JPH04141484A - 記録方法 - Google Patents
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Landscapes
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Duplication Or Marking (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、表面が特定性状を示す記録体のその表面に1
選択的に又は選択的かつ可逆的に、加熱温度に応じた後
退接触角を示す領域を形成させる記録方法に関する。
選択的に又は選択的かつ可逆的に、加熱温度に応じた後
退接触角を示す領域を形成させる記録方法に関する。
表面を液体付着性領域と非液体付着性領域とに区分けし
て画像形成に供するようにした手段の代表的なものとし
ては水(湿し水)なし平版印刷版を用いたオフセラ1へ
印刷方式が挙げら九る。だが、このオフセット印刷方式
は原版からの製版工程及び刷版(印刷版)からの印刷工
程を一つの装置内に組込むことが困難であり、製版印刷
の装置の小型化は勢い困難なものとなっている。
て画像形成に供するようにした手段の代表的なものとし
ては水(湿し水)なし平版印刷版を用いたオフセラ1へ
印刷方式が挙げら九る。だが、このオフセット印刷方式
は原版からの製版工程及び刷版(印刷版)からの印刷工
程を一つの装置内に組込むことが困難であり、製版印刷
の装置の小型化は勢い困難なものとなっている。
例えば、比較的小型化されている事務用オフセット製版
印刷機においても、製版装置と印刷装置とは別個になっ
ているのが普通である。
印刷機においても、製版装置と印刷装置とは別個になっ
ているのが普通である。
このようなオフセット印刷方式の欠陥を解消することを
意図して、画像情報に応した液体付着性領域及び非液体
付着性領域が形成でき、しかも、繰り返し使用が可能な
(可逆性を有する)記録方法ないし装置が提案されるよ
うになってきている。
意図して、画像情報に応した液体付着性領域及び非液体
付着性領域が形成でき、しかも、繰り返し使用が可能な
(可逆性を有する)記録方法ないし装置が提案されるよ
うになってきている。
その幾つかを挙げれば次のとおりである。
(1)水性現像方式
疎水性の光導電体層に外部より電荷を9.えた後、露光
して光導電体層表面に疎水性部及び親水性部を有するパ
ターンを形成し、親水性部のみに水性現像剤を付着させ
て紙などに転写する(特公昭4〇−18992号、特公
昭40−18993号、特公昭44−9512号。
して光導電体層表面に疎水性部及び親水性部を有するパ
ターンを形成し、親水性部のみに水性現像剤を付着させ
て紙などに転写する(特公昭4〇−18992号、特公
昭40−18993号、特公昭44−9512号。
特開昭63−264392号などの公報)。
(2)フォトクロミック材料の光化学反応を利用した方
式 スピロピラン、アゾ色素などの材料を含有した層に紫外
線を照射し、光化学反応により、これら一 フォ1−クロミック化合物を親水化する[例えば「高分
子論文集」第37巻4号、287頁(+980)]。
式 スピロピラン、アゾ色素などの材料を含有した層に紫外
線を照射し、光化学反応により、これら一 フォ1−クロミック化合物を親水化する[例えば「高分
子論文集」第37巻4号、287頁(+980)]。
(3)内部偏倚力の作用を利用した方式不定形状態と結
晶性状態とを物理的変化により形成し、液体インクの付
着・非付着領域を構成する(特公昭54−111902
号公報)。
晶性状態とを物理的変化により形成し、液体インクの付
着・非付着領域を構成する(特公昭54−111902
号公報)。
前記(1)の方式によれば、水性インクを紙などに転写
した後、除電により親水性部は消去され、別の画像情報
の記録が可能となる。すなわち、つの原版(光導電体)
で繰り返し使用が可能となる。
した後、除電により親水性部は消去され、別の画像情報
の記録が可能となる。すなわち、つの原版(光導電体)
で繰り返し使用が可能となる。
だが、この方式は電子写真プロセスを基本としているた
め帯電→露光→現像→転写→除電という長いプロセスを
必要とし、装置の小型化やコス1〜の低減、メンテナン
スフリー化が困難であるといった欠点をもっている。
め帯電→露光→現像→転写→除電という長いプロセスを
必要とし、装置の小型化やコス1〜の低減、メンテナン
スフリー化が困難であるといった欠点をもっている。
前記(2)の方式によれば、紫外線とOf視光との照射
を選択的に変えることによって、親水性、疎水性を自由
かつ可if的に制御できるものの、量r効t44が悪い
ため反応時間が非常に1辱くて記録速度が遅く、また安
定性に欠けるといった欠点をもっており、いまだ実用レ
ベルには達していないのが実情である。
を選択的に変えることによって、親水性、疎水性を自由
かつ可if的に制御できるものの、量r効t44が悪い
ため反応時間が非常に1辱くて記録速度が遅く、また安
定性に欠けるといった欠点をもっており、いまだ実用レ
ベルには達していないのが実情である。
更に、前記(3)の方式によれば、そこで使用される情
報記録部材は、記録後のものでは安定性があるが、記録
前のものでは温度変化により物理的構造変化が生じるお
それがあることから保存性に問題が残されている。これ
に加えて、記録された情報パターンの消去には熱パルス
を与え、次いで急冷する手段が採用されることから、繰
り返しの画像形成は繁雑さをまねかれ得ないといった不
都合がある。
報記録部材は、記録後のものでは安定性があるが、記録
前のものでは温度変化により物理的構造変化が生じるお
それがあることから保存性に問題が残されている。これ
に加えて、記録された情報パターンの消去には熱パルス
を与え、次いで急冷する手段が採用されることから、繰
り返しの画像形成は繁雑さをまねかれ得ないといった不
都合がある。
そこで、上記従来の方式の欠点を解決する−・手段とし
て、本発明者らの一人は、先に加熱状態でかつ液体と接
触させたときに後退接触角が低下する表面を有する記録
体(A)の表面と、液体、蒸気及び前記記録体(A)に
おける後退接触角の低下開始温度以下で液体となるか又
は液体若しくは蒸気を発生する固体から選ばれる接触材
料(11)とを接触させた状態で、前記記録体表面の後
退接触角の低下開始温度以上に選択的に加熱することに
より、又は該記録体(A)の表面を選択的に加熱した状
態で該接触材料(B)と接触させることにより、該記録
体(A)表面に加熱温度に応じた後退接触角を示す領域
(所望パターン領域であり、便宜上以降「潜像」又は「
潜像領域」と記すことかある)を形成し、該領域に記録
剤を付着させ、これを被転写体に転写する新しい記録方
法を提案した(特願平2−43599号)。なお、本方
法においては、前記潜像か形成された記録体(A)の表
面を、接触材料(I3)の不存在子で加熱することによ
って潜像の消去が行なえ、可逆的に画像形成が行なえる
。
て、本発明者らの一人は、先に加熱状態でかつ液体と接
触させたときに後退接触角が低下する表面を有する記録
体(A)の表面と、液体、蒸気及び前記記録体(A)に
おける後退接触角の低下開始温度以下で液体となるか又
は液体若しくは蒸気を発生する固体から選ばれる接触材
料(11)とを接触させた状態で、前記記録体表面の後
退接触角の低下開始温度以上に選択的に加熱することに
より、又は該記録体(A)の表面を選択的に加熱した状
態で該接触材料(B)と接触させることにより、該記録
体(A)表面に加熱温度に応じた後退接触角を示す領域
(所望パターン領域であり、便宜上以降「潜像」又は「
潜像領域」と記すことかある)を形成し、該領域に記録
剤を付着させ、これを被転写体に転写する新しい記録方
法を提案した(特願平2−43599号)。なお、本方
法においては、前記潜像か形成された記録体(A)の表
面を、接触材料(I3)の不存在子で加熱することによ
って潜像の消去が行なえ、可逆的に画像形成が行なえる
。
I−記方法によれば、容易な手段で選択的に又は選択的
かつ可逆的に所望のパターンとなる液体付着性領域が形
成でき、該液体付着性領域に記録剤を供給し、これを紙
等の被記録媒体に転写することで、階調性のある鮮明な
画像が得られる。また、記録の前後にかかわらず、保存
性、安定性に優れた材料が使用されることによって、I
IT Hf的な液体付着性領域の形成か−Mnf能にな
る。
かつ可逆的に所望のパターンとなる液体付着性領域が形
成でき、該液体付着性領域に記録剤を供給し、これを紙
等の被記録媒体に転写することで、階調性のある鮮明な
画像が得られる。また、記録の前後にかかわらず、保存
性、安定性に優れた材料が使用されることによって、I
IT Hf的な液体付着性領域の形成か−Mnf能にな
る。
ただ、前記のような表面が特定性状を示す記録体を用い
る記録方法においては、記録剤によっては、記録体表面
の液体付着性領域への記録剤付着量が不充分になりやす
い場合がある。
る記録方法においては、記録剤によっては、記録体表面
の液体付着性領域への記録剤付着量が不充分になりやす
い場合がある。
従って、本発明の目的は、前記の記録方法において、記
録体の潜像部分の液体付着性領域に対する付着性が高く
、かつ同非潜像部分の領域に対しては反撥性が高く、地
汚れしにくい画像記録剤による記録方法を提供すること
にある。
録体の潜像部分の液体付着性領域に対する付着性が高く
、かつ同非潜像部分の領域に対しては反撥性が高く、地
汚れしにくい画像記録剤による記録方法を提供すること
にある。
本発明の更に別の目的は、被転写体上での印字品質、画
像品質が良好な記録方法を提供することにある。
像品質が良好な記録方法を提供することにある。
本発明によれば、加熱状態でかつ液体と接触させたとき
に後退接触角が低下する表面を有する記録体の表面と、
液体、蒸気及び前記記録体における後退接触角の低下開
始温度以下で液体となるが又は液体若しくは蒸気を発生
する固体から選ばれる接触材料とを接触させた状態で、
前記記録体表面の後退接触角の低下開始温度以上に選択
的に加熱することにより、又は^1■記記録体の表面を
選択的に加熱し、前記記録体の表面の加熱部が前記記録
体表面の後退接触角の低下開始温度以−にに保持された
状態で前記接触材料と接触させることにより、前記記録
体表面に加熱温度に応じた後退接触角を示す領域を形成
させた後、該領域に記録剤を接触付着させ、これを被転
写体に転写する記録方法であって、前記記録剤が着色剤
とこれを溶解又は分散する展開剤とからなり、しかも、
前記記録剤を前記記録体表面に接触させた場合の加熱温
度に応じた後退接触角を示す領域と該領域外の前記記録
体の表面との後退接触角の差が10度以上であることを
特徴とする記録方法が提供される。
に後退接触角が低下する表面を有する記録体の表面と、
液体、蒸気及び前記記録体における後退接触角の低下開
始温度以下で液体となるが又は液体若しくは蒸気を発生
する固体から選ばれる接触材料とを接触させた状態で、
前記記録体表面の後退接触角の低下開始温度以上に選択
的に加熱することにより、又は^1■記記録体の表面を
選択的に加熱し、前記記録体の表面の加熱部が前記記録
体表面の後退接触角の低下開始温度以−にに保持された
状態で前記接触材料と接触させることにより、前記記録
体表面に加熱温度に応じた後退接触角を示す領域を形成
させた後、該領域に記録剤を接触付着させ、これを被転
写体に転写する記録方法であって、前記記録剤が着色剤
とこれを溶解又は分散する展開剤とからなり、しかも、
前記記録剤を前記記録体表面に接触させた場合の加熱温
度に応じた後退接触角を示す領域と該領域外の前記記録
体の表面との後退接触角の差が10度以上であることを
特徴とする記録方法が提供される。
また、本発明によれば、加熱状態でかつ液体と接触させ
たときに後退接触角が低下する表面を有する記録体の表
面と、液体、蒸気及び前記記録体における後退接触角の
低下開始温度以下で液体となるか又は液体若しくは蒸気
を発生ずる固体から選ばれる接触材料とを接触させた状
態で、前記記録体表面の後退接触角の低−ド開始温度以
」二に選択的に加熱することにより、又は前記記録体の
表面を選択的に加熱し、前記記録体の表面の加熱部が前
記記録体表面の後退接触角の低下開始温度以上に保持さ
れた状態で前記接触材料と接触させることにより、前記
記録体表面に加熱温度に応した後退接触角を示す領域を
形成させ、しかも前記接触材料として記録剤を兼ねるも
のを使用し、前記記録体の表面に付着した記録剤を被転
写体に転写する記録方法であって、前記記録剤が着色剤
とこれを溶解又は分散する展開剤とからなり、しかも前
