JPH04148140A - 熱処理装置 - Google Patents

熱処理装置

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JPH04148140A
JPH04148140A JP27135590A JP27135590A JPH04148140A JP H04148140 A JPH04148140 A JP H04148140A JP 27135590 A JP27135590 A JP 27135590A JP 27135590 A JP27135590 A JP 27135590A JP H04148140 A JPH04148140 A JP H04148140A
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clean air
air
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clean
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Kazunari Sakata
一成 坂田
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Tokyo Electron Sagami Ltd
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Tokyo Electron Sagami Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野コ 本発明はクリーンエア装置に関する。
[従来の技術] 近来、半導体製造において、ICチップの高集積化に伴
い微細な塵が製造工程中にチップに付着することにより
不良品となってしまうため、防塵対策が重要な問題とな
っている。そのため、半導体製造装置は送風装置から送
られる空気をフィルタを通して天井から送風し、床面か
ら排気してクリーンエアの垂直流が形成されるクリーン
ルームに配置されている。
このようなりリーンルームに配置される半導体製造装置
のうち、特に縦型熱処理装置は第4図に示すようにキャ
リア(図示せず)に収納したウェハ1を石英ボート2に
移載する移載装置3と、石英ボート2に支持されたウェ
ハ1を熱処理する熱処理炉4から成る。このような縦型
熱処理装置を天井に設けたフィルタ6から床に向ってク
リーンエア流7を有するクリーンルーム5内に設置した
場合、ウェハ2の移載装置3には熱処理炉4にょり天井
からの垂直流のクリーンエア流7を行亘らせることはで
きなかった。
特に、熱処理が行われた後熱処理炉4から処理済のウェ
ハ1を載置した石英ポート2を移載装置3に取出した場
合、高温による空気の巻込みが発生し、特にウェハ1が
汚染されやすかった。
そのため、移載装置3の側面にもフィルタ8を設け、ク
リーンエア流9がウニ”1に達するように水平のクリー
ンエア流を送風していた。さらに、フィルタ8を設けた
側面は、移載装置3のメンテナンスを行うために後方か
ら開閉可能な扉10となっている。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、熱処理炉4のウェハの処理枚数が多くな
り、ウェハの口径も大きくなると移載装置も大きいもの
が必要となり、そのため、大量のクリーンエアを供給し
なければならなかった。大量のクリーンエアを供給する
ためのエネルギーは大きくなり、エネルギーロスも増加
してしまい、さらに大量のクリーンエアの処置がむすか
しかった。そのため、装置内のクリーンエアを循環させ
る方法もあったが、循環させる方法ではクリーンエアの
温度が上昇してしまい不都合が生じ、また徐々にエアに
塵が混ざり、かえって汚染源となってしまった。
本発明は上記の欠点を解消するためになされたものであ
って、僅かな動力でクリーンエア流を装置内に発生させ
、しかも大量のエアの処理か不必要なりリーンエア装置
を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段] 上記の目的を達成するため、本発明のクリーンエア装置
は、側面に設けられたクリーンエア送出部と、前記クリ
ーンエア送出部に対向する側面に設けられた側面ダクト
と、前記クリーンエア送出部及び前記側面ダクトを連結
する底部ダクトとを備えたクリーンエア装置であって、
外部から取入れたエアを合流した前記クリーンエア送出
部から送出されるエアは前記側面ダクトに送入され前記
底部ダクトから前記クリーンエア送出部に戻る循環経路
と、外部から取入れた前記エアと同量のエアを排出する
排気経路とを形成したものである。
さらに、前記底部ダクトは、前記クリーンエア送出部及
び前記側面ダクト間に懸架された板状体で構成される。
[作用] 側面に設けられたクリーンエア送出部と、クリーンエア
送出部に対向する側面に設けられた側面ダクトとを底部
ダクトで連結し、クリーンエア送出部から外部から取入
れたエアも合流させてクリーンエアを送出させる。送出
れたクリーンエアの大部分は側面ダクトに取入れられ底
部ダクトから再びクリーンエア送出部に戻る循環経路を
形成させる。側面ダクトに送入されない残りのクリーン
エアは装置外に排気される。このようにすることで少量
