JPH04177699A - アナログ読み出し型メモリ装置 - Google Patents
アナログ読み出し型メモリ装置Info
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- JPH04177699A JPH04177699A JP2305173A JP30517390A JPH04177699A JP H04177699 A JPH04177699 A JP H04177699A JP 2305173 A JP2305173 A JP 2305173A JP 30517390 A JP30517390 A JP 30517390A JP H04177699 A JPH04177699 A JP H04177699A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C27/00—Electric analogue stores, e.g. for storing instantaneous values
- G11C27/005—Electric analogue stores, e.g. for storing instantaneous values with non-volatile charge storage, e.g. on floating gate or MNOS
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/56—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency
- G11C11/5657—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency using ferroelectric storage elements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、複数ビットのディジタルデータを複数のメモ
リ素子に記憶し、記憶されたディジタルデータをアナロ
グ電流量又はアナログ電圧量として読出すアナログ読み
出し型メモリ装置に関する。
リ素子に記憶し、記憶されたディジタルデータをアナロ
グ電流量又はアナログ電圧量として読出すアナログ読み
出し型メモリ装置に関する。
[従来の技術]
近年、機器組み込み型の制御システムの一部として、メ
モリの内容に応じて、シーケンシャルな制御を行なった
り、制御結果からのフィードバック信号に応じてメモリ
内容を更新(学習)し、その内容に応じた制御を行なう
とき等に使用されるものとして、記憶内容を電流の大小
又は電圧の大小のアナログ量として出力するメモリ装置
が望まれている。
モリの内容に応じて、シーケンシャルな制御を行なった
り、制御結果からのフィードバック信号に応じてメモリ
内容を更新(学習)し、その内容に応じた制御を行なう
とき等に使用されるものとして、記憶内容を電流の大小
又は電圧の大小のアナログ量として出力するメモリ装置
が望まれている。
そのようなメモリ装置は、EEFROM等の不揮発性メ
モリに、例えば第7図に示すような構成のD/A変換器
を付加した構造を有している。
モリに、例えば第7図に示すような構成のD/A変換器
を付加した構造を有している。
一方、格納されるデータの保持時間が原理的には無限大
という特徴を持つ強誘電体からなる記憶保持部(媒体)
が用いられるメモリ素子が知られている。このメモリ素
子を構成するには、上記記憶保持部の他に、データを読
出し/書き込みする制御を行なうスイッチ部が必要とな
る。このスイッチ部として、近年、導電膜(金属M)−
絶縁膜(I)−導電膜(金属M)のMIM構造を持った
MIMスイッチが開発されている。
という特徴を持つ強誘電体からなる記憶保持部(媒体)
が用いられるメモリ素子が知られている。このメモリ素
子を構成するには、上記記憶保持部の他に、データを読
出し/書き込みする制御を行なうスイッチ部が必要とな
る。このスイッチ部として、近年、導電膜(金属M)−
絶縁膜(I)−導電膜(金属M)のMIM構造を持った
MIMスイッチが開発されている。
このようなMIMスイッチと強誘電体から成る記憶保持
部とで成るメモリ素子を利用して複数ビットのディジタ
ルデータを記憶するメモリ装置を構成したとしても、デ
