JPH0415794B2 - - Google Patents

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JPH0415794B2
JPH0415794B2 JP59073104A JP7310484A JPH0415794B2 JP H0415794 B2 JPH0415794 B2 JP H0415794B2 JP 59073104 A JP59073104 A JP 59073104A JP 7310484 A JP7310484 A JP 7310484A JP H0415794 B2 JPH0415794 B2 JP H0415794B2
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organic
formula
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acid dichloride
mol
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Kuraineru Hansuuieruku
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Hoechst AG
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Hoechst AG
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Publication of JPH0415794B2 publication Critical patent/JPH0415794B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/50Organo-phosphines
    • C07F9/53Organo-phosphine oxides; Organo-phosphine thioxides
    • C07F9/5325Aromatic phosphine oxides or thioxides (P-C aromatic linkage)
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/50Organo-phosphines
    • C07F9/52Halophosphines

Description

【発明の詳細な説明】 有機クロルホスフアンは、一般式
【式】 及び
【式】 (式中Rは有機の基である) で示される化合物であり、主として種々の特別の
分野例えば(薬学)、濃薬(Pflanzenschutz)、染
料及び高分子の分野の中間体である。 有機クロルホスフアンを製造する多数の相違す
る方法が既に知られている。特に脂肪族クロルホ
スフアン特にメチルジクロルホスフアンは例えば
ソ連発明者証第362026号に記載されている方法に
よつて製造することができる;この方法はメチル
ホスホン酸ジクロリドと脂肪族ホスフアン―特に
トリ−n−ブチルホスフアンの(n−C4H93Pと
トリ−i−アミルホスフアンの(i−C5H113P
とが記載されている―とを1:1のモル比で175
℃と220℃との間の温度で反応させること(脱酸
素すること)にある。この反応は次の反応式に基
いている: (R′=脂肪族の基) 報告された、メチルジクロルホスフアンの収量
は理論の約60%であり、トリアルキルホスフアン
オキシドの収量は理論の約80%と約90%との間で
ある。 この反応で脂肪族ホスフアンを工業的に入手し
やすく、かつ安価なトリフエニルホスフアン
(C6H53Pと取替えると、我々の実験でわかつた
ように実際の要求に不十分なアルキルジクロルホ
スフアンの収率(理論の30%以下)が得られる。 ところで、上記のソ連発明者証による反応を更
に発展させ且つ該反応を特に(脂肪族ホスフアン
の代りに)トリフエニルホスフアンを用いても使
用に適する収率で該反応が進むように改良する試
みにおいて、既知の反応の脂肪族ホスホン酸ジク
ロリドの代りに芳香族系または複素環系ホスホン
酸ジクロリドを使用することによつてこの目的を
達成することができるということがわかつた;ア
ロマチツク−アリフアチツクホスフイン酸クロリ