記記録剤を前記記録体表面に接触させた場合の加熱温度
に応じた後退接触角を示す領域と該領域外の前記記録体
の表面との後退接触角の差が10度以上であることを特
徴とする記録方法が提供される。
たときに後退接触角が低下する表面を有する記録体の表
面と、液体、蒸気及び前記記録体における後退接触角の
低下開始温度以下で液体となるか又は液体若しくは蒸気
を発生ずる固体から選ばれる接触材料とを接触させた状
態で、前記記録体表面の後退接触角の低−ド開始温度以
」二に選択的に加熱することにより、又は前記記録体の
表面を選択的に加熱し、前記記録体の表面の加熱部が前
記記録体表面の後退接触角の低下開始温度以上に保持さ
れた状態で前記接触材料と接触させることにより、前記
記録体表面に加熱温度に応した後退接触角を示す領域を
形成させ、しかも前記接触材料として記録剤を兼ねるも
のを使用し、前記記録体の表面に付着した記録剤を被転
写体に転写する記録方法であって、前記記録剤が着色剤
とこれを溶解又は分散する展開剤とからなり、しかも前
記記録剤を前記記録体表面に接触させた場合の加熱温度
に応じた後退接触角を示す領域と該領域外の前記記録体
の表面との後退接触角の差が10度以上であることを特
徴とする記録方法が提供される。
すなわち、本発明者らは、前記の新しい記録方法におい
て、画像形成が良好に行なえる記録剤について検討した
結果、前記記録体の表面の加熱温度に応じた後退接触角
を示す潜像領域と非潜像領域に対し、記録剤を接触させ
た場合の後退接触角の差が10度以上あることによって
、画像形成が良好に行なえるこを見いだした。更に、よ
り好ましくは、前記後退接触角の差が30度以上あるこ
とによって、画像形成が良好に行なえる。
て、画像形成が良好に行なえる記録剤について検討した
結果、前記記録体の表面の加熱温度に応じた後退接触角
を示す潜像領域と非潜像領域に対し、記録剤を接触させ
た場合の後退接触角の差が10度以上あることによって
、画像形成が良好に行なえるこを見いだした。更に、よ
り好ましくは、前記後退接触角の差が30度以上あるこ
とによって、画像形成が良好に行なえる。
この後退接触角の差が10度未満であると、記録剤の付
着量が少なく、階調表現ができにくくなったり、場合に
より両像形成が困難になったりすることがある。なお、
ここでいうパ後退接触角″Orは“前進接触角″Oaと
共に、液滴法、Ililhe1my法等、従来から公知
の方法によって測定することができる。
着量が少なく、階調表現ができにくくなったり、場合に
より両像形成が困難になったりすることがある。なお、
ここでいうパ後退接触角″Orは“前進接触角″Oaと
共に、液滴法、Ililhe1my法等、従来から公知
の方法によって測定することができる。
更に詳しく言うと、本発明者らは、種々の純溶媒及び従
来の印字方式で用いられた記録剤について、潜像領域と
非潜像領域について接触角測定を行なったところ、後退
接触角の潜像領域での値と非潜像領域での値との差と付
着量が、正の相関関係にあることが見いだされた。従っ
て、後退接触角の差の大きい記録剤はど付着性に優れて
いる。
来の印字方式で用いられた記録剤について、潜像領域と
非潜像領域について接触角測定を行なったところ、後退
接触角の潜像領域での値と非潜像領域での値との差と付
着量が、正の相関関係にあることが見いだされた。従っ
て、後退接触角の差の大きい記録剤はど付着性に優れて
いる。
また、この特性を満足する記録剤としては、特に展開剤
として用いられる溶媒について、前記記録体の表面の加
熱温度に応じた後退接触角を示す潜像領域と非潜像領域
に対し接触角測定を行なった場合、後退接触角の両者の
差が少なくとも10度以上あることが好ましい。この条
件を満足するものであれば、水性、油性にかかわらず使
用することができる。
として用いられる溶媒について、前記記録体の表面の加
熱温度に応じた後退接触角を示す潜像領域と非潜像領域
に対し接触角測定を行なった場合、後退接触角の両者の
差が少なくとも10度以上あることが好ましい。この条
件を満足するものであれば、水性、油性にかかわらず使
用することができる。
本発明で用いられる記録剤の具体例を挙げると、例えば
水性インクとしては、展開剤である水、湿潤剤及び染料
からなる水溶性インク、展開剤である水、湿潤剤、顔料
及び分散用高分子化合物からなる水性顔料分散インクあ
るいは顔料又は染料を界面活性剤を用いて展開剤である
水に分散させたエマルジョンインク等が用いられる。水
性インクに用いられる湿潤剤としては、次のような水溶
性の有機液体化合物が挙げられる。
水性インクとしては、展開剤である水、湿潤剤及び染料
からなる水溶性インク、展開剤である水、湿潤剤、顔料
及び分散用高分子化合物からなる水性顔料分散インクあ
るいは顔料又は染料を界面活性剤を用いて展開剤である
水に分散させたエマルジョンインク等が用いられる。水
性インクに用いられる湿潤剤としては、次のような水溶
性の有機液体化合物が挙げられる。
エタノール、メタノール、プロパツール等の一価アルコ
ール類;エチレングリコール、ジエチレングリコール、
トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、
ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプ
ロピレングリコール、グリセリン、低分子班のポリエチ
レングリコール、ヘキシレングリコール等の多価アルコ
ール類;エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、I−リエチレン
グリコールモノメチルエーテル、テトラエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジエチレングリコール七ノエチルエーテル
、トリエチレングリコールモノエヂルエーテル、テトラ
エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレング
リコールモノエチルエーテル等の多価アルコールアルキ
ルエーテル類;エチレングリコールモノフェニルエーテ
ル、エチレングリコールモノベンジルエーテル等の多価
アルコールアリールエーテル類;N−メチル−2=ピロ
リドン、1,3−ジメチルイミダゾリジノン、E−カプ
ロラクタム、γ−ブチロラクトン等の含窒素複素環化合
物;ホルムアミl’、N−メチルホルムアミド、 N、
N−ジメチルホルムアミド等のアミド類;モノエタノー
ルアミン、ジェタノールアミン、トリエタノールアミン
、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミ
ン等のアミン類;ジメチルスルホキシド、スルホラン等
の含硫黄化合物類;プロピレンカーボネート、炭酸エチ
レン等。
ール類;エチレングリコール、ジエチレングリコール、
トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、
ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプ
ロピレングリコール、グリセリン、低分子班のポリエチ
レングリコール、ヘキシレングリコール等の多価アルコ
ール類;エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、I−リエチレン
グリコールモノメチルエーテル、テトラエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジエチレングリコール七ノエチルエーテル
、トリエチレングリコールモノエヂルエーテル、テトラ
エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレング
リコールモノエチルエーテル等の多価アルコールアルキ
ルエーテル類;エチレングリコールモノフェニルエーテ
ル、エチレングリコールモノベンジルエーテル等の多価
アルコールアリールエーテル類;N−メチル−2=ピロ
リドン、1,3−ジメチルイミダゾリジノン、E−カプ
ロラクタム、γ−ブチロラクトン等の含窒素複素環化合
物;ホルムアミl’、N−メチルホルムアミド、 N、
N−ジメチルホルムアミド等のアミド類;モノエタノー
ルアミン、ジェタノールアミン、トリエタノールアミン
、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミ
ン等のアミン類;ジメチルスルホキシド、スルホラン等
の含硫黄化合物類;プロピレンカーボネート、炭酸エチ
レン等。
これらのなかで、特に本発明に適した後退接触角差の大
きい溶媒としては、水と共にホルムアミド、プロピレン
カーボネート等が挙げられる。これら溶媒は、水と共に
単独若しくは複数混合して用いられ、展開剤としての後
退接触角差が10度以上あることが好ましい。
きい溶媒としては、水と共にホルムアミド、プロピレン
カーボネート等が挙げられる。これら溶媒は、水と共に
単独若しくは複数混合して用いられ、展開剤としての後
退接触角差が10度以上あることが好ましい。
着色材として用いられる水溶性染料としては、カラー・
インデックスにおいて、酸性染料、直接染料、塩基性染
料、反応性染料、食用染料に分類される染料で耐水、耐
光性の優れたものが用いられる。これら染料の具体例と
しては、例えば次のものが挙げられる。
インデックスにおいて、酸性染料、直接染料、塩基性染
料、反応性染料、食用染料に分類される染料で耐水、耐
光性の優れたものが用いられる。これら染料の具体例と
しては、例えば次のものが挙げられる。
C,1,アシッド・イエロー17,23,42,44,
79,142C,1,アシッド・レッド1,8,13,
1.4,1.8,26,27,35゜37.42,52
,82,87,89,92,97゜106.111,1
.14,115,1.34,1.86゜249 、25
4 、289 C,1,アシッド・ブルー9.29,45,92,24
9C,1,アシッド・ブランク1,2,7,24,26
.94C,1,フード・イエロー3,4 C,1,フート・レット7.9.lI C0丁、フード・ブラック2 C,1,ダイレクト・イエロー1,12,24,26,
33,44,50゜142 、144 、865 C,1,ダイレクト・レッド1,4,9,13,1.7
,20,28.3+。
79,142C,1,アシッド・レッド1,8,13,
1.4,1.8,26,27,35゜37.42,52
,82,87,89,92,97゜106.111,1
.14,115,1.34,1.86゜249 、25
4 、289 C,1,アシッド・ブルー9.29,45,92,24
9C,1,アシッド・ブランク1,2,7,24,26
.94C,1,フード・イエロー3,4 C,1,フート・レット7.9.lI C0丁、フード・ブラック2 C,1,ダイレクト・イエロー1,12,24,26,
33,44,50゜142 、144 、865 C,1,ダイレクト・レッド1,4,9,13,1.7
,20,28.3+。
39.80.81.83,89,225゜C,1,ダイ
レクト・オレンジ26,29,62,102C,王、ダ
イレクト・ブルー1.2,6,15,22,25,71
,76゜79.86,87,90,98,163゜16
5、199.202 C,工、ダイレクト・ブラック19,22,32,38
,51,56゜71.74,75,77.154,16
8C,1,ベーシック・イエロー1,2,11.+3.
14,15,1.9゜21.23,24,25,28,
29゜32.36,40,41..45,49゜51.
53,63,65,67.70゜73.77.87.9
1 C,1,ベーシック・レッド2,12.]3,14,1
5,18,22゜23.24,27,29,35,36
,38゜39.46,49.5+、52,54,59゜
68.69,70,73,78,82,102゜104
.109,112 C,1,ベーシック・ブルー1.3,5,7,9,21
,22,26,35゜41.45,47,54,62,
65,66゜67.69,75,77.78,89,9
2゜93.105,117.]、20,1.22゜12
4.1.29,137,141,147゜ベーシック・
ブラック2,8 等。
レクト・オレンジ26,29,62,102C,王、ダ
イレクト・ブルー1.2,6,15,22,25,71
,76゜79.86,87,90,98,163゜16
5、199.202 C,工、ダイレクト・ブラック19,22,32,38
,51,56゜71.74,75,77.154,16
8C,1,ベーシック・イエロー1,2,11.+3.
14,15,1.9゜21.23,24,25,28,
29゜32.36,40,41..45,49゜51.