ィジタル入力ディジタル出力型のメモリ装置としかなら
ず、アナログ量の出力を得るためには、上記EEPRO
M等と同様に、D/A変換器を用いることが必要である
。
部とで成るメモリ素子を利用して複数ビットのディジタ
ルデータを記憶するメモリ装置を構成したとしても、デ
ィジタル入力ディジタル出力型のメモリ装置としかなら
ず、アナログ量の出力を得るためには、上記EEPRO
M等と同様に、D/A変換器を用いることが必要である
。
つまり、上記したような構成のメモリ装置では、ディジ
タル人力ディジタル出力型のメモリ部とディジタル信号
をアナログ信号に変換するD/A変換器を有するため、
メモリ内容に応じたアナログ信号を得るためには、メモ
リのアドレッシングを行ない、メモリ内容をディジタル
信号として読み出し、その後、その信号をD/A変換器
に入力する操作を必要とする。
タル人力ディジタル出力型のメモリ部とディジタル信号
をアナログ信号に変換するD/A変換器を有するため、
メモリ内容に応じたアナログ信号を得るためには、メモ
リのアドレッシングを行ない、メモリ内容をディジタル
信号として読み出し、その後、その信号をD/A変換器
に入力する操作を必要とする。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、上記のような構成では、メモリ内容をア
ナログ信号として取出すために必要とされる時間は、(
メモリ読み出し時間) + (D/A変換時間)+(デ
ータ受渡し時間)となってしまい、高速での動作を考え
た場合に、上記それぞれの時間が制約条件となる。
ナログ信号として取出すために必要とされる時間は、(
メモリ読み出し時間) + (D/A変換時間)+(デ
ータ受渡し時間)となってしまい、高速での動作を考え
た場合に、上記それぞれの時間が制約条件となる。
そこで本発明は、メモリ読み出し時間のみてアナログ信
号を出力できるアナログ読み出し型メモリ装置を提供す
ることを目的とするものである。
号を出力できるアナログ読み出し型メモリ装置を提供す
ることを目的とするものである。
[課題を解決するための手段]
本発明のアナログ読み出し型メモリ装置によれば、半導
体基板上に形成される絶縁膜を介して設けられたゲート
電極及び該ゲート電極の両側に形成された電流通路電極
からなる出力手段と、上記出力手段のゲート電極上に形
成された強誘電体膜又は誘電体膜からなる分極電荷蓄積
手段と、上記分極電荷蓄積手段の強誘電体膜又は誘電体
膜上に形成される第1の導電膜−絶縁トンネル膜−M2
の導電膜のMIM構造の非線形導電率素子からなる入力
手段とを有するメモリセルを複数個ずつ組合せ、 上記複数個単位からなるメモリセルに複数ビットのディ
ジタルデータを記憶させ、その記憶させたディジタルデ
ータを、それぞれのメモリセルがらの出力電流を演算す
ることによりアナログ電流量又はアナログ電圧量とし−
C出力させるようにしている。
体基板上に形成される絶縁膜を介して設けられたゲート
電極及び該ゲート電極の両側に形成された電流通路電極
からなる出力手段と、上記出力手段のゲート電極上に形
成された強誘電体膜又は誘電体膜からなる分極電荷蓄積
手段と、上記分極電荷蓄積手段の強誘電体膜又は誘電体
膜上に形成される第1の導電膜−絶縁トンネル膜−M2
の導電膜のMIM構造の非線形導電率素子からなる入力
手段とを有するメモリセルを複数個ずつ組合せ、 上記複数個単位からなるメモリセルに複数ビットのディ
ジタルデータを記憶させ、その記憶させたディジタルデ
ータを、それぞれのメモリセルがらの出力電流を演算す
ることによりアナログ電流量又はアナログ電圧量とし−
C出力させるようにしている。
[作用]
本発明のアナログ読み出し型メモリ装置によれば、複数
ビットのディジタルデータが記憶された複数個単位から
なるメモリセルからの出力電流を演算、つまり加算する
ことにより、複数ビットのディジタルデータに対応する
アナログ電流量が得られる。本発明によればD/A変換
器が不要となり、よってD/A変換時間並びにデータの
受渡し時間が不要となる。即ち、メモリ読み出し時間の
みでアナログ信号を出力することが可能となる。
ビットのディジタルデータが記憶された複数個単位から
なるメモリセルからの出力電流を演算、つまり加算する
ことにより、複数ビットのディジタルデータに対応する
