JPH04141809A - Magnetic head - Google Patents
Magnetic headInfo
- Publication number
- JPH04141809A JPH04141809A JP26565190A JP26565190A JPH04141809A JP H04141809 A JPH04141809 A JP H04141809A JP 26565190 A JP26565190 A JP 26565190A JP 26565190 A JP26565190 A JP 26565190A JP H04141809 A JPH04141809 A JP H04141809A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- soft magnetic
- film
- ferrite
- layers
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 claims abstract description 55
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 50
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims abstract description 41
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 36
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 19
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 17
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 7
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910017061 Fe Co Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910003192 Nb–Ta Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910020630 Co Ni Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910002440 Co–Ni Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910008423 Si—B Inorganic materials 0.000 claims description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 abstract description 11
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 abstract description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 9
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 75
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 11
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 9
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 7
- 238000000682 scanning probe acoustic microscopy Methods 0.000 description 6
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910005705 Ge—B Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 Hf5Cr Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は磁気ヘッド、特に磁気ギャップ部に高飽和磁束
密度、高透磁率の磁性材を配置したいわゆるMIGタイ
プの磁気ヘッドに関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head, and particularly to a so-called MIG type magnetic head in which a magnetic material having a high saturation magnetic flux density and high magnetic permeability is arranged in a magnetic gap portion.
従来の技術 近年、映像、音響、情報関連機器の進歩はめざましい。Conventional technology In recent years, advances in video, audio, and information-related equipment have been remarkable.
これらの分野での記録の主流は磁気記録であり、磁気ヘ
ッドに於いても、象、速な進歩から(る種々の要請に応
じるため、積層ヘッドや薄膜ヘッド等様々なタイプのヘ
ッドが研究されている。The mainstream of recording in these fields is magnetic recording, and due to rapid progress in magnetic heads, various types of heads such as laminated heads and thin film heads are being researched to meet various demands. ing.
それらのヘッドの中では、製造コストや耐摩耗性等の面
で、既に実用化されている、磁気ギャップ部に高飽和磁
束密度、高透磁率の磁性材を配置したメタルインギャッ
プ(MIG)タイプのヘッドが優れている。Among these heads, the metal-in-gap (MIG) type, which has already been put into practical use in terms of manufacturing costs and wear resistance, has a magnetic material with high saturation magnetic flux density and high magnetic permeability arranged in the magnetic gap part. The head is excellent.
しかしながら従来の磁性材では、記録媒体の高密度化に
ともなって進んでいる、媒体の高保磁力化、単位記録面
積の微細化に対して、その飽和磁束密度、透磁率がほぼ
限界に達している。However, with conventional magnetic materials, their saturation magnetic flux density and magnetic permeability have almost reached their limits in response to the increasing coercive force of media and miniaturization of unit recording area, which are progressing with the increasing density of recording media. .
そこでより高い飽和磁束密度と透磁率を兼ね備えた磁性
材料として、Co系アモルファスとその窒化物との多層
膜(例えば、「電子情報通信学会技術研究報告J MR
87−14(1987) )あるいは、Fe系アモルフ
ァスとその窒化物との多層膜(例えば、[電子情報通信
学会技術研究報告JMR88−55(1989) )等
が研究されている。Therefore, as a magnetic material with higher saturation magnetic flux density and magnetic permeability, a multilayer film of Co-based amorphous and its nitride (for example, "IEICE Technical Research Report J MR
87-14 (1987)) or a multilayer film of Fe-based amorphous and its nitride (for example, [IEICE technical research report JMR88-55 (1989)), etc. have been studied.
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記のCo系あるいはFe系アモルファス
とその窒化物との多層膜は、当初積層タイプのヘッド材
料として、セラミックやガラス基板上で開発された材料
であったので、MrGタイプのヘッドとしてフェライト
上に着膜し、ギヤ・ンブ形成のために熱処理を行うと、
フェライトとの間で0、CO等の元素の拡散が起こる。Problems to be Solved by the Invention However, the above-mentioned multilayer film of Co-based or Fe-based amorphous and its nitride was originally developed as a laminated type head material on ceramic or glass substrates, so MrG When a film is deposited on ferrite as a type of head and heat treated to form a gear ring,
Diffusion of elements such as 0 and CO occurs between the ferrite and the ferrite.
そのため、MIGタイプのヘッドの中では最も製造が容
易で最もコストの小さな、フェライトと軟磁性膜との界
面と、メインギャップとが平行なタイプのMIG(以後
、平行ギャップ型MIGと呼ぶ)に応用した場合、擬似
ギャップが生じてヘッド出力の周波数特性にうねりが生
しる等の課題を有していた。Therefore, it is applied to the type of MIG where the interface between the ferrite and soft magnetic film is parallel to the main gap (hereinafter referred to as parallel gap type MIG), which is the easiest to manufacture and has the lowest cost among MIG type heads. In this case, a problem arises in that a pseudo gap occurs, causing undulations in the frequency characteristics of the head output.
本発明は上記課題に鑑み、従来の磁性材料より高い飽和
磁束密度と透磁率を持つ、上記Co系あるいはFe系ア
モルファスとその窒化物との多層膜等の膜を用い、かつ
擬似ギャップの影響の小さな平行ギヤツブ型MIGタイ
プの磁気ヘッドを提供するものである。In view of the above problems, the present invention uses a film such as a multilayer film of the above-mentioned Co-based or Fe-based amorphous and its nitride, which has higher saturation magnetic flux density and magnetic permeability than conventional magnetic materials, and which is free from the effects of pseudo gaps. A small parallel gear MIG type magnetic head is provided.
課題を解決するための手段
上記課題を解決するために本発明の磁気ヘッドは、アモ
ルファス合金または微結晶合金と、その窒化物を交互に
積層させた軟磁性膜、あるいは膜厚方向に少なくとも窒
素の組成が変調された、窒化アモルファス合金または窒
化微結晶合金の軟磁性膜を、フェライトコアのキャップ
部に配したMIGタイプの磁気ヘッドにおいて、軟磁性
膜のフェライトと接する層が、窒化層あるいは窒素富裕
層であるという構成を備えたものである。Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the magnetic head of the present invention has a soft magnetic film in which an amorphous alloy or a microcrystalline alloy and a nitride thereof are alternately laminated, or a soft magnetic film in which at least nitrogen is added in the film thickness direction. In a MIG type magnetic head in which a soft magnetic film of an amorphous nitride alloy or a microcrystalline nitride alloy with a modulated composition is placed on the cap of a ferrite core, the layer of the soft magnetic film in contact with the ferrite is a nitride layer or a nitrogen-rich layer. It has a structure of layers.