53,63,65,67.70゜73.77.87.9
1 C,1,ベーシック・レッド2,12.]3,14,1
5,18,22゜23.24,27,29,35,36
,38゜39.46,49.5+、52,54,59゜
68.69,70,73,78,82,102゜104
.109,112 C,1,ベーシック・ブルー1.3,5,7,9,21
,22,26,35゜41.45,47,54,62,
65,66゜67.69,75,77.78,89,9
2゜93.105,117.]、20,1.22゜12
4.1.29,137,141,147゜ベーシック・
ブラック2,8 等。
顔料としては、有機顔料としてアゾ系、フタロシアニン
系、アンスラキノン系、キナクリドン系、ジオキサジン
系、インジゴ系、チオインジゴ系、ペリノン系、ペリレ
ン系、イソインドレノン系、アニリン・ブラック、アゾ
メチン系、カーボン・ブラック等が挙げられ、無機顔料
として酸化鉄、酸=16= 化チタン、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、水酸化アル
ミニウム、バリウムイエロー、紺青、カドミウムレット
、クロムイエロー、金属粉が挙げられる。
系、アンスラキノン系、キナクリドン系、ジオキサジン
系、インジゴ系、チオインジゴ系、ペリノン系、ペリレ
ン系、イソインドレノン系、アニリン・ブラック、アゾ
メチン系、カーボン・ブラック等が挙げられ、無機顔料
として酸化鉄、酸=16= 化チタン、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、水酸化アル
ミニウム、バリウムイエロー、紺青、カドミウムレット
、クロムイエロー、金属粉が挙げられる。
顔料分散用化合物としては、ポリアクリルアミド、ポリ
アクリル酸及びそのアルカリ金属塩、水溶性スチレンア
クリル樹脂等のアクリル系樹脂、水溶性スチレンマレイ
ン酸樹脂、水溶性ビニルナフタIノンアクリル樹脂、水
溶性ビニルナフタレンマレイン酸樹脂、ポリビニルピロ
リドン、ポリビニルアルコール、β−ナフタレンスルホ
ン酸ホルマリン縮合物のアルカリ金属塩、四級アンモニ
ウムやアミノ基等のカチオン性官能賦の塩を側鎖に有す
る高分子化合物、ポリエチレンオキサイド、ゼラチン、
カゼイン等の蛋白質、アラビアゴム、トラガンI−ゴム
等の天然ゴム類、サポニン等のグルコキシド類、カルボ
キシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、
メチルセルロース、等のセルロース誘導体、リグニンス
ルホン酸及びその塩、セラック等の天然高分子化合物、
等が挙げられる。
アクリル酸及びそのアルカリ金属塩、水溶性スチレンア
クリル樹脂等のアクリル系樹脂、水溶性スチレンマレイ
ン酸樹脂、水溶性ビニルナフタIノンアクリル樹脂、水
溶性ビニルナフタレンマレイン酸樹脂、ポリビニルピロ
リドン、ポリビニルアルコール、β−ナフタレンスルホ
ン酸ホルマリン縮合物のアルカリ金属塩、四級アンモニ
ウムやアミノ基等のカチオン性官能賦の塩を側鎖に有す
る高分子化合物、ポリエチレンオキサイド、ゼラチン、
カゼイン等の蛋白質、アラビアゴム、トラガンI−ゴム
等の天然ゴム類、サポニン等のグルコキシド類、カルボ
キシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、
メチルセルロース、等のセルロース誘導体、リグニンス
ルホン酸及びその塩、セラック等の天然高分子化合物、
等が挙げられる。
油性の記録剤としては、水性インクと同様に、油溶性染
料を展開剤である有機溶媒に溶解したものや、顔料を展
開剤である有機溶媒に分散させたもの、顔料又は染料を
展開剤である油性ベースに乳化させたもの、等が用いら
れる。
料を展開剤である有機溶媒に溶解したものや、顔料を展
開剤である有機溶媒に分散させたもの、顔料又は染料を
展開剤である油性ベースに乳化させたもの、等が用いら
れる。
油性染料の具体例としては、例えば次のものが挙げられ
る。
る。
C,1,ソルベント・イエロー1,2,3,4,5,6
,7,8,9゜10.11,12,14,16,17゜
26.27,29,30,39,40゜46.49,5
0,51,56,61゜80 、86 、87 、89
、96C,1,ソルベント・オレンジ12,23.3
+、43,51..6]C,1,ソルベント・レッド1
,2,3,1.6,17,18.+9.20゜22.2
4,25,26,40,52,59゜60.63,67
.68,12] C,1,ソルベント・バイオレット7.16.]7C,
1,ソルベント・ブルー2.6,11,1.5,20,
30,3]、32゜35.36,55.58 C,1,ツルベン1〜・ブラック3,10.1+、12
.27等。
,7,8,9゜10.11,12,14,16,17゜
26.27,29,30,39,40゜46.49,5
0,51,56,61゜80 、86 、87 、89
、96C,1,ソルベント・オレンジ12,23.3
+、43,51..6]C,1,ソルベント・レッド1
,2,3,1.6,17,18.+9.20゜22.2
4,25,26,40,52,59゜60.63,67
.68,12] C,1,ソルベント・バイオレット7.16.]7C,
1,ソルベント・ブルー2.6,11,1.5,20,
30,3]、32゜35.36,55.58 C,1,ツルベン1〜・ブラック3,10.1+、12
.27等。
また、染料な溶ML、たり、顔料を分散するための展開
剤としては、n−オクタン、r7−テカン、ミネラネス
ビリッ1−、リグロイン、ナフサ、ヘンゼン、1〜ルエ
ン、キシレン等の炭化水素類;ジブチルエーテル、ジブ
チルエーテル、アニソール、フエネ1ヘール、ジベンジ
ルエーテル等のエーテル類;メタノール、エタノール、
イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン等の
アルコール類ニジエチレングリコールモノブチルエーテ
ル等の多価アルコールエーテル類;エチレングリコール
モノメチルアセター1〜、エチレングリコールモノエチ
ルアセタート、エチレングリコールモノブチルアセター
ト等の多価アルコールアセタート類;オレイン酸等が挙
げられる。
剤としては、n−オクタン、r7−テカン、ミネラネス
ビリッ1−、リグロイン、ナフサ、ヘンゼン、1〜ルエ
ン、キシレン等の炭化水素類;ジブチルエーテル、ジブ
チルエーテル、アニソール、フエネ1ヘール、ジベンジ
ルエーテル等のエーテル類;メタノール、エタノール、
イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン等の
アルコール類ニジエチレングリコールモノブチルエーテ
ル等の多価アルコールエーテル類;エチレングリコール
モノメチルアセター1〜、エチレングリコールモノエチ
ルアセタート、エチレングリコールモノブチルアセター
ト等の多価アルコールアセタート類;オレイン酸等が挙
げられる。
このなかで特に好ましく使用できるものとしては、加熱
前後の後退接触角差の人きいグリセリン、エチレングリ
コール等が挙げられる。これら/8媒は、展開剤として
単独若しくは複数混合して使用することができる。
前後の後退接触角差の人きいグリセリン、エチレングリ
コール等が挙げられる。これら/8媒は、展開剤として
単独若しくは複数混合して使用することができる。
油性インクにおいても、先に例示した顔料を用いること
ができる。油性の顔料分散剤の例としては、ポリメタク
リル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル−アクリル酸エステル共重合体、ポリ耐酸
ビニル、塩ビニル系共重合体、ポリビニルピロリドン、
ポリビニルブチラール等のビニル系共重合体、エチルセ
ルロース、メチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポ
リエステル、ポリアミ1〜、フェノール樹脂等の縮重合
樹脂、ロジン、セラック、ゼラチン、カゼイン、等の天
然樹脂等がある。
ができる。油性の顔料分散剤の例としては、ポリメタク
リル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル−アクリル酸エステル共重合体、ポリ耐酸
ビニル、塩ビニル系共重合体、ポリビニルピロリドン、
ポリビニルブチラール等のビニル系共重合体、エチルセ
ルロース、メチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポ
リエステル、ポリアミ1〜、フェノール樹脂等の縮重合
樹脂、ロジン、セラック、ゼラチン、カゼイン、等の天
然樹脂等がある。
本発明で用いられる記録体は、前記のように、液体に接
した状態で加熱すると冷却後、後退接触角が低くなり、
かつ液体不存在下で加熱すると後退接触角が高くなる機
能を示す表面を有する。更に詳しくは、該記録体の表面
が、(])疎水基の表面自己配向機能をもつ有機化合物
を含む部材、又は(Xl)疎水基をもつ有機化合物であ
って疎水基を表面に配向した部材からなる。い)にいう
″表面自己配向機能″とは、ある化合物を支持体1ユに
形成した固体又はある化合物自体による固体を空気中で
加熱すると、表面において疎水基が空気側(自由表面側
)に向いて配合する性質があることを意味する。このこ
とは、(]j)においても同様にいえることである。
した状態で加熱すると冷却後、後退接触角が低くなり、
かつ液体不存在下で加熱すると後退接触角が高くなる機
能を示す表面を有する。更に詳しくは、該記録体の表面
が、(])疎水基の表面自己配向機能をもつ有機化合物
を含む部材、又は(Xl)疎水基をもつ有機化合物であ
って疎水基を表面に配向した部材からなる。い)にいう
″表面自己配向機能″とは、ある化合物を支持体1ユに
形成した固体又はある化合物自体による固体を空気中で
加熱すると、表面において疎水基が空気側(自由表面側
)に向いて配合する性質があることを意味する。このこ
とは、(]j)においても同様にいえることである。
一般に、有機化合物では、疎水基は疎水性雰囲気側へ向
きやすい傾向をもっている。これは、固−低界面の界面
エネルギーが低くなる方に向うために生しる。また、こ
の傾向は、疎水基の分子長が長くなるほど認められるが
、これは分子長が長くなるほど、加熱における分子の運
動性が−+1かるためである。
きやすい傾向をもっている。これは、固−低界面の界面
エネルギーが低くなる方に向うために生しる。また、こ
の傾向は、疎水基の分子長が長くなるほど認められるが
、これは分子長が長くなるほど、加熱における分子の運
動性が−+1かるためである。
更に具体的には、末端に疎水基を有する(すなわち表面
エネルギーを低くする)分子であると、空気側(自由表
面側)配向いて表面配向しやすい。
エネルギーを低くする)分子であると、空気側(自由表
面側)配向いて表面配向しやすい。
同様に→C1l□ト。を含む直鎖状分子では−G co
、c+5. ’hの部分が平面構造をしており、分子鎖
同士が配向しやすい。また、1e−1を含む分子もHO
トの部分が平面構造をしており、分子鎖同士が配向しや
すい。殊に、弗素などの電気陰性度の高い元素を含む直
鎖状分子は自己凝集性カス高く、分子鎖同士が配向しや
すい。
、c+5. ’hの部分が平面構造をしており、分子鎖
同士が配向しやすい。また、1e−1を含む分子もHO
トの部分が平面構造をしており、分子鎖同士が配向しや
すい。殊に、弗素などの電気陰性度の高い元素を含む直
鎖状分子は自己凝集性カス高く、分子鎖同士が配向しや
すい。
この配向性の状態と後退接触角とは関係があり、また後
退接触角と液体付着性どの間にも関係がある。すなわち
、固体表面での液体の付着は、液体の固体表面での主に
クツキングによって生じる。
退接触角と液体付着性どの間にも関係がある。すなわち
、固体表面での液体の付着は、液体の固体表面での主に
クツキングによって生じる。
このタッキングは、いわば液体が固体表面を滑べる時の
一種の摩擦力とみなすことができる。従って、本発明で
いう″後退接触角″′θrは、前記摩擦力をγ、とする
と、 (但し、 γ :真空中の固体の表面張力γSa:同一
液界面張力 πe:平衡表面張力 γ、:摩擦張力 γS:吸着層のない固体の表面張力である)との関係式
が成立つ〔斉藤、北端E)r [■本接着協会誌」22
