JPH04145034A - ハロゲン化シンナミル及びその誘導体の製造方法 - Google Patents
ハロゲン化シンナミル及びその誘導体の製造方法Info
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- JPH04145034A JPH04145034A JP26776290A JP26776290A JPH04145034A JP H04145034 A JPH04145034 A JP H04145034A JP 26776290 A JP26776290 A JP 26776290A JP 26776290 A JP26776290 A JP 26776290A JP H04145034 A JPH04145034 A JP H04145034A
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
■産業上の利用分野】
本発明はハロゲン化シンナミル及びその誘導体の製造方
法に関するものである。 ハロゲン化シンナミル及びその誘導体は反応中間体とし
ての使用が最も多く、例えば特開昭63313742号
公報には光および熱記録材料素材、1.2−ビス(シン
ナミルオキシ)ベンゼンの合成中間体として、特開昭6
3−21181号公報には感熱記録材料素材、1−フェ
ニル−3アリールオキシ−1−プロペンの合成中間体し
ての利用が報告されている。その他、農薬、医薬品中間
体等に利用されており、産業上有用な物質である。
法に関するものである。 ハロゲン化シンナミル及びその誘導体は反応中間体とし
ての使用が最も多く、例えば特開昭63313742号
公報には光および熱記録材料素材、1.2−ビス(シン
ナミルオキシ)ベンゼンの合成中間体として、特開昭6
3−21181号公報には感熱記録材料素材、1−フェ
ニル−3アリールオキシ−1−プロペンの合成中間体し
ての利用が報告されている。その他、農薬、医薬品中間
体等に利用されており、産業上有用な物質である。
ハロゲン化シンナミル及びその誘導体の製造方法として
は、シンナミルアルコール及びその誘導体を種々のハロ
ゲン化試剤と反応させて製造する方法が最も一般的であ
る。例えばjournal ofAmerican C
hemical 5ociety 19]6.]G71
等には塩酸中で加熱して塩素化する方法が、Bulle
tin desSociejes Chimiques
Be1ge+ 1959.177 、Recued
e+ Travaux Chimiques des
PBt−Bas 193+、1052、等には塩化チオ
ニルを塩基の存在下で用いる方法等が報告されている。 しかしながら、本発明の製造方法で原材料として用いる
ビニル化合物は、シンナミルアルコール及びその誘導体
よりも製造が容易であること、高分子化合物製造の原料
となること等の理由により、産業上利用されている種類
も量も多く、比較的安価に製造されている原料である。 チェコスロバキア特許198326号明細書には4−フ
ェニル−1,3−ジオキサンを塩酸で塩素化、開環させ
た後、転位、脱水等を経由して製造する方法が報告され
ているが、原材料である4−フェニル−1,3−ジオキ
サン自体が産業上はとんど利用されておらず、該特許の
方法を用いて目的物を得る方法は産業上の有意性が少な
い。本発明と同様にビニル化合物を出発原料として用い
る製造方法の報告例としてはChemick’e Li
5ly1955.1038等に報告されているが、この
報告例では重合禁止剤として無機化合物である硫黄を用
いており、収率も40%以下と低い。本発明者は種々の
重合禁止剤または抑制剤を用いて製造方法を鋭意検討し
た結果、有機性の重合禁止剤または抑制剤を用いること
により、高収率で目的物を製造できることを見いだし、
本発明を完成させるに至った。
は、シンナミルアルコール及びその誘導体を種々のハロ
ゲン化試剤と反応させて製造する方法が最も一般的であ
る。例えばjournal ofAmerican C
hemical 5ociety 19]6.]G71
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PBt−Bas 193+、1052、等には塩化チオ
ニルを塩基の存在下で用いる方法等が報告されている。 しかしながら、本発明の製造方法で原材料として用いる
ビニル化合物は、シンナミルアルコール及びその誘導体
よりも製造が容易であること、高分子化合物製造の原料
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も量も多く、比較的安価に製造されている原料である。 チェコスロバキア特許198326号明細書には4−フ