アナログ電流量が得られる。本発明によればD/A変換
器が不要となり、よってD/A変換時間並びにデータの
受渡し時間が不要となる。即ち、メモリ読み出し時間の
みでアナログ信号を出力することが可能となる。
[実施例]
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
本発明のアナログ読み出し型メモリ装置の実施例を説明
する前に、本発明に係るアナログ読み出し型メモリ装置
を構築するために用いられるゲート検出型メモリセルに
つき説明する。
する前に、本発明に係るアナログ読み出し型メモリ装置
を構築するために用いられるゲート検出型メモリセルに
つき説明する。
第2図(a)乃至(C)は、そのメモリセルの回路構成
を示し、第3図(a)及び(b)はそのメモリセルの積
層構造を示す。
を示し、第3図(a)及び(b)はそのメモリセルの積
層構造を示す。
即ち、第2図(g)に示すメモリセルの回路構成は、M
IMスイッチ20が強誘電体キャパシタ21を介してノ
ーマリ−オン型のMOSFET22のゲートと直列接続
されて構成される。そして上記MIMスイッチ20の他
方は、複数の書込み線のうちの1つの書込み線Wxに接
続される。
IMスイッチ20が強誘電体キャパシタ21を介してノ
ーマリ−オン型のMOSFET22のゲートと直列接続
されて構成される。そして上記MIMスイッチ20の他
方は、複数の書込み線のうちの1つの書込み線Wxに接
続される。
また、上記MOSFET22の電流通路は、一端が書き
込み線若しくは読出し線(Wy、Ry)に接続され、他
端が1つの読出し線Rxに接続される。
込み線若しくは読出し線(Wy、Ry)に接続され、他
端が1つの読出し線Rxに接続される。
また、第2図(b)は上記MIMスイッチ20の等価回
路の構成を示す。つまり上記MIMスイッチ20は、非
線形導電率素子であり、絶縁トンネル膜を両側から金属
膜で挾んだ構造を有するため、電流が双方向に流れるよ
うに配置されたダイオード20aと、これにキャパシタ
20が並列接続されたものと見なすことができる。
路の構成を示す。つまり上記MIMスイッチ20は、非
線形導電率素子であり、絶縁トンネル膜を両側から金属
膜で挾んだ構造を有するため、電流が双方向に流れるよ
うに配置されたダイオード20aと、これにキャパシタ
20が並列接続されたものと見なすことができる。
そして第2図(C)には、強誘電体キャパシタ21の等
価回路の構成を示す。つまり、いずれか一方に流れる電
流源21aと、これにキャパシタ21bが並列接続され
たものと見なすことができる。
価回路の構成を示す。つまり、いずれか一方に流れる電
流源21aと、これにキャパシタ21bが並列接続され
たものと見なすことができる。
このような構成のメモリセルでは、絶縁トンネル膜を通
して強誘電体キャパシタ21に電荷を蓄積し、電荷蓄積
の有無は、上記キャパシタ21と直接若しくは間接的に
接続されたMOSFET22のソース・ドレイン間の電
流の有無として読出される。
して強誘電体キャパシタ21に電荷を蓄積し、電荷蓄積
の有無は、上記キャパシタ21と直接若しくは間接的に
接続されたMOSFET22のソース・ドレイン間の電
流の有無として読出される。
このようなメモリセルの構造は、第3図(a)に示すよ
うに、まず半導体基板24上にゲート酸化膜25が形成
される。さらに上記ゲート酸化膜25上にフローティン
グゲート電極26が形成される。このフローティングゲ
ート電極26を覆うように、例えばポリイミド等の強誘
電体膜27が形成される。
うに、まず半導体基板24上にゲート酸化膜25が形成
される。さらに上記ゲート酸化膜25上にフローティン
グゲート電極26が形成される。このフローティングゲ
ート電極26を覆うように、例えばポリイミド等の強誘
電体膜27が形成される。
さらに前記強誘電体膜27上にMIMスイッチとなる第
1の導電体膜28とトンネル絶縁膜29と第2の導電体
膜30とが積層されて形成される。
1の導電体膜28とトンネル絶縁膜29と第2の導電体
膜30とが積層されて形成される。
また、第3図(b)に示した構造は、半導体基板24上
にゲート酸化膜25が形成され、その上層に強誘電体膜
27が形成される。さらに前記強誘電体膜27上にLB
(ラングミュア・ブロジェット)膜のトンネル絶縁膜2
