JPH03238606A - Magnetic head and production thereof - Google Patents

Magnetic head and production thereof

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JPH03238606A
JPH03238606A JP3373290A JP3373290A JPH03238606A JP H03238606 A JPH03238606 A JP H03238606A JP 3373290 A JP3373290 A JP 3373290A JP 3373290 A JP3373290 A JP 3373290A JP H03238606 A JPH03238606 A JP H03238606A
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JP
Japan
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magnetic
thin film
magnetic head
nitrogen
metal
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JP3373290A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuiko Matsubara
松原 結子
Yoshitsugu Miura
三浦 義従
Nobuo Arai
信夫 新井
Takeshi Miura
三浦 岳史
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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Abstract

PURPOSE:To obtain the magnetic head which obviates the generation of a pseudo gap at a high yield by forming a magnetic metallic thin film of a magnetic material contg. nitrogen. CONSTITUTION:Wedge-shaped grooves 51, 52 are formed on a pair of ferrite substrates 11, 12 and the magnetic metallic thin film 2 is formed to <=5mum on the one half split ferrite substrate 11. A groove 6 to serve as a window hole for winding is formed on the one half split ferrite substrate 12 and the substrates are bonded while the substrates are brought into pressurized contact by inserting a nonmagnetic thin film and glass therebetween; thereafter, the winding is applied thereto to obtain the magnetic head. The magnetic metallic thin film is formed by reactive sputtering of Co82Nb15Zr3 in a gaseous mixture composed of gaseous N2+gaseous Ar. Thus, the magnetic head is efficiently constituted of an amorphous magnetic metallic material which withstands a high-temp. process.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、少なくとも一方に金属磁性薄膜を形成した一
対の酸化物磁性材料を非磁性薄膜を介して付き合わせた
。いわゆるメタル−イン−ギャップ形の磁気へクドの改
良に係シ、高保磁力を有する記録媒体を用いた磁気記録
再生に好適な磁気ヘッド及びその製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] In the present invention, a pair of oxide magnetic materials having a metal magnetic thin film formed on at least one of them are brought together via a non-magnetic thin film. The present invention relates to improvements in a so-called metal-in-gap type magnetic head, and relates to a magnetic head suitable for magnetic recording and reproduction using a recording medium having a high coercive force, and a method for manufacturing the same.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、メタル−イン−ギャップ型の磁気ヘッドに訃いて
は、酸化物磁性材料としてNi−Znフェライト、Mn
−Znフェライト等が用いられてきた。
Conventionally, metal-in-gap magnetic heads use Ni-Zn ferrite and Mn as oxide magnetic materials.
-Zn ferrite etc. have been used.

また、金属磁性薄膜としてセンダス)(FeAlsi)
、及びCo系非晶質合金(CoNbZr他)が検討され
てきた。
Also, as a metal magnetic thin film, Sendas (FeAlsi)
, and Co-based amorphous alloys (CoNbZr, etc.) have been studied.

この機の磁気ヘッドとして1例えば特開昭63−300
412号公報に記載されているものが挙げられる。
As a magnetic head for this machine, for example, JP-A-63-300
Examples include those described in Publication No. 412.

さらに、よシ高飽和磁束密度を有する材料として、Fe
系合金材料(FaCoSiAl 、FeAIG・、Fe
Ga51)等が知られている。
Furthermore, Fe is a material with a very high saturation magnetic flux density.
alloy materials (FaCoSiAl, FeAIG・, Fe
Ga51) etc. are known.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

上記従来技術にかいては、孤立波を再生した場合、再生
信号中に主ピークのほかに小ピークを発生する擬似ギャ
ップの影響がみられる場合があった。
In the conventional technique described above, when a solitary wave is reproduced, the influence of a pseudo gap that generates a small peak in addition to a main peak may be observed in the reproduced signal.

センダスト薄膜については、フェライトの配向性を選べ
ば、低温では擬似ギャップは発生しないが、摺動性をよ
くし、摺動による破損が少ないガラス等を用いてボンデ
ィングを行う必要があるため、ガラス材料については、
高融点(融点550〜650℃)の材料を選ぶ必要があ
る。
Regarding the sendust thin film, if the orientation of the ferrite is selected, a pseudo gap will not occur at low temperatures, but it is necessary to bond with glass, etc., which has good sliding properties and is less likely to be damaged by sliding. about,
It is necessary to choose a material with a high melting point (melting point 550-650°C).