.12. (1986))。
一種の摩擦力とみなすことができる。従って、本発明で
いう″後退接触角″′θrは、前記摩擦力をγ、とする
と、 (但し、 γ :真空中の固体の表面張力γSa:同一
液界面張力 πe:平衡表面張力 γ、:摩擦張力 γS:吸着層のない固体の表面張力である)との関係式
が成立つ〔斉藤、北端E)r [■本接着協会誌」22
.12. (1986))。
従って、Orの値が低くなるときγ、値は大きくなる。
すなオ〕ち、液体は固体面を滑べり1こくくなり、その
結末5液体は固体面に付着するようになる3゜ これら相互の関連から推察しうるように、液体何台性は
後退接触角C1rがとの程度であるかに左右さ肛、その
後退接触角Orは表面自己配向機能を表面に有する部材
の何列により定めIr、れる。それ故、本発明方法にお
いては、記録体はその表面に所望パターン領域の形成及
び記録剤による顕像化の必要から、必然的に、表面自己
配向機能を表面に有する部材が選択される。
結末5液体は固体面に付着するようになる3゜ これら相互の関連から推察しうるように、液体何台性は
後退接触角C1rがとの程度であるかに左右さ肛、その
後退接触角Orは表面自己配向機能を表面に有する部材
の何列により定めIr、れる。それ故、本発明方法にお
いては、記録体はその表面に所望パターン領域の形成及
び記録剤による顕像化の必要から、必然的に、表面自己
配向機能を表面に有する部材が選択される。
本発明方法で用いられる記録体は、既述のとおり、「加
熱状態でかつ液体と接触された場合に後退接触角Orが
低十する表面」を有するものである。
熱状態でかつ液体と接触された場合に後退接触角Orが
低十する表面」を有するものである。
記録体はその表面が上記のような性状を有してさえいれ
ば、形状等は任意である。従って、記録体はフィルム状
であっても、適当な支持体や成形体上に表面が上記のよ
うな性状を有する別の塗工膜などが設けられていてもか
まわない。成形体自体であってもかまわないが、その表
面はL記のような性状を有していることが必要である。
ば、形状等は任意である。従って、記録体はフィルム状
であっても、適当な支持体や成形体上に表面が上記のよ
うな性状を有する別の塗工膜などが設けられていてもか
まわない。成形体自体であってもかまわないが、その表
面はL記のような性状を有していることが必要である。
ここで、″加熱状態でかつ液体と接触させた場合に後退
接触角Orが低Fする表面を形成する″部材ないし材料
を幾つかに分類した例を第1図に示す。第1図(a)は
自己配向機能を有する化合物の例で、高分子重合体の側
鎖に疎水基を有する化合物であり、主鎖14と疎水基R
とは結合基Jにて結合している。
接触角Orが低Fする表面を形成する″部材ないし材料
を幾つかに分類した例を第1図に示す。第1図(a)は
自己配向機能を有する化合物の例で、高分子重合体の側
鎖に疎水基を有する化合物であり、主鎖14と疎水基R
とは結合基Jにて結合している。
第1図(b)は、疎水基を有する有機化合物においてそ
の疎水基を表面に配向した部材の例で、有機又は無機材
料Hの表面に、物理的又は化学的結合により、前記疎水
基を有する化合物0を形成した部材である。第1図(c
)は、第1図(b)であげた疎水基を有する有機化合物
Oのみからなる部材の例である。
の疎水基を表面に配向した部材の例で、有機又は無機材
料Hの表面に、物理的又は化学的結合により、前記疎水
基を有する化合物0を形成した部材である。第1図(c
)は、第1図(b)であげた疎水基を有する有機化合物
Oのみからなる部材の例である。
第1図(d)は、直鎖状分子が高分子の側鎖にある例で
、主鎖]、と前記分子を結合法、Iによりつなぎ、末端
しこ疎水基Rをもつ自己凝集性又は平面構造を有する分
子鎖Nが中間にある化合物である。
、主鎖]、と前記分子を結合法、Iによりつなぎ、末端
しこ疎水基Rをもつ自己凝集性又は平面構造を有する分
子鎖Nが中間にある化合物である。
なお、第1図(、、)(d)の例においては、高分子・
化合物の主鎖1.は直線状でも網掛は構造でもよい。
化合物の主鎖1.は直線状でも網掛は構造でもよい。
第1図(b)の例においては、累積1、B膜のように、
疎水基含有化合物0の上に更に疎水基含有化合物0が積
層されていてもよい。第1図(C)の例においては、主
鎖(14)をもつことなく又は有機・無機材料(M)な
どに結合することなく、疎水基含有化合物0のみによる
構造である。
疎水基含有化合物0の上に更に疎水基含有化合物0が積
層されていてもよい。第1図(C)の例においては、主
鎖(14)をもつことなく又は有機・無機材料(M)な
どに結合することなく、疎水基含有化合物0のみによる
構造である。
前記の疎水基としては、分子の末端が好ましくは−C1
1,や−CF3、−CF211、−CFH2、−C(C
FJ)3.−C(CH3)、などになっており、より好
ましくは、分子)11!動性が高い点で分子長の長いも
のが有利である、中でも、前記疎水基としては、−F及
び/又は−CQが1つ以上ある置換アルキル基(−CF
、 CF、 CFCF、CF、のよCQ うなものでもよい)あるいは無置換のアルキル基であっ
て、炭素数4以−1−のものが望ましい。弗メ・ミ置換
、塩素置換のいずれのものも用いられるが、弗素置換の
ものの方が効果的である。これらの材料においては、ア
ルキル基炭素数と機能との関係では、炭素数が3以下で
あると、記録方法に適する機能が低くなってしまう。
1,や−CF3、−CF211、−CFH2、−C(C
FJ)3.−C(CH3)、などになっており、より好
ましくは、分子)11!動性が高い点で分子長の長いも
のが有利である、中でも、前記疎水基としては、−F及
び/又は−CQが1つ以上ある置換アルキル基(−CF
、 CF、 CFCF、CF、のよCQ うなものでもよい)あるいは無置換のアルキル基であっ
て、炭素数4以−1−のものが望ましい。弗メ・ミ置換
、塩素置換のいずれのものも用いられるが、弗素置換の
ものの方が効果的である。これらの材料においては、ア
ルキル基炭素数と機能との関係では、炭素数が3以下で
あると、記録方法に適する機能が低くなってしまう。
この機能発現の原理はいまだ完全に明らかにされた訳で
はなく、従って、不明な点が多いが、以下のことが推定
される。
はなく、従って、不明な点が多いが、以下のことが推定
される。
まず、上記化合物により形成された記録体の表面は、前
記疎水基がかなり配向した表面となっていることが考え
られる。従って、この表面は液体反撥性を有する(疎水
基は表面エネルギーが小さいため)。この状態で、記録
体の表面が接触材料に接して加熱を受けると、加熱によ
る疎水基の分子運動が活発となり、かつ接触材料との相
互作用を受けて、記録体の表面の少なくとも一部の配向
(整列)状態が別の状態(すなわち、別の配向状態又は
配向が乱れた状態)に変わり、冷却後もその別の状態を
維持するためと思われる。なお、記録体の表面に接触材
料が接した状態のもとで加熱することは、接触材料の形
態如何により、記録体の表面が加熱された状態のもとに
液体を接触させることになる。
記疎水基がかなり配向した表面となっていることが考え
られる。従って、この表面は液体反撥性を有する(疎水
基は表面エネルギーが小さいため)。この状態で、記録
体の表面が接触材料に接して加熱を受けると、加熱によ
る疎水基の分子運動が活発となり、かつ接触材料との相
互作用を受けて、記録体の表面の少なくとも一部の配向
(整列)状態が別の状態(すなわち、別の配向状態又は
配向が乱れた状態)に変わり、冷却後もその別の状態を
維持するためと思われる。なお、記録体の表面に接触材
料が接した状態のもとで加熱することは、接触材料の形
態如何により、記録体の表面が加熱された状態のもとに
液体を接触させることになる。
この加熱前は、疎水基が表面に整列(配向)しているた
め、記録体の表面の表面エネルギーは極めて少ない。
め、記録体の表面の表面エネルギーは極めて少ない。
どころが、前記の接触材料が接した状態のものでの加熱
により、配向状態は乱れて表面エネルギーが高まる。後
退接触角Orは、液体の種類にかかられず、固体と液体
との表面エネルギーのバランスで決定される。このため
、固体の表面エネルギーが高まれば、液体の種類にかか
わらず、後退接触角orは低くなる。従って、液体に対
する付着性は増大することになる。
により、配向状態は乱れて表面エネルギーが高まる。後
退接触角Orは、液体の種類にかかられず、固体と液体
との表面エネルギーのバランスで決定される。このため
、固体の表面エネルギーが高まれば、液体の種類にかか
わらず、後退接触角orは低くなる。従って、液体に対
する付着性は増大することになる。
更に、記録体の表面が別の状態(元の配向状態とは異な
る「別の配向状態」又は「配向が乱れた状態」)で接触
材料の不存在下に加熱を受けると、接触材料との相互作
用が生じないため、元の整列(配向)状態にもどると思
われる。
る「別の配向状態」又は「配向が乱れた状態」)で接触
材料の不存在下に加熱を受けると、接触材料との相互作
用が生じないため、元の整列(配向)状態にもどると思
われる。
従って、接触材料の存在は、単に記録体の表面=27
を加熱後急冷するためのものではなく、記録体の表面の
化合物との何らかの相互作用を起こすものであり、この
相互作用があって、はじめて別の状態(別の配向状態又
は配向が乱れた状態)への変化が起こると思われる。
化合物との何らかの相互作用を起こすものであり、この
相互作用があって、はじめて別の状態(別の配向状態又
は配向が乱れた状態)への変化が起こると思われる。
前記のとおり、記録体の表面を形成する部材(化合物)
の疎水基として、アルキル基又は弗素若しくは塩素置換
のアルキル基が採用された場合には、アルキル基の炭素
数が4以上であるのが望ましいのは、記録体の表面にア
ルキル基がある程度整列(配向)し、しかも加熱時に活
発な分子運動をするのに必要な数なのだと思われる。ま
た、接触材料が記録体の表面と共に加熱を受けた時、記
録体表面の分子中に接触材料の分子がとりこまれること
も考えられる。更に、アルキル基中に電気陰性度の高い
弗素や塩素があると、液体、特に極性液体との相互作用
が大きくなるため、水素のみのアルキル基を含有する化
合物よりも大きな付着性変化が得られる。また、弗素を
含有するアルキル基は、自己凝集性が強いため、表面自
己配向機能が高く、更に、表面エネルギーが低いため、
地肌よごれ防止の点ですぐれている。
の疎水基として、アルキル基又は弗素若しくは塩素置換
のアルキル基が採用された場合には、アルキル基の炭素
数が4以上であるのが望ましいのは、記録体の表面にア
ルキル基がある程度整列(配向)し、しかも加熱時に活
発な分子運動をするのに必要な数なのだと思われる。ま
た、接触材料が記録体の表面と共に加熱を受けた時、記
録体表面の分子中に接触材料の分子がとりこまれること
も考えられる。更に、アルキル基中に電気陰性度の高い
弗素や塩素があると、液体、特に極性液体との相互作用
が大きくなるため、水素のみのアルキル基を含有する化
合物よりも大きな付着性変化が得られる。また、弗素を
含有するアルキル基は、自己凝集性が強いため、表面自
己配向機能が高く、更に、表面エネルギーが低いため、
地肌よごれ防止の点ですぐれている。
更にまた、記録体の表面は液体反撥性を有するが、これ
を固体の表面エネルギーで記述すると、50dyn/c
m以下であることが記録方法どして望ましい。これ以上
の高い値では記録剤に対して記録体の表面が、時として
、濡れてしまい、地肌よごれを起こすおそれがある。
を固体の表面エネルギーで記述すると、50dyn/c
m以下であることが記録方法どして望ましい。これ以上
の高い値では記録剤に対して記録体の表面が、時として
、濡れてしまい、地肌よごれを起こすおそれがある。
ここで、記録体の表面を形成する化合物の詳細を述べる
。まず、第1図(a)及び(d)のタイプについては、
ビニル系高分子側鎖にアルキル基(弗素及び/又は塩素
置換のものも含む)を有する化合物などが考えられる。
。まず、第1図(a)及び(d)のタイプについては、
ビニル系高分子側鎖にアルキル基(弗素及び/又は塩素
置換のものも含む)を有する化合物などが考えられる。
具体的には、式(1)(n)(III)(IV)(V)
(Vl)及び(■)で示されるモノマーからの重合体が
挙げられる。