9と第2の導電体膜30とか積層されて形成される。
にゲート酸化膜25が形成され、その上層に強誘電体膜
27が形成される。さらに前記強誘電体膜27上にLB
(ラングミュア・ブロジェット)膜のトンネル絶縁膜2
9と第2の導電体膜30とか積層されて形成される。
これはMIMスイッチ20がMOSFET22のゲート
に強誘電体キャパシタ21を介して接続させる方法とし
て、第3図(b)のように直接的に、又は第3図(a)
のように間接的にゲート酸化膜上に強誘電体膜を設ける
場合である。
に強誘電体キャパシタ21を介して接続させる方法とし
て、第3図(b)のように直接的に、又は第3図(a)
のように間接的にゲート酸化膜上に強誘電体膜を設ける
場合である。
そして第3図(a)及び(b)のどちら構造も、積層さ
れた各層を接続するための配線を設ける必要がなく、リ
ークも非常に小さく押えることができる。
れた各層を接続するための配線を設ける必要がなく、リ
ークも非常に小さく押えることができる。
従って、書き込まれた分極電荷はそのまま保持され、第
2図(a)中にCOで示す並列容量にたまる電荷によっ
て中和する効果を無視できる。
2図(a)中にCOで示す並列容量にたまる電荷によっ
て中和する効果を無視できる。
従って、第2図(a)に示す構成で、分極電荷をMOS
FET23のゲートに印加して直接読取ることが可能で
ある。
FET23のゲートに印加して直接読取ることが可能で
ある。
なお、前記MO3FET231.:/−v’J−オン型
を用いたのは、ノーマリオフ型では、例えばnチャンネ
ルの場合、負信号が入力されたときゲート電圧により前
記半導体基板24とチャンネル間で短絡する可能性があ
るからである。
を用いたのは、ノーマリオフ型では、例えばnチャンネ
ルの場合、負信号が入力されたときゲート電圧により前
記半導体基板24とチャンネル間で短絡する可能性があ
るからである。
上記のような構成構造のゲート検出型メモリセルを複数
個使用することにより、メモリ付nビットD/A変換器
(並列演算タイプ)を構成し、さらにこのメモリ付nビ
ットD/A変換器を2次元的若しくは3次元的に組み合
わせることにより、アナログ読み出し型メモリ装置(多
値出力型2n値出力)を実現できる。ここで、上記メモ
リ付nビットD/A変換器単体としても、nビットで記
憶されたディジタル信号1値をアナログ出力可能なメモ
リと考えることもできる。
個使用することにより、メモリ付nビットD/A変換器
(並列演算タイプ)を構成し、さらにこのメモリ付nビ
ットD/A変換器を2次元的若しくは3次元的に組み合
わせることにより、アナログ読み出し型メモリ装置(多
値出力型2n値出力)を実現できる。ここで、上記メモ
リ付nビットD/A変換器単体としても、nビットで記
憶されたディジタル信号1値をアナログ出力可能なメモ
リと考えることもできる。
次に、上記メモリ付nビットD/A変換器につき説明す
る。
る。
第4図は、上記メモリ付nビットD/A変換器の一例と
してのメモリ付4ビツトD/A変換器の回路構成を示す
図である。このD/A変換器は、MIMスイッチ201
強誘電体キャパシタ21゜MOSFET22で成るゲー
ト検出型メモリセル31を4個並列に配置したメモリセ
ル32を有している。この場合、各MOMF E T
22のオン抵抗を1:2:4:8の比率としている。同
図に於いて、参照番号33は各MIMスイッチ20のメ
モリ書き込み/読み出し端子であり、34は各MOSF
ET22の電流通路の一方に共通に接続された読み出し
制御用スイッチ35の読み出し制御端子である。また、
参照番号36は、各MO5FET22の電流通路の他方
に共通に接続された読み取り用電流計である。
してのメモリ付4ビツトD/A変換器の回路構成を示す
図である。このD/A変換器は、MIMスイッチ201
強誘電体キャパシタ21゜MOSFET22で成るゲー
ト検出型メモリセル31を4個並列に配置したメモリセ
ル32を有している。この場合、各MOMF E T
22のオン抵抗を1:2:4:8の比率としている。同
図に於いて、参照番号33は各MIMスイッチ20のメ
モリ書き込み/読み出し端子であり、34は各MOSF
ET22の電流通路の一方に共通に接続された読み出し
制御用スイッチ35の読み出し制御端子である。また、
参照番号36は、各MO5FET22の電流通路の他方
