和其他氧化物。普通玻璃的主要成分是硅酸盐复盐，是一种无规则结构的非晶态固体，广泛应用于建筑物，用来隔风透光，属于混合物。

玻璃的种类多种多样，包括如下各种类型：防弹玻璃、不反光玻璃、防盗玻璃、隔音玻璃、空调玻璃、镀膜玻璃、真空玻璃、智能玻璃、全息玻璃、调温玻璃、生物玻璃、天线玻璃、薄纸玻璃、信息玻璃、污染变色玻璃、排二氧化碳玻璃、电解雾化玻璃、泡沫玻璃、自洁玻璃。其中，镀膜玻璃也称反射玻璃。镀膜玻璃是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，以改变玻璃的光学性能，满足某种特定要求。镀膜玻璃按产品的不同特性，可分为以下几类：热反射玻璃、低辐射玻璃。热反射玻璃是指是对太阳光具有反射作用的镀膜玻璃，通常是采用物理或化学方法在优质浮法玻璃的表面镀一层或多层金属或金属氧化物薄膜而成的，其膜色使玻璃呈现丰富的色彩，其节能原理是通过镀膜对波长范围为350～1800nm的太阳光产生一定的控制作用，按需要的比例控制太阳直射的反射、透过和吸收。低辐射玻璃是在玻璃表面镀上多层金属或其他化合物组成的膜系产品，其镀膜层具有对可见光高透过及对中远红外线高反射的特性，使其与普通玻璃及传统的建筑用镀膜玻璃相比，具有优异的隔热效果和良好的透光性。

随着经济和镀膜技术的发展，市场对产品的要求越来越高，在追求性能的同时，需要建筑外墙对周围环境不造成影响，这就需要产品有极低的反射率，反射率低不仅不会干扰人们的视线，也不会产生光污染，更不会产生热岛效应，不仅如此，身为建筑本身，还需要玻璃作为维护结构同时具有低辐射率、无色透明等性能，而目前市面上的玻璃无法同时具备上述效果，进而影响其广泛使用。

发明内容

本申请的目的在于提供一种无色双银镀膜玻璃及其制备方法，旨在解决现有技术中的玻璃无法同时具备低辐射率低反射率且无色的问题。

为实现上述申请目的，本申请采用的技术方案如下：

第一方面，本申请提供一种无色双银镀膜玻璃，包括玻璃基板，沿背离所述玻璃基板一表面方向，还依次层叠结合有第一电介质层、光学折射层、第二电介质层、第一功能层、第一功能保护层、第三电介质层、第二功能层、第二功能保护层以及第四电介质层。

第二方面，本申请提供一种所述的无色双银镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：

提供玻璃基板，在所述玻璃基板的表面制备第一电介质层；

在所述第一电介质层背离所述玻璃基板的表面制备光学折射层；

在所述光学折射层背离所述第一电介质层的表面制备第二电介质层；

在所述第二电介质层背离所述光学折射层的表面制备第一功能层；

在所述第一功能层背离所述第二电介质层的表面制备第一功能保护层；

在所述第一功能保护层背离所述第一功能层的表面制备第三电介质层；

在所述第三电介质层背离所述第一功能保护层的表面制备第二功能层；

在所述第二功能层背离所述第三电介质层的表面制备第二功能保护层；

在所述第二功能保护层背离所述第二功能层的表面制备第四电介质层，得到所述无色双银镀膜玻璃。

本申请第一方面提供的无色双银镀膜玻璃，该玻璃通过在玻璃基板表面依次层叠设置了第一电介质层、光学折射层、第二电介质层、第一功能层、第一功能保护层、第三电介质层、第二功能层、第二功能保护层和第四电介质层，通过特定的膜层设置顺序以调节膜层的关系，使得到的镀膜玻璃的颜色、化学性能和机械性能优异，其中，该产品的反射率Y为(4～5)，透过率Tr为(40％～45％)，反射颜色a*(Rg) 为(1～-1)，b*(Rg)为(1～-1)，室外颜色显示无色，辐射率低于0.1，得到的无色双银镀膜玻璃反射率低、辐射率低，能够广泛使用。

本申请第二方面提供的本申请提供一种所述的无色双银镀膜玻璃的制备方法，在玻璃基板表面依次制备各层结构，使得该无色双银镀膜玻璃性能优异、结构紧凑，其制备方法工序简单，提高了生产效率，降低了生产成本，适于工业化生产，保证制备得到的无色双银镀膜玻璃具有上述优异的性能的同时，性能稳定，具有广泛的应用前景。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请实施例提供的无色双银镀膜玻璃的结构图。

