JPH04124892A - 自由電子レーザ - Google Patents

自由電子レーザ

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JPH04124892A
JPH04124892A JP2413006A JP41300690A JPH04124892A JP H04124892 A JPH04124892 A JP H04124892A JP 2413006 A JP2413006 A JP 2413006A JP 41300690 A JP41300690 A JP 41300690A JP H04124892 A JPH04124892 A JP H04124892A
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undulator
free electron
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magnetic field
laser
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/0903Free-electron laser

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [0001]
【産業上の利用分野】
本発明は、自由電子レーザに関し、特に、非常に短期間
だけ極めて高い磁場を生成することのできる新しいパル
ス・パワー・アンジュレータによる、高利得・単一パス
の自由電子レーザ(FEL)に関する。 [0002]
【従来の技術】
通常の気体レーザ及び固体レーザは、単色である。即ち
、それらは、それらのレーザ媒質におけるエネルギ遷移
に対応する特定の波長のみを発生することができる。色
素レーザは、狭い範囲に亘って調節され得るが、光ポン
ピング用の気体[0003] 対照的に、Madeyへの米国特許第3,822,41
0号に記載されている自由電子レーザは、極めて適応性
の高いコヒーレント放射源を提供する。何故ならばで作
動するからである。自由電子レーザにおいては、高エネ
ルギ電子・(即ち、光速度に近い速度まで加速された電
子)が、レーザ媒質の原子に結び付いたままでいるので
はなく、真空を通過するビーム内で移動する。電子は自
由であるので、それらが放出する放射の波長は、原子の
2つのエネルギ・レベル間の許容遷移に対応する特定の
波長に限定されない。高エネルギ電子ビームカ飄アンジ
ュレータとして知られている磁石の集成装置によって生
成される、横方向の、空間的に周期的な磁場を通過させ
られる際に、放射が生成される。アンジュレータの磁場
は電子のビームを、横方向に、左右に曲げる。ビーム内
の電子が向きをそらされる度に、それは、シンクロトロ
ン(広帯域即ちインコヒーレント)放射のバーストを放
出する。レーザカ飄発振が互いに加え合わされるよう適
切に設計されているならば、個々のバーストの結合は、
コヒーレント放射のビームを、次式によって近似的に与
えられる波長で産出する。 [0004] λ =(λ /2ア )(1+k  /2+χ θ )
    (1)    O ここで、 λ は、コヒーレント光の波長(cm)、λ0は、アン
ジュレータ周期、即ち反対の極性の隣接する磁石の間の
距離(cmγは、電子エネルギ/静止質量エネルギ、及
びkは、次式によって定義されるパラメータである。 に=eBλo/yrmc  =0.9348λo(2)
ここで、 Bは、磁場のrms(テスラ)である。 [0005] 上式(1)から判るように、自由電子レーザの出力波長
は、電子エネルギ(γに比例)を変化させることによっ
て調節され得る。短波長レージング(スペクトルがX線
領域)に対しては、自由電子レーザは、極めて高い、I
GeVのオーダの電子エネルギを必要とする。 自由電子レーザのサイズも問題である。何故ならば、磁
石の隣接する極の間の距離が、式(2)によって制限さ
れるからである。kはBA0に比例し、且っに、1が望
ましいので、もしA0 (磁石の隣接するN極とS極と
の間の距離)が10分の1に減少させられるならば、B
は10倍に増大させられなければならず、そして、10
テスラは、通常の磁石(100個のオーダの直列の磁極
を必要とする)では非現実的である。 [0006]
【発明が解決しようとする課題】
必要な磁場強度及び電子ビーム放射力を得ることの難し
さに加えて、装置の利得が、スペクトルの短波長(< 
1000オングストローム)領域における放出に関して
問題となる。もし単一パス利得が1未満であるならば、
レージング(光増幅)を得るべく、光子ビームを軸方向
で前後にアンジュレータを通過させることが必要になる
。これは、通常の自由電子レーザにおいては、アンジュ