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た後、転位、脱水等を経由して製造する方法が報告され
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サン自体が産業上はとんど利用されておらず、該特許の
方法を用いて目的物を得る方法は産業上の有意性が少な
い。本発明と同様にビニル化合物を出発原料として用い
る製造方法の報告例としてはChemick’e Li
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報告例では重合禁止剤として無機化合物である硫黄を用
いており、収率も40%以下と低い。本発明者は種々の
重合禁止剤または抑制剤を用いて製造方法を鋭意検討し
た結果、有機性の重合禁止剤または抑制剤を用いること
により、高収率で目的物を製造できることを見いだし、
本発明を完成させるに至った。
本発明の目的はハロゲン化シンナミル及びその誘導体を
容易に且つ高収率に製造することである。
容易に且つ高収率に製造することである。
式I
[式中、R1、R2およびR3は、それぞれ同一でも異
なっていてもよく、水素原子、アルキル基、シクロアル
キル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、ア
ラルキル基、−C,R2゜−CO−Ar(式中、nは1
〜8の整数、Arはアリール基を示す。)、アラルキル
オキシ基、アリールオキシ基、アリールカルボニル基、
アルキルカルボニル基、アラルキルカルボニル基、アル
コキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、カルボン酸基、ヒドロキ
シ基、メルカプト基、アルキルメルカプト基、アリール
メルカプト基、アミノ基およびその塩、アルキルアミド
基、アリールアミド基、アラルキルアミド基、スルホン
酸基、アルコキシスルホニル基、アリールオキシスルホ
ニル基、アルケニルオキシスルホニル基、アリールスル
ホニル基、アルキルスルホニル基、ニトロ基、ハロゲン
原子を示し、炭素原子数2以上の基については置換基を
有していてもよい。R4およびR5は、それぞれ同一で
も異なっていてもよく、水素原子、置換または非置換ア
ルキル基を示し、Xはハロゲン原子を示す。]で表され
るハロゲン化シンナミル及びその誘導体の製造方法にお
いて、式■ (式中、R1、R2、R3、R4およびR5は式■と同
じである。)で表されるビニル化合物を有機性の重合禁
止剤または抑制剤の存在下にて、ホルムアルデヒドおよ
びハロゲン化水素と反応させることにより、本発明の目
的を達成することができた。本発明の方法における化学
反応は、いわゆるハロメチル化であり、R1、R2、R
3、R4およびR5で表される置換基はハロメチル化を
行う反応条件下で分解、反応、重合等を起こさない限り
特に制約されるものではない。 重合禁止剤または抑制剤として用いられる有機化合物と
しては、例えば下記のもの等があるが本発明はこれに限
定されるものではない。 メチルヒドロキノン、tert−ブチルヒドロキノン、
p−tert−ブチルカテコール、pメトキシフェノー
ル、p−ベンゾキノン、ニトロソベンゼン、ジニトロベ
ンゼン、ピクリン酸、ジチオベンジルスルフィド、ジフ
ェニルピクリルヒドラジン、トリーp−ニトロフェニル
メチル、N−(3−N−オキシアニリノ−1,3−ジメ
チルブチリデン)アニリノオキシド等。 ハロゲン化水素としては例えば塩化水素、臭化水素等が
あり、これらは水または有機溶剤の溶液としであるいは
気体状態で反応系に導入できるほか、必要であれば反応
系内で生成させることかできる。 ホルムアルデヒドは水溶液として用いるのか最も良いが
、有機溶剤に溶かして用いてもよい。またアセタールと
して用いても良く、必要であれば気体状態で反応系内に
導入しても良い。また、パラホルムアルデヒドを水に溶
解する等を行い、反応系内で生成させても良い。なお、
ホルムアルデヒド水溶液の安定剤として用いられるアル
コールは除去することなく反応に用いても良い。 反応溶媒としては水が最も容易に用いられるが、原料の
溶解性、精製の容易性等を考慮し、水性または非水性の
有機溶剤を単独あるいは併用して用いることができる。 また、有機溶剤を水と併用して用いてもよい。また、有
機溶剤と水を併用して用いる場合には必要とあれば層間
移動触媒を用いてもよい。 使用される重合禁止剤または抑制剤の量は、式■で表さ
れるビニル化合物の重合を禁止あるいは抑制するのに十
分な量であれば特に制限する必要はないが、一般に好ま
しい量としては該ビニル化合物1モルに対し、0.01