ドまたはヘテロサイクリツク−アリフアチツクホ
スフイン酸クロリドを使用することもできる。 従つて本発明は、有機オキシ塩化リンと有機ホ
スフアンとを昇温下で反応させることによつて有
機クロルホスフアンを製造する方法にして、有機
オキシ塩化リンとして式 (式中R1は芳香族基または複素環基であり、
R2は脂肪族基またはClである) で示される化合物をそして有機ホスフアンとして
トリフエニルホスフアン(C6H53Pを使用するこ
とを特徴とする方法に関する。 この反応によつてアロマチツクジクロルホスフ
アン及びヘテロサイクリツクジクロルホスフアン
並びにアロマチツク−アリフアチツクモノクロル
ホスフアン及びヘテロサイクリツク−アリフアチ
ツクモノクロルホスフアン―ここではジクロルホ
スフアン及びモノクロルホスフアンをとする―
が反応式 に従つて高収率(大低理論の約75%と100%との
間)で得られる。 この反応がうまく行くことと円滑に進むことと
は非常に驚くべきことであつた;なぜなら純粋に
脂肪族のホスホン酸ジクロリドとトリフエニルホ
スフアンとの反応では比較的少量のジクロルホス
フアンだけが生じるからである。 本発明による方法の出発物質は、式の化合物
及びトリフエニルホスフアンである。 式において、芳香族−または複素環−基R1
は殊に―不活性基によつて場合により置換されて
いる―フエニル−またはチエニル−基である。不
活性基は、ここで起る反応で反応しない基であ
る。この型の好ましい不活性基はこの場合アルキ
ル基、アロゲノアルキル基、ハロゲン基、特に
C1〜C6−アルキル基(なかんずくCH3及び
C2H5)、CF3及びClである。フエニル基もチエニ
ル基もモノ置換またはポリ置換されていることが
できる;特に、フエニル基はモノ置換またはジ置
換されておりそしてチエニル基は置換されていな
い。 R2=アルキル基の場合にはC1〜C6−アルキル
基が好ましい;CH3基及びC2H5基が特に好まし
い。 R2の二つの可能性(アルキル基またはCl)の
中ではClが好ましい。 R2=アルキル基の場合、式の化合物はアロ
マチツク−アリフアチツクホスフイン酸クロリド
またはヘテロサイクリツク−アリフアチツクホス
フイン酸クロリド例えばフエニルメチルホスフイ
ン酸クロリド、トリルメチルホスフイン酸クロリ
ド、フエニルエチルホスフイン酸クロリド、チエ
ニルメチルホスフイン酸クロリド等である。これ
らの化合物は、既知の方法によつて手に入れるこ
とができる。 式においてR2=Clの場合には化合物はアロ
マチツクホスホン酸ジクロリド及びヘテロサイク
リツクホスホン酸ジクロリド例えばフエニルホス
ホン酸ジクロリド、トリルホスホン酸ジクロリド
類、キシリルホスホン酸ジクロリド類、3−トリ
フルオルメチルフエニルホスホン酸ジクロリド、
4−クロルフエニルホスホン酸ジクロリド、チエ
ニルホスホン酸ジクロリド等である。これらの化
合物の製造も、既知の方法によつて行われる。従
つて例えばフエニルホスホン酸ジクロリドC6H5P
(O)Cl2はなかんずく、R=有機の基であるフエ
ニルホスホン酸ジエステル類C6H5P(O)(OR)2
のホスゲン化によつて得られる;フエニルホスホ
ン酸ジエステルの方は例えばブロムベンゼンとト
リアルキルホスフアイトとを臭化ニツケルの存在
下で反応させることによつて得られる。 式の有機オキシ塩化リンとトリフエニルホス
フアンは通常1:1の(化学量論量の)モル比で
使用される。しかし他のモル比も可能である。オ
キシ塩化リンかトリフエニルホスフアンかいず
れか一方を過剰に使用することができる;その際
過剰な分は反応のときに無反応のままである。特
に、過剰の有機オキシ塩化リンは反応のために
そして後処理の際に溶剤及び希釈剤としても適す
る。更に他の不活性溶剤及び希釈剤が存在するこ
とも可能であるが、利益をもたらさない。 反応温度は一般に約100℃と約350℃との間、殊
に約170℃と約250℃との間である。 普通、反応は大気圧で行われる;しかし大気圧
よりも高い圧力を使用することも可能であり、得
策となる場合もあり得る。 反応は、式の有機オキシ塩化リンとトリフエ
ニルホスフアンとを適当な方法で混合し、混合物
を反応温度に一定時間好ましくは不活性ガスの雰
囲気(例えば窒素)の下に保つことによつて行わ
れる;反応時間は平均約1ないし20時間である。 反応が終つた後に、生じたクロルホスフアン
を―即ちモノクロルホスフアンを(ホスフアン酸