图2是本申请实施例1提供的无色双银镀膜玻璃的性能测试图。

图3是本申请实施例2提供的无色双银镀膜玻璃的性能测试图。

图4是本申请实施例3提供的无色双银镀膜玻璃的性能测试图。

图5是本申请实施例4提供的无色双银镀膜玻璃的性能测试图。

具体实施方式

为了使本申请要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。

本申请中，术语“和/或”，描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在 A和B，单独存在B的情况。其中A，B可以是单数或者复数。字符“/”一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。

本申请中，“至少一个”是指一个或者多个，“多个”是指两个或两个以上。“以下至少一项(个)”或其类似表达，是指的这些项中的任意组合，包括单项(个)或复数项(个)的任意组合。例如，“a,b,或c 中的至少一项(个)”，或，“a,b,和c中的至少一项(个)”，均可以表示：a,b,c,a-b(即a和b),a-c,b-c,或a-b-c，其中a,b,c分别可以是单个，也可以是多个。

应理解，在本申请的各种实施例中，上述各过程的序号的大小并不意味着执行顺序的先后，部分或全部步骤可以并行执行或先后执行，各过程的执行顺序应以其功能和内在逻辑确定，而不应对本申请实施例的实施过程构成任何限定。

在本申请实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本申请。在本申请实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。

本申请实施例说明书中所提到的相关成分的重量不仅仅可以指代各组分的具体含量，也可以表示各组分间重量的比例关系，因此，只要是按照本申请实施例说明书相关组分的含量按比例放大或缩小均在本申请实施例说明书公开的范围之内。具体地，本申请实施例说明书中所述的质量可以是μg、mg、g、kg等化工领域公知的质量单位。

术语“第一“、“第二”仅用于描述目的，用来将目的如物质彼此区分开，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。例如，在不脱离本申请实施例范围的情况下，第一 XX也可以被称为第二XX，类似地，第二XX也可以被称为第一XX。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。

本申请实施例第一方面提供一种无色双银镀膜玻璃，如图1所示，无色双银镀膜玻璃包括玻璃基板1，沿背离所述玻璃基板一表面方向，还依次层叠结合有第一电介质层2、光学折射层3、第二电介质层4、第一功能层5、第一功能保护层6、第三电介质层7、第二功能层8、第二功能保护层9以及第四电介质层10。

本申请第一方面提供的无色双银镀膜玻璃，该玻璃通过特定的膜层设置顺序以调节膜层的关系，使得到的镀膜玻璃的颜色、化学性能和机械性能优异，其中，该产品的反射率Y为(4～5)，透过率Tr 为(40％～45％)，反射颜色a*(Rg)为(1～-1)，b*(Rg)为(1～-1)，室外颜色显示无色，辐射率低于0.1，得到的无色双银镀膜玻璃具有低反射率和低辐射率的特性，能够广泛使用。

优选的，用于无色双银镀膜玻璃的玻璃基板选自普通白色玻璃，确保不会影响后续各功能层的设置。

在本发明优选实施例中，玻璃基板选自采用浮法生产的玻璃基板、采用溢流下拉法生产的玻璃基板、采用狭缝下拉法生产的玻璃基板的任意一种。

具体的，结合在玻璃基板1的表面的第一电介质层2，第一电介质层与玻璃基板有效结合，能够阻止玻璃基板中的Na⁺等碱性离子扩散到膜层，可作为保护膜层的性能；同时还可以提高光学折射膜层3 质量，达到调节玻璃的颜色的效果。

优选的，第一电介质层2选自TiO_a膜层、SiO_a膜层、SiAlO_a膜层、SiN_a膜层、SiAlN_a膜层、SiN_aO_b膜层、SiAlN_aO_b膜层中的至少一层，a、b表示不完全氧化或氮化。选择含有Ti或Si的氧化膜层或氮化膜层，能够较好地起到阻止玻璃基板中的Na⁺等碱性离子扩散的作用，保证各膜层材料不被玻璃基板的杂质影响。

优选的，第一电介质层的厚度为13nm～52nm。在本发明具体实施例中，第一电介质层的厚度选自13nm、15nm、20nm、25nm、 30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、52nm。