のクリーンエアを取り込み、取り込んだ量のクリーンエ
アを排気することにより、クリーンエアの大量の取り込
みをした場合の処置も不用となり、しかもクリーンエア
の温度上昇もなく、効率良くクリーンエア流を装置内に
生じさせることができる。
また、底部ダクトはクリーンエア送出部と側面ダクト間
に板状体を懸架することにより構成されるため、メンテ
ナンスを行う場合も側面から不自由な態勢で行うことな
く、上方から簡単に行うことができ、非常に効率がよい
[実施例] 本発明のクリーンエア装置を縦型熱処理装置に適用した
一実施例を図面を参照して説明する。
第1図に示す縦型熱処理装置Sは、主として熱処理の前
後でウェハ1を収納するキャリア11と熱処理中にウェ
ハ1を支持するボートである石英ボート2間でウェハ1
の移載を行う移載装置30と、ウェハ1の熱処理を行う
熱処理炉4とから成る。熱処理炉4は各ウェハを面内均
一加熱できるよういくつかのゾーンに分れたヒータ(図
示せず)を備え、さらに図示しない反応ガス供給系と排
気系に接続され、所望の温度に加熱されたウェハlに反
応ガスにより処理、例えば成膜が行えるようになってい
る。
キャリア11と石英ボート2間のウェハ1の移載を行う
移載空間Kを形成する移載装置30は、キャリア11を
載置するキャリア載置台12と、ウェハ1を搬送する搬
送機構14とが設けられる。
この搬送機構14はウェハ1の一部を支持する図示しな
いフォークに接続された水平移動機構を有し、さらに搬
送アーム15を備える。搬送アーム15は垂直移動機構
及び回転移動機構16に接続されており、水平移動機構
によりキャリア11内に挿入された搬送アーム15が、
垂直移動機構により上昇しウェハ1を支持すると、水平
機構によりキャリア11外に戻され、回転機構により回
転され、さらに水平及び垂直機構が作動して石英ボート
2の空設に順次ウェハの移載を行うようになっている。
このような縦型熱処理装置Sはクリーンエア流7を有す
るクリーンルーム5内に設置され、第2図に示すように
クリーンエア装置Cを備える。
クリーンエア装置Cはメツシュ状のメタルで形成される
クリーンエア流の取入れ口19を上面に備え、取入れ口
19からのエア流A1をスリット36Aから吸引し、フ
ィルタ20を取着した例えば面積1m2のエア送出面$
1からエア流A2として送出する図示しないプロアファ
ンを内蔵した第1のダクト21が設けられる。また、第
1のダクト21には、エア流A2の一部が流入して再び
フィルタ20を通してエア流A2となる循環エア流路を
構成すべくスリブl−36Bが設けられている。第1の
ダクト21から送出されたエア流A2を移載装置30に
セットされたウェハを収納したキャリア11を通り、縦
型熱処理装置Sの底部に設けられた底部ダクト24に導
入するエア流A3を生じるように第1のダクト21と同
様に、プロアファンを内蔵し、例えば面積0.25m2
のエア送出面S2にフィルタ22を取着した第2のダク
ト23が設けられる。底部ダクト24はクリーンエア送
出部25及びクリーンエア送出部25に対向する側面ダ
クト26を連結し、移載空間Kを包囲して設けられる。
クリーンエア送出部25は例えば2m″のエア送出面S
3にフィルタ27を取着され、側面ダクト26にはスリ
ット28を設け、クリーンエア送出部25からフィルタ
27を通過して送出されるエアかスリット28から側面
ダクト26に導入されるクリーンエア流A4を移載空間
Kに形成するようになっている。底面ダクト24、クリ
ーンエア送出部25及び側面ダクト26は、第3図に示
すようにクリーンエア送出部25にバッキング29を介
して接続配管31を接続し、この接続配管31と他方の
側面ダクト26間に板状体32を懸架して装置の底板3
3とで底面ダクト24を形成して連結される。側面ダク
ト25中にプロアファン34が設けられ、底面ダクト2
4の開口部35(第2図)が第2のダクト23から送出
されるクリーンエアの取入れ口となっている。
この底面ダクト24の中には移載装置30の制御装置、
搬送アーム15の移動機構16やその他電送品等が配置
される。
以上のような構成の縦型熱処理装置Sの動作を説明する
移載装置30のキャリア載置台12にウェハ1を収納し
たキャリア11がセットされると第1のダクト21のプ
ロアファンが作動開始する。この時、縦型熱処理装置S
内に所望の流速例えば03m/sの空気を流通させる時
は、最も狭いエア送出面S2 (0,25m2)を流通
させるエア流量の毎分45がか外部からクリーンエア流
A1として装置内に取入れられる。さらに、スリット3
6Aから取入れたクリーンエア流A1を、フィルタ20
を通してスリット36Bから取入れた第1のダクト21
の周囲のエアと共に毎分18m”のエアA2として送出
する。送出されたエア流A2は第2のダクト23の内部
のプロアファンの動作により第2のダクト23内に取入
れられ同様にエア送出面S2に取着されたフィルタ22
より毎分4゜5がのエア流A3として送出される。第1
のダクト21と第2のダクト23のエア送出面は第1の
ダクト21の方が大きいため、第2のダクト21に取入
れられないエアはスリット36Bから第1のダクト21
に再び取入れられる。第2のダクト23から送出される
エア流A3はキャリア11を通り、側面ダクト26に設
けられたプロアファンの作動により底部ダクト24の開
