JPH04158509A - 精密移動テーブル - Google Patents

精密移動テーブル

Info

Publication number
JPH04158509A
JPH04158509A JP2283475A JP28347590A JPH04158509A JP H04158509 A JPH04158509 A JP H04158509A JP 2283475 A JP2283475 A JP 2283475A JP 28347590 A JP28347590 A JP 28347590A JP H04158509 A JPH04158509 A JP H04158509A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
temperature
stage
refrigerant
base
linear motor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2283475A
Other languages
English (en)
Inventor
Hisashi Nakatsui
久 中津井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2283475A priority Critical patent/JPH04158509A/ja
Publication of JPH04158509A publication Critical patent/JPH04158509A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716Stages
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/70866Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
    • G03F7/70875Temperature, e.g. temperature control of masks or workpieces via control of stage temperature

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、半導体露光装置に用いられる精密移動テーブ
ルの温度制御に関する。
[従来技術] 従来の半導体露光装置用N密移動テーブルを駆動する手
段はDCサーボモータなどの回転運動を送りネジなどに
よって直進運動に変換し、ガイドに沿ってテーブルをX
方向およびY方向に移動させる構成であった。一方、近
年半導体露光装置の焼付小線中に微細化および処理速度
の高速化に伴いXYテーブルの移動精度、移動速度とも
極めて高精度のものが要求されている。しかしながら、
送りネジを用いるとネジの摩擦やガタ、送りむらなどの
非線形成分により、応答性が劣化し、高速化を妨げ、ま
た送りネジのふれまわりなどによって不必要な揺動力を
生じ、テーブルの移動精度を悪化させていた。このため
駆動手段としてリニアモータを用いて非線形要素を排除
し、高速、高精度化を図る提案がなされている。
また、精密移動テーブルにリニアモータを用いることに
よって、リニア、モータの発熱に起因するテーブルの局
所的加熱と熱応力による変形が生じる。
そこで、熱応力による変形をもたらす温度分布をなくす
ためにリニアモータから成るステージ駆動手段を冷却し
ていた。
[発明が解決しようとする課題] 前述のように、精密心動テーブルにリニアモータを用い
ると、リニアモータの発熱によりテーブルを局所的に加
熱する。その結果、テーブルが熱応力により変形し、テ
ーブルの精度基準となる部材が変形して高精度の移動制
御ができないという問題が起こり、これを解決するため
にリニアモータを冷却していた。
しかしながら、高精度に移動制御ができない原因として
リニアモータの発熱の他に、半導体露光装置に用いられ
る水銀灯、ハロゲンランプ、エキシマレーザなどの各種
露光光源からの局所的発熱によってもまた精密心動テー
ブルが熱応力により変形し、高精度の移動制御ができな
くなる。
したがって、従来の冷却方法では局所的な熱応力の発生
を充分に解消できなかった。
本発明は、前記従来技術の問題点に鑑みなされたもので
あって、熱応力による変形をもたらす温度分布をなくし
テーブル全体を定常な温度として高精度の位置移動制御
を可能とする精密移動テーブルの提供を目的とする。
[課題を解決するための手段] 前記目的を達成するため本発明では、発熱体であるステ
ージ駆動手段(例えばリニアモータ)と露光ステージを
冷却するための冷却手段を設け、テーブル移動制御の基
準部材であるベースとリニアモータと露光ステージの温
度差がゼロになるように前記冷却手段を制御している。
[作用コ リニアモータと露光ステージを含むステージ駆動手段と
ベースとの温度差がなければ熱は流れず熱伝達は行われ
ない。したがって、リニアモータと露光ステージの発熱
によるテーブルのベースに生ずる温度差が極めて小さく
なる。
[実施例] 第1図は本発明に係るM密移動テーブルの一実施例を示
す。この精密移動テーブルは、ベース8と、このベース
8の上面にその両端に沿って対向配置した2本の平行な
ガイド7と、これらの両ガイド7.7間に亘って装着し
たXステージ2と、このXステージ2上に装着したXス
テージ1とを具備している。ベース8の上面は精度基準
面28を構成する。したがって、このベース8の上面は
高い平面度、例えば±0.5μmに仕上げられている。
Xステージ2はエアーベアリングを介して水平方向には
ガイド7に支持され、垂直方向には同様にエアーベアリ
ングを介してベース8上に支持されている。このXステ
ージ2はガイド7に沿って直線的に摺動可能である。ウ
ェハにマスクパターンを露光する露光ステージが載置さ
れるXステージエは水平方向にはエアーベアリングを介
してXステージ2に支持され、垂直方向にはエアーベア
リングを介してベース8上に支持される。Xステージ1
はXステージ2の移動方向と直角な方向にXステージ2
上を摺動する。3はXステージ用静圧流体軸受(エアー
ベアリング)取付板であり、4はYステージ用静圧流体
軸受取付板である。
Xステージ1の駆動手段であるリニアモータ5はXステ
ージ2内に装着される。Xステージ2の駆動手段である
リニアモータ6は2本のガイド7の外側に各々に装着さ
れる。これらのリニアモータ5.6は固定子33および
この固定子33上を摺動する可動子32と仁より構成さ
れる。各可動子32には各々2つの温度センサ9が取付
けられている。固定子33とXステージ1には冷却用の
冷媒通路が形成され冷却流入用のフレキシブルチューブ
22が接続される。ベース8には孔29が穿設され、内
部に温度センサ30が設置される。
Xステージ1上には露光ステージ(図示しない)が載置
される。このXステージ1には、ベース8と同様に孔3
8が穿設され、内部に温度センサ39が設置される。
第2図にリニアモータの構成を示す。永久磁石37を対
向させて配置し、磁束の通路であるヨーク12にこれを
取り付ける。上下のヨーク12はスペーサ13を介して
互いに連結され箱状の可動子を構成する。コイル11は
2本のコイル支持部材10間に固定される。2木のコイ
ル支持部材10は連結部材15によって連結され、固定