具体的，结合在第一电介质层2背离玻璃基板1的表面的光学折射层3，设置光学折射膜能够选择性提高或降低可见光波段的透过率，同时能够增加第二电介质膜层4的沉积质量，同时协同调节玻璃的反射率和辐射率。

优选的，光学折射层选自NiCr膜层、NiCrN_c膜层、NiCrO_c膜层、 NbN_c膜层、NbO_c膜层中的至少一层，c表示不完全氧化或氮化。选择含有Ni、Cr或Nb的氧化物或氮化物作为光学折射层的主要材料，能够提高光学折射层的透过率，不会出现崩点，有利于使用。

优选的，光学折射层的厚度为1.5nm～5.5nm。空着光学折射层的厚度适中，保证特定波长的反射光有相消的效应，进而调节可见光波段的透过率。在本发明具体实施例中，光学折射层的厚度选自1.5 nm、2nm、2.5nm、3nm、3.5nm、4nm、4.5nm、5nm、5.5nm。

具体的，结合在光学折射层3背离第一电介质层2的表面的第二电介质层4，设置第二电介质层，使第二电介质层作为过渡层衔接光学折射层和第一功能层，同时协同进行剥离颜色的调节。

优选的，第二电介质层选自TiO_d膜层、SiO_d膜层、SiAlO_d膜层、 SiN_d膜层、SiAlN_d膜层、SiN_dO_e膜层、SiAlN_dO_e膜层、ZnO_d膜层、 ZnAlO_d膜层、ZnSnO_d膜层、SnO_d膜层中的至少一层，d、e表示不完全氧化或氮化。第二电介质层选自含有Ti、Si、Zn、Sn的氧化物或氮化物的组份进行使用，能保证第二电介质层可作为第一功能层的种子层，使第一功能层的结合效果更优异，保证第一功能层的结合均匀，提高第一功能层的性能，同时也保证附着力较强，使第一功能层结合牢固不易脱落，协同调节玻璃的反射率和辐射率。

优选的，第二电介质层的厚度为56nm～136nm。在本发明具体实施例中，第二电介质层的厚度为56nm、60nm、65nm、70nm、75nm、80nm、85nm、90nm、95nm、100nm、105nm、110nm、115nm、120nm、125nm、130nm、135nm、136nm。

具体的，结合在第二电介质层4背离光学折射层3的表面的第一功能层5，第一功能层是制备得到的无色双银镀膜玻璃靠近玻璃基底的第一个功能层，该功能层具有选择性提高可见光波段透过率，且能够降低红外线波段透过率，进而保证制备得到的镀膜玻璃具有低反射率的特性。

优选的，第一功能层选自Ag膜层、Cu膜层中的至少一层。选择银膜层或铜膜层，能够使功能层选择性提高可见光波段透过率，且能够降低红外线波段透过率，进而保证制备得到的镀膜玻璃具有低反射率的特性。

优选的，第一功能层的厚度为4.5nm～12nm，控制第一功能层的厚度适中，能够提高可见光波段的透过率，同时达到降低红外线波段透过率的作用，降低镀膜玻璃的低透过率的特性。在本发明具体实施中，第一功能层的厚度为4.5nm、5nm、5.5nm、6nm、6.5nm、7nm、7.5nm、8nm、8.5nm、9nm、9.5nm、10nm、10.5nm、11nm、11.5 nm、12nm。

具体的，结合在第一功能层5背离第二电介质层4的表面的第一功能保护层6，提供第一功能保护层，使在热处理过程中保护第一功能层不受沉积过程中等离子体的破坏，以及氧化或其他污染物的影响，同时能够增强第一功能层与其他膜层的附着力，提高第一功能层的耐磨性，协同其他层结构调节玻璃透过率和反射率，降低玻璃的透过率和反射率。

优选的，第一功能保护层选自Cr膜层、CrO_f膜层、CrN_f膜层、 NiCr膜层、NiCrO_f膜层、NiCrN_f膜层、Nb膜层、NbO_f膜层、NbN_f膜层、Ti膜层、TiN_f膜层、TiO_f膜层、ZnO_f膜层、ZnAlO_f膜层中的至少一层，f表示不完全氧化或氮化。选择含有Cr、Ni、Nb、Ti、Zn 的材料膜层，使第一功能保护层的耐磨性较高，保护第一功能层不被影响，同时协同其他层结构调节玻璃透过率和反射率，降低玻璃的透过率和反射率。