〜10ミリモルである。 使用されるホルムアルデヒドの量は、未反応の式■で表
されるビニル化合物をリサイクルして用いるか否か等、
製造条件によって決定される。しかしながら、一般に好
ましい量は該ビニル化合物1モルに対し、ホルムアルデ
ヒド0.05〜20モルである。 使用されるハロゲン化水素の量も製造条件によって決定
されるが、一般に好ましい量はホルムアルデヒド1モル
に対し、0.5〜20モルである。
なっていてもよく、水素原子、アルキル基、シクロアル
キル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、ア
ラルキル基、−C,R2゜−CO−Ar(式中、nは1
〜8の整数、Arはアリール基を示す。)、アラルキル
オキシ基、アリールオキシ基、アリールカルボニル基、
アルキルカルボニル基、アラルキルカルボニル基、アル
コキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、カルボン酸基、ヒドロキ
シ基、メルカプト基、アルキルメルカプト基、アリール
メルカプト基、アミノ基およびその塩、アルキルアミド
基、アリールアミド基、アラルキルアミド基、スルホン
酸基、アルコキシスルホニル基、アリールオキシスルホ
ニル基、アルケニルオキシスルホニル基、アリールスル
ホニル基、アルキルスルホニル基、ニトロ基、ハロゲン
原子を示し、炭素原子数2以上の基については置換基を
有していてもよい。R4およびR5は、それぞれ同一で
も異なっていてもよく、水素原子、置換または非置換ア
ルキル基を示し、Xはハロゲン原子を示す。]で表され
るハロゲン化シンナミル及びその誘導体の製造方法にお
いて、式■ (式中、R1、R2、R3、R4およびR5は式■と同
じである。)で表されるビニル化合物を有機性の重合禁
止剤または抑制剤の存在下にて、ホルムアルデヒドおよ
びハロゲン化水素と反応させることにより、本発明の目
的を達成することができた。本発明の方法における化学
反応は、いわゆるハロメチル化であり、R1、R2、R
3、R4およびR5で表される置換基はハロメチル化を
行う反応条件下で分解、反応、重合等を起こさない限り
特に制約されるものではない。 重合禁止剤または抑制剤として用いられる有機化合物と
しては、例えば下記のもの等があるが本発明はこれに限
定されるものではない。 メチルヒドロキノン、tert−ブチルヒドロキノン、
p−tert−ブチルカテコール、pメトキシフェノー
ル、p−ベンゾキノン、ニトロソベンゼン、ジニトロベ
ンゼン、ピクリン酸、ジチオベンジルスルフィド、ジフ
ェニルピクリルヒドラジン、トリーp−ニトロフェニル
メチル、N−(3−N−オキシアニリノ−1,3−ジメ
チルブチリデン)アニリノオキシド等。 ハロゲン化水素としては例えば塩化水素、臭化水素等が
あり、これらは水または有機溶剤の溶液としであるいは
気体状態で反応系に導入できるほか、必要であれば反応
系内で生成させることかできる。 ホルムアルデヒドは水溶液として用いるのか最も良いが
、有機溶剤に溶かして用いてもよい。またアセタールと
して用いても良く、必要であれば気体状態で反応系内に
導入しても良い。また、パラホルムアルデヒドを水に溶
解する等を行い、反応系内で生成させても良い。なお、
ホルムアルデヒド水溶液の安定剤として用いられるアル
コールは除去することなく反応に用いても良い。 反応溶媒としては水が最も容易に用いられるが、原料の
溶解性、精製の容易性等を考慮し、水性または非水性の
有機溶剤を単独あるいは併用して用いることができる。 また、有機溶剤を水と併用して用いてもよい。また、有
機溶剤と水を併用して用いる場合には必要とあれば層間
移動触媒を用いてもよい。 使用される重合禁止剤または抑制剤の量は、式■で表さ
れるビニル化合物の重合を禁止あるいは抑制するのに十
分な量であれば特に制限する必要はないが、一般に好ま
しい量としては該ビニル化合物1モルに対し、0.01
〜10ミリモルである。 使用されるホルムアルデヒドの量は、未反応の式■で表
されるビニル化合物をリサイクルして用いるか否か等、
製造条件によって決定される。しかしながら、一般に好
ましい量は該ビニル化合物1モルに対し、ホルムアルデ
ヒド0.05〜20モルである。 使用されるハロゲン化水素の量も製造条件によって決定
されるが、一般に好ましい量はホルムアルデヒド1モル
に対し、0.5〜20モルである。
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明する。
実施例1
スチレン7.8g1メチルヒドロキノン9.3■を10
0m1フラスコに入れ、続いて36%塩酸37.5gを
加えた。3796ホルムアルデヒド水溶液(安定剤メタ