クロリドから)またはジクロルホスフアンを
(ホスホン酸ジクロリドから)―単離しなけれ
ばならない。第二の反応生成物としてトリフエニ
ルホスフアンオキシドが生じる。単離は例えば蒸
留によつて、例えば低沸点のクロルホスフアン
及び場合により更に有機オキシ塩化リンは留出
するがトリフエニルホスフアンオキシド及び場合
によりトリフエニルホスフアンは蒸留器の残液へ
入るように調節した薄層蒸発器を用いても、行う
ことができる。又時々、生じたトリフエニルホス
フアンオキシドの大部分が反応混合物から晶出す
る;その際過によつて、場合により希釈剤の存
在下でも、予め分離を行うことが可能である。 本発明による方法は(ソ連発明者証第362026号
による純粋に脂肪族のホスフアンよりも入手しや
すく且つ安価な)トリフエニルホスフアンを一緒
に使用して(該ソ連発明者証の方法と比較して)
著しく高い収率で有機オキシ塩化リンからリンに
付いた芳香族−または複素環−基を有するクロル
ホスフアンを製造することを可能にする。従つて
本発明はソ連発明者証第362062号による方法を進
歩改良させた発明である。 以下、例を挙げて本発明を更に具体的に説明す
る。本発明の例(A)の後に比較例(B)を記載する;比
較例(B)は、純粋に脂肪族のホスホン酸ジクロリド
とトリフエニルホスフアンとの反応の際に比較的
少量のジクロルホスフアンが生じるに過ぎないと
いうことを示す。 A 本発明の例 例 1 フエニルホスホン酸ジクロリド50g(0.256モ
ル)及びトリフエニルホスフアン40g(0.153モ
ル)を窒素雰囲気の下で230℃で12時間撹拌した。
次に、200℃の内温に達するまで0.1kPaで蒸留し
た。得られた留出物を次に、ラシツヒリングを充
填した70cmの丈の銀メツキしたジヤケツトカラム
を使用して分留した。反応しなかつたフエニルホ
スホン酸ジクロリドのほかに、25gのジクロルフ
エニルホスフアンが得られた。これは、使用した
トリフエニルホスフアンに対して理論の91%の収
量に相当する。 例 2 p−トリルホスホン酸ジクロリド80g(0.380
モル)及びトリフエニルホスフアン32g(0.123
モル)を窒素雰囲気の下で200℃で8時間撹拌し
た。次に、0.026kPaで140℃の移行温度になるま
で蒸留を行なつた。70gの留出物が得られた。31P
−NMRスペクトルによると、この留出物は、反
応しなかつたp−トリルホスホン酸ジクロリドの
ほかに33.5%のジクロル−p−トリルホスフアン
を含有していた。これは、使用したトリフエニル
ホスフアンに対して理論の99%の収量に相当す
る。 例 3 o−トリルホスホン酸ジクロリド317g(1.52
モル)及びトリフエニルホスフアン400g(1.53
モル)を窒素雰囲気の下で180℃で17時間撹拌し
た。次に冷却し、晶出したトリフエニルホスフア
ンオキシドを吸引取した。液を0.093kPaで
約80〜100℃の移行温度で蒸留した。31P−NMR
スペクトルによると45%のジクロル−o−トリル
ホスフアンと45%のo−トリルホスホン酸ジクロ
リドとを含む220gが得られた。ジクロル−o−
トリルホスフアンは、68.5%のo−トリルホスホ
ン酸ジクロリドの変換で理論の50%の収量で得ら
れた。 晶出し、そして吸引取されたトリフエニルホ
スフアンオキシドから、特別な精製方法によつて
追加量のo−トリルホスホン酸ジクロリド及びジ
クロル−o−トリルホスフアンを得ることができ
た。ラシツヒリングを充填した70cmの銀メツキし
たジヤケツトカラムを使用して留出物を分留し
た。90gのジクロル−o−トリル−ホスフアンが
得られた;沸点:74℃/0.2kPa。 例 4 133g((1.0モル)のm−キシリルホスホン酸
ジクロリド(2,4−ジメチルフエニルホスホン
酸ジクロリド)及び274g(1.05モル)のトリフ
エニルホスフアンを窒素雰囲気の下で220℃で12
時間撹拌した。熱い反応混合物を次に撹拌しなが
ら室温で600mlのトルエンに滴加し、2時間後に
晶出したトリフエニルホスフアンオキシドを吸引
取し、氷冷したトルエンですすいだ。水流ポン
プの減圧で液からトルエンを除き、約
0.175kPaで190℃の内温に達するまで蒸留した。
31P−NMRスペクトルによると63%のジクロル
−m−キシリルホスフアンと25%のm−キシリル
ホスホン酸ジクロリドとを含む200gが得られた。