そのため、ガラスボンディング中の温度が高温となシ、
酸化物磁性材料と金属磁性薄膜の間に相互拡散を生じる
ため、111μmのオーダの変質層(非磁性)が形成さ
れやすく、擬似ギャップを形成する。
Therefore, if the temperature during glass bonding is high,
Since mutual diffusion occurs between the oxide magnetic material and the metal magnetic thin film, a degraded layer (non-magnetic) on the order of 111 μm is likely to be formed, forming a pseudo gap.

Go糸非晶質材料を金属磁性材料に用い、酸化物磁性体
の表面を粗したシ、界面を非平行にすることで、擬似ギ
ャップの影響は避けられるが、飽和磁束密度が低く(第
4図におけるBsが1T以下)、シかも高融点ガラスに
よる溶融圧着を行うことができない。
By using the Go thread amorphous material as the metal magnetic material, and by roughening the surface of the oxide magnetic material and making the interface non-parallel, the effect of the pseudo gap can be avoided, but the saturation magnetic flux density is low (the fourth (Bs in the figure is 1 T or less), it is impossible to perform melt pressure bonding with high melting point glass.

したがって、ガラス部分かもろ<、m*耗性に問題があ
る。
Therefore, there is a problem with the wear resistance of the glass portion.

本発明は、高融点ガラス圧着K11tfえ、高飽和磁束
aF度を有する軟磁性金属薄Wi&を用いて、メタル−
イン−ギャップ型ヘッドを構成することにより。
The present invention uses a high melting point glass crimped K11tf and a soft magnetic metal thin Wi& having a high saturation magnetic flux aF degree, and metal-
By constructing an in-gap type head.

歩留りがよく、擬似ギャップの発生のない磁気ヘッド及
びその製造方法を提供することを目的とする。
It is an object of the present invention to provide a magnetic head with high yield and no generation of pseudo gaps, and a method for manufacturing the same.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記目的は、金属磁性薄膜に非晶質磁性材料の窒化物を
用いること、製造技術として、ガラスボンディングは数
ケル数10ケの磁気ヘッドが連なっているブロック伏の
磁気ヘッドの長手(磁気ヘッド摺動面に現われた磁気ギ
ャップ)に平行方向に磁場を印加して行うこと、膜の軟
磁気特性の向上のために、非晶質磁性材料の窒化物は界
面で最大となるように1g4厚方向で組成を変化させた
多M膜を用いること、により達成される。
The above purpose is to use nitride, an amorphous magnetic material, for the metal magnetic thin film, and as a manufacturing technology, glass bonding is used to form a magnetic head along the length of a block (magnetic head slider) in which several tens of magnetic heads are connected. In order to improve the soft magnetic properties of the film, the nitride of the amorphous magnetic material is applied in the 1g4 thickness direction so that it is maximum at the interface. This is achieved by using a multi-M film whose composition is changed.

〔作用〕[Effect]

第3図はフェライトとセンダストからなる従来の磁気ヘ
ッドを、600℃で熱処理した場合のAES分析による
第1図1−1方向のプロフィールの概略を示す図であっ
て、フェライト中の02が界面付近で減少し、変質層の
中央部で極大値を示している。
FIG. 3 is a diagram showing the outline of the profile in the direction 1-1 of FIG. 1 based on AES analysis when a conventional magnetic head made of ferrite and sendust is heat-treated at 600°C, and 02 in the ferrite is near the interface. It decreases in the middle of the alteration layer, and shows a maximum value in the center of the altered layer.

これにともない、センダスト中のA1が界面付近で減少
し、変質層の中央部で極大f111に示している。
Along with this, A1 in the sendust decreases near the interface and reaches a maximum f111 at the center of the altered layer.

これは、界面における相互拡散の結果、酸化されやすい
A1がフェライト中の0□と反応し、界面部に残存した
結果であると考えられている。
This is thought to be the result of mutual diffusion at the interface, where A1, which is easily oxidized, reacted with 0□ in the ferrite and remained at the interface.

この磁気へクドで孤立g1.を再生した場合、擬似ギャ
ップの影響がみられるが、よシ低温で熱処理した場合に
は、変質層も発生せず、a似ギャップの影響はみられな
い。
Isolated by this magnetic hekudo g1. When regenerated, the effect of a pseudo-gap is seen, but when heat treated at a much lower temperature, no altered layer is generated, and no effect of a pseudo-gap is observed.