(Vl)及び(■)で示されるモノマーからの重合体が
挙げられる。
Rニー1(、−Ct13.−C2H,、−CF3又は−
C2F。
C2F。
Rf:C,以上のアルキル基又は弗素若しく番ま塩素置
換アルキル基を含有した基、又(土分子鎖中に−(o’
2+−c、−582hA若しくは一■−をもつ疎水基(
Q≧4) n′=1以上の整数。
換アルキル基を含有した基、又(土分子鎖中に−(o’
2+−c、−582hA若しくは一■−をもつ疎水基(
Q≧4) n′=1以上の整数。
その他のポリマーとしては、
式(■)(■)及び
(X)に示されるものが挙げられる。
Nn
■
(1)も−Rf
Rニー1イ、−CIイ3、−C21イ5、−CF3又は
−C2F。
−C2F。
Rf:C4以上のアルキル基又は弗素若しくは塩素置換
アルキル基を含有した基、又は分子鎖中に一+CF、f
塁、云CH,,升。若しくは一〇−を含む疎水基(Q≧
4) n:10以上の整数。
アルキル基を含有した基、又は分子鎖中に一+CF、f
塁、云CH,,升。若しくは一〇−を含む疎水基(Q≧
4) n:10以上の整数。
3】
これら具体例でRfをより詳しくいえば、下記(1)か
ら(20)までのものを例示することができる。
ら(20)までのものを例示することができる。
(])−CH2CF2CHFCF3
(6) −CH2(CF2)□。H
(7) (CF2丹○−CF2CR3
(8) (CH2+rNH−CF2CF、。
(9) −+CF2升CF3
Cl、O) −+CH2)、oC,F、7(13) −
(J(2NH8O□C3F1□(14) (CF、イY
F (15) C−5−CH2CH7−(CF3)、CF(
CF3)2(+6) −CH,CF2CF、CF3(1
7) −CH,CH2CH7CJ(、F(18) −C
H2(CF2)r、CF3(19) −CH2(CF2
)、CF3(20) −I−CH2)、CF。
(J(2NH8O□C3F1□(14) (CF、イY
F (15) C−5−CH2CH7−(CF3)、CF(
CF3)2(+6) −CH,CF2CF、CF3(1
7) −CH,CH2CH7CJ(、F(18) −C
H2(CF2)r、CF3(19) −CH2(CF2
)、CF3(20) −I−CH2)、CF。
これらの化合物のうちでも、特に、下記(XI)の千ツ
マ−を原料とする重合体がより望ましい。
マ−を原料とする重合体がより望ましい。
I
○
〔但し、R1:水素、−CnH2n+、又は−CnFz
n+、(n・1又は2以上の整数) R′:→CH,3−(p≧1の整数) 又は−+ CH2) N (R3)SO2−(R3は−
C113又は−C21]5.9≧1の整数)m=6以上
の整数 である。〕 従って、本発明における記録体表面の部材の好ましい具
体例としては、下記のモノマーからの重合体が挙げられ
る。
n+、(n・1又は2以上の整数) R′:→CH,3−(p≧1の整数) 又は−+ CH2) N (R3)SO2−(R3は−
C113又は−C21]5.9≧1の整数)m=6以上
の整数 である。〕 従って、本発明における記録体表面の部材の好ましい具
体例としては、下記のモノマーからの重合体が挙げられ
る。
CO(’)(CI−1丹バCF2升1−’更に、これら
式(1)(II)(m)(+v)いr )(Vl )(
Vll )及び(′A)のモノマー同士(2種以上のモ
ノマー)の共重合体の他に、これらモノマーと他の千ツ
マ−例えばエチレン、塩化ビニル、スチレン、ブタジェ
ン、イソプレン、クロロブレン、ビニルアルキルエーテ
ル、酢酸ビニルなどとの共重合体も−I−記化合物とし
て適する。
式(1)(II)(m)(+v)いr )(Vl )(
Vll )及び(′A)のモノマー同士(2種以上のモ
ノマー)の共重合体の他に、これらモノマーと他の千ツ
マ−例えばエチレン、塩化ビニル、スチレン、ブタジェ
ン、イソプレン、クロロブレン、ビニルアルキルエーテ
ル、酢酸ビニルなどとの共重合体も−I−記化合物とし
て適する。
また、式(XI)のモノマーと官能基を有する重合性千
ツマ−1例えば CH2=C(CH3)COO(C11,)20+1CH
2=C(CH,)COOC)I2CH(0)1)C1+
3CI□=ClIC0OCII、CH(OH)C8F1
7などの1種以上とで共重合物をつくり重合物中に官能
基を多数厚人するか、式(XI)の千ツマ−と官能基を
有する重合性モノマーとの共重合物をつくり、続いて、
官能基を多数含んだ共重合物同士を架橋試薬を用いて架
橋することにより製造した架橋性重合体も、」二記材料
としてすぐれている。架橋試薬としては、ホルムアルデ
ヒド、ジアルデヒド、N−メチロール化合物、ジカルボ
ン酸、ジカルボン酸クロライド、ビスハロゲン化合物、
ビスエポキシド、ビスアジリジン、ジイソシアネ−1・
などが挙げられる。このようにして得られた架橋重合物
の−・例をド記に示す。
ツマ−1例えば CH2=C(CH3)COO(C11,)20+1CH
2=C(CH,)COOC)I2CH(0)1)C1+
3CI□=ClIC0OCII、CH(OH)C8F1
7などの1種以上とで共重合物をつくり重合物中に官能
基を多数厚人するか、式(XI)の千ツマ−と官能基を
有する重合性モノマーとの共重合物をつくり、続いて、
官能基を多数含んだ共重合物同士を架橋試薬を用いて架
橋することにより製造した架橋性重合体も、」二記材料
としてすぐれている。架橋試薬としては、ホルムアルデ
ヒド、ジアルデヒド、N−メチロール化合物、ジカルボ
ン酸、ジカルボン酸クロライド、ビスハロゲン化合物、
ビスエポキシド、ビスアジリジン、ジイソシアネ−1・
などが挙げられる。このようにして得られた架橋重合物
の−・例をド記に示す。
l−記の式において、Aブロックは前記の熱的fト質の
変化をもたらすアルキル基であり、 ・方、I3ブロッ
クは鎖状ポリマー同士を架橋している(架橋試薬として
ジイソシアネートを用いて架橋したもの)部位である。
変化をもたらすアルキル基であり、 ・方、I3ブロッ
クは鎖状ポリマー同士を架橋している(架橋試薬として
ジイソシアネートを用いて架橋したもの)部位である。
架橋体による膜を得るには、前記の共重合物と架橋試薬
とを混合した溶液をコーI〜液として基板」二に塗布し
、加熱又は電子線照射や光照射により架橋重合膜を得る
ようにすればよい。
とを混合した溶液をコーI〜液として基板」二に塗布し
、加熱又は電子線照射や光照射により架橋重合膜を得る
ようにすればよい。
なお、ヒ記モノマーから重合体を得るには、溶液重合、
電解重合、乳化重合、光重合、放射線に合、プラズマ重
合、グラフト重合、プラズマ開始重合、蒸着重合など、
材料により適当な方法が選択される。
電解重合、乳化重合、光重合、放射線に合、プラズマ重
合、グラフト重合、プラズマ開始重合、蒸着重合など、
材料により適当な方法が選択される。
次に、第1図(b)に示した化合物について述べる。
ここでは、式(XII)、(X、XII)及び(X、■
)に示す4料Rf −COOI−1−(X、 IT )
R4−OH・・・(XTII) Rf (CH’zfs i X −(、X
IV )〔Rf:炭素数4以上のアルキル基又は弗素
若しくは塩素置換のアルキル基を含有した基、又は分子
鎖中に(C[”、→−い−(−C82升、若しくは−〇
−を含む疎水基(Q≧4) 1):1以上の整数 X:塩素、メ]−キシ基又は工I〜キシ基〕等をガラス
、金、銅などの無機材料やポリイミ1く、ポリエステル
、ポリエチレンテレフタレー1〜なとの有機材料表面に
物理吸着又は化学結合した材料(表面エネルギーが約5
0dyn/cm以下であるのか好ましい)であることか
望ましい。
)に示す4料Rf −COOI−1−(X、 IT )
R4−OH・・・(XTII) Rf (CH’zfs i X −(、X
IV )〔Rf:炭素数4以上のアルキル基又は弗素
若しくは塩素置換のアルキル基を含有した基、又は分子
鎖中に(C[”、→−い−(−C82升、若しくは−〇
−を含む疎水基(Q≧4) 1):1以上の整数 X:塩素、メ]−キシ基又は工I〜キシ基〕等をガラス
、金、銅などの無機材料やポリイミ1く、ポリエステル
、ポリエチレンテレフタレー1〜なとの有機材料表面に
物理吸着又は化学結合した材料(表面エネルギーが約5
0dyn/cm以下であるのか好ましい)であることか
望ましい。
式(Xl+ )(X III ’)及び(XIV)の」
1体例としては、CF、−(CF、チζCOO1( cF□−(CF2)、coon CF、−(−CF7升(CH,、丹OHH−(−CF、
后C00II H−+CF、hvcH,0II F(CF、kcII、CH,−8i (CT(、)2(
JC’、F2CQ(CF、)C直CF、)、C00II
cy、(c F2)+(co、)、s in。
1体例としては、CF、−(CF、チζCOO1( cF□−(CF2)、coon CF、−(−CF7升(CH,、丹OHH−(−CF、
后C00II H−+CF、hvcH,0II F(CF、kcII、CH,−8i (CT(、)2(
JC’、F2CQ(CF、)C直CF、)、C00II
cy、(c F2)+(co、)、s in。
などが挙げられる。
:)9
第1図(c)に示す化合物としては式(xn)、式(x
m)や式(XrV)の材料のみの構造体が挙げられる。
m)や式(XrV)の材料のみの構造体が挙げられる。
続いて、−4−配化合物を用いた記録体について述べる
。
。
記録体の構成としては、■前記の表面部材そのもので形
成したもの、■支持体(好ましくは耐熱性支持体)」二
に前記の表面部材を形成したもの、とに大別される。■
の態様は」〕記化合物(表面部材)そのものをフィルム
状、板状、あるいは円柱状に成形したものである。この
際、フィルム状の場合は、フィルムの厚さは1μm〜5
mmが望ましい。
成したもの、■支持体(好ましくは耐熱性支持体)」二
に前記の表面部材を形成したもの、とに大別される。■
の態様は」〕記化合物(表面部材)そのものをフィルム
状、板状、あるいは円柱状に成形したものである。この
際、フィルム状の場合は、フィルムの厚さは1μm〜5
mmが望ましい。
■の態様においては、上記化合物がある程度支持体内部
へ侵入していてもかまわない。記録体自体の膜厚は;3
0人〜1mmが望ましい。但し、熱伝導性の点では10
0人〜10μm、耐摩耗性の点では10μm〜1mmが
すぐれている。支持体の耐熱温度としては、50℃〜3
00℃が望ましい。
へ侵入していてもかまわない。記録体自体の膜厚は;3
0人〜1mmが望ましい。但し、熱伝導性の点では10
0人〜10μm、耐摩耗性の点では10μm〜1mmが
すぐれている。支持体の耐熱温度としては、50℃〜3
00℃が望ましい。
支持体の形状は、ベルト状、板状、ドラ11状いずれで
もよく、装置の使用用途に応じて選定する。
もよく、装置の使用用途に応じて選定する。
4〇−
特に、ドラム状は装置における寸d;精度を出せる点で
すぐれている。板状のものは、記録紙サイズに応じてそ
の大きさを決めればよい。
すぐれている。板状のものは、記録紙サイズに応じてそ
の大きさを決めればよい。
更に、上記化合物(記録体の表面形成材料)と他の部材
、例えば疎水性ポリマー、疎水性無機材料との混合物を
支持体−1−に形成すると、印字における地肌よごれ防
止の点ですぐれている。また、熱伝導性を上げるために
は、金属粉を」ユ記化合物に混入するとよい。更に、支
持体と上記化合物との密着性を向上するためにブライマ
ー層を支持体と化合物間に設けることもできる。耐熱性
支持体としては、ポリイミド、ポリエステルなどの樹脂
フィルムやガラスやNi、、 AD、、 Cu、 Cr
、 Ptなとの金属や金属酸化物等が好ましい。これら
支持体は平滑でも粗面や多孔質であってもよい。
、例えば疎水性ポリマー、疎水性無機材料との混合物を
支持体−1−に形成すると、印字における地肌よごれ防
止の点ですぐれている。また、熱伝導性を上げるために
は、金属粉を」ユ記化合物に混入するとよい。更に、支
持体と上記化合物との密着性を向上するためにブライマ
ー層を支持体と化合物間に設けることもできる。耐熱性
支持体としては、ポリイミド、ポリエステルなどの樹脂
フィルムやガラスやNi、、 AD、、 Cu、 Cr
、 Ptなとの金属や金属酸化物等が好ましい。これら
支持体は平滑でも粗面や多孔質であってもよい。
次に、接触材料について説明する。
接触材料は、先に記載したとおりであるが、端的に言え