作用
本発明は、上記した構成によってギャップ形成のための
熱処理時に、多層膜とフェライトとの間での元素の拡散
が抑えられて、従って擬似ギヤップの影響が抑えられて
、ヘッド特性の低下が防がれることとなる。Effect of the Invention The present invention suppresses the diffusion of elements between the multilayer film and the ferrite during heat treatment for gap formation by the above-described structure, thereby suppressing the influence of pseudo gap and preventing deterioration of head characteristics. This will result in a break.
実施例
実施例1
以下本発明の第1の実施例の磁気ヘッドについて、図面
を参照しながら説明する。第1図は本発明の全ての実施
例における磁気ヘッドの、熱処理前の、磁気記録媒体と
の摺動面のギャップ近傍を示した平面図である。Embodiments Embodiment 1 A magnetic head according to a first embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view showing the vicinity of the gap between the sliding surface of the magnetic head and the magnetic recording medium before heat treatment in all the embodiments of the present invention.
第1図において、11はメインギャップ、12はフェラ
イトコア、15は軟磁性膜であり、製膜直後には13に
示す窒素富裕層と、14に示す窒素欠乏層からなる。図
中では、メインギャップの下側の軟磁性膜にのみ、数層
の窒素富裕層13と窒素欠乏層14とを示したが、実際
にはメインギャップの両側の軟磁性膜15全てが、窒素
富裕層13と窒素欠乏層14とで構成されている。しか
じ熱処理後には、材料によっては、はとんど層構造がな
くなってしまうこともある。16はモールドガラスであ
る。第1の実施例に於いて、第1図中の13は、着膜直
後の組成がCo53.5Nb3.5Zrz N++、1
層の厚さが270人、14は、着膜直後の組成がCOs
s、sN bs、5Zrz、1層の厚さが270人、軟
磁性膜15の厚さが5.4μmである。In FIG. 1, 11 is a main gap, 12 is a ferrite core, and 15 is a soft magnetic film, which immediately after film formation consists of a nitrogen-rich layer shown at 13 and a nitrogen-depleted layer shown at 14. In the figure, several layers of nitrogen-rich layer 13 and nitrogen-depleted layer 14 are shown only in the soft magnetic film below the main gap, but in reality, all the soft magnetic films 15 on both sides of the main gap are nitrogen-rich. It is composed of a rich layer 13 and a nitrogen-deficient layer 14. However, after heat treatment, depending on the material, the layered structure may almost completely disappear. 16 is molded glass. In the first example, 13 in FIG. 1 has a composition immediately after deposition of Co53.5Nb3.5Zrz N++, 1
The thickness of the layer is 270, and the composition of 14 is COs immediately after deposition.
s, sN bs, 5Zrz, the thickness of one layer is 270, and the thickness of the soft magnetic film 15 is 5.4 μm.
以上のように構成された磁気ヘッドについて、以下筒2
、第3、第4及び第5図を用いてその動作を説明する。Regarding the magnetic head configured as above, the cylinder 2 is as follows.
, 3, 4 and 5, its operation will be explained.
まず第2図は、非窒化層が最初にフェライトに接合する
ように作製した軟磁性膜の、着膜直後の膜厚方向への各
元素の分布状態を、軟磁性膜とフェライトとの接合部の
近傍で、オージェ電子分光分析によって測定した図、第
3図は、第2図に示した軟磁性膜の、550“Cで1時
間アニール後の膜厚方向への各元素の分布状態を、軟磁
性膜とフェライトとの接合部の近傍で、オージェ電子分
光分析によって測定した図、第4図は、窒化層が最初に
フェライトに接合するように作製した軟磁性膜の、着膜
直後の膜厚方向への各元素の分布状態を、軟磁性膜とフ
ェライトとの接合部の近傍で、オージェ電子分光分析に
よって測定した図、第5図は、第4図に示した軟磁性膜
の、550°Cで1時間アニール後の膜厚方向への各元
素の分布状態を、軟磁性膜とフェライトとの接合部の近
傍で、オージェ電子分光分析によって測定した図であり
、第2、第3、第4及び第5図において横軸は膜の厚さ
方向の位置、縦軸は観測された各元素からのオージェ電
子のエネルギー強度を示している。各図において21.
22.23.24.25はそれぞれ、Co、0、Fe、
Nb、、Nのオージェ電子のエネルギー強度である。First of all, Figure 2 shows the distribution of each element in the film thickness direction immediately after deposition of a soft magnetic film fabricated so that the non-nitrided layer is first bonded to the ferrite, at the junction between the soft magnetic film and the ferrite. Figure 3 shows the distribution of each element in the film thickness direction after annealing at 550"C for 1 hour in the soft magnetic film shown in Figure 2, measured by Auger electron spectroscopy in the vicinity of Figure 4, which was measured by Auger electron spectroscopy near the junction between the soft magnetic film and ferrite, shows the soft magnetic film immediately after deposition, where the nitride layer was first bonded to the ferrite. The distribution state of each element in the thickness direction was measured by Auger electron spectroscopy near the junction between the soft magnetic film and ferrite. The distribution state of each element in the film thickness direction after annealing at °C for 1 hour is measured by Auger electron spectroscopy in the vicinity of the junction between the soft magnetic film and the ferrite. 4 and 5, the horizontal axis indicates the position in the thickness direction of the film, and the vertical axis indicates the energy intensity of Auger electrons from each element observed.In each figure, 21.
22.23.24.25 are respectively Co, 0, Fe,
This is the energy intensity of Auger electrons of Nb,,N.
