JPH04144935A

JPH04144935A - 溶着ガラス

Info

Publication number: JPH04144935A
Application number: JP26450690A
Authority: JP
Inventors: Fumitoshi Toyoshima; 豊島　史俊; Satoshi Maki; 槙　聡; Yasuhiro Yabe; 矢部　泰弘
Original assignee: Alps Electric Co Ltd
Current assignee: Alps Alpine Co Ltd
Priority date: 1990-10-02
Filing date: 1990-10-02
Publication date: 1992-05-19

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】「産業上の利用分野」 ′４６）イト　１日　ｒ十　　　　虜　侑　へ　、、　
　Ｖ　σ）−１？　　？ｒ　　ＪＦ　　メ一　鉤せ　１
昏　→ト　ス場合に使用する溶着ガラスに関する。

「従来の技術」フェライトまたは金属などの磁性体材料からなるコアチ
ップを形成する場合、あるいは、形成されたコアチップ
をセラミックなどからなるスライダーに埋め込む場合、
ガラスや樹脂を接着材として使用することでコア相互間
のギャップ、または、コアチップと他のヘッド構成部品
との空隙部の充填と補強か行なわれている。

これらのガラスには、従来から、融着作業温度の低いＰ
ｂＯを主成分とする溶着ガラスが適していることが知ら
れている。そして、係るガラス組成物に関しては、すで
に多くの提案がなされている。

「発明が解決しようとする課題」しかしながら、係る従来の溶着ガラスは、磁気ヘッドの
溶着用として用いた場合、耐環境性、特に、耐湿性、耐
水性に関して性能が劣るという短所があった。このため
、ガラス溶着部分の表面が変質を起こし易く、耐食性が
不十分であるとともに、スライダーやコア部分に対して
段差を生じてしまう欠点があった。このような段差を有
する磁気ヘッドを使用すると、磁気記録媒体に傷を着け
る原因の１つになると言われている。

前記のような段差を生じる原因は、従来の溶着ガラスに
あっては、ＰｂＯを６５重量％以上含んでいるために、
溶着ガラスの表面に吸着した水分中にＰｂＯが容易に溶
出してしまうためであると考えられる。

従って狭小な空隙幅の磁気ヘッドに対し、従来の溶着ガ
ラスはもはや使用できない状況であり、新規な溶着ガラ
スの出現が待たれている。

なお、前記従来の溶着ガラスにあっては、溶着時にガラ
スが結晶化しやすく、ガラスの流れが円滑ではなくなり
易いために、磁気ギャップ部分に入り込むガラスの量が
安定しなくなり、ギャップ長のバラツキが大きく、また
、ギャップ深さを浅くできない問題があった。

本発明は前記課題を解決するためになされたもので、耐
食性を向上さ仕ることができ、磁気ギヤツブ部分への入
り込み量を小さくしてギャップ深さを浅くできるととも
に、ギャップ長精度を向上させることができて溶着時の
歩留りを向上させることができ、化学的耐食性を向上さ
せた溶着ガラスを提供することを目的とする。

「課題を解決するための手段」請求項Ｉに記載した発明は１記課題を解決するために、
ＰｂＯ４０〜５０重量％、Ｓｉｎ、２８〜３８重量％、
Ｔｅｎｔ　　５〜１５重量％、ＺｎＯ２〜５重量％、Ｂ
２Ｏ３０．　７重量％以下、５ｂｔＯｓ又はＡＳｔＯｓ
ｏ、５重量％以下、ＮａｔＯ，に２０゜ＬＬＯのうち、
少なくとも１種以上を４〜７重量％の組成を有したもの
である。

