JPH04144934A - チップ抵抗器被覆用組成物 - Google Patents
チップ抵抗器被覆用組成物Info
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- JPH04144934A JPH04144934A JP26716390A JP26716390A JPH04144934A JP H04144934 A JPH04144934 A JP H04144934A JP 26716390 A JP26716390 A JP 26716390A JP 26716390 A JP26716390 A JP 26716390A JP H04144934 A JPH04144934 A JP H04144934A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は、電子部品の回路を保護するための被覆用組成
物に関するものである。
物に関するものである。
［従来技術とその問題点］
セラミック基板に形成される導体及び抵抗体からなる回
路は、外部から電気的、化学的、機械的に保護される必
要があり、従来よりこの保護材料としてＰｂＯ−Ｂ２０
３Ｓ１０□系ガラスが用いられている。
路は、外部から電気的、化学的、機械的に保護される必
要があり、従来よりこの保護材料としてＰｂＯ−Ｂ２０
３Ｓ１０□系ガラスが用いられている。
一般にこの用途のＰｂＯ−Ｂ２０ｓ−５ｉ０２系ガラス
は、軟化点が７００℃以下と低く、低温焼成が可能であ
るが、抵抗体の被覆する前後の抵抗値変化率を小さ（し
たり、エネルギーコストの低減を計るため、より低温で
焼成できるガラスの開発が望まれている。ところがガラ
スを低温化するには、ＰｂＯの含有量を増やし、ｓ１０
□の含有量を減らす必要が生じるため、必然的に耐酸性
が低下しやすく、その結果電極メツキやハンダフラック
ス等の酸性液によってガラスが変質して本来の保護機能
を果たさなくなるという問題が生じる。
は、軟化点が７００℃以下と低く、低温焼成が可能であ
るが、抵抗体の被覆する前後の抵抗値変化率を小さ（し
たり、エネルギーコストの低減を計るため、より低温で
焼成できるガラスの開発が望まれている。ところがガラ
スを低温化するには、ＰｂＯの含有量を増やし、ｓ１０
□の含有量を減らす必要が生じるため、必然的に耐酸性
が低下しやすく、その結果電極メツキやハンダフラック
ス等の酸性液によってガラスが変質して本来の保護機能
を果たさなくなるという問題が生じる。
［発明の目的］
本発明の目的は、低温焼成を可能にするためにガラスの
ＰｂＯの含有量を増やしても耐酸性の低下を抑えること
ができる被覆用組成物を提供することである。
ＰｂＯの含有量を増やしても耐酸性の低下を抑えること
ができる被覆用組成物を提供することである。
［発明の構成コ
本発明者は、上記目的を達成するため種々の研究を重ね
た結果、ガラスに対して所定量のＴｉＯ２粉末を添加す
ることによって耐酸性を向上することができることを見
い出し、本発明として提案するものである。
た結果、ガラスに対して所定量のＴｉＯ２粉末を添加す
ることによって耐酸性を向上することができることを見
い出し、本発明として提案するものである。
すなわち本発明の被覆用組成物は、ＰｂＯを３０．０重
量％以上含有し、Ｆを含有しないガラス組成物に対して
、ＴｌＯ２粉末が０．１〜５．０重量に添加されてなる
ことを特徴とする。
量％以上含有し、Ｆを含有しないガラス組成物に対して
、ＴｌＯ２粉末が０．１〜５．０重量に添加されてなる
ことを特徴とする。
以下に本発明の被覆用組成物について詳細に説明する。
本発明においてガラス組成物のＰｂＯの含有量を３０．
０重量％以上にしたのは、３０．０重量％より少ない場
合は、ガラスの軟化点が高くなり、低温焼成が困難にな
りやすいからである。ＰｂＯが３０．０重量％より少な
いガラスを低温化しようとすると、ｌ１１０３、ｌ１ａ
２０、Ｋ２Ｏ、Ｌ１２０等の成分を多量に含有させれば
良いが、一方これらの成分はガラスの耐酸性を著しく低
下させる作用を有しており、このようなガラスにＴｌＯ
２粉末を添加しても耐酸性を向上するという効果が発揮
され難い。
０重量％以上にしたのは、３０．０重量％より少ない場
合は、ガラスの軟化点が高くなり、低温焼成が困難にな
りやすいからである。ＰｂＯが３０．０重量％より少な
いガラスを低温化しようとすると、ｌ１１０３、ｌ１ａ
２０、Ｋ２Ｏ、Ｌ１２０等の成分を多量に含有させれば
良いが、一方これらの成分はガラスの耐酸性を著しく低
下させる作用を有しており、このようなガラスにＴｌＯ
２粉末を添加しても耐酸性を向上するという効果が発揮
され難い。