第2、第4図にみられる窒化層と非窒化層の明確な区別
は、アニール後には消失しているが、第3図と第5図を
比較すれば明らかに、窒化膜からフェライト上に着膜し
た方が、非窒化膜から着膜した時に比べて、軟磁性膜と
フェライトとの間の元素の拡散が、少なく抑えられてい
る。The clear distinction between the nitride layer and the non-nitride layer seen in Figures 2 and 4 disappears after annealing, but if you compare Figures 3 and 5, it is clear that the nitride layer is separated from the ferrite layer. When the film is deposited, the diffusion of elements between the soft magnetic film and the ferrite is suppressed to a smaller extent than when the non-nitride film is deposited.
第1表は、着膜直後の組成がC05a、5Nbs、sZ
r、の層からフェライト上に作製した磁気ヘッドと、着
膜直後の組成がCo、、、、、5Nb=、s ZrzN
llの層からフェライト上に作製した磁気ヘッドにおい
て、ヘッドと磁気記録媒体との相対速度が3、1m/s
の時の、起磁力550mA ・turn、書き込み周波
数65kHz、に於ける擬像出力(メインギャップに於
ける出力VMに対する、擬似ギャップにおける出力■。Table 1 shows that the composition immediately after deposition is C05a, 5Nbs, and sZ.
A magnetic head fabricated on a ferrite layer from a layer of
In a magnetic head fabricated on ferrite from a layer of
Phantom image output at magnetomotive force 550 mA turn and writing frequency 65 kHz (output VM at the pseudo gap vs. output VM at the main gap).
の比)と、周波数特性のうねりを示したものである。(ratio) and the waviness of the frequency characteristics.
第1表
第1表から、元素の拡散の大きい非窒化層から作製した
軟磁性膜より、元素の拡散の小さい窒化層から作製した
軟磁性膜の方が、擬似ギャップの影響が小さくなってい
ることが分かる。Table 1 From Table 1, the influence of the pseudo gap is smaller in soft magnetic films made from nitrided layers where element diffusion is small than in soft magnetic films made from non-nitrided layers where element diffusion is large. I understand that.
以上のように本実施例によれば、着膜直後の組成がCO
1+3. sN b !、 5 Z r zN IIと
Co、、、、、sN bs、sZr、の、アモルファス
合金を270人づつ交互に積層させた軟磁性膜を、フェ
ライトコアのキャップ部に配したMIGタイプのヘッド
において、軟磁性膜のフェライトと接する層を、CO8
3,5N b3.s Z r z Nz層にすることに
より、軟磁性膜とフェライトとの間の元素の拡散を抑え
て擬イ以ギャップの影響を小さくし、軟磁性膜の高飽和
磁束密度、高透磁率を生かしたMIGヘッドを提供する
ことができる。As described above, according to this example, the composition immediately after deposition is CO2.
1+3. sNb! , 5. In a MIG type head in which a soft magnetic film made by alternately laminating 270 amorphous alloys of Zr zN II, Co, sN bs, and sZr is placed on the cap part of the ferrite core, The layer in contact with the ferrite of the soft magnetic film is coated with CO8
3,5N b3. By forming the s Z r z Nz layer, the diffusion of elements between the soft magnetic film and the ferrite is suppressed, the influence of the pseudo-I gap is reduced, and the high saturation magnetic flux density and high magnetic permeability of the soft magnetic film are utilized. A MIG head can be provided.
実施例2
以下本発明の第2の実施例について第1図と第2表を参
照しながら説明する。Example 2 A second example of the present invention will be described below with reference to FIG. 1 and Table 2.
第1図において、14がMとTとの層、13が14の窒
化層としたのが、本実施例である。前記においてMはF
e、Co、Ni、Mnよりなる群から一種類以上選択さ
れた金属、TはNb、Zr、Ti、Ta、Hf、Cr、
W、Moよりなる群から一種類以上選択された元素であ
る。In FIG. 1, in this embodiment, 14 is a layer of M and T, and 13 is a nitride layer of 14. In the above, M is F
e, Co, Ni, Mn, T is Nb, Zr, Ti, Ta, Hf, Cr,
It is one or more elements selected from the group consisting of W and Mo.
第2表は、非窒化層が最初にフェライトに接合するよう
に作製した磁気ヘッドと、窒化層が最初にフェライトに
接合するように作製した磁気ヘッドにおいて、ヘッドと
磁気記録媒体との相対速度が3,1m/sの時の、起磁
力550mA−turn、書き込み周波数65kHz、
に於ける擬似出力(メインギヤ・ノブに於ける出力■。Table 2 shows the relative speed between the head and the magnetic recording medium for a magnetic head fabricated with the non-nitrided layer first bonded to the ferrite and a magnetic head fabricated such that the nitrided layer first bonded to the ferrite. 3.1m/s, magnetomotive force 550mA-turn, writing frequency 65kHz,
Pseudo output at (output at main gear knob).
に対する、擬似ギャップにおける出力■、の比)と、周
波数特性のうねりの組成依存を示したものである。The figure shows the composition dependence of the waviness of the frequency characteristics.
第2表
第2表から、MがFe5Co、Ni、Mnよりなる群か
ら一種類以上選択された金属、TがNb、Zr、Ti5
Ta、Hf5Cr、W、Moよりなる群から一種類以上
選択された元素であれば、窒化層から作製した軟磁性膜
の方が、擬似ギャップの影響が小さくなっていることが
分かる。Table 2 From Table 2, M is one or more metals selected from the group consisting of Fe5Co, Ni, and Mn, and T is Nb, Zr, and Ti5.
It can be seen that when one or more elements are selected from the group consisting of Ta, Hf5Cr, W, and Mo, the influence of the pseudo gap is smaller in the soft magnetic film made from the nitride layer.
以上のように本実施例によれば、熱処理前にはMとTの
層と、その窒化層の積層膜で、前記に於いて、MはFe
、Co、Ni、Mnよりなる群から一種類以上選択され
た金属、TはNb、Zr、Ti、Ta、Hf、Cr、W
SMoよりなる群から一種類以上選択された元素である
ような軟磁性膜を、フェライトコアのキャップ部に配し
たMIGタイプのヘッドにおいて、軟磁性膜のフェライ
トと接する層を、MとTとNの層にすることにより、軟
磁性膜とフェライトとの間の元素の拡散を抑えて擬似ギ
ャップの影響を小さくし、軟磁性膜の高飽和磁束密度、
高透磁率を生かしたMIGヘッドを提供することができ
る。As described above, according to this embodiment, before heat treatment, there is a laminated film of M and T layers and their nitride layers, and in the above, M is Fe.