請求項２に記載した発明は前記課題を解決するために、
Ｐｂ０４０〜５０重量％、Ｓ＋０＊２８〜３８重量％、
Ｔｅａ、　　５〜１５重量％、ＺｎＯ２〜５重量％、ｓ
ｂ、ｏ、又はＡｓ５ｅｓ　０．５重量％以下、ＮａｔＯ
，に、Ｏ，ＬｉｔＯのうち、少なくとも１種以上を４〜
７重量％の組成を有したものであ請求項３に記載した発
明は１記課題を解決するために、Ｐｂ０４０〜５０重量
％、Ｓ＋０ｔ２８〜３８重量％、ＴｅＯ，５〜１５重景
％重重ｎＯ２〜５重量％、Ｂ２Ｏ２７重量％以下、Ｎａ
ｔＯＫ　ｔ　Ｏ、Ｌ　ｉ　＊　Ｏのうち、少なくとも１
種以上を４〜７重量％の組成を有したものである。

請求項４に記載した発明は前記課題を解決するために、
Ｐｂ０４０〜５０重量％、Ｓｉｎ、２８〜３８重量％、
ＴｅＯｔ　　５〜１５重量％、ＺｎＯ２〜５重量％、Ｎ
ａｔＯ、Ｋ　ｔｏ　、Ｌ　ｉ＊ｏのうち、少なくとも１
種以上を４〜７重量％の組成を有したものである。

以下に本発明を更に詳細に説明する。

本発明の溶着ガラスは、Ｐｂ０４０〜５０重量％、Ｓ＋
Ｏｔ　２８〜３８重量％、ＴｅＯｔ　５〜１５重重％、
ＺｎＯ２〜５重量％、ＢｔＯｓ７重量％以下、５ｂｙＯ
ｓ又はＡｓｔＯ３０，５重ｊ１％以下、ＮａｔＯ，Ｋｔ
Ｏ，ＬｉｔＯのうち、少なくとも１種以上を４〜７重量
％の組成を有したものである。な松益耕綿＋１ｒｌ虚Ａ
ＭＤ−Ａ−Ｌ　　（ＩＬＡ　Ｌ　　Ａ−Ｏ３の中で、少
なくとも１つ以上の成分を省略しても本発明の目的を達
成することができる。

前記成分において、Ｔｅａ、は軟化点を下げるとともに
、次期ギャップ部分での溶着ガラスの入り込み量を少な
くさせるために添加す゛るもので、その含有量が５重量
％以下では、その効果が無くなり、含有量が１５重量％
以上であると熱膨張係数（α）が高くなり、クラックを
発生しやすくなる。

５ｉＯｚ含有量を２８重量％より少なくすると、失透し
やすく、強度と耐食性が低下するので耐久性が劣化し、
３８重量％より多くすると、粘度が高くなってガラス溶
着の作業温度が上がり熱膨張係数（α）が低くなる。

ＰｂＯ含有量を４０重量％よりも少なくすると、粘度が
高くなって流動性が悪化し、５０重量％よりら多くする
と化学的耐久性が劣化し、熱膨張係数（α）が高くなっ
てクラック発生しやすくなる。

ＺｎＯ含有量を２重量％よりも少なくすると、耐久性が
劣化し、５重量％よりも多くすると失透傾向が増大する
。ＺｎＯは、熱膨張係数を調節するだめに添加するもの
であり、耐食性の向上効果を発揮する。

Ｎａ、Ｏとに２Ｏ３０とＬ　ｉｘｏを４重量％よりも少
なくすると失透防止効果がなくなるとともに流動性が劣
化し、７重量％よりも多くすると化学的耐久性が劣化し
、熱膨張係数（α）が高くなる。

Ｓｂ＊０３またはＡｓ５ｅｓ含有量が０．５重量％より
多くなってもそれ以上の脱泡効果は望めない。

Ｂ２Ｏ３０．が７重量％以上では泳動性が悪くなる。

第１図は、本発明に係る溶着ガラスによって一体化され
た磁気ヘッドの一構造例を示すもので、この例の磁気ヘ
ッドＡは磁気コア半体１，２か溶着ガラス部３によって
接合一体化されて構成されている。なお、溶着ガラス部
３において符号３ａで示す部分がアペックス部を示す。