优选的，第一功能保护层的厚度为0.5nm～1.5nm。在本发明优选实施例中，第一功能保护层的厚度为0.5nm、1nm、1.5nm。

具体的，结合在第一功能保护层6背离第一功能层5的表面的第三电介质层7，第三电介质层是衔接第一功能保护层和第二功能层之间的过渡层，能够协同作用起到调节玻璃颜色的作用。

优选的，第三电介质层选自TiO_g膜层、SiO_g膜层、SiAlO_g膜层、 SiN_g膜层、SiAlN_g膜层、SiN_gO_h膜层、SiAlN_gO_h膜层、ZnO_g膜层、 ZnAlO_g膜层、ZnSnO_g膜层、SnO_g膜层中的至少一层，g、h表示不完全氧化或氮。选择含有Ti、Si、Zn、Sn的材料膜层作为第三电介质层，提供第三电介质层作为第一功能保护层和第二功能层的过渡层，能够保证第二功能层稳固地与第三电介质层连接，提高第二功能层的固定效果。

优选的，第三电介质层的厚度为48nm～90nm。在本发明具体实施例中，第三电介质层的厚度为48nm、50nm、55nm、60nm、65nm、70nm、75nm、80nm、85nm、90nm。

具体的，结合在第三电介质层7背离第一功能保护层6的表面的第二功能层8，第二功能层是制备得到的无色双银镀膜玻璃靠近玻璃基底的第二个功能层，第二功能层能够与第一功能层协同作用，具有选择性提高可见光波段透过率，且能够降低红外线波段透过率，进一步保证制备得到的镀膜玻璃具有低辐射的特性。

优选的，第二功能层选自Ag膜层、Cu膜层中的至少一层。选择银膜层或铜膜层作为第二功能层的材料，能够与第一功能层协同作用，能够使功能层选择性提高可见光波段透过率，且能够降低红外线波段透过率，进而保证制备得到的镀膜玻璃具有低反射率的特性。

进一步优选的，第二功能层的厚度为11nm～13nm。在本发明具体实施例中，第二功能层的厚度为11nm、11.5nm、12nm、12.5nm、 13nm。

具体的，结合在第二功能层8背离第三电介质层7的表面的第二功能保护层9，设置第二功能保护层，能够保证第二功能层在热处理中其特性不会被破坏，不会被氧化，同时能够起到调节玻璃透过率和反射率的作用。

优选的，第二功能保护层选自Cr膜层、CrO_i膜层、CrN_i膜层、 NiCr膜层、NiCrO_i膜层、NiCrN_i膜层、Nb膜层、NbO_i膜层、NbN_i膜层、Ti膜层、TiN_i膜层、TiO_i膜层、ZnO_i膜层、ZnAlO_i膜层中的至少一层，i表示不完全氧化或氮化。添加上述第二功能保护层，目的是为了对第二功能层进行保护，使第二功能层不受其他杂质影响，延长使用寿命。

优选的，第二功能保护层的厚度为0.5nm～1.5nm。在本发明具体实施例中，第二功能保护层的厚度为0.5nm、1nm、1.5nm。

具体的，结合在第二功能保护层9背离第二功能层8的表面的第四电介质层10。设置第四介质层，使膜层内部与外部空气隔绝，免受侵蚀，提高产品的耐腐蚀性和耐机械摩擦性能，同时还起到一定的颜色调节作用。

优选的，第四电介质层选自TiO_j膜层、SiO_j膜层、SiAlO_j膜层、 SiN_j膜层、SiAlN_j膜层、SiN_jO_k膜层、SiAlN_jO_k膜层、ZnO_j膜层、ZnAlO_j膜层、ZnSnO_j膜层、SnO_j膜层中的至少一层，j、k表示不完全氧化或氮化。提供上述材料作为第四电介质层的材料，能够提高膜层的耐刮伤性、耐磨性和耐化学侵袭性，使空气中的物质不会影响膜层，保护膜层。

优选的，第四电介质层的厚度为45nm～120nm。在本发明具体实施例中，第四介质层的厚度为45nm、50nm、55nm、60nm、65nm、 70nm、75nm、80nm、85nm、90nm、95nm、100nm、105nm、 110nm、115nm、120nm。