擬似ギャップによる再生ピークから計算した擬似ギャッ
プ位置と変質層幅がほぼ同程度となることからも、この
変質層が擬似ギャップとなることは明らかである。
Since the pseudo gap position calculated from the reproduction peak due to the pseudo gap and the width of the altered layer are approximately the same, it is clear that this altered layer becomes a pseudo gap.

Co系非晶質合金を結晶化温度に近くであって結晶化温
度以下の温度で熱処理した場合も上記と同じ現象がかこ
る。
The same phenomenon as described above occurs when a Co-based amorphous alloy is heat treated at a temperature close to the crystallization temperature but below the crystallization temperature.

特に、減圧中(10−2〜102Torr@度)に0□
残存中で熱処理を行うと、界面部で添加元素の極大ピー
クを発生する。
Especially during depressurization (10-2 to 102 Torr@degrees), 0□
If heat treatment is performed while the material remains, a maximum peak of the added element will occur at the interface.

これにより膜全体の飽和磁束密度が低下し、−部結晶化
した場合と同様の特性を示す。
As a result, the saturation magnetic flux density of the entire film decreases, and the film exhibits the same characteristics as when it is partially crystallized.

第2図はフェライトと窒化Go系非晶質合金からなる本
発明による磁気ヘクトのABS分析による第1図I−1
方向のプロア4−ルの概略を示す図であって、上記と同
様の検討を行った場合、非窒化物の結晶化温度以上で熱
鳩理t−施しても、G。
Figure 2 is an ABS analysis of a magnetic hect according to the present invention made of ferrite and a Go nitride amorphous alloy as shown in Figure 1 I-1.
FIG. 4 is a diagram schematically showing the profile of the direction, and when the same study as above is performed, even if thermal treatment is performed at a temperature higher than the crystallization temperature of non-nitride, G.

以外の添加元素の拡散は界面部で単純に減少してかシ、
相互拡散のみであると考えてよい。また、層全体の飽和
磁束密度も低下しない。
The diffusion of other additive elements may simply be reduced at the interface.
It can be considered that there is only mutual diffusion. Furthermore, the saturation magnetic flux density of the entire layer does not decrease.

第4図は窒化CoNbZrにシけるBs5lIIIt熱
温度のN2分圧依存性を示す図でTo−zで、スパッタ
中のN2分圧に対する飽和磁束密度と1気抵抗の温度変
化から求めた#熱m度の実験値を示す。
Figure 4 shows the dependence of Bs5lIIIt thermal temperature on N2 partial pressure in CoNbZr nitride. Experimental values of degrees are shown.

N2分圧が2096以上になると耐熱性の艮好なCo非
晶質金属が得られる。
When the N2 partial pressure is 2096 or higher, a Co amorphous metal with good heat resistance can be obtained.

なか、N2分圧が低いと飽和磁束密度と耐熱温度が向上
しない。
Among them, if the N2 partial pressure is low, the saturation magnetic flux density and the heat resistance temperature cannot be improved.

これはN2分圧が低いと、残留ガス等の影響もちゃ、窒
化が充分に行われていないためと考えられる。
This is thought to be because when the N2 partial pressure is low, nitriding is not performed sufficiently due to the effects of residual gas and the like.

な>、S処理t−行う際も極力雰囲気中の酸素の影響を
徘除丁べきである。
Also, when carrying out the S treatment, the effects of oxygen in the atmosphere should be avoided as much as possible.

これは前記したように0□存在化で高温度の状況下では
、添加元素の酸化が無視できなくなるためである。
This is because, as described above, in the presence of 0□ and under high temperature conditions, the oxidation of the added element cannot be ignored.

したがって、ボンディングエ8はN2フロー中で行う必
要がある。
Therefore, bonding process 8 needs to be performed during the N2 flow.

また、ガラスボンディングは、Ii4の磁気異方性を制
御するために、磁束伝播方向に対して垂直な方向に静磁
場全印加させる必要がある。
Further, in glass bonding, in order to control the magnetic anisotropy of Ii4, it is necessary to apply the entire static magnetic field in a direction perpendicular to the direction of magnetic flux propagation.

したがって、摺動面上の磁気ギャップに対して平行方向
に磁場を印加してボンディングを行う。
Therefore, bonding is performed by applying a magnetic field in a direction parallel to the magnetic gap on the sliding surface.

tた、Go糸非晶質合金を窒化すると容易に軟磁気特性
が得られない場合がある。
Furthermore, when Go thread amorphous alloy is nitrided, soft magnetic properties may not be easily obtained.