子を構成する。箱状の可動子によって形成される磁場の
中に固定子のコイル11が配設されるので、このコイル
11に通電することにより、推力を発生することができ
る。コイル支持部材10には冷却用の冷媒を流す冷媒通
路16が穿設され通電によってコイルに発生するジュー
ル熱を取り去る。
第3図に冷媒の流れの糸路図を示す。冷媒タンク17内
には適当な量の冷媒が収容され、図示しない温度調節装
置によりて一定温度に保たれている。この冷媒はポンプ
18により5つの電磁弁19a、19b、19c、、1
9d、19eを介してフレキシブルチューブ22を含む
冷媒系路を循環する。これらの電磁弁は後述する温度制
御回路によって自動的に制御され、冷媒の流れをON。
OFFする。
この、制御された冷媒流は、着脱可能なコネクタ20a
、20b、20c、20dを介して各々フレキシブルチ
ューブ22に接続され、前記各リニアモータの冷却用管
路21a、21b、21c、21d(冷媒通路16)に
導かれる。このような構成によりリニアモータと露光ス
テージから取り去る熱量を冷媒のON、OFFによって
制御可能となる。リニアモータの冷却用管路を出た配管
は1つにまとめられ再びフレキシブルチューブ22およ
び着脱可能なコネクタ20を通り、バイパス用の電磁弁
19eの出口と合流した後、冷媒タンク17に戻る。こ
こで、フレキシブルチューブ22を用いているため、テ
ーブルが移動する際、その運動を妨げることがなく、ま
た着脱可能なコネクタ20.20a〜20dを外せばテ
ーブル単体の組立、保守、点検などを容易に行うことが
できる。
第4図は温度検出用の回路を示す。図中の抵抗rAI、
rA2、r 1llt  r B2は温度センサである
測温抵抗体、例えば白金抵抗体であり、被測定物の温度
変化によって、その抵抗値が変化する。これら4つの温
度センサはブリッジ状に接続され微調整用の可変抵抗r
を介して定電圧源■に接続される。露光ステージへの熱
はXステージ11の可動子32に設けられた2つの温度
センサ9により検出され、計測される。
また温度センサの一対rAl、rA2はリニアモータの
一部例えば第2図で示したリニアモータのヨーク12上
に設けた温度センサ取付用ピット14内に固定される。
もう一方の対rBl、rB2は別に設けた温度制御基準
部材、例えば本テーブルの乗る定盤や、第1図に示した
ベース8に同様に温度センサ取付用ビットを設けそこに
固定される。白金測温抵抗体の抵抗値は温度に対し、r
=R+α・4丁で示されるリニアな変化をする。ここで
、rは白金側温抵抗体の抵抗値、R1αは定数、ΔTは
温度変化である。4つのセンサrA□、rA2v  r
 Blv  ra2の温度変化をΔT Al、ΔT A
2゜ΔTl5I、ΔTB2とすると出力電圧eは微調整
用の可変抵抗rが小さいとして次のように示される。
上式より圧力eは一対の温度センサrA1.r^2の平
均温度ともう一対の温度センサr B1.  r B2
の平均温度との差に比例する電圧となることが分る。
第5図に温度制御回路を示す。3つのリニアモータに対
応した前述の温度センサのブリッジ回路の各出力e1〜
e、をアンプ23a〜23cで増幅する。各アンプの増
幅率は例えば100dBである。各アンプ23a〜23
cで増幅されたノイズはローパスフィルタ24a〜24
cに導かれ減衰される。温度は比較的ゆっくり変化する
のでこのローパスフィルタのカットオフ周波数は低くて
よく、例えばIHzである。ローパスフィルタ24a〜
24cを通過した信号はビステリシス回路25a〜25
cに導かれる電磁弁開閉用の0N−OFF信号に整形さ
れる。このON −OF F 信号はパワーアンプ26
a〜26cを介して電磁弁198〜19cをON、OF
Fする。露光ステージ冷却用の電磁弁19dも同様に制
御される。
以上、説明したように本発明では、X−Yステージの駆
動を行う際、リニアモータを通電、動作させるが、この
とき、コイルにジュール熱を発生させる。このジュール
熱が各部を伝わりベース8に達し、ベース8に温度分布
を生じさせるのに加えて、Xステージ1上に載置した露
光ステージに露光光源から与えられる熱があり、それが
Xステージ1を伝わり、さらにベース8に伝えられる。
従来はこの温度分布によりベース8が変形し、xYステ
ージの移動精度が悪化していた。しかしながら、本発明
ではリニアモータのコイルによる発熱を可能な限り減少
させるとともに露光光源からの露光による蓄、発熱を減
少させることにより、高精度のX−Yステージ移動制御
ができる。
[発明の効果コ 以上、説明したように、リニアモータのコイルによる発
熱を抑えると同時に露光光源からの熱エネルギー付与に
よる発熱も抑えることにより高精度なX−Yステージ移
動を達成できる。
現在半導体分野において、露光ステージに設置され露光
される半導体ウェハの大きさが6インチから8インチへ
と大面積化し、さらに0.5μから0.25μへと高解
像力、高密度化し、ウェハの露光時間が長くなり、ウェ
ハに与えられる熱量も多量になっている。したがって本
発明にように露光ステージの発熱を抑えることは信頼性
の高い半導体製品を得るために、極めて有効である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る精密移動テーブルの実施例の斜視
図、 第2図は本発明の構成をするリニアモータの斜視図、 第3図は本発明に係る温度制御装置の冷媒系路図、 第4図は本発明に係る温度検出回路図、第5図は本発明
に係る温度制御回路図である。 1:Xステージ、 2:Yステージ、 5.6:リニアモータ、 7、ガイド、 8:ベース、 9.30:温度センサ、 11:コイル、 12、ヨーク、 16:冷媒通路、 22:フレキシブルチューブ。 特許出願人   キャノン株式会社 代理人 弁理士   伊 東 哲 也 代理人 弁理士   伊 東 辰 雄 第3図 ■ 第4図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ベース上面のXY平面を移動するXYステージと
    、該XYステージに搭載した露光装置と、該XYステー
    ジの駆動手段と、該駆動手段の温度検知手段と、該駆動
    手段の冷却手段と、前記XYステージの露光装置搭載部
    の温度検知手段と、該搭載部の冷却手段と、前記各温度
    検知手段の検知結果に基づき前記各冷却手段を駆動制御
    する制御手段とを具備したことを特徴とする精密移動テ
    ーブル。
  2. (2)前記ベースの温度検知手段を設け、該温度検知手
    段を前記制御手段に連結したことを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載の精密移動テーブル。
  3. (3)前記駆動手段はリニアモータからなることを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記載の精密移動テーブル。
JP2283475A 1990-10-23 1990-10-23 精密移動テーブル Pending JPH04158509A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2283475A JPH04158509A (ja) 1990-10-23 1990-10-23 精密移動テーブル