に共通に接続された読み取り用電流計である。
このような構成のメモリ付4ビツトD/A変換器では、
メモリ書き込み/読み出し端子33に与えられた4ビツ
トのディジタルデータを、それぞれの強誘電体キャパシ
タ21に電荷の有無として記憶し、読み出し制御端子3
4に所定の読み出し制御信号を与えることにより、各強
誘電体キャパシタ21の電荷の有無に従って並列演算が
行なわれ、電流の流れる速度で演算が終了し、演算結果
が電流の大小として読み取り用電流計36により検出さ
れる。
メモリ書き込み/読み出し端子33に与えられた4ビツ
トのディジタルデータを、それぞれの強誘電体キャパシ
タ21に電荷の有無として記憶し、読み出し制御端子3
4に所定の読み出し制御信号を与えることにより、各強
誘電体キャパシタ21の電荷の有無に従って並列演算が
行なわれ、電流の流れる速度で演算が終了し、演算結果
が電流の大小として読み取り用電流計36により検出さ
れる。
電荷蓄積部は、強誘電体もしくは絶縁膜により電荷の移
動を防いた構造のため、メモリは不揮発性となる。
動を防いた構造のため、メモリは不揮発性となる。
また、D/A変換に要する時間は、基本的には、読み出
し制御用スイッチ35のスイッチング時間とほぼ等しい
と考えられる。
し制御用スイッチ35のスイッチング時間とほぼ等しい
と考えられる。
第5図は、読み取り用電流計36により検出した4ビツ
トデイジタル入力(0000)〜(1111)に対する
アナログ出力電流(8値)を示した図である。このよう
に、アナログ出力電流は、ディジタル入力値にリニアに
対応する。
トデイジタル入力(0000)〜(1111)に対する
アナログ出力電流(8値)を示した図である。このよう
に、アナログ出力電流は、ディジタル入力値にリニアに
対応する。
このように、MIMスイッチ202強誘電体キャパシタ
21.MOSFET22で成るゲート検出型メモリセル
31をn個並列に配置したメモリセルとすることにより
、メモリ付nビットD/A変換器が実現できる。
21.MOSFET22で成るゲート検出型メモリセル
31をn個並列に配置したメモリセルとすることにより
、メモリ付nビットD/A変換器が実現できる。
第6図は、このようなメモリ付nビットD/A変換器を
mxm個用いてm2個の情報を(2の多値の)アナログ
値として出力するアナログ読み出し型メモリの概略構成
を示す図であり、第1図はメモリ付4ビツトD/A変換
器を用いた場合の詳細図である。
mxm個用いてm2個の情報を(2の多値の)アナログ
値として出力するアナログ読み出し型メモリの概略構成
を示す図であり、第1図はメモリ付4ビツトD/A変換
器を用いた場合の詳細図である。
これらの図に示すように、マトリクス状に配列したX、
Yアドレス線XA、YA (XA1゜XA ・・・
、YA YA ・・・)の各交点にて2・
1 ・ 2′メモリセル32を
それらX、Yアドレス線XA。
Yアドレス線XA、YA (XA1゜XA ・・・
、YA YA ・・・)の各交点にて2・
1 ・ 2′メモリセル32を
それらX、Yアドレス線XA。
YAに接続し、各アドレス線にそれらを選択するための
X、Yアドレス用スイッチ37.38(3737・・・
、38 38 ・・・)が1° 2’ 1
’ 2′接続されている。そして、Yアドレス用ス
イッチ38の電流通路の他方に、電流検出器(電流計)
39が共通に接続されている。なお、第1図中の参照番
号40は保護用ダイオードであり、41は書き込み制御
スイッチである。
X、Yアドレス用スイッチ37.38(3737・・・
、38 38 ・・・)が1° 2’ 1
’ 2′接続されている。そして、Yアドレス用ス
イッチ38の電流通路の他方に、電流検出器(電流計)
39が共通に接続されている。なお、第1図中の参照番
号40は保護用ダイオードであり、41は書き込み制御
スイッチである。
このような構成のアナログ読み出し型メモリ装置では、
ディジタルデータの書き込みは次のようにして行なわれ
る。即ち、先ずデータを書き込むべきメモリセル32を
特定するためのX及びYアドレスの内、Xアドレスに従
って、データを書き込むべきメモリセル32を含むXア
ドレス線XAに接続されたm個のメモリセル32に共通
に接続されたデータ書き込み端子(D −D3)3B
を選択して、それらの端子33に書き込むべきデータを
セットする。この場合、例えば、書き込むべきデータが