ば、当初から液体あるいは蒸気であるか、又は記録体表
面における後退接触角Orの低下開始温度以下で結果的
に液体を生じさせる固体である。ここでの蒸気は、記録
体の表面又は表面近傍で、少なくともその一部が凝縮し
て液体を生ぜしめ、その液体が記録体の表面を濡らすこ
とができるものであれば充分である。一方、ここでの固
体は、前記後退接触角Orの低下開始温度以下で液体と
なるか、液体を発生させるか、又は蒸気を発生させるも
のである。固体から発生された蒸気は記録体の表面又は
その近傍で凝縮して液体を生しさせることは前記の場合
と同様である。
ば、当初から液体あるいは蒸気であるか、又は記録体表
面における後退接触角Orの低下開始温度以下で結果的
に液体を生じさせる固体である。ここでの蒸気は、記録
体の表面又は表面近傍で、少なくともその一部が凝縮し
て液体を生ぜしめ、その液体が記録体の表面を濡らすこ
とができるものであれば充分である。一方、ここでの固
体は、前記後退接触角Orの低下開始温度以下で液体と
なるか、液体を発生させるか、又は蒸気を発生させるも
のである。固体から発生された蒸気は記録体の表面又は
その近傍で凝縮して液体を生しさせることは前記の場合
と同様である。
これら接触材料をより具体的にいえば次のとおりである
。すなわち、接触材料の一つである液体としては、水の
他に、電解質を含む水溶液、エタノール、n−ブタノー
ル等のアルコール、グリセリン、エチレングリコール等
の多価アルコール、メチルエチルケトン等のケトン類の
ごとき有極性液体や、n−ノナン、n−オクタン等の直
鎖状炭化水素。
。すなわち、接触材料の一つである液体としては、水の
他に、電解質を含む水溶液、エタノール、n−ブタノー
ル等のアルコール、グリセリン、エチレングリコール等
の多価アルコール、メチルエチルケトン等のケトン類の
ごとき有極性液体や、n−ノナン、n−オクタン等の直
鎖状炭化水素。
シクロヘキサン等の環式状炭化水素、■−キシレン、ベ
ンゼン等の芳香族炭化水素のごとき無極性液体が挙げら
れる。また、これらの混合体でもよいし、各種分散液や
液状インクも使用できる。更に望ましくは、極性液体の
方がよりすぐれている。
ンゼン等の芳香族炭化水素のごとき無極性液体が挙げら
れる。また、これらの混合体でもよいし、各種分散液や
液状インクも使用できる。更に望ましくは、極性液体の
方がよりすぐれている。
接触材料の他の一つである蒸気としては、水蒸気の外に
接触材料の液体の蒸気であれば使用できるが、特にエタ
ノール蒸気やm−キシレン蒸気などの有機化合物の蒸気
(噴霧状態のものを含む)が挙げられる。この有機化合
物蒸気の温度は、記録体の表面を形成する化合物の融点
あるいは軟化点以下である必要がある。
接触材料の液体の蒸気であれば使用できるが、特にエタ
ノール蒸気やm−キシレン蒸気などの有機化合物の蒸気
(噴霧状態のものを含む)が挙げられる。この有機化合
物蒸気の温度は、記録体の表面を形成する化合物の融点
あるいは軟化点以下である必要がある。
接触材料の他のもう一つである固体としては、高級脂肪
酸、低分子景ポリエチレン、高分子ゲル(ポリアクリル
アミドゲル、ポリビニルアルコールゲル)、シリカゲル
、結晶水を含んだ化合物などが挙げられる。
酸、低分子景ポリエチレン、高分子ゲル(ポリアクリル
アミドゲル、ポリビニルアルコールゲル)、シリカゲル
、結晶水を含んだ化合物などが挙げられる。
なお、接触材料として、前記液状インクのごとき記録剤
を用いた場合には、潜像形成と同時に顕像化が行なわれ
ることになる。
を用いた場合には、潜像形成と同時に顕像化が行なわれ
ることになる。
続いて、加熱手段について説明する。
加熱手段としてはヒーター、サーマルヘラ1くなどによ
る接触加熱の他に、電磁波(レーザー光源、赤外線ラン
プなどの発光源からの光線をレンズで集光する)による
非接触加熱がある。
る接触加熱の他に、電磁波(レーザー光源、赤外線ラン
プなどの発光源からの光線をレンズで集光する)による
非接触加熱がある。
第2図(a)は基板1上に記録体の表面を構成する前記
化合物の膜2が形成され、この膜面に接触材料のうちの
例えば液体3が存在している状態を示している。この状
態において、第3図(a)に示されるように膜2を加熱
すると、膜2表面は後退接触角Orが低下して著しい濡
れを示し、液体付着性を有してしまうのが認められる。
化合物の膜2が形成され、この膜面に接触材料のうちの
例えば液体3が存在している状態を示している。この状
態において、第3図(a)に示されるように膜2を加熱
すると、膜2表面は後退接触角Orが低下して著しい濡
れを示し、液体付着性を有してしまうのが認められる。
更に、この液体付着性を有する膜2を空気中、真空中又
は不活性ガス雰囲気中で再び加熱する〔第2図(b)〕
と、膜2表面は後退接触角orが高まってゆき再び液体
反撥性を示すのが認められる。
は不活性ガス雰囲気中で再び加熱する〔第2図(b)〕
と、膜2表面は後退接触角orが高まってゆき再び液体
反撥性を示すのが認められる。
このような現象と幾分類似した現象を示すものとして、
先に挙げた特公昭54−41.902号公報に記載され
た方法がある。だが、ここに開示されている方法では、
記録材料に実質的にディスオーダーでかつ一般的に不定
形のメモリ物質の層を得るようにしている点で、メカニ
ズム上大きく相違したものとなっている。すなわち、本
発明では、接触材料の存在なしでは、記録体表面には状
態変化が起こり得ない。また、特公昭54−41902
号公報に記載された方法では、簡単な操作で可逆性を得
ることはできない。
先に挙げた特公昭54−41.902号公報に記載され
た方法がある。だが、ここに開示されている方法では、
記録材料に実質的にディスオーダーでかつ一般的に不定
形のメモリ物質の層を得るようにしている点で、メカニ
ズム上大きく相違したものとなっている。すなわち、本
発明では、接触材料の存在なしでは、記録体表面には状
態変化が起こり得ない。また、特公昭54−41902
号公報に記載された方法では、簡単な操作で可逆性を得
ることはできない。
第3図(a)のごとく、画像情報に応じて液体3の接触
下で膜2に熱を加える(第3図(b−])のように、液
体不存在のものに膜2に画像情報に応じて熱を加えた状
態のもとて液体と接触させても同様である〕と、加熱部
分の膜2の表面が液体付着性化される。図中、4はヒー
ター、31は液体供給口、41は赤外線ランプ、5はレ
ンズ、6はシャッターを表わしている。
下で膜2に熱を加える(第3図(b−])のように、液
体不存在のものに膜2に画像情報に応じて熱を加えた状
態のもとて液体と接触させても同様である〕と、加熱部
分の膜2の表面が液体付着性化される。図中、4はヒー
ター、31は液体供給口、41は赤外線ランプ、5はレ
ンズ、6はシャッターを表わしている。
第3図(a)は膜2の加熱は基板1を通して行なってい
る例であるが、第3図(+)−2)に示した例は、液体
3を通して加熱がなされている例である。
る例であるが、第3図(+)−2)に示した例は、液体
3を通して加熱がなされている例である。
この膜2の水溶液接触下での加熱前後の水溶液の接触角
の変動、及び、このものを更に空気中で加熱した場合の
水溶液の接触角の変動の一例を第4図に示した。第4図
において、Oは前進接触角、△は後退接触角を表わして
いる。
の変動、及び、このものを更に空気中で加熱した場合の
水溶液の接触角の変動の一例を第4図に示した。第4図
において、Oは前進接触角、△は後退接触角を表わして
いる。
一般に、後退接触角が90°以上の高い値の場合、その
表面は液体反撥性を示し、90°以下の低い値の場合、
その表面は液体付着性を示す。
表面は液体反撥性を示し、90°以下の低い値の場合、
その表面は液体付着性を示す。
接触材料に接した状態での記録体表面の加熱温度として
は、50℃〜250℃の範囲が望ましく、更に望ましく
は80℃〜150℃である。加熱時間は0.1ミリ秒〜
1秒程度で、望ましくは0.5ミリ秒〜2ミリ秒である
。加熱のタイミングとしては、潜像形成であれば、■記
録体表面を加熱した後、冷めないうちに接触材料に接触
させる、■記録体表面に接触材料を接触させた状態のも
とに記録体表面を加熱させる、のいずれかでよい。一方
、潜像消去であれば、接触材料の不存在下で記録体表面
を50〜300℃、望ましくは100〜1.80℃に加
熱すればよい。加熱時間はいずれの場合も1ミリ秒〜1
0秒程度で、好ましくは10ミリ秒〜1秒である。
は、50℃〜250℃の範囲が望ましく、更に望ましく
は80℃〜150℃である。加熱時間は0.1ミリ秒〜
1秒程度で、望ましくは0.5ミリ秒〜2ミリ秒である
。加熱のタイミングとしては、潜像形成であれば、■記
録体表面を加熱した後、冷めないうちに接触材料に接触
させる、■記録体表面に接触材料を接触させた状態のも
とに記録体表面を加熱させる、のいずれかでよい。一方
、潜像消去であれば、接触材料の不存在下で記録体表面
を50〜300℃、望ましくは100〜1.80℃に加
熱すればよい。加熱時間はいずれの場合も1ミリ秒〜1
0秒程度で、好ましくは10ミリ秒〜1秒である。
続いて、記録体表面に実際に画像情報の記録を行なう手
段について、より詳細に説明する。
段について、より詳細に説明する。
本発明においては、液体又は蒸気雰囲気下で画像信号に
応じて記録体の表面を加熱し、記録体の表面に液体付着
領域を形成(潜像形成)し、その後、この潜像部に記録
剤を接触させる手段により潜像部に記録剤を付着させ(
現像)、この後、記録紙に記録体表面の記録剤を転写す
る方法(間接記録方法)が基本となる。また、該方法に
おいて、接触材料として記録剤を兼ねるものを使用する
と、潜像形成と現像が同時に行なわれる。更に、これら
の方法において、記録剤を転写後、再び潜像部に記録剤
を接触させる手段を行なえば、記録体を印刷版として用
いた印刷方法となる。また、これらの方法において、記
録剤を転写後、液体又は蒸気の不存在下で潜像を形成し
た記録体の表面を加熱しa像を消去することにより、記
録体が再生可能な記録方法となる。第5図(a)及び(
b)に間接記録方法(印刷法)、記録体の可逆的な間接
記録方法(繰り返し記録方法)の代表的なプロセスを示
す。
応じて記録体の表面を加熱し、記録体の表面に液体付着
領域を形成(潜像形成)し、その後、この潜像部に記録
剤を接触させる手段により潜像部に記録剤を付着させ(
現像)、この後、記録紙に記録体表面の記録剤を転写す
る方法(間接記録方法)が基本となる。また、該方法に
おいて、接触材料として記録剤を兼ねるものを使用する
と、潜像形成と現像が同時に行なわれる。更に、これら
の方法において、記録剤を転写後、再び潜像部に記録剤
を接触させる手段を行なえば、記録体を印刷版として用
いた印刷方法となる。また、これらの方法において、記
録剤を転写後、液体又は蒸気の不存在下で潜像を形成し
た記録体の表面を加熱しa像を消去することにより、記
録体が再生可能な記録方法となる。第5図(a)及び(
b)に間接記録方法(印刷法)、記録体の可逆的な間接
記録方法(繰り返し記録方法)の代表的なプロセスを示
す。
次に、記録体をはしめ、記録方法における装置構成につ
いて述へる。
いて述へる。
記録体は、加熱状態でかつ液体と接触させた場合に後退
接触角が低下する表面(便宜」二「膜2」又は「記録体
表面」と記すことがある)を有しているものであれば、
その形態にとられれない。従って、記録体は、剛体円筒
形状であっても、柔軟性を有するフィルム形状であって
もかまわない。ただ、剛体円筒形状記録体(円筒状剛体
の表面に膜2が形成されたもの)は、記録体を稼働する
際位置ずれ等が生じにくく制御性に優れているので、剛
体円筒形状の記録体が好ましい。このような記録体の作
製は膜2を基板上に成膜する方法や、成形体そのもので
作成する方法が採用される。特に、前記成形体は一般に
機械強度が弱いため基板」二に成膜する方法が望ましい
。なお、成形体そのもので記録体をつくる場合において
も、その表面には膜2が形成されていなければならない
ことはいうまでもない。
接触角が低下する表面(便宜」二「膜2」又は「記録体
表面」と記すことがある)を有しているものであれば、
その形態にとられれない。従って、記録体は、剛体円筒
形状であっても、柔軟性を有するフィルム形状であって
もかまわない。ただ、剛体円筒形状記録体(円筒状剛体
の表面に膜2が形成されたもの)は、記録体を稼働する
