JPH04164577A - 研磨テープ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は研磨テープに関する。更に詳細には、本発明は
研磨能力が長期間持続する、磁気ヘッド用研胛テープに
関する。

［従来の技術］ テープレコーダやカセットデツキあるいはパソコンやワ
ープロなどでは、テープ面およびディスク面と摺接する
磁気ヘッドのフェライト表面が使用につれて汚れて（る
。磁気ヘッドフェライト表面の汚れをそのままにしてお
くと磁気特性が低下するので定期的に磁気へラドフェラ
イト表面をクリーニングしなければならない。

［発明が解決しようとする課題］ 磁気ヘッドのクリーニングには、一般的に、湿式と乾式
の２種類の方法がある。湿式はアルコールや界面活性剤
などの汚染除去成分が配合された溶液を織布あるいは不
織布などに含浸させ、磁気ヘッドをこの織布あるいは不
織布上を摺動させることによりクリーニングするもので
ある。湿式の場合、クリーニング直後はヘッド表面が湿
潤しているので、ヘッド表面が完全に乾燥しなければ使
用できないという欠点がある。また、ヘッド表面に強固
にこびりついた汚れは湿式ではなかなか落ちにくいこと
がある。

一方、乾式クリーニングは、プラスチックフィルムなど
の非磁性基体表面に酸化シリコンのような研磨粒子をバ
インダを用いて塗布し、磁気ヘッドをこの研磨粒子塗布
面上を摺動させることにより行う。乾式の場合、クリー
ニング終了後、直ちに磁気ヘッドを使用することができ
、ヘッド表面の頑固な汚れも完全に落とすことができる
。

しかし、従来のこの種のクリーニング用研磨テープにお
いては、長時間使用することによって、研磨粒子の突起
部分に摩耗が発生し、研磨能力が低下してくるという欠
点があった。

従って、本発明の目的は、従来の乾式クリーニング用研
磨テープがもっていた、摩耗による研磨能力の低下とい
う欠点を解決し、以て製品寿命に優れた乾式クリーニン
グ用研磨テープを提供することである。

［課題を解決するための手段］ 前記目的を達成するために、本発明では、バインダ中に
微粒子を分散させた混合物を非磁性基体表面に塗布し、
この塗布層の表面に金属薄膜を蒸着させてなる研磨テー
プにおいて、前記微粒子の表面突起の底面積をＳ（μｍ
２）、高さをれ（μｍ）としたときに、 ２×Ｓ≧ｈ≧Ｓ／２ で示される関係が成り立つことを特徴とする研磨テープ
を提供する。

［作用コ 前記のように、微粒子の表面突起の高さを、底面積の１
ｚ２以上にすることによって、突起の摩耗による研磨表
面の平滑化の進行が鈍化する。その結果、長時間にわた
って安定した研磨能力が得られる。ただし、この高さが
底面積の２倍以上になると、突起自身の強度が劣化し、
テープ表面から剥離しやすくなるので好ましくない。

本発明の研磨テープの模式的断面構造を第１図に示す。

図示されているように、本発明の研磨テープ１は、非磁
性基体３の表面に、バインダ５中に分散微粒７！−７を
分散させた混合物の層９が塗布されている。この層９の
外表面には金属薄膜１１が蒸着されている。従って、微
粒子の露出面も全てこの金属薄膜１１で被覆されている
。本発明における微粒子の表面突起の高さｈはバインダ
面から露出している微粒子の高さを意味する。また、底
面積Ｓはこのバインダ面と交差する微粒子の断面積を意
味する。従って、微粒子は必ずしも非磁性基体面に接触
している必要はない。

前記底面積Ｓと高さｈの関係は、使用する微粒子の平均
粒径の他、バインダの使用量を変化させることによって
も規制することができる。例えば、使用する微粒子の平
均粒径が大きい場合、バインダの使用量も多くすれば、
前記底面積Ｓと高さｈの関係を溝たすことができる。非
磁性基体の塗布総面積および微粒子の配合量が分かれば
、層８の厚さは自ずから判明する。