磁気ヘッドＡにおいて４はギャップを示し、５は空隙部
を示している。磁気ヘッドＡの磁気ギャップ部分は、拡
大すると第２図に示す構造のようになっていて、磁気コ
ア半休１．２の間の間隙の間隔（ギャップ長）がＧＬ、
磁気ギャップ部分の深さ（ギャップ深さ）がＧＤで示さ
れる。

第３図は１記磁気ヘッドＡの溶着ガラス部３の先端部（
第１図において符号Ｃで示す部分）を倒立させた状態で
拡大して示すものである。第３図に符号６で示すものは
５ｉｆｔの薄膜などからなる薄い絶縁層であって、この
絶縁層６がギャップ４を形成する。

磁気コア半休１．２をガラス溶着する場合、溶着ガラス
を流し込むと、溶着ガラスは絶縁層６に向けて入り込み
、浸透し、固化する。第３図において、符号ａで示す部
分が入り込み部の深さであり、符号すで示す部分が入り
込み部ａの幅である。

また、以上のように磁気コア半休１．２の間に溶着ガラ
ス３を浸透させた場合、溶着ガラス部３に接触している
磁気コア半休１．２の内壁部分に第４図の鎖線に示すよ
うに溶着ガラスによる浸食部分ｄが生じる。そして、こ
の浸食部分ｄが大きくなると、光学的ギャップと実効ギ
ャップとのずれが生じ、ギャップ長（ＧＬ）による電磁
特性の保証ができなくなる。なお、ＧＬが大きくなると
、オーバーライド特性は良好であるが、分解能（Ｒｅｓ
）とパルス半値幅（Ｐｗ５０）か劣化する。

ここで前記組成の溶着ガラスを用いるならば、Ｔ　ｅ　
Ｏｔを適量含んでいるので入り込み部の深さａを小さく
（２μ悶以下、Ｔｅ０４によってはｌμ麟以下に）する
ことができる。従ってギャップ深さ５±３μｍに対応す
ることができるようになり、ギャップ長ＧＬの精度が向
上し、歩留りが向上する。また、アペックス部３ａでの
気泡発生率が少なく、ガラス流れ不足現象を生じない。

即ち、溶着ガラスの浸透時にガラス流れ不足を生じると
アペックス部３ａに気泡ができてしまう。これに対して
Ｔｅａ、を含まない場合、入り込み量は３〜５μ殿にな
ってしまう。また、Ｔｅａ、の添加によって浸食部分ｄ
の幅を少なくすることができる。

以下に前記組成の溶着ガラスの製造方法について説明す
る。

前記溶着ガラスを製造するには、所望の組成のガラスが
得られるように各原料を採取して混合し、この調合物を
白金るつぼ中において９５０〜！０００℃で６０分間程
度溶融することにより溶着ガラスを得ることができる。

この結果得られた溶着ガラスを棒状に加工し、このガラ
ス棒を第１図に対して倒立させた磁気コア半休１．２の
間の空隙部５に載置し、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲
気において加熱炉で６５０〜７００℃程度に加熱して溶
融させ、浸透させることで溶着ガラスによる溶着を行う
ことができる。

以上説明した方法に従って各種組成の溶着ガラスを作成
し、各溶着ガラスを用いて前述のように磁気コア半休の
溶着を行った。この場合の加熱溶融温度は６８０℃に設
定し、卯熱時間は６０分とした。

第５図は’ｌ’　ｅ　Ｏｔの添加量を０〜！５重量％の
種々の値に変更して得られた種々の組成の溶着ガラスを
用いて磁気コア半休を溶着した場合の入り込み量の値を
示すものである。第５図に示す各種溶着ガラスの組成は
以下の第１表に示す通りである。

（以下、余白）第１表第５図と第１表に示す結果から、入り込み量を１．９μｍ以下にするためには、Ｔｅｎｔ含有量を５〜
１５重量％に限定すれば良いことが明らかになった。