「1」ならば「5v」、「0」ならば「−5Vコがそれ
らの端子33に印加されるものとする。次に、Yアドレ
スに従って、データを書き込むべきメモリセル32に対
応するYアドレス用スイッチ38(例えば381)と、
書き込み制御スイッチ41をオンする。これにより、デ
ータ書き込み端子(Do−D3)33にセットされたデ
ータに対応した情報がゲート酸化膜25上に配された強
誘電体キャパシタ21に電荷量として記憶される。
ディジタルデータの書き込みは次のようにして行なわれ
る。即ち、先ずデータを書き込むべきメモリセル32を
特定するためのX及びYアドレスの内、Xアドレスに従
って、データを書き込むべきメモリセル32を含むXア
ドレス線XAに接続されたm個のメモリセル32に共通
に接続されたデータ書き込み端子(D −D3)3B
を選択して、それらの端子33に書き込むべきデータを
セットする。この場合、例えば、書き込むべきデータが
「1」ならば「5v」、「0」ならば「−5Vコがそれ
らの端子33に印加されるものとする。次に、Yアドレ
スに従って、データを書き込むべきメモリセル32に対
応するYアドレス用スイッチ38(例えば381)と、
書き込み制御スイッチ41をオンする。これにより、デ
ータ書き込み端子(Do−D3)33にセットされたデ
ータに対応した情報がゲート酸化膜25上に配された強
誘電体キャパシタ21に電荷量として記憶される。
他の列に書き込む場合には、その書き込むべき列のYア
ドレス用スイッチ38をオンして、書き込み制御スイッ
チ41をオンする。このように、Yアドレス用スイッチ
38を切り換えて、書き込み制御スイッチ41をオンす
ることにより、所望の列にデータを書き込むことができ
る。
ドレス用スイッチ38をオンして、書き込み制御スイッ
チ41をオンする。このように、Yアドレス用スイッチ
38を切り換えて、書き込み制御スイッチ41をオンす
ることにより、所望の列にデータを書き込むことができ
る。
また、読み出しを行なう場合には、情報を読出すべきメ
モリセル32に対応するXアドレス用スイッチ37及び
Xアドレス用スイッチ38をオンし、電流検出器39に
よりアナログ値を読み取る。
モリセル32に対応するXアドレス用スイッチ37及び
Xアドレス用スイッチ38をオンし、電流検出器39に
よりアナログ値を読み取る。
他のメモリセル32の読み出しは、X、Yアドレス共に
切り換えて行なう。
切り換えて行なう。
このように、メモリ読み出し時間のみでアナログ信号を
出力できるアナログ読み出し型高速メモリ装置を提供す
ることができる。
出力できるアナログ読み出し型高速メモリ装置を提供す
ることができる。
また、上記アナログ読み出し型メモリ装置は、電気的書
換え可能な不揮発性メモリ装置であり、バックアップ電
源を必要としない。
換え可能な不揮発性メモリ装置であり、バックアップ電
源を必要としない。
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
種々の変形変更が可能なことは勿論である。
種々の変形変更が可能なことは勿論である。
例えば、ゲート検出型メモリセル31のオン抵抗を2
の比で分配するのではなく、メモリと直列に配した抵抗
を2 の比で分配することにより、nビットD/A変換
器を実現し、それを組み合わせて前述したようなアナロ
グ読み出し型メモリ装置を構成することもできる。
の比で分配するのではなく、メモリと直列に配した抵抗
を2 の比で分配することにより、nビットD/A変換
器を実現し、それを組み合わせて前述したようなアナロ
グ読み出し型メモリ装置を構成することもできる。
また、nビットD 、/ A変換器をn″′′個並アド
レスの順番に0かり2 までのディジタルデータをメモ
リセルに予め記憶するようにしてもよい。これにより、
アドレッシングのみて、アドレスに対応したアナログ量
を得ることかでき、高速D/A変換器を実現することか
できる。
レスの順番に0かり2 までのディジタルデータをメモ
リセルに予め記憶するようにしてもよい。これにより、
アドレッシングのみて、アドレスに対応したアナログ量
を得ることかでき、高速D/A変換器を実現することか
できる。
また、ケート検出型メモリセル310オン抵抗を2°の
比で分配するだけでなく、任意に組み合わせることによ
り、シグモイド関数等の非線形D/A変換機能を持たせ