, Co, Ni, Mn, T is Nb, Zr, Ti, Ta, Hf, Cr, W
In a MIG type head in which a soft magnetic film made of one or more elements selected from the group consisting of SMo is arranged on the cap part of the ferrite core, the layer in contact with the ferrite of the soft magnetic film is made of M, T, and N. By forming a layer of
It is possible to provide an MIG head that takes advantage of high magnetic permeability.
実施例3
以下本発明の第3の実施例について第1図と第3表を参
照しながら説明する。Example 3 A third example of the present invention will be described below with reference to FIG. 1 and Table 3.
第1図において、14がMとTとUの層、13が14の
窒化層としたのが、本実施例である。前記においてMは
Fe、Co、Ni、Mnよりなる群から一種類以上選択
された金属、TはNb、Zr、Ti、Ta、Hf、Cr
、W、Mo、Re、、Ruよりなる群から一種類以上選
択された元素、Uは、B、S i、Ge、AIよりなる
群から一種類以上選択された元素である。In FIG. 1, in this embodiment, 14 is a layer of M, T, and U, and 13 is a nitride layer of 14. In the above, M is one or more metals selected from the group consisting of Fe, Co, Ni, and Mn, and T is Nb, Zr, Ti, Ta, Hf, Cr.
, W, Mo, Re, , Ru, and U is one or more elements selected from the group consisting of B, Si, Ge, and AI.
第3表は、非窒化層が最初にフェライトに接合するよう
に作製した磁気ヘッドと、窒化層が最初にフェライトに
接合するように作製した磁気ヘッドにおいて、ヘッドと
磁気記録媒体との相対速度が3.b+/sの時の、起磁
力550mA−turn、書き込み周波数65k)lz
、に於ける擬似出力(メインギャップに於ける出力■。Table 3 shows the relative speed between the head and the magnetic recording medium for a magnetic head manufactured so that the non-nitrided layer first joins to the ferrite and a magnetic head manufactured so that the nitrided layer first joins the ferrite. 3. b+/s, magnetomotive force 550mA-turn, writing frequency 65k) lz
Pseudo output at , (output at main gap ■).
に対する、擬似ギャップにおける出力■。の比)と、周
波数特性のうねりの組成依存を示したものである。, the output at the pseudo gap ■. (ratio of ) and composition dependence of waviness in frequency characteristics.
(以下余白)
第3表
第3表から、MがFe5Co、NiXMnよりなる群か
ら一種類以上選択された金属、TがNb、Zr、Ti、
Ta、Hf、Cr、W、Mo、Re、Ruよりなる群か
ら一種類以上選択された元素、Uが、B、S i、Ge
、AIよりなる群から一種類以上選択された元素であれ
ば、窒化層から作製した軟磁性膜の方が、擬似ギャップ
の影響が小さくなっていることが分かる。(Margin below) Table 3 From Table 3, M is one or more metals selected from the group consisting of Fe5Co and NiXMn, and T is Nb, Zr, Ti,
One or more elements selected from the group consisting of Ta, Hf, Cr, W, Mo, Re, Ru, U, B, Si, Ge
, AI, the influence of the pseudo gap is smaller in the soft magnetic film made from the nitride layer.
以上のように本実施例によれば、熱処理前にはMとTと
Uの層と、その窒化層の積層膜で、前記に於いて、Mは
Fe、、Co、Ni、Mnよりなる鮮から一種類以上選
択された金属、TはNb、Zr、Ti5Ta、Hf、C
r、W、Mo、Re、Ruよりなる群から一種類以上選
択された元素、Uは、B、St、Ge、AIよりなる群
から一種類以上選択された元素であるような軟磁性膜を
、フェライトコアのキャップ部に配したMIGタイプの
ヘッドにおいて、軟磁性膜のフェライトと接する層を、
MとTとUとNの層にすることにより、軟磁性膜とフェ
ライトとの間の元素の拡散を抑えて擬似ギャップの影響
を小さくし、軟磁性膜の高飽和磁束密度、高透磁率を生
かしたMIGヘッドを提供することができる。As described above, according to this embodiment, before the heat treatment, there is a laminated film of M, T, and U layers and their nitride layers, where M is made of Fe, Co, Ni, and Mn. one or more metals selected from T is Nb, Zr, Ti5Ta, Hf, C
A soft magnetic film is formed in which one or more elements are selected from the group consisting of r, W, Mo, Re, and Ru, and U is one or more elements selected from the group consisting of B, St, Ge, and AI. In the MIG type head disposed on the cap of the ferrite core, the layer in contact with the ferrite of the soft magnetic film is
By forming layers of M, T, U, and N, the diffusion of elements between the soft magnetic film and the ferrite is suppressed, the influence of the pseudo gap is reduced, and the high saturation magnetic flux density and high magnetic permeability of the soft magnetic film are achieved. We can provide MIG heads that take full advantage of this.
実施例4
以下本発明の第4の実施例について第1図と第4表を参
照しながら説明する。Example 4 A fourth example of the present invention will be described below with reference to FIG. 1 and Table 4.
第1図において、14がMとTとCoの層、13が14
の窒化層としたのが、本実施例である。前記においてM
はFe、Mnよりなる群から一種類以上選択された金属
、TはNb、Zr、Ti、Ta、Hfよりなる群から一
種類以上選択された元素である。In Figure 1, 14 is a layer of M, T, and Co, and 13 is 14
In this example, the nitrided layer is used. In the above M
is a metal selected from the group consisting of Fe and Mn, and T is an element selected from the group consisting of Nb, Zr, Ti, Ta, and Hf.