ノール7〜13%含有)6゜1gを加え、撹拌下、80
℃にて3時間反応を行なった。反応溶液を高速液体クロ
マトグラフィーで分析してシンナミルクロライドの生成
量を測定したところ、83.0%であった。反応溶液に
トルエン50m1を加え、水層を除去し、トルエン層を
水および5%炭酸ナトリウム水溶液で2回づつ洗浄した
のち、トルエンを減圧下にて留去した。 残ったオイル状物質から減圧蒸留し、シンナミルクロラ
イド8,3gを得た。沸点105〜bより純度を測定し
たところ97%であった。(単離収率70.3%) 実施例2 実施例1に於けるスチレン7.8gをp−メチルスチレ
ン8.9gに代える以外は実施例1と同様にして反応を
行い、p−メチルシンナミルクロライド7.9gを得た
。沸点110〜113℃15mmHg0高速液体クロマ
トグラフィーにより純度を測定したところ95%であっ
た。(単離収率60.0%) 実施例3 実施例1に於けるメチルヒドロキノンを4−tert−
ブチルカテコール12.4■に代える以外は実施例1と
同様にして3時間反応を行なつた。反応溶液を高速液体
クロマトグラフィーで分析してシンナミルクロライドの
生成量を測定したところ82.4%であった。 実施例4 スチレンおよびメチルヒドロキノンをN、 Nジメチル
ホルムアミド5.5gに溶解する以外は実施例1と同様
にして3時間反応を行なった。反応溶液を高速液体クロ
マトグラフィーで分析してシンナミルクロライドの生成
量を測定したところ88.3%であった。 実施例5 スチレンおよびメチルヒドロキノンをイソプロピルアル
コール4.5gに溶解する以外は実施例1と同様にして
3時間反応を行なった。反応溶液を高速液体クロマトグ
ラフィーで分析してシンナミルクロライドの生成量を測
定したところ82゜7%であった。 比較例1 実施例1に於けるメチルヒドロキノンを硫黄粉末100
■に代える以外は実施例1と同様にして3時間反応を行
なった。反応溶液を高速液体クロマトグラフィーで分析
してシンナミルクロライドの生成量を測定したところ4
6,8%であった。 比較例2 スチレンをN、 N−ジメチルホルムアミド5゜5gに
溶解し、実施例1に於けるメチルヒドロキノンを硫黄粉
末100■に代え、実施例1と同様にして3時間反応を
行なった。反応溶液を高速液体クロマトグラフィーで分
析してシンナミルクロライドの生成量を測定したところ
52.3%であった。
0m1フラスコに入れ、続いて36%塩酸37.5gを
加えた。3796ホルムアルデヒド水溶液(安定剤メタ
ノール7〜13%含有)6゜1gを加え、撹拌下、80
℃にて3時間反応を行なった。反応溶液を高速液体クロ
マトグラフィーで分析してシンナミルクロライドの生成
量を測定したところ、83.0%であった。反応溶液に
トルエン50m1を加え、水層を除去し、トルエン層を
水および5%炭酸ナトリウム水溶液で2回づつ洗浄した
のち、トルエンを減圧下にて留去した。 残ったオイル状物質から減圧蒸留し、シンナミルクロラ
イド8,3gを得た。沸点105〜bより純度を測定し
たところ97%であった。(単離収率70.3%) 実施例2 実施例1に於けるスチレン7.8gをp−メチルスチレ
ン8.9gに代える以外は実施例1と同様にして反応を
行い、p−メチルシンナミルクロライド7.9gを得た
。沸点110〜113℃15mmHg0高速液体クロマ
トグラフィーにより純度を測定したところ95%であっ
た。(単離収率60.0%) 実施例3 実施例1に於けるメチルヒドロキノンを4−tert−
ブチルカテコール12.4■に代える以外は実施例1と
同様にして3時間反応を行なつた。反応溶液を高速液体
クロマトグラフィーで分析してシンナミルクロライドの
生成量を測定したところ82.4%であった。 実施例4 スチレンおよびメチルヒドロキノンをN、 Nジメチル
ホルムアミド5.5gに溶解する以外は実施例1と同様
にして3時間反応を行なった。反応溶液を高速液体クロ
マトグラフィーで分析してシンナミルクロライドの生成
量を測定したところ88.3%であった。 実施例5 スチレンおよびメチルヒドロキノンをイソプロピルアル
コール4.5gに溶解する以外は実施例1と同様にして
3時間反応を行なった。反応溶液を高速液体クロマトグ
ラフィーで分析してシンナミルクロライドの生成量を測
定したところ82゜7%であった。 比較例1 実施例1に於けるメチルヒドロキノンを硫黄粉末100
■に代える以外は実施例1と同様にして3時間反応を行
なった。反応溶液を高速液体クロマトグラフィーで分析
してシンナミルクロライドの生成量を測定したところ4
6,8%であった。 比較例2 スチレンをN、 N−ジメチルホルムアミド5゜5gに
溶解し、実施例1に於けるメチルヒドロキノンを硫黄粉
末100■に代え、実施例1と同様にして3時間反応を