際位置ずれ等が生じにくく制御性に優れているので、剛
体円筒形状の記録体が好ましい。このような記録体の作
製は膜2を基板上に成膜する方法や、成形体そのもので
作成する方法が採用される。特に、前記成形体は一般に
機械強度が弱いため基板」二に成膜する方法が望ましい
。なお、成形体そのもので記録体をつくる場合において
も、その表面には膜2が形成されていなければならない
ことはいうまでもない。
記録体基板に樹脂を用いた場合、このものは熱の良導体
とは言いがたく、記録体表面が加熱され液体付着性を有
するまでにはある程度の時間を要する。そこで、熱の良
導体を基板の全体に又は基板1上の部分に用いることが
考えられてよい。
とは言いがたく、記録体表面が加熱され液体付着性を有
するまでにはある程度の時間を要する。そこで、熱の良
導体を基板の全体に又は基板1上の部分に用いることが
考えられてよい。
第6図(a)は、例えば金属のような熱の良導体を8一
基板(金属基板11)とし、その上に有機薄膜j2を蒸
着し、更にその上に、膜2を形成したものであるが、こ
のようにすると垂直方向の熱伝導速度が向上する。ここ
での有機薄膜12としては、ポリイミド、ポリエステル
、フタロシアニンなどが例示される。印字ドツトが比較
的大きくてよい場合にはこの構成で充分であるが、両方
向への熱拡散により液体付着性を有する部分が拡大する
ため、−層の高密度印字を目的とする場合には適さない
。第6図(b)は、そのため、基板1上に熱の良導部分
を区切って設けることにより面方向への熱拡散を防ぎ、
液体付着性を有する部分2aの微小化を図ったものであ
る。第6図(b)において、llaは微小化された金属
膜を表わしている。
着し、更にその上に、膜2を形成したものであるが、こ
のようにすると垂直方向の熱伝導速度が向上する。ここ
での有機薄膜12としては、ポリイミド、ポリエステル
、フタロシアニンなどが例示される。印字ドツトが比較
的大きくてよい場合にはこの構成で充分であるが、両方
向への熱拡散により液体付着性を有する部分が拡大する
ため、−層の高密度印字を目的とする場合には適さない
。第6図(b)は、そのため、基板1上に熱の良導部分
を区切って設けることにより面方向への熱拡散を防ぎ、
液体付着性を有する部分2aの微小化を図ったものであ
る。第6図(b)において、llaは微小化された金属
膜を表わしている。
続いて、加熱による潜像形成手段について述べる。上記
したごとく、加熱源としては、ヒーターやサーマルヘッ
ドのごとき接触加熱源やレーザーや赤外線ランプのごと
き電磁波による非接触加熱源が望ましい。
したごとく、加熱源としては、ヒーターやサーマルヘッ
ドのごとき接触加熱源やレーザーや赤外線ランプのごと
き電磁波による非接触加熱源が望ましい。
これらの具体例として、液体と接した状態で記録体表面
を加熱する手段を述べる。なお、便宜上、基体1上に膜
2が形成されているタイプの記録体を例にとって説明を
進めることにする。まず、あらかじめ記録体表面に液体
3に接しておき、その接した状態で基体1側又は液体3
側から加熱を行なう手段〔第7図(a)及び(b)〕や
、初めに記録体表面側から加熱を行ない直ちに液体3を
記録体加熱部(記録体表面)に接触させる手段〔第7図
(C)及び(d)〕を採用することが望ましい。
を加熱する手段を述べる。なお、便宜上、基体1上に膜
2が形成されているタイプの記録体を例にとって説明を
進めることにする。まず、あらかじめ記録体表面に液体
3に接しておき、その接した状態で基体1側又は液体3
側から加熱を行なう手段〔第7図(a)及び(b)〕や
、初めに記録体表面側から加熱を行ない直ちに液体3を
記録体加熱部(記録体表面)に接触させる手段〔第7図
(C)及び(d)〕を採用することが望ましい。
液体3の供給手段としては、記録体下部に皿を設は液体
を満たし記録体が皿中の液体3に常に接するようにし、
加熱源を皿の近傍又は皿の中に配置する構成が最も簡単
な構成となる。皿の替わりに、液体を充填したスポンジ
状多孔質体34を用いても良い。電磁波による潜像形成
手段も」二記構成と基本的に同様である。
を満たし記録体が皿中の液体3に常に接するようにし、
加熱源を皿の近傍又は皿の中に配置する構成が最も簡単
な構成となる。皿の替わりに、液体を充填したスポンジ
状多孔質体34を用いても良い。電磁波による潜像形成
手段も」二記構成と基本的に同様である。
第7図において、42はレーザー光源、43はサーマル
ヘッドである。このようにして、記録体表面には潜像が
形成される。
ヘッドである。このようにして、記録体表面には潜像が
形成される。
上記手段により画像信号に応じて選択的に付与されだ液
体付着性領域に記録剤(インク)を付着させる手段とし
ては、記録剤3aを充填した皿を潜像形成手段配置位置
に対して記録体の進行方向に配置し5常に記録体に接し
ておく構成が最も簡11iである(第8図及び第9図)
。なお、第8図及び第9図に示すごとく、潜像形成に用
いる液体を記録剤と兼用すると一つの皿で構成でき、潜
像形成と顕像化とを一体化できるため、装置を小型化で
きる。
体付着性領域に記録剤(インク)を付着させる手段とし
ては、記録剤3aを充填した皿を潜像形成手段配置位置
に対して記録体の進行方向に配置し5常に記録体に接し
ておく構成が最も簡11iである(第8図及び第9図)
。なお、第8図及び第9図に示すごとく、潜像形成に用
いる液体を記録剤と兼用すると一つの皿で構成でき、潜
像形成と顕像化とを一体化できるため、装置を小型化で
きる。
間接記録においては、前記のとおり、例えば剛体円筒管
が記録体基板として用いられるのが有利である。潜像形
成及び現像(顕像化)後、例えば記録体上の記録剤3a
は記録紙6Iと直接接する手段を設けることで記録紙の
毛管作用により、記録紙61へ記録剤3aは転写される
(転写手段)。転写を行なう位置は、現像後であれば、
記録体のどの位置でもかまわないが、現像後、直ちに転
写が行なわれる位16が望ましい。転写後、潜像消去を
行なわず現像を繰り返えせば、この装置は印刷装置とな
る。
が記録体基板として用いられるのが有利である。潜像形
成及び現像(顕像化)後、例えば記録体上の記録剤3a
は記録紙6Iと直接接する手段を設けることで記録紙の
毛管作用により、記録紙61へ記録剤3aは転写される
(転写手段)。転写を行なう位置は、現像後であれば、
記録体のどの位置でもかまわないが、現像後、直ちに転
写が行なわれる位16が望ましい。転写後、潜像消去を
行なわず現像を繰り返えせば、この装置は印刷装置とな
る。
第10図に」二記印刷装置の例を示す。一つの画像情報
の印刷が終了すれば、記録体を交換することで5】− 又は潜像消去を行なうことで、別の画像情報の記録・印
刷が可能となる。
の印刷が終了すれば、記録体を交換することで5】− 又は潜像消去を行なうことで、別の画像情報の記録・印
刷が可能となる。
また、手記転写手段の後、液体又は前置の不存在下で、
すなわち、空気中、真空中、又は不活・Pl。
すなわち、空気中、真空中、又は不活・Pl。
ガス中で潜像部付近を加熱することにより潜像を消去す
れば、記録体は繰り返し使用可能な記録装置となる(第
11図)。なお、潜像消去のための加熱源としては、ヒ
ーターやサーマルヘラIへのごとき接触加熱源やレーザ
ーや赤外線ランプのごとき電磁波による非接触加熱源が
望ましい。加熱は記録体全面に行なっても良く、潜像部
のみ行なっても良い。但し、全面加熱の方が装置構成を
簡+9にてきるため、より望ましい。なお、潜像消去手
段は、消去のための加熱を行なったのち、再び潜像形成
を行なうまでの時間の間に記録体表面が実質的に冷却す
る位置に設ける。消去に必要な加熱温度は、当該記録体
表面の材料により異なるが、記録体表面の材料の後退接
触角低下開始温度以」−てがっ分解点以下の温度が望ま
しい。
れば、記録体は繰り返し使用可能な記録装置となる(第
11図)。なお、潜像消去のための加熱源としては、ヒ
ーターやサーマルヘラIへのごとき接触加熱源やレーザ
ーや赤外線ランプのごとき電磁波による非接触加熱源が
望ましい。加熱は記録体全面に行なっても良く、潜像部
のみ行なっても良い。但し、全面加熱の方が装置構成を
簡+9にてきるため、より望ましい。なお、潜像消去手
段は、消去のための加熱を行なったのち、再び潜像形成
を行なうまでの時間の間に記録体表面が実質的に冷却す
る位置に設ける。消去に必要な加熱温度は、当該記録体
表面の材料により異なるが、記録体表面の材料の後退接
触角低下開始温度以」−てがっ分解点以下の温度が望ま
しい。
記録紙(被転写体)としては、透明樹脂フィル11、普
通紙、インクジェット用紙、タイプ紙などが適当である
。
通紙、インクジェット用紙、タイプ紙などが適当である
。
次に、本発明を実施例により更に詳細に説明する。なお
、以下において示す部及び2はいずれも重量基準である
。
、以下において示す部及び2はいずれも重量基準である
。
実施例1
インクの調製
下記組成の混合物を50℃で撹拌溶解し、10μIll
のテフロンフィルターで不溶物を濾別して、インク41
、調製した。
のテフロンフィルターで不溶物を濾別して、インク41
、調製した。
(インク1)
C,1,ダイレクトブラック 193zグリセリン
20%水酸化ナトリウム(pH調
整剤) O,1%純水
残量↓を仁角上−ブリ」111スヒ 膜材料(記録体の表面材料)として含弗素アクリレ−1
〜材料であるダイキン工業社製撥水撥油剤「TG−70
2Jを用い、これをフレオンTF(三井フロロケミカル
社製)で2倍に希釈し、スライドガラスにコーl〜後、
90℃で2時間乾燥し、約1μm厚の膜を製膜した。こ
れを用いて、上記インク1の接触角に液滴法にて測定し
た。なお、比較として、純水についても測定を行なった
。
20%水酸化ナトリウム(pH調
整剤) O,1%純水
残量↓を仁角上−ブリ」111スヒ 膜材料(記録体の表面材料)として含弗素アクリレ−1
〜材料であるダイキン工業社製撥水撥油剤「TG−70
2Jを用い、これをフレオンTF(三井フロロケミカル
社製)で2倍に希釈し、スライドガラスにコーl〜後、
90℃で2時間乾燥し、約1μm厚の膜を製膜した。こ
れを用いて、上記インク1の接触角に液滴法にて測定し
た。なお、比較として、純水についても測定を行なった
。
次に、同様に作製した記録体を、第3図(a)のように
、膜2表面に純水を接触させた状態でガラス基板側から
加熱した(加熱温度130℃、5秒)。このものについ
ても、上記インク1及び純水の接触角測定を行なった。
、膜2表面に純水を接触させた状態でガラス基板側から
加熱した(加熱温度130℃、5秒)。このものについ
ても、上記インク1及び純水の接触角測定を行なった。
この加熱前後での後退接触角の差△θrは、インク1で
は60、純水では58であった。
は60、純水では58であった。
印字評価
」二記と同様に膜材料としてTG−702を用いてフレ
オンTFで2倍に希釈し、ポリイミドフィルム1(東し
デュポン社製カプトン2000V)上にコートし、90
℃で2時間乾燥して約1μm厚に製膜したフィルAh
k作製した。
オンTFで2倍に希釈し、ポリイミドフィルム1(東し
デュポン社製カプトン2000V)上にコートし、90
℃で2時間乾燥して約1μm厚に製膜したフィルAh
k作製した。
次に、第12図に示すごとく、膜2上にインク供給部3
5を設け、その真下のフィルム下部にサーマルヘソ1−
r +13 &フィル11に接して配置aシた。インク
1をインク供給部に充填し、画像情報に応じて、サー・
フルヘット4’:+lJ動し7、このフィル11を矢印
の方向へ動かしたところ、I摸2」−に画像情報に応じ
てインクが付着し1、これを記録紙へ転写した。
5を設け、その真下のフィルム下部にサーマルヘソ1−
r +13 &フィル11に接して配置aシた。インク
1をインク供給部に充填し、画像情報に応じて、サー・
フルヘット4’:+lJ動し7、このフィル11を矢印
の方向へ動かしたところ、I摸2」−に画像情報に応じ
てインクが付着し1、これを記録紙へ転写した。
転写画像は、地肌1iれもなく鮮明であ−)だ。転写後
も膜2のインク付、6性は保持され、繰り返し、同一パ
ターンの印刷がi1能であった。更に、空気中で喚を加
熱したところ、インク付着性は除去された。
も膜2のインク付、6性は保持され、繰り返し、同一パ
ターンの印刷がi1能であった。更に、空気中で喚を加