第4表は、非窒化層が最初にフェライトに接合するよう
に作製した磁気ヘッドと、窒化層が最初にフェライトに
接合するように作製した磁気ヘッドにおいて、ヘッドと
磁気記録媒体との相対速度が3.1m/sの時の、起磁
力550mA −turn、書き込み周波数65kHz
、に於ける擬似出力(メインギャップに於ける出力V1
4に対する、擬似ギャップにおける出力V、の比)と、
周波数特性のうねりの組成依存を示したものである。Table 4 shows the relative speed between the head and the magnetic recording medium for a magnetic head manufactured so that the non-nitrided layer first joins to the ferrite and a magnetic head manufactured so that the nitrided layer first joins the ferrite. At 3.1m/s, magnetomotive force 550mA -turn, writing frequency 65kHz
, pseudo output (output V1 at main gap)
4) and the ratio of the output V in the pseudo gap to
This shows the dependence of the waviness of the frequency characteristics on the composition.
第4表
第4表から、MがFe、Mnよりなる群から一種類以上
選択された金属、TがNb、Zr、Ti、Ta、Hfよ
りなる群から一種類以上選択された元素であれば、窒化
層から作製した軟磁性膜の方が、擬イ以ギャップの影響
が小さくなっていることが分かる。Table 4 From Table 4, if M is one or more metals selected from the group consisting of Fe and Mn, and T is one or more elements selected from the group consisting of Nb, Zr, Ti, Ta, and Hf. It can be seen that the influence of the pseudo-I gap is smaller in the soft magnetic film made from the nitride layer.
以上のように本実施例によれば、熱処理前にはMとTと
Coの層と、その窒化層の積層膜で、前記に於いて、M
はFe、Mnよりなる群から一種類以上選択された金属
、TはNb5Zr、、Ti。As described above, according to this embodiment, before the heat treatment, there is a laminated film of M, T, and Co layers and their nitride layers;
is a metal selected from one or more of the group consisting of Fe and Mn, and T is NbZr, Ti.
Ta、Hfよりなる群から一種類以上選択された元素で
あるような軟磁性膜を、フェライトコアのキャップ部に
配したMIGタイプのヘッドにおいて、軟磁性膜のフェ
ライトと接する層を、MとTとCOとNの層にすること
により、軟磁性膜とフェライトとの間の元素の拡散を抑
えて擬似ギャップの影響を小さくし、軟磁性膜の高飽和
磁束密度、高透磁率を生かしたMIGヘッドを提供する
ことができる。In a MIG type head in which a soft magnetic film made of one or more elements selected from the group consisting of Ta and Hf is arranged on the cap part of the ferrite core, the layer of the soft magnetic film in contact with the ferrite is made of M and T. By using a layer of CO, N, and CO, the diffusion of elements between the soft magnetic film and ferrite is suppressed, and the influence of the pseudo gap is reduced. head can be provided.
実施例5
以下本発明の第5の実施例について第1図と第5表を参
照しながら説明する。Example 5 A fifth example of the present invention will be described below with reference to FIG. 1 and Table 5.
第1図において、14がMとTとUとの層、13が14
の窒化層としたのが、本実施例である。前記においてM
!、tFeSFe−Co、、Nfよりなる群から選択さ
れた金属、TはNb、Ta、Nb−Taよりなる群から
選択された元素、Uは、B、5i−B、Ge−Bよりな
る群から選択された元素である。In FIG. 1, 14 is the layer of M, T, and U, and 13 is 14
In this example, the nitrided layer is used. In the above M
! , tFeSFe-Co, , a metal selected from the group consisting of Nf, T is an element selected from the group consisting of Nb, Ta, Nb-Ta, U is selected from the group consisting of B, 5i-B, Ge-B is the selected element.
第5表は、非窒化層が最初にフェライトに接合するよう
に作製した磁気ヘッドと、窒化層が最初にフェライトに
接合するように作製した磁気ヘッドにおいて、ヘッドと
磁気記録媒体との相対速度が3.1m/sの時の、起磁
力550+wA−turn、書き込み周波数65kHz
、に於ける擬似出力(メインギャップに於ける出力■9
に対する、擬似ギャップにおける出力VGの比)と、周
波数特性のうねりの組成依存を示したものである。Table 5 shows the relative speed between the head and the magnetic recording medium for a magnetic head manufactured so that the non-nitrided layer first joins to the ferrite and a magnetic head manufactured so that the nitrided layer first joins the ferrite. At 3.1m/s, magnetomotive force 550+wA-turn, writing frequency 65kHz
, pseudo output (output at main gap■9
The figure shows the composition dependence of the waviness of the frequency characteristic (the ratio of the output VG in the pseudo gap to
(以下余白)
第5表
第5表から、MがFe、Fe−Co、Niよりなる群か
ら選択された金属、TがNb、Ta、Nb−Taよりな
る群から選択された元素、UがB、S i−B、Ge−
Bよりなる群から選択された元素であれば、窒化層から
作製した軟磁性膜の方が、擬似ギャップの影響が小さく
なっていることが分かる。(Left below) Table 5 From Table 5, M is a metal selected from the group consisting of Fe, Fe-Co, and Ni, T is an element selected from the group consisting of Nb, Ta, and Nb-Ta, and U is an element selected from the group consisting of Nb, Ta, and Nb-Ta. B, Si-B, Ge-
It can be seen that when the element is selected from the group consisting of B, the influence of the pseudo gap is smaller in the soft magnetic film made from the nitride layer.
以上のように本実施例によれば、熱処理前にはMとTと
Uの層と、その窒化層の積層膜で、前記に於いて、Mは
Fe、Fe−Co、Niよりなる群から選択された金属
、TはNb5Ta、Nb−Taよりなる群から選択され
た元素、UはB、5i−B、Ge−Bよりなる群から選
択された元素であるような軟磁性膜を、フェライトコア
のキャップ部に配したMIGタイプのヘッドにおいて、
軟磁性膜のフェライトと接する層を、MとTとUとNの
層にすることにより、軟磁性膜とフェライトとの間の元
素の拡散を抑えて擬像ギャンブの影響を小さくし、軟磁
性膜の高飽和磁束密度、高透磁率を生かしたMIGヘッ
ドを提供することができる。As described above, according to this embodiment, before the heat treatment, there is a laminated film of M, T, and U layers and their nitride layers, where M is selected from the group consisting of Fe, Fe-Co, and Ni. A soft magnetic film of selected metal, T is an element selected from the group consisting of Nb5Ta, Nb-Ta, and U is an element selected from the group consisting of B, 5i-B, Ge-B, is made of ferrite. In the MIG type head placed on the cap of the core,
By making the layer in contact with the ferrite of the soft magnetic film to be a layer of M, T, U, and N, the diffusion of elements between the soft magnetic film and the ferrite is suppressed, the influence of pseudo-image gamble is reduced, and the soft magnetic It is possible to provide an MIG head that takes advantage of the film's high saturation magnetic flux density and high magnetic permeability.