本申请实施例第二方面提供一种无色双银镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：

S01.提供玻璃基板，在玻璃基板的表面制备第一电介质层；

S02.在第一电介质层背离玻璃基板的表面制备光学折射层；

S03.在光学折射层背离第一电介质层的表面制备第二电介质层；

S04.在第二电介质层背离光学折射层的表面制备第一功能层；

S05.在第一功能层背离第二电介质层的表面制备第一功能保护层；

S06.在第一功能保护层背离第一功能层的表面制备第三电介质层；

S07.在第三电介质层背离第一功能保护层的表面制备第二功能层；

S08.在第二功能层背离第三电介质层的表面制备第二功能保护层；

S09.在第二功能保护层背离第二功能层的表面制备第四电介质层，得到无色双银镀膜玻璃。

本申请第二方面提供的本申请提供一种的无色双银镀膜玻璃的制备方法，在玻璃基板表面依次制备各层结构，其制备方法工序简单，提高了生产效率，降低了生产成本，适于工业化生产，保证制备得到的无色双银镀膜玻璃具有上述优异的性能的同时，性能稳定，具有广泛的应用前景。

在上述步骤S01中，在玻璃基板的表面制备第一电介质层的步骤中，在玻璃基板的表面电镀第一电介质层。

在上述步骤S02中，在第一电介质层背离玻璃基板的表面制备光学折射层的步骤中，在第一电介质层背离玻璃基板的表面镀光学折射层。

在上述步骤S03中，在光学折射层背离第一电介质层的表面制备第二电介质层的步骤中，在光学折射层背离第一电介质层的表面镀第二电介质层。

在上述步骤S04中，在第二电介质层背离光学折射层的表面制备第一功能层的步骤中，在第二电介质层背离光学折射层的表面镀第一功能层。

在上述步骤S05中，在第一功能层背离第二电介质层的表面制备第一功能保护层的步骤中，在第一功能层背离第二电介质层的表面镀第一功能保护层。

在上述步骤S06中，在第一功能保护层背离第一功能层的表面制备第三电介质层的步骤中，在第一功能保护层背离第一功能层的表面镀第三电介质层。

在上述步骤S07中，在第三电介质层背离第一功能保护层的表面制备第二功能层的步骤中，在第三电介质层背离第一功能保护层的表面镀第二功能层。

在上述步骤S08中，在第二功能层背离第三电介质层的表面制备第二功能保护层的步骤中，在第二功能层背离第三电介质层的表面镀第二功能保护层。

在上述步骤S09中，在第二功能保护层背离第二功能层的表面制备第四电介质层的步骤中，在第二功能保护层背离第二功能层的表面镀第四电介质层。

下面结合具体实施例进行说明。

实施例1

无色双银镀膜玻璃

无色双银镀膜玻璃包括玻璃基板1，结合在玻璃基板1的表面的第一电介质层2，结合在第一电介质层2背离玻璃基板1的表面的光学折射层3，结合在光学折射层3背离第一电介质层2的表面的第二电介质层4，结合在第二电介质层4背离光学折射层3的表面的第一功能层5，结合在第一功能层5背离第二电介质层4的表面的第一功能保护层6，结合在第一功能保护层6背离第一功能层5的表面的第三电介质层7，结合在第三电介质层7背离第一功能保护层6的表面的第二功能层8，结合在第二功能层8背离第三电介质层7的表面的第二功能保护层9，结合在第二功能保护层9背离第二功能层8的表面的第四电介质层10。