一方、第１表のＮｏ４の試料と第１表のＮｏ７の試料を
各０用いて前述のように磁気コア半休の溶着を行った場
合に生じる入り込み部の幅すと気泡発生状況とフェライ
ト製の磁気コア半休に対する溶着ガラスの含浸量を測定
した結果を第２表に示す。

第２表第２表に示す結果から、本発明に係る溶着ガラスは入り
込み部の幅が少なく気泡発生がなく、磁気コア半休に対
する含浸量も少ないことが明らかになった。

「発明の効果」以上説明したように本発明は、特別の組成を有し、特に
Ｔ　ｅ　Ｏｅを特定量含有する融着ガラスであるために
、磁気ヘッドを溶着した場合にガラスの結晶化を抑制す
ることができ、ガラスの流れが悪くなることを防止でき
るので、ギャップ長の精度を向上させ、実効ギャップ長
を小さくすることができる。従って製造時の歩留りを向
上させることができる。

また、磁気ヘッドを融着した場合、溶着ガラスのギャッ
プ部への入り込み量を小さくすることができ、ギャップ
深さを浅くすることができる。

更に、Ｔｅａ、を特別量含有しているので、ヤケや白色
化、浸食などを起こすことがなくなり、化学的耐食性を
向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る溶着ガラスによって溶着された磁
気ヘッドの一構造例を示す略図、第２図は同磁気ヘッド
のギャップ部を示す斜視図、第３図は第１図のＣ部分を
示す拡大断面図、第４図は含浸部を示す拡大断面図、第
５図は溶着ガラスにおけるＴｅＯｘ量と磁気ヘッドの入
り込み量との関係を示すグラフである。１．２・・・磁気コア半休、３・・・溶着ガラス、４・
・・ギャップ、５・・・空隙部、６・・・絶縁層、ａ・
・・入り込み深さ、ｂ・・・入り込み部の幅、ｄ・・・
含浸部、ＧＬ・・・ギャップ長、ＣＤ・・・ギャップ深
さ。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）ＰｂＯ４０〜５０重量％ＳｉＯ＿２２８〜３８重量％ＴｅＯ＿２５〜１５重量％ＺｎＯ２〜５重量％Ｂ＿２Ｏ＿３７重量％以下Ｓｂ＿２Ｏ＿３又はＡｓ＿２Ｏ＿３０．５重量％以下Ｎ
ａ＿２Ｏ、Ｋ＿２Ｏ、Ｌｉ＿２Ｏのうち、少なくとも１
種以上を４〜７重量％の組成を有することを特徴とする溶着ガラス。
（２）ＰｂＯ４０〜５０重量％ＳｉＯ＿２２８〜３８重量％ＴｅＯ＿２５〜１５重量％ＺｎＯ２〜５重量％Ｓｂ＿２Ｏ＿３又はＡｓ＿２Ｏ＿３０．５重量％以下Ｎ
ａ＿２Ｏ、Ｋ＿２Ｏ、Ｌｉ＿２Ｏのうち、少なくとも１
種以上を４〜７重量％の組成を有することを特徴とする溶着ガラス。
（３）ＰｂＯ４０〜５０重量％ＳｉＯ＿２２８〜３８重量％ＴｅＯ＿２５〜１５重量％ＺｎＯ２〜５重量％Ｂ＿２Ｏ＿３７重量％以下Ｎａ＿２Ｏ、Ｋ＿２Ｏ、Ｌｉ＿２Ｏのうち、少なくとも
１種以上を４〜７重量％の組成を有することを特徴とする溶着ガラス。
（４）ＰｂＯ４０〜５０重量％ＳｉＯ＿２２８〜３８重量％ＴｅＯ＿２５〜１５重量％ＺｎＯ２〜５重量％Ｎａ＿２Ｏ、Ｋ＿２Ｏ、Ｌｉ＿２Ｏのうち、少なくとも
１種以上を４〜７重量％の組成を有することを特徴とする溶着ガラス。