実施例6
以下本発明の第6の実施例について第1図と第6表を参
照しながら説明する。Example 6 A sixth example of the present invention will be described below with reference to FIG. 1 and Table 6.
第1図において、14がMとTとUとの層、13が14
の窒化層としたのが、本実施例である。前記においてM
はFeを主成分としてFeXFe−Co、Fe−Ni、
Fe−Co−Niよりなる群から選択された金属、Tは
Nb、Ta、Zr、Tiよりなる群から一種類以上選択
された元素、Uは、B、Si、Cよりなる群から一種類
以上選択された元素である。In FIG. 1, 14 is the layer of M, T, and U, and 13 is 14
In this example, the nitrided layer is used. In the above M
FeXFe-Co, Fe-Ni,
A metal selected from the group consisting of Fe-Co-Ni, T is one or more elements selected from the group consisting of Nb, Ta, Zr, and Ti, and U is one or more elements selected from the group consisting of B, Si, and C. is the selected element.
第6表は、非窒化層が最初にフェライトに接合するよう
に作製した磁気ヘッドと、窒化層が最初にフェライトに
接合するように作製した磁気ヘッドにおいて、ヘッドと
磁気記録媒体との相対速度が3.1m/sの時の、起磁
力55hA−turn、書き込み周波数55kHz、に
於ける擬似出力(メインギャップに於ける出力■。に対
する、擬(以ギャップにおける出力■、の比)と、周波
数特性のうねりの組成依存を示したものである。Table 6 shows the relative speed between the head and the magnetic recording medium for a magnetic head fabricated with the non-nitrided layer first bonded to the ferrite and a magnetic head fabricated such that the nitrided layer first bonded to the ferrite. At 3.1 m/s, magnetomotive force 55 hA-turn, writing frequency 55 kHz, pseudo output (ratio of pseudo output (hereinafter the output at the gap) to output (■) at the main gap) and frequency characteristics This figure shows the dependence of the waviness on the composition.
第6表
第6表から、MがFeを主成分としてFe、Fe−Co
、Fe−Ni、、Fe−Co−Niよりなる群から選択
された金属、TがNb、Ta、Zr、Tiよりなる群か
ら一種類以上選択された元素、UがB、Si、Cよりな
る群から一種類以上選択された元素であれば、窒化層か
ら作製した軟磁性膜の方が、擬似ギャップの影響が小さ
くなっていることが分かる。Table 6 From Table 6, M is Fe, Fe-Co, with Fe as the main component.
, Fe-Ni, , a metal selected from the group consisting of Fe-Co-Ni, T is an element selected from one or more types from the group consisting of Nb, Ta, Zr, and Ti, and U is selected from B, Si, and C. It can be seen that when one or more elements are selected from the group, the influence of the pseudo gap is smaller in the soft magnetic film made from the nitride layer.
以上のように本実施例によれば、熱処理前にはMとTと
Uの層と、その窒化層の積層膜で、前記に於いて、Mは
Feを主成分としてFe、Fe−Co、Fe−Ni、F
e−Co−Niよりなる群から選択された金属、TはN
b、Ta、Zr、Tiよりなる群から一種類以上選択さ
れた元素、UはB、Si、Cよりなる群から一種類以上
選択された元素であるような軟磁性膜を、フェライトコ
アのキャップ部に配したMIGタイプのヘッドにおいて
、軟磁性膜のフェライトと接する層を、MとTとUとN
の層にすることにより、軟磁性膜とフェライトとの間の
元素の拡散を抑えて擬似ギ中ツブの影響を小さくし、軟
磁性膜の高飽和磁束密度、高透磁率を生かしたMIGヘ
ッドを提供することができる。As described above, according to this embodiment, before heat treatment, there is a laminated film of M, T, and U layers and their nitrided layers, where M is mainly composed of Fe, Fe, Fe-Co, Fe-Ni, F
metal selected from the group consisting of e-Co-Ni, T is N
b, an element selected from the group consisting of Ta, Zr, and Ti; U is an element selected from the group consisting of B, Si, and C; In the MIG type head placed in the
This layer suppresses the diffusion of elements between the soft magnetic film and ferrite, reduces the influence of pseudo-magnetic bumps, and enables MIG heads that take advantage of the high saturation magnetic flux density and high magnetic permeability of the soft magnetic film. can be provided.
なお、第2、第3、第4、第5、第6の実施例において
、それぞれ、MとT、MとTとU、MとTとCo5Mと
TとU、MとTとUlの可能な組合せのうちで、第2、
第3、第4、第5、第6表に掲載していない組合せでも
、同様の傾向がある。In addition, in the second, third, fourth, fifth, and sixth embodiments, M and T, M and T and U, M and T, Co5M and T and U, and M and T and Ul are possible, respectively. Among the combinations, the second,
A similar tendency exists for combinations not listed in Tables 3, 4, 5, and 6.
また全ての実施例において、ヘッドのギャップ形成温度
は550°Cで行ったが、モールドガラスの材質により
、別の温度で行ってもよい。また第2表以下では、組成
の詳しい割合は記入していないが、高飽和密度、高透磁
率の、軟磁性材料として適当な組成の範囲で、窒化層か
ら作製した軟磁性膜の方が、擬似ギャップの影響が小さ
くなっているという傾向は、同様であった。Further, in all the examples, the head gap formation temperature was 550°C, but it may be formed at a different temperature depending on the material of the mold glass. Although detailed composition ratios are not listed in Table 2 and below, soft magnetic films made from nitride layers have a higher saturation density, higher magnetic permeability, and a composition suitable for soft magnetic materials. The tendency for the influence of the pseudo gap to become smaller was similar.