其中，第一电介质层2选自SiAlN_a膜层，a表示不完全氧化或氮化；厚度为45.4nm；

光学折射层3选自NiCr膜层，厚度为5.5nm；

第二电介质层4选自SiAlN_d膜层和ZnO_d膜层，d表示不完全氧化或氮化，SiAlN_d膜层的厚度为45.7nm，ZnO_d膜层的厚度为6.8nm；

第一功能层5选自Ag膜层，厚度为10.9nm；

第一功能保护层6选自Ti膜层，厚度为3.6nm；

第三电介质层7选自ZnSnO_g膜层和ZnO_g膜层，g表示不完全氧化或氮化；ZnSnO_g膜层的厚度为56.3nm，ZnO_g膜层的厚度为16.8nm；

第二功能层8选自Ag膜层，厚度为11.4nm；

第二功能保护层9选自NiCr，厚度为0.7nm；

第四电介质层10选自ZnO_j膜层和SiAlN_j膜层，j表示不完全氧化或氮化，ZnO_j膜层的厚度为10.5nm，SiAlN_j膜层的厚度为26.8nm。

无色双银镀膜玻璃的制备方法

提供如实施例1的各确定种类及厚度的膜层材料，提供玻璃基板，在玻璃基板的表面镀第一电介质层；

在第一电介质层背离玻璃基板的表面镀光学折射层；

在光学折射层背离第一电介质层的表面镀第二电介质层；

在第二电介质层背离光学折射层的表面镀第一功能层；

在第一功能层背离第二电介质层的表面镀第一功能保护层；

在第一功能保护层背离第一功能层的表面镀第三电介质层；

在第三电介质层背离第一功能保护层的表面镀第二功能层；

在第二功能层背离第三电介质层的表面镀第二功能保护层；

在第二功能保护层背离第二功能层的表面镀第四电介质层，得到无色双银镀膜玻璃。

实施例2

无色双银镀膜玻璃

无色双银镀膜玻璃包括玻璃基板1，结合在玻璃基板1的表面的第一电介质层2，结合在第一电介质层2背离玻璃基板1的表面的光学折射层3，结合在光学折射层3背离第一电介质层2的表面的第二电介质层4，结合在第二电介质层4背离光学折射层3的表面的第一功能层5，结合在第一功能层5背离第二电介质层4的表面的第一功能保护层6，结合在第一功能保护层6背离第一功能层5的表面的第三电介质层7，结合在第三电介质层7背离第一功能保护层6的表面的第二功能层8，结合在第二功能层8背离第三电介质层7的表面的第二功能保护层9，结合在第二功能保护层9背离第二功能层8的表面的第四电介质层10。

其中，第一电介质层2选自SiN_a膜层和SiAlN_a膜层，a表示不完全氮化；SiN_a膜层的厚度为12.9nm，SiAlN_a膜层厚度为11.7nm；

光学折射层3选自NbO_c膜层，c表示不完全氧化，厚度为3.9nm；

第二电介质层4选自SiN_d膜层和SiAlN_d膜层，d表示不完全氮化，SiN_d膜层的厚度为38.6nm，SiAlN_d膜层的厚度为58.2nm；

第一功能层5选自Ag膜层，厚度为9.9nm；

第一功能保护层6选自NiCr膜层，厚度为1.4nm；

第三电介质层7选自SiN_g膜层和SiAlN_g膜层，g表示不完全氮化，SiN_g膜层的厚度为40nm，SiAlN_g膜层的厚度为36.7nm；

第二功能层8选自Ag膜层，厚度为12.2nm；

第二功能保护层9选自NiCr，厚度为1.4nm；

第四电介质层10选自SiN_j膜层和SiAlN_j膜层，j表示不完全氮化，SiN_j膜层的厚度为10.5nm，SiAlN_j膜层的厚度为26.8nm。

无色双银镀膜玻璃的制备方法

提供如实施例2的各确定种类及厚度的膜层材料，提供玻璃基板，在玻璃基板的表面镀第一电介质层；

在第一电介质层背离玻璃基板的表面镀光学折射层；

在光学折射层背离第一电介质层的表面镀第二电介质层；

在第二电介质层背离光学折射层的表面镀第一功能层；

在第一功能层背离第二电介质层的表面镀第一功能保护层；

在第一功能保护层背离第一功能层的表面镀第三电介质层；

在第三电介质层背离第一功能保护层的表面镀第二功能层；

在第二功能层背离第三电介质层的表面镀第二功能保护层；

在第二功能保护层背离第二功能层的表面镀第四电介质层，得到无色双银镀膜玻璃。

实施例3

无色双银镀膜玻璃

无色双银镀膜玻璃包括玻璃基板1，结合在玻璃基板1的表面的第一电介质层2，结合在第一电介质层2背离玻璃基板1的表面的光学折射层3，结合在光学折射层3背离第一电介质层2的表面的第二电介质层4，结合在第二电介质层4背离光学折射层3的表面的第一功能层5，结合在第一功能层5背离第二电介质层4的表面的第一功能保护层6，结合在第一功能保护层6背离第一功能层5的表面的第三电介质层7，结合在第三电介质层7背离第一功能保护层6的表面的第二功能层8，结合在第二功能层8背离第三电介质层7的表面的第二功能保护层9，结合在第二功能保护层9背离第二功能层8的表面的第四电介质层10。