尚、本発明においては、ガラスにＦが含有されると耐酸
性が低下すると共に環境を汚染するため本質的に含有し
ないほうが良い。
性が低下すると共に環境を汚染するため本質的に含有し
ないほうが良い。
本発明で用いるＰｂＯを３０．０重量％以上含有し、Ｆ
を含有しないガラス組成物は、重量％でＰｂＯ４０゜ｏ
〜ｓｏ、ｏ％、Ｂ２０３Ｇ、５〜２０．０％、５ｉ（ｈ
５．０〜４０．０％からなることが好ましい。
を含有しないガラス組成物は、重量％でＰｂＯ４０゜ｏ
〜ｓｏ、ｏ％、Ｂ２０３Ｇ、５〜２０．０％、５ｉ（ｈ
５．０〜４０．０％からなることが好ましい。
またＴｌＯ２粉末の添加量を０．１〜５．０％にしたの
は、０．１％より少ないと上記したＴｌＯ２粉末の効果
に乏しく、一方５．０％より多いとガラスの軟化点が上
がって低温で焼成することができなくなるからである。
は、０．１％より少ないと上記したＴｌＯ２粉末の効果
に乏しく、一方５．０％より多いとガラスの軟化点が上
がって低温で焼成することができなくなるからである。
［実施例］
以下本発明を実施例に基づいてさらに詳細に説明する。
数表は、本発明の実施例（試料Ｎｏ、１〜５）及び比較
例（試料Ｎｏ 、８〜１０）を示すものである。
例（試料Ｎｏ 、８〜１０）を示すものである。
以下余白
表に示した各試料は、以下のように調製した。
まず表に示した酸化物組成になるように原料を調合し、
十分に混合する。各原料は、酸化物、水酸化物、炭酸塩
あるいは硝酸塩の何れでもよいが、微粉砕原料を使用し
たほうが溶融しやすい。混合した原料を白金ルツボで約
１３００℃で溶融した後、水冷ローラーでフィルム杖に
成型したガラスをアルミナボールミルで微粉砕すること
によってガラス粉末を得、このガラス粉末の軟化点を測
定して表に示した。
十分に混合する。各原料は、酸化物、水酸化物、炭酸塩
あるいは硝酸塩の何れでもよいが、微粉砕原料を使用し
たほうが溶融しやすい。混合した原料を白金ルツボで約
１３００℃で溶融した後、水冷ローラーでフィルム杖に
成型したガラスをアルミナボールミルで微粉砕すること
によってガラス粉末を得、このガラス粉末の軟化点を測
定して表に示した。
さらにこれらのガラス粉末に対して平均粒径がｏ 、５
ａｍのＴｉＯ□粉末を表に示した割合で添加し、両者を
均一に混合することによって各試料を得、これらとα−
ターピネオールにエチルセルロースを１０％溶解させた
ビークルとをスリーロールミルで混練し、ペースト化し
た。次いでこのペーストをアルミナ基板上にスクリーン
印刷により塗布した後、１００〜．１５０℃で乾燥させ
、さらニ５８０ｃＴ：焼成し、この焼成物を耐酸性試験
に供した。耐酸性の試験は、２５℃の５重量％硫酸水溶
液に焼成物を３０分間浸漬し、水洗後ガラス表面を観察
して耐酸性を判定した。判定基準はガラスの表面光沢が
初期と殆ど変わらないものを優、表面光沢が初期と比べ
て幾分低下しているものを良とし、さらにガラスの一部
が溶出し、表面に白色の変質層が生じたり、亀裂や剥離
の認められるものを不良とした。
ａｍのＴｉＯ□粉末を表に示した割合で添加し、両者を
均一に混合することによって各試料を得、これらとα−
ターピネオールにエチルセルロースを１０％溶解させた
ビークルとをスリーロールミルで混練し、ペースト化し
た。次いでこのペーストをアルミナ基板上にスクリーン
印刷により塗布した後、１００〜．１５０℃で乾燥させ
、さらニ５８０ｃＴ：焼成し、この焼成物を耐酸性試験
に供した。耐酸性の試験は、２５℃の５重量％硫酸水溶
液に焼成物を３０分間浸漬し、水洗後ガラス表面を観察
して耐酸性を判定した。判定基準はガラスの表面光沢が
初期と殆ど変わらないものを優、表面光沢が初期と比べ
て幾分低下しているものを良とし、さらにガラスの一部
が溶出し、表面に白色の変質層が生じたり、亀裂や剥離
の認められるものを不良とした。
表から明らかなように本発明品である試料Ｎｏ、１〜５
は、いずれも軟化点が５５３℃以下と低く、且つ良好な
耐酸性を有していたが、一方比較例である試料Ｎｏ、Ｇ
は、ＴｌＯ２粉末が添加されていないため、試料Ｎｏ、
１０は、ガラスにＰｂＦ２が添加されているため耐酸性
が悪かった。また試料Ｎｏ 、７は、Ｔｉｏ粉末の添加
量が７．５％と多いため焼成することができなかった。
は、いずれも軟化点が５５３℃以下と低く、且つ良好な
耐酸性を有していたが、一方比較例である試料Ｎｏ、Ｇ
は、ＴｌＯ２粉末が添加されていないため、試料Ｎｏ、
１０は、ガラスにＰｂＦ２が添加されているため耐酸性
が悪かった。また試料Ｎｏ 、７は、Ｔｉｏ粉末の添加
量が７．５％と多いため焼成することができなかった。
さらに試料Ｎｏ 、８は、ＰｂＯの含有量が２５゜０％