発明の効果
以上のように本発明は、アモルファス合金または微結晶
合金と、その窒化物を交互に積層させた軟磁性膜、ある
いは膜厚方向に少なくとも窒素の組成が変調された、窒
化アモルファス合金または窒化微結晶合金の軟磁性膜を
、フェライトコアのキャップ部に配したMIGタイプの
ヘッドにおいて、軟磁性膜のフェライトと接する層が、
窒化層あるいは窒素富裕層であるという構成を備えるこ
とにより、ヘッドの記録、再生特性が、従来のMIGタ
イプのヘッドより優れ、かつ擬似ギャップの影響の充分
小さな、MIGタイプの磁気ヘッドを提供することがで
きる。Effects of the Invention As described above, the present invention provides a soft magnetic film in which an amorphous alloy or a microcrystalline alloy and its nitride are alternately laminated, or a nitrided amorphous alloy or a soft magnetic film in which at least the composition of nitrogen is modulated in the film thickness direction. In a MIG type head in which a soft magnetic film of microcrystalline nitride alloy is placed on the cap of a ferrite core, the layer of the soft magnetic film in contact with the ferrite is
To provide a MIG type magnetic head, which has a configuration of a nitride layer or a nitrogen-rich layer, so that the recording and reproducing characteristics of the head are superior to conventional MIG type heads, and the influence of pseudo gaps is sufficiently small. I can do it.
第1図は本発明の第一の実施例における磁気ヘッドの、
磁気記録媒体との摺動面のギャップ近傍を示した平面図
、第2図は非窒化層からフェライト上に作製した軟磁性
膜の、着膜直後の膜厚方向への各元素の分布状態を、オ
ージェ電子分光分析によって測定した図、第3図は非窒
化層からフェライト上に作製した軟磁性膜の、550°
Cで1時間アニール後の膜厚方向への各元素の分布状態
を、オージェ電子分光分析によって測定した図、第4各
元素の分布状態を、オージェ電子分光分析によって測定
した図である。
11・・・・・・メインギャップ、12・・・・・・フ
ェライトコア、13・・・・・・窒素富裕層、14・・
・・・・窒素欠乏層、15・・・・・・軟磁性膜、16
・・・・・・モールドガラス、21・・・・・・Coか
らのオージェ電子のエネルギー強度、22・・・・・・
0からのオージェ電子のエネルギー強度、23・・・・
・・Feからのオージェ電子のエネルギー強度、24・
・・・・・Nbからのオージェ電子のエネルギー強度、
25・・・・・・Nからのオージェ電子のエネルギー強
度。
代理人の氏名 弁理士 小鍜治 明 ほか2名第
図
第
図
第
図
款朧趨Il + フェライト幕械FIG. 1 shows a magnetic head according to a first embodiment of the present invention.
A plan view showing the vicinity of the gap between the sliding surface and the magnetic recording medium. Figure 2 shows the distribution of each element in the film thickness direction of a soft magnetic film fabricated from a non-nitrided layer onto ferrite immediately after film deposition. Figure 3 shows the 550° angle of a soft magnetic film fabricated on ferrite from a non-nitrided layer.
FIG. 4 is a diagram showing the distribution state of each element in the film thickness direction after annealing at C for 1 hour measured by Auger electron spectroscopy, and a diagram showing the distribution state of each fourth element measured by Auger electron spectroscopy. 11...Main gap, 12...Ferrite core, 13...Nitrogen rich layer, 14...
...Nitrogen-depleted layer, 15...Soft magnetic film, 16
...Mold glass, 21...Energy intensity of Auger electrons from Co, 22...
Energy intensity of Auger electron from 0, 23...
...Energy intensity of Auger electrons from Fe, 24.
...Energy intensity of Auger electrons from Nb,
25... Energy intensity of Auger electrons from N. Name of agent: Patent attorney Akira Okaji and two others
Claims (6)
ルファス合金または微結晶合金の窒化物を交互に積層さ
せた軟磁性膜、あるいは膜厚方向に少なくとも窒素の組
成が変調された、窒化アモルファス合金または窒化微結
晶合金の軟磁性膜を、フェライトコアのギャップ部に配
したMIGタイプのヘッドにおいて、軟磁性膜のフェラ
イトと接する層が、窒化層あるいは窒素富裕層であるこ
とを特徴とする磁気ヘッド。(1) A soft magnetic film in which an amorphous alloy or microcrystalline alloy and a nitride of the amorphous alloy or microcrystalline alloy are alternately laminated, or an amorphous nitride alloy or nitride in which at least the composition of nitrogen is modulated in the film thickness direction. 1. A magnetic head of the MIG type in which a soft magnetic film of microcrystalline alloy is disposed in a gap portion of a ferrite core, wherein a layer of the soft magnetic film in contact with the ferrite is a nitride layer or a nitrogen-rich layer.
、あるいは膜厚方向に少なくとも窒素の組成が変調され
ているMとTとNの軟磁性膜で、前記に於いて、MはF
e、Co、Ni、Mnよりなる群から一種類以上選択さ
れた金属、TはNb、Zr、Ti、Ta、Hf、Cr、
W、Moよりなる群から一種類以上選択された元素であ
ることを特徴とする、請求項(1)記載の磁気ヘッド。(2) The soft magnetic film is a laminated film of M and T layers and their nitride layers, or a soft magnetic film of M, T, and N in which at least the nitrogen composition is modulated in the film thickness direction, and , M is F
e, Co, Ni, Mn, T is Nb, Zr, Ti, Ta, Hf, Cr,
2. The magnetic head according to claim 1, wherein the magnetic head is one or more elements selected from the group consisting of W and Mo.
層膜、あるいは膜厚方向に少なくとも窒素の組成が変調
されているMとTとUとNの軟磁性膜で、前記に於いて
、MはFe、Co、Ni、Mnよりなる群から一種類以
上選択された金属、TはNb、Zr、Ti、Ta、Hf
、Cr、W、Mo、Re、Ruよりなる群から一種類以
上選択された元素、Uは、B、Si、Ge、Al、Cよ
りなる群から一種類以上選択された元素、Nは窒素であ
ることを特徴とする請求項(1)記載の磁気ヘッド。(3) The soft magnetic film is a laminated film of M, T, and U layers and their nitride layers, or a soft magnetic film of M, T, U, and N in which at least the nitrogen composition is modulated in the film thickness direction. , in the above, M is one or more metals selected from the group consisting of Fe, Co, Ni, and Mn, and T is Nb, Zr, Ti, Ta, and Hf.