レータ構造部材の対向した端部における鏡によって達成
される。しかしながら、X線を反射することのできる鏡
は存在しない。解決法は、レーザを、アンジュレータを
通過する単一パスで結果的に光増幅を生ずるところの超
放射状態にすることである。 例えば、R,Bonifacio及びF、 Casag
rande著”The 5uperradiant R
egime of aFree Electron L
a5er ”  Nuclear Instrumen
ts and Methods in Physics
Research、第A239巻、第36〜42頁(1
985年)参照。 [0007] 超放射を得るには、電子ビームは、非常に濃密でなけれ
ばならず(即ち、極めて高いプリリアンスを有し、且つ
低いエミツタンスでなければならない)、そして、磁場
強度は、非常に短期間だけ非常に強くなければならない
。 [0008]
【課題を解決するための手段】
本発明に係る自由電子レーザは、短波長レージングと結
び付いている上記問題点を解決すべく設計された新規な
構造を有している。 特に、本発明に係る自由電子レーザは、3つの基本的な
要素がらなっている。 1)高ブリリアンス電子源/インジェクタ、2)電子ビ
ームに高エネルギを与える線形加速器(ライナック)、
及び3)短期間だけ極めて高い磁場(数テスラ)をもた
らし得るアンジュレータ。 [0009] 電子注入源は、ライナック自身の最初の伝送線路、又は
高速サーキュラ・スイッチによって駆動されるラジアル
線路変成器である。 [0010] ライナックは、1990年1月9日に特許された米国特
許第4,893,089号に開示されている構造を有し
ており、この構造においては、複数の加速間隙が直列に
配設されている。複数の伝送線路であって、各々が個々
の間隙を提供するものに沿って同時に伝播するところの
単一パルスのエネルギを放出即ちスイッチングすること
により、それらの間隙は、次から次へと付勢される。伝
送線路は長さにおいて漸増し、もって、加速された粒子
集群が間隙を通過する際、パルス・パワーカ飄各間隙に
存在する。 [0011] 本発明に係るアンジュレータは、伝送線路の端部が、開
放されているのではなく、実質的に短絡されているとい
うことを除いて、ライナックと同様な基本構造を有して
おり、電場を磁場に変換する。″短絡回路″は、完全で
はなく、むしろ小さい抵抗を有すべく設計されており、
これにより、僅かな電場が残留する。この電場は、ビー
ムがアンジュレータの各間隙を横切る際に、放射の形で
ビームによって失われたエネルギを補償する。 [0012]
【実施例】
以下、添付図面を参照して本発明の実施例について説明
する。 図面、特に図1及び図2を参照するに、自由電子レーザ
10は、インジェクタ20、線形加速器即ちライナック
30及びアンジュレータ40からなっている。 [0013] インジェクタ20は、図2に示されているラジアル線路
変成器(RLT) 、又は、より好適に、図3に示され
ているライナック30の第1段である。図3に示されて
いる実施例においては、電子は、プレート22とプレー
ト24との間の電場のパルスにより、参照符号21で指
示されている領域から抽出される。抽出された電子は、
プレート24内のアパーチャ28を通過し、ライナック
30の加速構造部材に久る。 [0014] インジェクタ20に印加されるパルスは、ブルームライ
ン(Blumlein)型スイッチ(後述)により、数
十ピコ秒のオーダの立上がり時間で好適にもたらされる
。 利得を更に増大させ、且つ、電場放出電流に起因する、
振幅及びパルス形状のゆらぎを除去するため、インジェ
クタ20は、高誘電率材料23(例えば、サファイア、
水晶、あるいは他の高周波・低損失プラスチック誘電体
)を充填されている。 [0015] 本発明に係る上述のインジェクタは、陽極/陰極間隙に
印加される非常に大きい電場により、極めて高いフ刃す
アンス且つ低いエミツタンスの電子源を提供する。上述
のように、低エミツタンス且つ高ブリリアンスは、短波
長超放射にとって必要である。最短の波長は、電子ビー
ムのエミツタンスのオーダであり、そして、単一パスに
おける高利得は、高電流密度によってのみ可能である。 [0016] インジェクタ20から抽出された電子集群は、3 M 
e Vのオーダのエネルギでインジェクタ20を離れる
。しかしながら、短波長レージングのためには、自由電
子レーザは、数百MeVからIGeVまでのオーダの電
子エネルギを必要とする。従って、電子集群にエネルギ
を加えることが必要であり、これはライナック30によ
って達成される。 [0017] 図4は、多素子ライナック30の1つの素子を示してい
る。なお、多素子ライナックは、米国特許第4,893
,089号(1988年9月14日出願の米国特許出願