其中，第一电介质层2选自TiO_a膜层，a表示不完全氧化；厚度为51.2nm；

光学折射层3选自NiCr膜层，厚度为5.5nm；

第二电介质层4选自SiN_d膜层，d表示不完全氮化，SiN_d膜层的厚度为93.2nm；

第一功能层5选自Ag膜层，厚度为8.7nm；

第一功能保护层6选自NiCr膜层，厚度为0.9nm；

第三电介质层7选自SiN_g膜层，g表示不完全氮化，SiN_g膜层的厚度为88.4nm；

第二功能层8选自Ag膜层，厚度为11.9nm；

第二功能保护层9选自Ti，厚度为1.1nm；

第四电介质层10选自SiN_j膜层，j表示不完全氮化，SiN_j膜层的厚度为92.4nm。

无色双银镀膜玻璃的制备方法

提供如实施例3的各确定种类及厚度的膜层材料，提供玻璃基板，在玻璃基板的表面镀第一电介质层；

在第一电介质层背离玻璃基板的表面镀光学折射层；

在光学折射层背离第一电介质层的表面镀第二电介质层；

在第二电介质层背离光学折射层的表面镀第一功能层；

在第一功能层背离第二电介质层的表面镀第一功能保护层；

在第一功能保护层背离第一功能层的表面镀第三电介质层；

在第三电介质层背离第一功能保护层的表面镀第二功能层；

在第二功能层背离第三电介质层的表面镀第二功能保护层；

在第二功能保护层背离第二功能层的表面镀第四电介质层，得到无色双银镀膜玻璃。

实施例4

无色双银镀膜玻璃

无色双银镀膜玻璃包括玻璃基板1，结合在玻璃基板1的表面的第一电介质层2，结合在第一电介质层2背离玻璃基板1的表面的光学折射层3，结合在光学折射层3背离第一电介质层2的表面的第二电介质层4，结合在第二电介质层4背离光学折射层3的表面的第一功能层5，结合在第一功能层5背离第二电介质层4的表面的第一功能保护层6，结合在第一功能保护层6背离第一功能层5的表面的第三电介质层7，结合在第三电介质层7背离第一功能保护层6的表面的第二功能层8，结合在第二功能层8背离第三电介质层7的表面的第二功能保护层9，结合在第二功能保护层9背离第二功能层8的表面的第四电介质层10。

其中，第一电介质层2选自SiN_a膜层，a表示不完全氮化；厚度为13.1nm；

光学折射层3选自NbO_c膜层，厚度为1.5nm；

第二电介质层4选自SiN_d膜层和ZnO_d膜层，d表示不完全氧化或氮化，SiN_d膜层的厚度为32.3nm，ZnO_d膜层的厚度为5.8nm；

第一功能层5选自Ag膜层，厚度为4.7nm；

第一功能保护层6选自NiCr膜层，厚度为4.7nm；

第三电介质层7选自ZnSnO_g膜层和ZnO_g膜层，g表示不完全氧化或氮化；ZnSnO_g膜层的厚度为45.3nm，ZnO_g膜层的厚度为8.8nm；

第二功能层8选自Ag膜层，厚度为11.6nm；

第二功能保护层9选自NiCr，厚度为1.4nm；

第四电介质层10选自ZnO_j膜层和SiN_j膜层，j表示不完全氧化或氮化，ZnO_j膜层的厚度为79.4nm，SiN_j膜层的厚度为10nm。

无色双银镀膜玻璃的制备方法

提供如实施例4的各确定种类及厚度的膜层材料，提供玻璃基板，在玻璃基板的表面镀第一电介质层；

在第一电介质层背离玻璃基板的表面镀光学折射层；

在光学折射层背离第一电介质层的表面镀第二电介质层；

在第二电介质层背离光学折射层的表面镀第一功能层；

在第一功能层背离第二电介质层的表面镀第一功能保护层；

在第一功能保护层背离第一功能层的表面镀第三电介质层；

在第三电介质层背离第一功能保护层的表面镀第二功能层；

在第二功能层背离第三电介质层的表面镀第二功能保护层；

在第二功能保护层背离第二功能层的表面镀第四电介质层，得到无色双银镀膜玻璃。

性能测试：

将实施例1～4制备得到的无色双银镀膜玻璃进行性能测试，分别测试各样品的Rg值、Rf值、Tr值，Rg值表示镀膜玻璃玻面的反射值，Rf值表示镀膜玻璃膜面的反射值，Tr值表示镀膜玻璃的透过率。