本発明の研磨テープで使用されるバインダの種類は特に
限定されない。いわゆる塗布型磁気記録媒体の製造に使
用されているような当業者に周知のバインダは全て使用
できる。

また、本発明の研磨テープにおいて、前記バインダ中に
分散混合される微粒子も特に限定されない。−・般的に
、Ｓ　ｉｏ２、ＡＪ２０３　、Ｔｉ０ｚ、Ｍｇ０ｓ　５
ｉＯｚ、ＣｒｚＯ３、ＺｒＯ２、ＺｎＯ１ＣａＣＯ３、
ＭｇＣ０３％　Ｃａ５Ｏ＋　、ポリエチレン球、ポリス
チレン球、ポリエステル球などの微粒子が好ましい。微
粒子の粒径も特に限定されないが、一般的に、５０人〜
１５００人の範囲内のものが好都合に使用できる。

塗布層および露出微粒子の外面に蒸着される金属薄膜は
微粒子をバインダ中に止めておく効果の他に、それ自体
が研磨効果を有する。従って、この蒸着金属薄膜は磁気
ヘッドのフェライトヘッドよりも若干硬質のものが好ま
しい。フェライトヘッドよりも軟質だと、研磨中に全て
剥離されてしまう。一方、あまり硬質すぎると、フェラ
イトヘッドを損傷する危険がある。この金属薄膜として
、例えば、Ｎｉ−Ｆｅ合金、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｎ１−ｐ
ｔ金合金Ｆｅ−Ｂ合金またはこれにＣｒ　ｓＡＪなどの
金属が含有されたものなどが好ましい。

蒸着は例えば、ベーパデポジション法などの当業者に周
知の慣用方法により実施することができる。この金属薄
膜の膜厚自体は特に限定されないが、一般的に、１００
人〜５０００人の範囲内であることが好ましい。

本発明の研磨テープで使用される非磁性基体は、ポリイ
ミド、ポリエチレンテレフタレート等の高分子フィルム
類である。

また、本発明の研磨テープの形態は、長尺なテープに限
らず、円盤状のディスクでもよい。

［実施例コ 以Ｆ１実施例により本発明を更に詳細に説明する。

実１１１し 最大突起高さが５０Å以下の平滑度を有するポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）からなる非磁性基体りに、
平均粒径が２００人のＳｉＯ２粒子とメチルセルロース
とを重量比が１０：１になるように溶剤中で分散した塗
料を塗布し、そのＬに厚さ１０００人のＮｉＦｅ　（８
０−２０）Ｊ１着膜を酸素雰囲気中で作製した。このよ
うにして得られた蒸着原反を８１幅にスリットし、研磨
テープを作成した。

比較ＪＬＬ Ｓｉ０２粒子とメチルセルロースとの重量比をｌ：１に
した以外は実施例１と同様にして研磨テープを作成した
。

以上のようにして作成した研磨テープについて、初期状
態でのヘッド研磨量と１００回使用後のヘッド研磨量と
をそれぞれ調べた。結果をＦ記の表１に示す。

表１に示された結果から明らかなように、本発明の研磨
テープは長期間使用しても研磨能力が低下しない。

［発明の効果］ 以上説明したように、本発明によれば、微粒子の表面突
起の高さを、底面積の１／２以りで２倍以下の範囲内に
規制することにより、研磨能力を長期間維持することの
できる研磨テープが得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の研磨テープの構造を模式的に示す断面
図である。 １・・・本発明の研磨テープ。 ３・・・非磁性基体。 ５・・・バインダ。 ７・・・微粒子。 ９・・・塗布層。 １１・・・金属薄膜

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）バインダ中に微粒子を分散させた混合物を非磁性
   基体表面に塗布し、この塗布層の表面に金属薄膜を蒸着
   させてなる研磨テープにおいて、前記微粒子の表面突起
   の底面積をＳ（μｍ＾２）、高さをれ（μｍ）としたと
   きに、 ２×Ｓ≧ｈ≧Ｓ／２ で示される関係が成り立つことを特徴とする研磨テープ
   。
2. （２）長尺なテープ状である請求項１記載の研磨テープ
   。
3. （３）円盤状である請求項１記載の研磨テープ。