第244,121号)、及びF、 Villa著”A 
New 5w1tched PowerLinacSt
ructure”  5LAC−PUB−4894(1
989年3月)に記載されており、これらの開示は、引
用によって本明細書中に組み入れられている。手短に言
えば、ライナック30は、直列に配列されている複数の
加速間隙を備えてに伝播するところの単一パルスのエネ
ルギを放出即ちスイッチングす゛ることにより、それら
の間隙は、次から次へと付勢される。伝送線路は長さ方
向に累進的にされており、加速器電子集群が通過する各
間隙にパワー・パルスが存在する。 [0018] より具体的には、図4のライナック30は、離隔した平
行なプレート31,32を備えており、それらは、それ
らの縦方向の中間領域が縦方向に裂かれて、狭いストリ
ップ即ちリボン31−1〜32−5を形成されており、
これらのリボンは曲折され、プレート31.32の曲折
されていない部分が配列させられている面に直角な面内
に、それらは配列させられている(あるいは、加速器は
、1990年12月4日こ特許された米国特許第4,9
75,917号(米国特許出願第461.059号)に
記載されているパ捩れのない″構造を有していてもよい
)0リボン31−1〜32−5の各々の中心にはアパー
チャ33が存在し、このアパーチャを貫通してほぼ直線
の粒子路即ち加速路39が延在している。ライナック3
0にパワーを注入する手段は、電荷蓄積プレート34及
びノーマルオープンのスイッチ35によって概略的に図
示されている。電荷蓄積プレート34は、パワー人力領
域36における伝送線路プレート31.32間に配置さ
れている。ライナック30用のインジェクタは、図4の
左側と、図3におけるライナック30の2つの右側のユ
ニットに図示されている。スイッチ35は、図4のに左
上隅にのみ象徴的に示されている。実際の構造において
は、スイッチは、中央の電極即ち電荷蓄積プレート34
に沿い、同じ形をしている。 [0019] ライナック30のアパーチャ33と破線A−A’  と
の間の部分においでは、リボン31−1〜32−5を形
成すべくプレート31.32に切り込まれているスリッ
トは、破線A−A’で始まり、この破線は、それぞれの
プレート31.32゛の端縁31−6.32−6に対し
て非平行である。このことは、パワー人力領域36にお
いて注入されるパワー・パルスがリボン31−5.32
−5に到゛達するのに、それがリボン31−1.32−
1に到達するときよりもより長い時間かかかるというこ
とを意味する。従って、加速エネルギは、リボン31−
5及び32−5の間の粒子路即ち加速路39の区間に到
達する前に、リボン31−1及び32−1の間の区間に
到達し、もって、第3図に関して上方向の加速路39に
沿って進むようになるエネルギ勾配が効果的にもたらさ
れる。 [00201 誘電材料38が、そこを通って加速路39が延在してい
るところのアパーチャ33を有する、リボン31−1〜
32−5の中央部を除いて、プレー)31.32の間の
空間を満たしている。エネルギ・パルスの通過時間は、
絶縁体としての誘電材料38の誘電率によって制御され
る。パワー人力領域即ちパルス注入領域36における間
隔g が加速領域37における間隔g2よりも大きいこ
とによるプレート31及び32の間の空間のテーパは、
加速領域37における電場を制御する。電場を更に増大
させるため、リボン31−1〜32−5の各々は、その
パルス注入領域において、加速領域37における幅W2
よりも大きい幅W1を有している。 [0021] 図5は、エネルギの単一パルスをライナック30中へ生
成するためのスイッチ60を示している。スイッチ60
は、レーザでトリガされる気体電子なだれスイッチであ
り、この気体電子なだれスイッチは、適度な高電圧にお
ける比較的高電流の高信頼性・超高速スイッチングに使
用されるものである。そのようなスイッチは、R,E、
 Ca5sel、 F、 Villa著”High 5
peed Switching in Ga55es 
  S L AC−PUB−4858(1989年2月
)に記載されている。気体電子なだれスイッチ60は好
適なスイッチであるが、他のスイッチ(例えば、固体ス
イッチあるいは光電スイッチ)も、たとえそれらの効率
が多少悪くても、同様に可能である。 [0022] 図5に示されている気体電子なだれスイッチ60は、水
晶素子61を含むブルームライン型パルス形成網であり
、この水晶素子は、UV光に対して透明でありそして、
例えば30気圧まで加圧されているガス62で満たされ
ているキャビティ63を設けられている。キャビティ6
3は、電荷蓄積プレート即ち蓄積電極34のほぼ全幅に
亘って延在しており、この蓄積電極の縁部34aは、キ