これは、窒化することにより垂直磁気異方性が発生する
ためということが知られている。
It is known that this is because perpendicular magnetic anisotropy is generated by nitriding.

この場合には、数10OAのオーダーで非窒化層と窒化
層を積層した多層膜を形成することにより保磁力を低減
させ、軟磁気特性を向上させることが可能である。
In this case, it is possible to reduce the coercive force and improve the soft magnetic properties by forming a multilayer film in which a non-nitrided layer and a nitrided layer are stacked on the order of tens of OA.

名らに、界面の窒化Co系非晶質合金の窒素の含有率を
最大とし、窒化層の膜厚は数100〜1oooX程度と
することが必要である。
Specifically, it is necessary to maximize the nitrogen content of the Co nitride-based amorphous alloy at the interface, and to set the thickness of the nitride layer to about several 100 to 100X.

〔実施例〕〔Example〕

以下1本発明の実施例を図面を用いて説明する。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

〈実施例1〉 第1図は本発明による磁気ヘッドの実施例を説明する斜
視図であって、一対のフェライト基板11゜12にくさ
び形の溝51.52を形成し、一方の半割フェライト基
板11に金属磁性薄膜2をSam以下に形成し、一方の
半割フェライト基板12に巻き線用の窓穴となる溝6′
t−形成し、非磁!1.4展及びガラスをはさんで圧着
しつつ、ボンディングを行い、その後巻線を施して磁気
ヘッドを得る。
<Embodiment 1> FIG. 1 is a perspective view illustrating an embodiment of the magnetic head according to the present invention, in which wedge-shaped grooves 51 and 52 are formed in a pair of ferrite substrates 11 and 12, and one half of the ferrite substrate is formed with wedge-shaped grooves 51 and 52. A metal magnetic thin film 2 is formed on the substrate 11 to a thickness below Sam, and a groove 6' is formed on one half of the ferrite substrate 12 to serve as a window hole for the winding wire.
T-formed and non-magnetic! 1.4 Bonding is performed while pressing and bonding with glass in between, and then winding is performed to obtain a magnetic head.

金属磁性薄膜はCOg2N b15Z 15 ’ff 
N2ガス+Arガスの混合気体中にて反応性スパッタリ
ングで形成した。
The metal magnetic thin film is COg2N b15Z 15'ff
It was formed by reactive sputtering in a mixed gas of N2 gas and Ar gas.

全ガス圧10−3Torr台、N2分圧は20%以上と
した。
The total gas pressure was on the order of 10-3 Torr, and the N2 partial pressure was 20% or more.

スパッタ方式は、DC対向スパッタ装置を用いた。他の
スパッタ方式でも原理的に可能である。
For the sputtering method, a DC facing sputtering device was used. Other sputtering methods are also possible in principle.

ガラスボンディングは600℃で30分間行った。静磁
場11kOeft摺動面上の磁気ギャップの方向に一致
させて印加して行った。
Glass bonding was performed at 600°C for 30 minutes. A static magnetic field of 11 kOft was applied so as to match the direction of the magnetic gap on the sliding surface.

こうして得られた磁気ヘクトで、孤立fIRを再生し、
ピーク比40dB以上とることができた。なか、メイン
ギャップの再生出力も従来と同等レベルを再現した@ く実施例2〉 実施例1と同様の作り方で、CoTaZrt−用いて形
成した。
With the magnetic hect obtained in this way, the isolated fIR is reproduced,
A peak ratio of 40 dB or more was achieved. Among them, the playback output of the main gap was also reproduced at the same level as the conventional one. (Example 2) CoTaZrt was used in the same manner as in Example 1.

この場合、金属磁性薄膜はC0g2 T J15 Z 
r3をRFスパプタにより形成した。
In this case, the metal magnetic thin film is C0g2 T J15 Z
r3 was formed using an RF sputter.

窒化CoTaZrでは飽和磁束密度は1.4T以上であ
るが、保磁力は500以上であるため、そのままメタル
ーインーギャクプヘッドに適用することはできない。
Nitrided CoTaZr has a saturation magnetic flux density of 1.4 T or more, but a coercive force of 500 or more, so it cannot be directly applied to a metal-in-gap head.

したがって、保磁刃金低減するため、非窒化−窒化多1
r1膜を形成し、熱処理(600℃50分)にょ9保磁
力が1150e以下1で低減した。
Therefore, in order to reduce the coercive edge metal, non-nitrided-nitrided
An r1 film was formed and heat treated (600°C for 50 minutes) to reduce the coercive force to 1150e or less.