と少ないため軟化点が７４７℃と高くて焼成することが
できず、試料Ｎｏ 、９は、Ｐｂｏの含有量が２５゜０
％と少ないにもかかわらず軟化点が低いが、Ｂ２゜３を
３０．０重量％、Ｎａ２Ｏを１０．０重量％と多量に含
有するため耐酸性が悪かった。
と少ないため軟化点が７４７℃と高くて焼成することが
できず、試料Ｎｏ 、９は、Ｐｂｏの含有量が２５゜０
％と少ないにもかかわらず軟化点が低いが、Ｂ２゜３を
３０．０重量％、Ｎａ２Ｏを１０．０重量％と多量に含
有するため耐酸性が悪かった。
［発明の効果］
以上のように本発明の被覆用組成物は、ＴｌＯ２粉末が
添加され、且つガラスにＦを含有しないため優れた耐酸
性を有し、ＰｂＯの含有量を増やすことによってガラス
の低温化を計っても耐酸性の低下を抑えることが可能で
あり、電極のメツキを伴うチップ抵抗器やハンダフラッ
クスを使用スるハイブリッドＩＣの抵抗体及び導体の保
護材料として好適である。
添加され、且つガラスにＦを含有しないため優れた耐酸
性を有し、ＰｂＯの含有量を増やすことによってガラス
の低温化を計っても耐酸性の低下を抑えることが可能で
あり、電極のメツキを伴うチップ抵抗器やハンダフラッ
クスを使用スるハイブリッドＩＣの抵抗体及び導体の保
護材料として好適である。
特許出願人 日本電気硝子株式会社
代表者 岸１）清作
Claims (1)
- （１）ＰｂＯを３０．０重量％以上含有し、本質的にＦ
を含有しないガラス組成物に対して、ＴｉＯ＿２粉末が
０．１〜５．０重量％添加されてなることを特徴とする
被覆用組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26716390A JP3192417B2 (ja) | 1990-10-03 | 1990-10-03 | チップ抵抗器被覆用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26716390A JP3192417B2 (ja) | 1990-10-03 | 1990-10-03 | チップ抵抗器被覆用組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04144934A true JPH04144934A (ja) | 1992-05-19 |
| JP3192417B2 JP3192417B2 (ja) | 2001-07-30 |
Family
ID=17440972
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26716390A Expired - Fee Related JP3192417B2 (ja) | 1990-10-03 | 1990-10-03 | チップ抵抗器被覆用組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3192417B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0771765A1 (en) * | 1995-11-02 | 1997-05-07 | Nippon Electric Glass Company., Ltd. | Enamel Frit composition for a low-expansion crystallized glass and enamel-coated low-expansion crystallized glass plate using the same |
-
1990
- 1990-10-03 JP JP26716390A patent/JP3192417B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0771765A1 (en) * | 1995-11-02 | 1997-05-07 | Nippon Electric Glass Company., Ltd. | Enamel Frit composition for a low-expansion crystallized glass and enamel-coated low-expansion crystallized glass plate using the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3192417B2 (ja) | 2001-07-30 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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