口部35から取入れられる。底部ダクト24に取入れら
れたエアは、クリーンエア送出部25に導かれ、クリー
ンエア送出部25のフィルタ27から毎分36m3のエ
ア流A4となって吹き出される。エア流A4は移載空間
Kを通過して清浄流を形成してスリット28から側面ダ
クト26に流入する。側面ダクト26に流入したクリー
ンエアは底部ダクト24を通り、再びクリーンエア送出
部25に戻り、クリーンエア送出部25から送出され循
環経路を形成する。またクリーンエア送出部25から送
出されたエアの一部は取入れたクリーンエアの量、例え
ば毎分4.5m3をエア流A5の排気経路として移載装
置30の背面から装置外に排気される。このように装置
内に少量のエアを取入れ、大量のクリーンエアを装置内
に循環させるようにしたため、クリーンエアの温度も上
昇することなく、フィルタの汚染も低減させ、多量のク
リーンエアを少しの動力で供給することができる。
このようなりリーンエア流が形成された移載空間にで搬
送アーム15によりキャリア11から石英ボート2にウ
ェハ1の載置が行われる。その後、ウェハ1を支持した
石英ボート2は熱処理炉4に挿入され、所望の熱処理が
行われる。熱処理後、石英ボートは熱処理炉4から搬送
され、同様にクリーンエア流が形成された移載空間にで
石英ボートからキャリアにウェハの移載を行って処理が
終了される。
また、底部ダクト24内に配置された移載装置の制御装
置等のメンテナンスを行う場合は、底部ダクト24の板
状体32を外し、上方から簡単にメンテナンスを行うこ
とができる。また、クリーンエア送出部25を外してメ
ンテナンスを行わなければならない場合は、接続配管3
1を設けたため、位置合わせを簡単に行うことができ、
しかもバッキング29を痛めずに取外すことができる。
また、このような縦型熱処理装置を複数側面を隣接して
設けた多連のシステムにおいても、従来の側面からしか
メンテナンスを行えなかったものに比べ非常に簡単にメ
ンテナンスを行うことができる。
本発明は上記のものに限定されず、横型の熱処理装置や
その他クリーンルームの垂直流が行亘らない装置に好適
に用いることができる。
[発明の効果] 以上の説明からも明らかなように、本発明のクリーンエ
ア装置によれば、対向するクリーンエア送出部と側面ダ
クトとを底部ダクトで連結し、クリーンルームから取入
れたクリーンエアの量を排出させ、残りを清浄気体流を
形成させてクリーンエア送出部、側面ダクト、底部ダク
ト間を循環させたため、クリーンエアの温度の上昇を押
え、かつ大量のクリーンエアを少しの動力で供給するこ
とができる。
また、底部ダクト中に制御装置等を配置しても上方から
簡単にメンテナンスを行うことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のクリーンエア装置を縦型熱処理装置に
適用した一実施例を示す構成図、第2図はクリーンエア
装置の斜視図、第3図は第2図に示すクリーンエア装置
の要部を示す図、第4図は従来例を示す図である。 24・・・・・底部ダクト 25・・・・・クリーンエア送出部 26・・・・・側面ダクト 32・・・・・板状体 C・・・・・・・クリーンエア装置 A4・・・・・エア流(循環経路) A5・・・・・エア流(排気経路)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、側面に設けられたクリーンエア送出部と、前記クリ
    ーンエア送出部に対向する側面に設けられた側面ダクト
    と、前記クリーンエア送出部及び前記側面ダクトを連結
    する底部ダクトとを備えたクリーンエア装置であって、
    外部から取入れたエアを合流した前記クリーンエア送出
    部から送出されるエアは前記側面ダクトに送入され前記
    底部ダクトから前記クリーンエア送出部に戻る循環経路
    と、外部から取入れた前記エアと同量のエアを排出する
    排気経路とを形成したことを特徴とするクリーンエア装
    置。 2、前記底部ダクトは、前記クリーンエア送出部と前記
    側面ダクト間に懸架された板状体で構成されることを特
    徴とする第1項記載のクリーンエア装置。
JP2271355A 1990-09-27 1990-10-09 熱処理装置 Expired - Lifetime JP3017786B2 (ja)

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KR1019910016945A KR0167476B1 (ko) 1990-09-27 1991-09-27 종형 열처리 장치
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN112616232A (zh) * 2020-12-23 2021-04-06 西安奕斯伟硅片技术有限公司 硅片处理设备

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN112616232A (zh) * 2020-12-23 2021-04-06 西安奕斯伟硅片技术有限公司 硅片处理设备
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