, Cr, W, Mo, Re, Ru, U is one or more elements selected from the group consisting of B, Si, Ge, Al, C, N is nitrogen. The magnetic head according to claim 1, characterized in that:
積層膜、あるいは膜厚方向に少なくとも窒素の組成が変
調されているMとTとCoとNの軟磁性膜で、前記に於
いて、MはFe、Mnよりなる群から一種類以上選択さ
れた金属、TはNb、Zr、Ti、Ta、Hfよりなる
群から一種類以上選択された元素、Nは窒素であること
を特徴とする請求項(1)記載の磁気ヘッド。(4) The soft magnetic film is a laminated film of M, T, and Co layers and their nitride layers, or a soft magnetic film of M, T, Co, and N in which at least the nitrogen composition is modulated in the film thickness direction. In the above, M is one or more metals selected from the group consisting of Fe and Mn, T is one or more elements selected from the group consisting of Nb, Zr, Ti, Ta, and Hf, and N is nitrogen. The magnetic head according to claim 1, characterized in that:
層膜、あるいは膜厚方向に少なくとも窒素の組成が変調
されているMとTとUとNの軟磁性膜で、前記に於いて
、MはFe、Fe−Co、Niよりなる群から選択され
た金属、TはNb、Ta、Nb−Taよりなる群から選
択された元素、Uは、B、Si−B、Ge−Bよりなる
群から選択された元素、Nは窒素であることを特徴とす
る請求項(1)記載の磁気ヘッド。(5) The soft magnetic film is a laminated film of M, T, and U layers and their nitride layers, or a soft magnetic film of M, T, U, and N in which at least the nitrogen composition is modulated in the film thickness direction. , in the above, M is a metal selected from the group consisting of Fe, Fe-Co, and Ni, T is an element selected from the group consisting of Nb, Ta, and Nb-Ta, and U is B, Si-B. , Ge--B, and N is nitrogen.
層膜、あるいは膜厚方向に少なくとも窒素の組成が変調
されているMとTとUとNの軟磁性膜で、前記に於いて
、MはFeを主成分としてFe、Fe−Co、Fe−N
i、Fe−Co−Niよりなる群から選択された金属、
TはNb、Ta、Zr、Tiよりなる群から一種類以上
選択された元素、Uは、B、Si、Cよりなる群から一
種類以上選択された元素、Nは窒素であることを特徴と
する請求項(1)記載の磁気ヘッド。(6) The soft magnetic film is a laminated film of M, T, and U layers and their nitride layers, or a soft magnetic film of M, T, U, and N in which at least the nitrogen composition is modulated in the film thickness direction. , in the above, M has Fe as the main component, Fe, Fe-Co, Fe-N
i, a metal selected from the group consisting of Fe-Co-Ni;
T is one or more elements selected from the group consisting of Nb, Ta, Zr, and Ti; U is one or more elements selected from the group consisting of B, Si, and C; and N is nitrogen. A magnetic head according to claim (1).
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26565190A JPH04141809A (en) | 1990-10-02 | 1990-10-02 | Magnetic head |
US07/769,852 US5227193A (en) | 1990-10-02 | 1991-10-02 | Method for manufacturing magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26565190A JPH04141809A (en) | 1990-10-02 | 1990-10-02 | Magnetic head |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04141809A true JPH04141809A (en) | 1992-05-15 |
Family
ID=17420099
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26565190A Pending JPH04141809A (en) | 1990-10-02 | 1990-10-02 | Magnetic head |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04141809A (en) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01229408A (en) * | 1988-03-09 | 1989-09-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head |
JPH01315109A (en) * | 1988-06-15 | 1989-12-20 | Alps Electric Co Ltd | Amorphous soft magnetic film and magnetic head |
JPH02208811A (en) * | 1989-02-08 | 1990-08-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head and its production |
JPH03238606A (en) * | 1990-02-16 | 1991-10-24 | Hitachi Ltd | Magnetic head and production thereof |
-
1990
- 1990-10-02 JP JP26565190A patent/JPH04141809A/en active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01229408A (en) * | 1988-03-09 | 1989-09-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head |
JPH01315109A (en) * | 1988-06-15 | 1989-12-20 | Alps Electric Co Ltd | Amorphous soft magnetic film and magnetic head |
JPH02208811A (en) * | 1989-02-08 | 1990-08-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head and its production |
JPH03238606A (en) * | 1990-02-16 | 1991-10-24 | Hitachi Ltd | Magnetic head and production thereof |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5227193A (en) | Method for manufacturing magnetic head | |
JPH01229408A (en) | Magnetic head | |
JP3707166B2 (en) | Magnetic head | |
JP2780588B2 (en) | Stacked magnetic head core | |
JPH07105027B2 (en) | Perpendicular magnetic recording medium | |
US5862023A (en) | Metal in gap magnetic head having metal magnetic film including precious metal layer | |
JPH04141809A (en) | Magnetic head | |
JPS58166531A (en) | Vertical magnetic recording medium | |
JPS63279404A (en) | Composite type magnetic head | |
JPH02208811A (en) | Magnetic head and its production | |
KR100324730B1 (en) | Method for fabricating magnetic head | |
JPH03160616A (en) | Double-layer perpendicular magnetic recording medium and its production | |
JPS619824A (en) | Magnetic recording medium | |
JP3206322B2 (en) | Magnetic head and magnetic recording / reproducing device | |
JPH04147408A (en) | Magnetic head | |
JPH0519762B2 (en) | ||
JPH01143312A (en) | Amorphous soft magnetic laminated film | |
JP3704810B2 (en) | Magnetic head | |
JPH01143311A (en) | Soft magnetic laminated film | |
JPH01217723A (en) | Magnetic recording medium | |
KR950001603B1 (en) | Magnetic head for multi-layer | |
JPH03225610A (en) | Thin-film magnetic head | |
JPH09330503A (en) | Magnetic head | |
JPH0489620A (en) | Production of magnetic recording medium | |
JPH04241205A (en) | Magnetic head |