熱したところ、インク付着性は除去された。
実施例2
インクの調製
下記組成の混合物を50°Cで撹拌溶解し、IOpmの
テフロンフィルターで不溶物を濾別して、インク2を調
製した。
テフロンフィルターで不溶物を濾別して、インク2を調
製した。
(インク2)
C,1,ダイ1ノクトブラソク 1544%エチレング
リコール 30%ホルムアミド
10%テトラメチルアンモニウム ハイドロオキサイド(1錦水溶液)0.5%純水
残置 ト記インク2を用い、実施例1と同様にして接触角測定
及び印字評価を行なったところ、後退接触角の加熱前後
での差は45度であった。また、画像は鮮明で地肌汚れ
もなかった。
リコール 30%ホルムアミド
10%テトラメチルアンモニウム ハイドロオキサイド(1錦水溶液)0.5%純水
残置 ト記インク2を用い、実施例1と同様にして接触角測定
及び印字評価を行なったところ、後退接触角の加熱前後
での差は45度であった。また、画像は鮮明で地肌汚れ
もなかった。
実施例3
インクの調製
下記組成の混合物を50℃で撹拌溶解し、10μmのテ
フロンフィルターで不溶物を濾別して、インク3を調製
した。
フロンフィルターで不溶物を濾別して、インク3を調製
した。
(インク3)
C,1,フードブラック 2 4%
グリセリン 35%ジエチレ
ングリコールモノブチルエーテル 5z水酸化ナトリウ
ム 0.2%純水
残量 上記インク3を用い、実施例1と同様にして接触角測定
及び印字評価を行なったところ、後退接触角の加熱前後
での差は37度であった。また、画像は鮮明で地肌汚れ
もなかった。
グリセリン 35%ジエチレ
ングリコールモノブチルエーテル 5z水酸化ナトリウ
ム 0.2%純水
残量 上記インク3を用い、実施例1と同様にして接触角測定
及び印字評価を行なったところ、後退接触角の加熱前後
での差は37度であった。また、画像は鮮明で地肌汚れ
もなかった。
実施例・1
イーシクΦ−調訛
Y:記組成の混合物を50℃で撹拌溶解し、I Opm
のテフロンフィルターで不溶物を濾別して、インク4を
調製した。
のテフロンフィルターで不溶物を濾別して、インク4を
調製した。
(インク・・1)
c4.ソルヘントフラック 274%
エチレンクリコール 40%ジエ
チレングリコールモノブチルエーテル56%1−記イン
ク4を用い、実施例1と同様にして接触角測定及び印字
評価を行なったところ、後退接触角の加熱前後での差は
30度であった。また、画像は鮮明で地肌汚れもなかっ
た2゜ 実施例5 不ン−りの調−製 −1−記組成の混合物を50’Cて撹拌溶量′じ、l
G I+mのテフロンフィルターで不溶物を濾別して、
インク5を調製し7た。
チレングリコールモノブチルエーテル56%1−記イン
ク4を用い、実施例1と同様にして接触角測定及び印字
評価を行なったところ、後退接触角の加熱前後での差は
30度であった。また、画像は鮮明で地肌汚れもなかっ
た2゜ 実施例5 不ン−りの調−製 −1−記組成の混合物を50’Cて撹拌溶量′じ、l
G I+mのテフロンフィルターで不溶物を濾別して、
インク5を調製し7た。
(インク5)
C,1,アシッドレット 254
z
グリセリン
25%
純水 残量
」―記インク5を用い、実施例1と同様にして接触角測
定及び印字評価を行なったところ、後退接触角の加熱前
後での差は35度であった。また、画像にはにじみは認
められなかった。
定及び印字評価を行なったところ、後退接触角の加熱前
後での差は35度であった。また、画像にはにじみは認
められなかった。
比較例1
インクの調製
下記組成の混合物を50℃で撹拌溶解し、10 )Jm
のテフロンフィルターで不溶物を濾別して、インク6を
調製した。
のテフロンフィルターで不溶物を濾別して、インク6を
調製した。
(インク6)
C,1,ダイレクトブラック 154 4
%グリセリン 40%純水
残量 −F、記インク6を用い、実施例1と同様にして接触角
測定及び印字評価を行なったところ、後退接触角の加熱
前後での差は2度であった。また、画像はにじみ、地肌
汚れがひどかった。
%グリセリン 40%純水
残量 −F、記インク6を用い、実施例1と同様にして接触角
測定及び印字評価を行なったところ、後退接触角の加熱
前後での差は2度であった。また、画像はにじみ、地肌
汚れがひどかった。
比較例2
インクの調製
下記組成の混合物を50℃で撹拌溶解し、10μnlの
テフロンフィルターで不溶物を濾別して、インク7を調
製した。
テフロンフィルターで不溶物を濾別して、インク7を調
製した。
(インク7)
C,1,ソルベントブラック 274rエチレングリコ
ール 60%エチレングリコールモ
ノブチルエーテル 35%IH,114,911−ヘキ
サデカフロロ−1−ノナノール 1%上記インク7を用
い、実施例1と同様にして接触角測定及び印字評価を行
なったところ、後退接触角の加熱前後での差は1度であ
った。また、画像はにじみ、地肌汚れがひどかった。
ール 60%エチレングリコールモ
ノブチルエーテル 35%IH,114,911−ヘキ
サデカフロロ−1−ノナノール 1%上記インク7を用
い、実施例1と同様にして接触角測定及び印字評価を行
なったところ、後退接触角の加熱前後での差は1度であ
った。また、画像はにじみ、地肌汚れがひどかった。
以」二の結果から、本発明の記録方法によると、鮮明で
地肌汚れのない画像が得られることが分かる。
地肌汚れのない画像が得られることが分かる。
請求項(1)の記録方法は、記録剤を選択することによ
って、該記録剤を記録体に接触させた場合の該記録体表
面における潜像領域と非潜像領域との後退接触角の差が
10度以上になるような構成としたことから、本記録方
法によれば、鮮明で地肌汚れのない、しかも高解像度で
階調性の高い画像が得られる。
って、該記録剤を記録体に接触させた場合の該記録体表
面における潜像領域と非潜像領域との後退接触角の差が
10度以上になるような構成としたことから、本記録方
法によれば、鮮明で地肌汚れのない、しかも高解像度で
階調性の高い画像が得られる。
また、請求項(2)の記録方法は、接触材料として前記
の記録剤を兼ねるものを使用するという構成としたこと
から、潜像形成と顕像化とを一本化することができるの
で、記録装置を小型化できるという効果が加わる。
の記録剤を兼ねるものを使用するという構成としたこと
から、潜像形成と顕像化とを一本化することができるの
で、記録装置を小型化できるという効果が加わる。
第1図は表面自己配向機能を有する形態の模式的な四側
の図である。 第2図及び第3図は本発明方法を基本的に説明するため
の図である。 第4図は本発明の実施で用いらる記録体表面に液体を接
触させた状態で記録体表面を加熱した場合、その記録体
表面にみられる後退接触角Orの変化を表わした図であ
る。 第5図は本発明方法の二つの態様を示したものである。 第6図、第7図、第8図、第9図、第10図、第11図
、及び第12図は本発明方法の実施の様子を表わした図
である。 1・・基板、2・・・記録層、2a・微小化された記録
層、3 液体、3a・記録剤、3b・付着した記録剤、
4・ヒーター、5・・・レンズ、6・・シャッター、7
・記録体、11・・・金属基板、11.a・・微小化さ
れた金属膜、12・有機薄膜、31・・液体供給口、3
4・・スポンジ状多孔質体、35・・・インク供給部、
41・−赤外線ランプ、42・・・レーザー光源、43
・・サーマルヘッド、61 記録紙、62 転写ロ
ーラー 特許出願人 株式会社 リ コ
の図である。 第2図及び第3図は本発明方法を基本的に説明するため
の図である。 第4図は本発明の実施で用いらる記録体表面に液体を接
触させた状態で記録体表面を加熱した場合、その記録体
表面にみられる後退接触角Orの変化を表わした図であ
る。 第5図は本発明方法の二つの態様を示したものである。 第6図、第7図、第8図、第9図、第10図、第11図
、及び第12図は本発明方法の実施の様子を表わした図
である。 1・・基板、2・・・記録層、2a・微小化された記録
層、3 液体、3a・記録剤、3b・付着した記録剤、
4・ヒーター、5・・・レンズ、6・・シャッター、7
・記録体、11・・・金属基板、11.a・・微小化さ
れた金属膜、12・有機薄膜、31・・液体供給口、3
4・・スポンジ状多孔質体、35・・・インク供給部、
41・−赤外線ランプ、42・・・レーザー光源、43
・・サーマルヘッド、61 記録紙、62 転写ロ
ーラー 特許出願人 株式会社 リ コ
Claims (2)
- (1)加熱状態でかつ液体と接触させたときに後退接触
角が低下する表面を有する記録体の表面と、液体、蒸気
及び前記記録体における後退接触角の低下開始温度以下
で液体となるか又は液体若しくは蒸気を発生する固体か
ら選ばれる接触材料とを接触させた状態で、前記記録体
表面の後退接触角の低下開始温度以上に選択的に加熱す
ることにより、又は前記記録体の表面を選択的に加熱し
、前記記録体の表面の加熱部が前記記録体表面の後退接
触角の低下開始温度以上に保持された状態で前記接触材
料と接触させることにより、前記記録体表面に加熱温度
に応じた後退接触角を示す領域を形成させた後、該領域
に記録剤を接触付着させ、これを被転写体に転写する記
録方法であって、前記記録剤が着色剤とこれを溶解又は
分散する展開剤とからなり、しかも前記記録剤を前記記
録体表面に接触させた場合の加熱温度に応じた後退接触
角を示す領域と該領域外の前記記録体の表面との後退接
触角の差が10度以上であることを特徴とする記録方法
。 - (2)加熱状態でかつ液体と接触させたときに後退接触
角が低下する表面を有する記録体の表面と、液体、蒸気
及び前記記録体における後退接触角の低下開始温度以下
で液体となるか又は液体若しくは蒸気を発生する固体か
ら選ばれる接触材料とを接触させた状態で、前記記録体
表面の後退接触角の低下開始温度以上に選択的に加熱す
ることにより、又は前記記録体の表面を選択的に加熱し
、前記記録体の表面の加熱部が前記記録体表面の後退接
触角の低下開始温度以上に保持された状態で前記接触材
料と接触させることにより、前記記録体表面に加熱温度
に応じた後退接触角を示す領域を形成させ、しかも前記
接触材料として記録剤を兼ねるものを使用し、前記記録
体の表面に付着した記録剤を被転写体に転写する記録方
法であって、前記記録剤が着色剤とこれを溶解又は分散
する展開剤とからなり、しかも前記記録剤を前記記録体
表面に接触させた場合の加熱温度に応じた後退接触角を
示す領域と該領域外の前記記録体の表面との後退接触角
の差が10度以上であることを特徴とする記録方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2264258A JP3063770B2 (ja) | 1990-10-02 | 1990-10-02 | 記録方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2264258A JP3063770B2 (ja) | 1990-10-02 | 1990-10-02 | 記録方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04141484A true JPH04141484A (ja) | 1992-05-14 |
JP3063770B2 JP3063770B2 (ja) | 2000-07-12 |
Family
ID=17400680
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2264258A Expired - Fee Related JP3063770B2 (ja) | 1990-10-02 | 1990-10-02 | 記録方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3063770B2 (ja) |
-
1990
- 1990-10-02 JP JP2264258A patent/JP3063770B2/ja not_active Expired - Fee Related
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---|---|
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