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2283475A JPH04158509A (ja) 1990-10-23 1990-10-23 精密移動テーブル

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04158509A true JPH04158509A (ja) 1992-06-01

Family

ID=17666030

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2283475A Pending JPH04158509A (ja) 1990-10-23 1990-10-23 精密移動テーブル

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04158509A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1155771A2 (de) * 1993-03-10 2001-11-21 Ex-Cell-O GmbH Werkzeugmaschine

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1155771A2 (de) * 1993-03-10 2001-11-21 Ex-Cell-O GmbH Werkzeugmaschine
EP1155771A3 (de) * 1993-03-10 2004-07-21 Ex-Cell-O GmbH Werkzeugmaschine

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100436323B1 (ko) 스테이지장치및그스테이지장치를갖춘노광장치
KR100977030B1 (ko) 기판 지지부 및 리소그래피 프로세스
CN101030042B (zh) 光刻装置及器件制造方法
EP1628161B1 (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method
KR100632424B1 (ko) 리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법
KR100375189B1 (ko) 선형모터
US8199313B2 (en) Temperature regulating apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US7565926B2 (en) Heat exchange method and heat exchange apparatus
KR102021432B1 (ko) 센서, 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법
USRE48668E1 (en) Temperature sensing probe, burl plate, lithographic apparatus and method
KR20010082053A (ko) 온도 제어된 열 차폐부를 구비한 전사투영장치
JPH10506239A (ja) 三次元的に位置決め可能なマスクホルダを有するリソグラフ装置
JP2510874B2 (ja) 精密移動テ―ブル
JPH04158509A (ja) 精密移動テーブル
JP4432139B2 (ja) ステージ装置及び露光装置
JP2794587B2 (ja) 投影露光装置
US7312848B2 (en) Positioning apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP2012118159A (ja) 近接露光装置及び異物検出方法並びに基板の製造方法
JPS58178536A (ja) 加工片保持装置
US8164735B2 (en) Regulating device, exposure apparatus and device manufacturing method
US9778579B2 (en) System and method for controlling a temperature of a reaction assembly
JP3286994B2 (ja) 露光方法、および露光装置
JP3291832B2 (ja) 基板保持部材、および、露光装置
JPH09320934A (ja) ステージ装置
JP2010101742A (ja) 温度計測装置、気体供給装置、及び露光装置