79%の変換で収量は理論の約75%であつた。ラツ
シツヒリングを充填した70cmの銀メツキしたジヤ
ケツトカラムを使用して留出物を分留した。その
結果、純粋なジクロル−m−キシリルホスフアン
が得られた;沸点:85℃/0.093kPa。 例 5 3,4−ジメチルフエニルホスホン酸ジクロリ
ド121g(0.52モル)及びトリフエニルホスフア
ン283g(1.08モル)を窒素雰囲気の下で200℃で
11時間撹拌した。次に、0.067kPaで170℃の内温
に達するまで蒸留を行なつた。45%のジクロル−
3,4−ジメチルフエニルホスフアンと48%の
3,4−ジメチルフエニルホスホン酸ジクロリド
とを含む120gが得られた。これは52.2%の変換
で理論の約92%の収量に相当する。粗留出物の分
留によつて、純粋なジクロル−3,4−ジメチル
フエニルホスフアンを得た;沸点:107℃/
0.44kPa。 同様にしてジクロル−2,3−ジメチルフエニ
ルホスフアンを製造した;沸点:87℃/
0.0133kPa。 例 6 3−トリフルオルメチルフエニルホスホン酸ジ
クロリド263g(1.0モル)及びトリフエニルホス
フアン160g(0.612モル)を窒素雰囲気の下で7
時間200℃に保つた。次に、0.4〜0.67kPaで190℃
の内温に達するまで蒸留を行なつた。31P−NMR
スペクトルによると61.5%のジクロル−3,4−
トリフルオルメチルフエニルホスフアンを含む
245gが得られた。これは、使用したトリフエニ
ルホスフアンに対して約100%の収量に相当する。
ラシツヒリングを充填した70cmの銀メツキしたジ
ヤケツトカラムを使用して留出物を分留した。こ
の方法によつて出発物質からジクロル−3−トリ
ルフルオルメチルフエニルホスフアンを分離し
た;沸点:78℃/0.8kPa。 例 7 2−チエニルホスホン酸ジクロリド288g
(1.43モル)及びトリフエニルホスフアン375g
(1.43モル)を窒素雰囲気の下で200℃で15時間撹
拌した。熱い反応混合物を次に200℃及び約
0.133kPaで薄層蒸発器で蒸留した。ジクロル−
(2−チエニル)−ホスフアン並びに約5%のビス
−(2−チエニル)−クロルホスフアン及び少量の
2−チエニルホスホン酸ジクロリドから成る約
200gの留出物が得られた。収量は理論の約75%
になつた。分留によつて純粋なジクロル−(2−
チエニル)−ホスフアンが得られた;沸点:48
℃/0.027kPa。 例 8 フエニルホスホン酸ジクロリド25g(0.128モ
ル)及びトリフエニルホスフアン30g(0.115モ
ル)を封管で330℃で3時間保つた。31P−NMR
スペクトルによると16.5gのジクロルフエニルホ
スフアン及び約4gのフエニルホスホン酸ジクロ
リド並びにトリフエニルホスフアンオキシド及び
少量のトリフエニルホスフアンを含む55gが得ら
れた。使用したトリフエニルホスフアンに対して
収量は、93%のフエニルホスホン酸ジクロリドの
変換で理論の86%であつた。 例 9 メチル−p−トリルホスフイン酸クロリド116
(0.615モル)及びトリフエニルホスフアン161.5
g(0.617モル)を窒素雰囲気の下で200℃で18時
間撹拌した。次に、0.53kPaで蒸留を行なつた。
90℃の移行温度で27gのクロルメチル−p−トリ
ルホスフアンが得られ、0.067kPa及び約120℃の
移行温度で80gのメチル−p−トリルホスフイン
酸クロリドが得られた。理論の25%の変換で収量
は理論の82%であつた。 例 10 p−クロルフエニルホスホン酸ジクロリド167
(0.73モル)及びトリフエニルホスフアン121g
(0.46モル)を窒素雰囲気の下で180℃で2時間そ
して200℃で10時間撹拌した。次に、0.04kPaで
140℃の移行温度になるまで蒸留を行なつた。31P
−NMRスペクトルによると58.5%のp−クロル
フエニルジクロルホスフアンと41.5%のp−クロ
ルフエニルホスホン酸ジクロリドとを含む145g
が得られた。ラシツヒリングを充填した70cmの銀
メツキしたジヤケツトカラムを使用して留出物を
分留した。純粋なp−クロルフエニルジクロルホ
スフアン(沸点:71℃/0.093kPa)が得られた。
これは、使用したトリフエニルホスフアンに対し
て理論の85%の収量に相当する。 B 比較のための例 エタンホスホン酸ジクロリド67.2g(0.46モ