ることもできる。これにより、非線形演算を、並列且つ
高速に行なうことかできる。
比で分配するだけでなく、任意に組み合わせることによ
り、シグモイド関数等の非線形D/A変換機能を持たせ
ることもできる。これにより、非線形演算を、並列且つ
高速に行なうことかできる。
このように本発明のアナログ読み出し型メモリ装置では
、線形の並列演算だけでなく、非線形高速演算がメモリ
内の内容に応じて行なうことができる。
、線形の並列演算だけでなく、非線形高速演算がメモリ
内の内容に応じて行なうことができる。
また、上記強誘電体キャパシタ21の代わりに、誘電体
キャパシタを用いることもできる。
キャパシタを用いることもできる。
[発明の効果]
以上詳述したように本発明によれば、メモリ読み出し時
間のみでアナログ信号を出力できるアナログ読み出し型
高速メモリ装置を提供することができる。
間のみでアナログ信号を出力できるアナログ読み出し型
高速メモリ装置を提供することができる。
第1図は実施例のアナログ読み出し型メモリ装置の詳細
な回路構成図、第2図(a)乃至(c)はそれぞれメモ
リ素子の回路構成を示す回路図、第3図(a)及び(b
)はそれぞれメモリ素子の積層構造を示す断面図、第4
図はメモリ付4ビツトD/A変換器の回路構成図、第5
図はメモリ付4ビツトD/A変換器の人出力特性を示す
線図、第6図は実施例のアナログ読み出し型メモリ装置
の概略回路構成図、第7図は従来のD 、/ A変換器
の回路構成図である。 20・・・MIMスイッチ、21・・・強誘電体キャパ
シタ、22・・・MOSFET、32・・・メモリセル
、33・・・データ書き込み端子(メモリ書き込み/読
み出し端子)、37・・・Xアドレス用スイッチ、38
・・・Xアドレス用スイッチ、39・・・電流検出器(
電流計)、40・・・保護用ダイオード、41・・・書
き込み制御スイッチ、XA・・・Xアドレス線、YA・
・Yア・ドレス線。 出願人代理人 弁理士 坪井 淳 第2図(C) 第3図(a) 第3図(b)
な回路構成図、第2図(a)乃至(c)はそれぞれメモ
リ素子の回路構成を示す回路図、第3図(a)及び(b
)はそれぞれメモリ素子の積層構造を示す断面図、第4
図はメモリ付4ビツトD/A変換器の回路構成図、第5
図はメモリ付4ビツトD/A変換器の人出力特性を示す
線図、第6図は実施例のアナログ読み出し型メモリ装置
の概略回路構成図、第7図は従来のD 、/ A変換器
の回路構成図である。 20・・・MIMスイッチ、21・・・強誘電体キャパ
シタ、22・・・MOSFET、32・・・メモリセル
、33・・・データ書き込み端子(メモリ書き込み/読
み出し端子)、37・・・Xアドレス用スイッチ、38
・・・Xアドレス用スイッチ、39・・・電流検出器(
電流計)、40・・・保護用ダイオード、41・・・書
き込み制御スイッチ、XA・・・Xアドレス線、YA・
・Yア・ドレス線。 出願人代理人 弁理士 坪井 淳 第2図(C) 第3図(a) 第3図(b)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、半導体基板上に形成される絶縁膜を介して設けられ
たゲート電極及び該ゲート電極の両側に形成された電流
通路電極からなる出力手段と、上記出力手段のゲート電
極上に形成された強誘電体膜又は誘電体膜からなる分極
電荷蓄積手段と、上記分極電荷蓄積手段の強誘電体膜又
は誘電体膜上に形成される第1の導電膜−絶縁トンネル
膜−第2の導電膜のMIM構造の非線形導電率素子から
なる入力手段とを有するメモリセルを複数個ずつ組合せ
、 上記複数個単位からなるメモリセルに複数ビットのディ
ジタルデータを記憶させ、その記憶させたディジタルデ
ータを、それぞれのメモリセルからの出力電流を演算す
ることによりアナログ電流量又はアナログ電圧量として
出力させることを特徴とするアナログ読み出し型メモリ
装置。 2、上記絶縁トンネル膜がラングミュア・ブロジェット
膜であることを特徴とする請求項1に記載のアナログ読
み出し型メモリ装置。 3、上記出力手段の絶縁膜の上に、上記強誘電体膜又は
誘電体膜、上記絶縁トンネル膜、及び最上部電極が直接
接触して形成されることを特徴とする請求項1又は2に