行なった。反応溶液を高速液体クロマトグラフィーで分
析してシンナミルクロライドの生成量を測定したところ
52.3%であった。
実施例から明かなように、有機性の重合禁止剤または抑
制剤を用いることにより、高い収率でハロゲン化シンナ
ミルおよびその誘導体を製造することができた。
制剤を用いることにより、高い収率でハロゲン化シンナ
ミルおよびその誘導体を製造することができた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式 I ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1、R^2およびR^3は、それぞれ同一
でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、シク
ロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ
基、アラルキル基、−C_nH_2_n−Co−Ar(
式中、nは1〜8の整数、Arはアリール基を示す。)
、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、アリールカ
ルボニル基、アルキルカルボニル基、アラルキルカルボ
ニル基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカ
ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルボン酸
基、ヒドロキシ基、メルカプト基、アルキルメルカプト
基、アリールメルカプト基、アミノ基およびその塩、ア
ルキルアミド基、アリールアミド基、アラルキルアミド
基、スルホン酸基、アルコキシスルホニル基、アリール
オキシスルホニル基、アルケニルオキシスルホニル基、
アリールスルホニル基、アルキルスルホニル基、ニトロ
基、ハロゲン原子を示し、炭素原子数2以上の基につい
ては置換基を有していてもよい。R^4およびR^5は
、それぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、置
換または非置換アルキル基を示し、Xはハロゲン原子を
示す。]で表されるハロゲン化シンナミル及びその誘導
体の製造方法において、 式II ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3、R^4およびR^5
は式 I と同じである。)で表されるビニル化合物を有
機性の重合禁止剤または抑制剤の存在下にて、ホルムア
ルデヒドおよびハロゲン化水素と反応させることを特徴
とするハロゲン化シンナミル及びその誘導体の製造方法
。 2、重合禁止剤または抑制剤としてフェノール性ヒドロ
キシ基を有する化合物を用いることを特徴とする請求項
1記載の製造方法。 3、重合禁止剤または抑制剤としてジヒドロキシベンゼ
ンまたはその誘導体を用いることを特徴とする請求項1
記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26776290A JPH04145034A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | ハロゲン化シンナミル及びその誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26776290A JPH04145034A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | ハロゲン化シンナミル及びその誘導体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04145034A true JPH04145034A (ja) | 1992-05-19 |
Family
ID=17449239
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26776290A Pending JPH04145034A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | ハロゲン化シンナミル及びその誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04145034A (ja) |
-
1990
- 1990-10-05 JP JP26776290A patent/JPH04145034A/ja active Pending
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