ル)及びトリフエニルホスフアン60g(0.23モ
ル)を窒素雰囲気の下で195℃で、弱く還流させ
ながら撹拌した。還流条件で内温が22時間で185
℃に下がつた。冷却後、5.07kPaで蒸留した。そ
の際26℃の移行温度で約8gのジクロルエチルホ
スフアン(これは冷却した受器で凝縮した)が得
られそして次に80℃の移行温度で200℃の内温ま
で37gのエタンホスホン酸ジクロリドが得られ
た。蒸留残渣を次に0.1kPaで蒸留した。その際
約45gの無反応のトリフエニルホスフアンが得ら
れた。 使用したトリフエニルホスフアンに対してジク
ロルエチルホスフアンの収量は、理論の約27%で
ある。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 有機オキシ塩化リンと有機ホスフアンとを昇
    温下に反応させることによつて有機クロルホスフ
    アンを製造する方法であつて、有機オキシ塩化リ
    ンとして式 (式中R1は芳香族基又は複素環基であり、R2
    は脂肪族基又はClである) で示される化合物を使用し、且つ有機ホスフアン
    としてトリフエニルホスフアン、即ち (C6H53Pを使用することを特徴とする方法。 2 式で示される化合物のR1が不活性基によ
    つて場合により置換されているフエニル−又はチ
    エニル−基であり、且つR2がC1〜C6−アルキル
    基又はCl、殊に単にClである特許請求の範囲第1
    項記載の方法。 3 反応を約100℃と約350℃との間、殊に約170
    ℃と350℃との間の温度で行う特許請求の範囲第
    1項又は第2項記載の方法。
JP59073104A 1983-04-16 1984-04-13 有機クロルホスフアンの製法 Granted JPS59199699A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3313921.0 1983-04-16
DE19833313921 DE3313921A1 (de) 1983-04-16 1983-04-16 Verfahren zur herstellung organischer chlorphosphane

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59199699A JPS59199699A (ja) 1984-11-12
JPH0415794B2 true JPH0415794B2 (ja) 1992-03-19

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ID=6196646

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59073104A Granted JPS59199699A (ja) 1983-04-16 1984-04-13 有機クロルホスフアンの製法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4632995A (ja)
EP (1) EP0122587B1 (ja)
JP (1) JPS59199699A (ja)
AT (1) ATE33657T1 (ja)
CA (1) CA1216302A (ja)
DE (2) DE3313921A1 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Also Published As

Publication number Publication date
JPS59199699A (ja) 1984-11-12
EP0122587B1 (de) 1988-04-20
DE3313921A1 (de) 1984-10-18
ATE33657T1 (de) 1988-05-15
DE3470542D1 (en) 1988-05-26
US4632995A (en) 1986-12-30
CA1216302A (en) 1987-01-06
EP0122587A3 (en) 1985-05-15
EP0122587A2 (de) 1984-10-24

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