结果分析：

对实施例1的无色双银镀膜玻璃进行测验，结果如图2所示，图 2A为Rg值，Y(Rg)为4.8；图2B为Rf值，Y(Rf)为14.12；图2C为Tr值，Y(Tr)为43.84％。

对实施例2的无色双银镀膜玻璃进行测验，结果如图3所示，图 3A为Rg值，Y(Rg)为4.46；图3B为Rf值，Y(Rf)为5.47；图 3C为Tr值，Y(Tr)为43.43％。

对实施例3的无色双银镀膜玻璃进行测验，结果如图4所示，图 4A为Rg值，Y(Rg)为4.61；图4B为Rf值，Y(Rf)为9.48；图 4C为Tr值，Y(Tr)为40.19％。

对实施例4的无色双银镀膜玻璃进行测验，结果如图5所示，图 5A为Rg值，Y(Rg)为4.64；图5B为Rf值，Y(Rf)为5.86；图 5C为Tr值，Y(Tr)为43.64％。

综上，该无色双银镀膜玻璃通过在玻璃基板表面依次层叠设置了第一电介质层、光学折射层、第二电介质层、第一功能层、第一功能保护层、第三电介质层、第二功能层、第二功能保护层和第四电介质层，通过特定的膜层设置顺序以调节膜层的关系，使得到的镀膜玻璃的颜色、化学性能和机械性能优异，其中，该产品的反射率Y为(4～5)，透过率Tr为(40％～45％)，反射颜色a*(Rg)为(1～-1)，b*(Rg)为(1～-1)，室外颜色显示无色，辐射率低于0.1，得到的无色双银镀膜玻璃能够广泛使用。

以上仅为本申请的较佳实施例而已，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (2)

1.一种无色双银镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基板，沿背离所述玻璃基板一表面方向，还依次层叠结合有第一电介质层、光学折射层、第二电介质层、第一功能层、第一功能保护层、第三电介质层、第二功能层、第二功能保护层以及第四电介质层；

其中，所述第一电介质层选自TiO_a膜层、SiN_a膜层、SiAlN_a膜层；a表示不完全氧化或氮化；所述第一电介质层的厚度为13nm～52nm；

所述光学折射层选自NiCr膜层、NbO_c膜层，c表示不完全氧化或氮化；所述光学折射层的厚度为1.5nm～5.5nm；

所述第二电介质层选自SiAlN_d膜层和ZnO_d膜层、SiN_d膜层和SiAlN_d膜层、SiN_d膜层、SiN_d膜层和ZnO_d膜层，d表示不完全氧化或氮化；所述第二电介质层的厚度为56nm～136nm；

所述第一功能层选自Ag膜层；所述第一功能层的厚度为4.5nm～12nm；

所述第一功能保护层选自Ti膜层、NiCr膜层；所述第一功能保护层的厚度为0.5nm～1.5nm；

所述第三电介质层选自ZnSnO_g膜层和ZnO_g膜层、SiN_g膜层和SiAlN_g膜层、SiN_g膜层，g表示不完全氧化或氮化；所述第三电介质层的厚度为48nm～90nm；

所述第二功能层选自Ag膜层；所述第二功能层的厚度为11nm～13nm；

所述第二功能保护层选自NiCr膜层、Ti膜层；所述第二功能保护层的厚度为0.5nm～1.5nm；

所述第四电介质层选自ZnO_j膜层和SiAlN_j膜层、SiN_j膜层和SiAlN_j膜层、SiN_j膜层、ZnO_j膜层和SiN_j膜层，j表示不完全氧化或氮化；所述第四电介质层的厚度为45nm～120nm。

2.一种如权利要求1所述的无色双银镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供玻璃基板，在所述玻璃基板的表面制备第一电介质层；

在所述第一电介质层背离所述玻璃基板的表面制备光学折射层；

在所述光学折射层背离所述第一电介质层的表面制备第二电介质层；

在所述第二电介质层背离所述光学折射层的表面制备第一功能层；

在所述第一功能层背离所述第二电介质层的表面制备第一功能保护层；

在所述第一功能保护层背离所述第一功能层的表面制备第三电介质层；

在所述第三电介质层背离所述第一功能保护层的表面制备第二功能层；

在所述第二功能层背离所述第三电介质层的表面制备第二功能保护层；

在所述第二功能保护层背离所述第二功能层的表面制备第四电介质层，得到所述无色双银镀膜玻璃。