記載のアナログ読み出し型メモリ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2305173A JP2960956B2 (ja) | 1990-11-09 | 1990-11-09 | アナログ読み出し型メモリ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2305173A JP2960956B2 (ja) | 1990-11-09 | 1990-11-09 | アナログ読み出し型メモリ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04177699A true JPH04177699A (ja) | 1992-06-24 |
JP2960956B2 JP2960956B2 (ja) | 1999-10-12 |
Family
ID=17941942
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2305173A Expired - Lifetime JP2960956B2 (ja) | 1990-11-09 | 1990-11-09 | アナログ読み出し型メモリ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2960956B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5721700A (en) * | 1996-01-26 | 1998-02-24 | Nec Corporation | Non-volatile semiconductor memory device in which applied voltage to ferroelectric capacitor is adjusted |
JP2019537187A (ja) * | 2016-11-09 | 2019-12-19 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションInternational Business Machines Corporation | メモリ・セル構造、メモリ・セル・システム、およびメモリ・セル構造を製造するための方法 |
EP3937174A1 (en) * | 2020-07-09 | 2022-01-12 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Memory device, semiconductor device and associated method |
-
1990
- 1990-11-09 JP JP2305173A patent/JP2960956B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5721700A (en) * | 1996-01-26 | 1998-02-24 | Nec Corporation | Non-volatile semiconductor memory device in which applied voltage to ferroelectric capacitor is adjusted |
JP2019537187A (ja) * | 2016-11-09 | 2019-12-19 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションInternational Business Machines Corporation | メモリ・セル構造、メモリ・セル・システム、およびメモリ・セル構造を製造するための方法 |
EP3937174A1 (en) * | 2020-07-09 | 2022-01-12 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Memory device, semiconductor device and associated method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2960956B2 (ja) | 1999-10-12 |
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