なか、界面での変X層の形成を防止するため。Among them, to prevent the formation of a variable X layer at the interface.

界面の窒化層の膜厚のみ5001とし、他の部分は20
01間隔で窒化、非窒化Mを交互に積層形成した。
Only the thickness of the nitride layer at the interface is set to 5001, and the other parts are set to 20.
Nitrided and non-nitrided M were alternately stacked at intervals of 0.01.

このように形成した磁気ヘッドで孤立波を再生し、ピー
ク比40dB以上とることができた。
A solitary wave was reproduced using the magnetic head formed in this manner, and a peak ratio of 40 dB or more was achieved.

〈実施例3〉 lj!施例2と同様の作シ方で、金属磁性薄膜に窒化F
eAl5it−用いて形成した。
<Example 3> lj! Using the same method as in Example 2, F nitride was added to the metal magnetic thin film.
It was formed using eAl5it-.

この場合、金属磁性薄膜FeAl5it−用いて。In this case, a metal magnetic thin film FeAl5it- is used.

窒素を20%以上混入したArガスを導入して、スパッ
タリングt−行った。
Sputtering was performed by introducing Ar gas mixed with 20% or more nitrogen.

スパッタ方式はDC対向スパッタ装置を用いた。For the sputtering method, a DC facing sputtering device was used.

もちろん、他のスパッタ方式でも原理的に可能である。Of course, other sputtering methods are also possible in principle.

ガラスボンディングは、600℃30分行った。Glass bonding was performed at 600°C for 30 minutes.

なか、ボンディング中は摺動面上の磁気ギャップの方向
に靜磁界の方向を一致させ、11kOe印加した。
During bonding, the direction of the static magnetic field was aligned with the direction of the magnetic gap on the sliding surface, and 11 kOe was applied.

こうして得られた磁気ヘッドも擬似イヤツブの再現も低
減され、孤立波を再生し、ピーク比40dB以上とるこ
とができた。
The magnetic head obtained in this manner also reduced the reproduction of pseudo earrings, reproduced solitary waves, and achieved a peak ratio of 40 dB or more.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように1本発明によれば、?fE温度プロ
セスに耐える非晶質金属磁性材料で磁気ヘッドを構成で
きる。
As explained above, according to the present invention, ? The magnetic head can be constructed from an amorphous metallic magnetic material that can withstand fE temperature processes.

これによう、充填用のガラスに融点600℃以上の材料
を採用できるので、#摺動性がよく、高硬度でフレ等の
少ない材料をよシ広い範囲で選択することが可能になる
In this way, it is possible to use a material with a melting point of 600° C. or higher for the filling glass, making it possible to select a material with good sliding properties, high hardness, and little warping from a wider range.

したがって、窒化非晶質金属は膜の硬度を向上できるの
で、摩耗寿命を伸ばすことができ、かつ−摩耗を低減で
きる。
Therefore, the amorphous metal nitride can improve the hardness of the film, thereby increasing the wear life and - reducing the wear.

さらに、ボンディング時に高温度で磁気異方性を付与す
ることにより、その後の工程がボンディング時の温度を
越えない限り、lI導磁気異方性の影響を受けることが
なく、磁気特性が劣化しない。
Furthermore, by imparting magnetic anisotropy at a high temperature during bonding, as long as subsequent steps do not exceed the temperature during bonding, the magnetic properties will not be affected by the II magnetic anisotropy and the magnetic properties will not deteriorate.

なか、窒化センダストを用いた場合も同様に良好な記録
再生特性を有する磁気ヘッドが得られ。
Among these, when nitride sendust is used, a magnetic head having similarly good recording and reproducing characteristics can be obtained.

上記従来技術の問題点を除いて、優れた機能の磁気ヘッ
ド及びその製造方法を提供することができる。
Except for the problems of the prior art described above, it is possible to provide a magnetic head with excellent functionality and a method for manufacturing the same.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明による磁気ヘッドの実施例を説明する斜
視図、W、2図はフェライトと窒化Co糸非晶質合金か
らなる本発明による磁気ヘッドのAES分析による第1
図I−1方向のプロフィールの概略を示す図1wcS図
はフェライトとセンダストからなる従来の磁気ヘッドを
、600℃で熱処理した場合0ABS分析による第1図
I−1方向のプロフィールの概略を示す図、第4図は窒
化CoNbZrK&けるBS、耐熱温度のN2分圧依存
性を示す図である。 2・・・・・・金属磁性薄膜、5・・・・・・磁気ギャ
ップ、11・・・・・・フェライト基板(Iコア)、1
2・・・・・・フェライト基板(Cコア)、6・・・・
・・窓穴、41#42・・・・・・ガラス、51.52
・・・・・・ガラス充填溝。 第1欝 第 20 SPIJTTERIN&  TIME (1A[1n L−Utl’)部分)
Fig. 1 is a perspective view illustrating an embodiment of the magnetic head according to the present invention, and Fig. 2 is a perspective view illustrating an embodiment of the magnetic head according to the present invention.
FIG. 1 wcS diagram showing an outline of the profile in the direction of FIG. FIG. 4 is a diagram showing the N2 partial pressure dependence of the allowable temperature of CoNbZrK nitride and BS. 2... Metal magnetic thin film, 5... Magnetic gap, 11... Ferrite substrate (I core), 1
2... Ferrite substrate (C core), 6...
...Window hole, 41#42...Glass, 51.52
...Glass filled groove. 1st Article 20 SPIJTTERIN & TIME (1A [1n L-Utl') part)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、一方に巻線窓穴となる凹部を設け、少なくとも一方
に金属磁性薄膜を形成した一対の酸化物磁性材料のコア
と、上記金属磁性薄膜に接して形成した非磁性薄膜と、
上記巻線窓穴を通して上記酸化物磁性材料のコアに巻き
つけた導体コイルとからなり、かつ、上記金属磁性薄膜
及び上記非磁性薄膜を介して、上記一対の酸化物磁性材
料のコアがガラス等によりボンディングされている磁気
ヘッドにおいて、上記金属磁性薄膜を窒素を含有する磁
性材料で形成したことを特徴とする磁気ヘッド。 2、請求項1記載の磁気ヘッドにおいて、上記金属磁性
薄膜が、窒素を含有する非晶質磁性材料であることを特
徴とする磁気ヘッド。 3、請求項1記載の磁気ヘッドを製造する方法において
、上記一対の酸化物磁性材料のコアをガラス等によりボ
ンディングする際に、窒素フロー中で、かつ、上記磁気
ヘッドの摺動方向に対し面内垂直、かつ上記金属磁性薄
膜形成面に対し面内平行方向となる方向に静磁場を印加
することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 4、請求項1記載の磁気ヘッドにおいて、上記窒素を含
有する非晶質金属磁性薄膜は、その窒素含有率が膜厚方
向で周期的に変化しており、上記金属磁性薄膜と上記酸
化物磁性材料のフェライト基板とが接する領域では窒素
含有率を極大としたことを特徴とする磁気ヘッド。
[Scope of Claims] 1. A pair of cores made of an oxide magnetic material, one of which has a concave portion serving as a winding window hole, and a metal magnetic thin film formed on at least one of the cores, and a non-magnetic core formed in contact with the metal magnetic thin film. a thin film;
a conductor coil wound around the core of the oxide magnetic material through the winding window hole; What is claimed is: 1. A magnetic head bonded by bonding, wherein the metal magnetic thin film is made of a nitrogen-containing magnetic material. 2. The magnetic head according to claim 1, wherein the metal magnetic thin film is an amorphous magnetic material containing nitrogen. 3. In the method for manufacturing a magnetic head according to claim 1, when bonding the pair of cores of oxide magnetic material with glass or the like, the cores are bonded in a nitrogen flow and in a direction parallel to the sliding direction of the magnetic head. A method of manufacturing a magnetic head, characterized in that a static magnetic field is applied in a direction perpendicular to the surface and parallel to the surface on which the metal magnetic thin film is formed. 4. In the magnetic head according to claim 1, the nitrogen content of the nitrogen-containing amorphous metal magnetic thin film changes periodically in the film thickness direction, and the nitrogen content of the nitrogen-containing amorphous metal magnetic thin film changes periodically in the film thickness direction, and the nitrogen content of the nitrogen-containing amorphous metal magnetic thin film changes periodically in the film thickness direction. A magnetic head characterized in that the nitrogen content is maximized in the region where the material contacts the ferrite substrate.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04141809A (en) * 1990-10-02 1992-05-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd Magnetic head
JPH04182907A (en) * 1990-11-19 1992-06-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd Magnetic head
JPH04252406A (en) * 1991-01-28 1992-09-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd Magnetic head

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