ャビティ63内に配置されている。伝送線路プレート3
2の造形されている縁部32a特開平4−124892
 (1G) は、キャビティ63内に配置されている一方、プレート
31は、キヤ“ビテイ63内へ延出していない。プレー
ト31の縁部31aは、水晶素子61のスロット61a
内に配置されている。水晶素子60の一部は、蓄積電極
34及びプレート31.32の間に、並びに直接プレー
ト31及び32の間に挿入されている。 [0023] ガス62の最初のイオン化は、レーザ光によってもたら
され、このレーザ光はキャビティ63内に向けられてお
り、且つ蓄積電極即ち陽極34の縁部即ち陽極電極34
aの比較的近傍に集中させられている。これは、電子に
、陽極電極34aに向けての電子なだれを引き起こさせ
る。イオン化領域は、最初の分布から広がって行く。何
故ならば、電子なだれによって生成された電子は、周囲
のガス62をイオン化し、そして、電子は、電場の影響
の下に運動するからである。電子なだれの変位電流は、
プレート即ち電極31.32を横切るパルスを誘導する
[0024] 電気パルスの極端に短い持続時間のために、ライナック
30のピーク勾配は、3Gv/mのオーダと非常に高く
、このため、ライナックの長さは、IGeVの電子エネ
ルギに対して1メートルのオーダであり得る。ビームの
安定性を維持するのに必要な磁気集束装置(四極以上)
は、図示されていないが、当業者には自明である。 [0025] アンジュレータ40は、構造的にライナック30と同様
であり、パルス・パワー技術で作動する。主要な相違は
、アンジュレータ40の各セクションの端部が、磁場を
最小にすべく短絡させられているということである(ラ
イナック30の場合には開放されている)。この構造を
裏付ける理論は、以下の通りである。 [0026] 負荷Rで終端するインピーダンスZの平行プレート線路
を考慮する。R,= Zの場合、パルスは、末端から反
射せず、そして、E及びBは、E/c=B(cは光速度
)で関係付けられる。 [0027] 一般に、最初のパルス及びその反射の重畳に起因するR
の値を変化させることにより、(末端からある距離にお
いて)磁場を電場と交換することができる。 E=E  ・2R/ (Z+R) 及び B=E、・2Z/c (Z+R) ここで、E、は、末端前の、波の進行構造と結び付いて
いる電場である。 [0028] 上記の2つの式から、R=0のとき(末端が短絡されて
いるとき)、磁場は倍になり、電場はゼロになるという
ことが判る。逆に、R=(9)のとき(又は、Rが線路
特性インピーダンスZよりもずっと太きいとき) 電場
は倍になり、磁場はゼロになる。Rについてのこれらの
2つの極値の間で、ゼロから2Bまでの連続的なりの値
の組が、そして、2Eからゼロまでの対応する電場の組
が、それぞれ存在する。従って、電場を最大にすべく、
ライナック30の個々の伝送線路の端部は、開放されて
いる。対照的に、アンジュレータ40においては、伝送
線路の端部は、磁場を最大にすべく、短絡されている。 [0029] アンジュレータ40を形成する線路は、加速器の線路と
異なる。何故ならば、アンジュレータによって要求され
る磁場は、その符号を交互に変えるからである。これは
、2つの接地面によって取り巻かれている中央の導体か
らなる構造によって達成される。 [00301 実際、アンジュレータ40における伝送線路は、完全に
は短絡されておらず、アンジュレータのエネルギ間隙の
横断の間の放射に起因する電子集群のエネルギ損失を補
償するための小さい電場を保持するための小さいインピ
ーダンスを有している。その1Jzさい電場からの付加
されたエネルギは、アンジュレータをテーパ構造にする
ことなく、コヒーレンスに必要な限度内にビームを保つ
。小さい残留電場は、短絡素子の適切な形状により、及
び/又は僅かに抵抗性の材料を末端に使用することによ
り、調節され得る。 [0031] 75開平4−124892 (12) 加速器30及びアンジュレータ40の形状も異なってい
る。図3及、び図6 (加速器の端面図)に示されてい
るように、ライナック30における加速器伝送線路は、
異なる方向(60°ずつ離れている)からビームに向か
って収束する。対照的に、図3及び図7(アンジュレー
タにおける2つの隣接する伝送線路の先端部の拡大図)
に示されているように、アンジュレータ40は、単一の
平面内にのみ横たわっている。 [0032] アンジュレータの一素子の先端部の詳細が、図9(図8
に対して90°回転させられている)に示されている。 矢印を有する線は、磁力線を表している。 [0033] 図10及び図11は、アンジュレータの一素子の先端部
における電場及び磁場の方向を示す概略図である。図1
0に示されているように、電場Eの強度は、構造部材の
端部における短絡回路のために、非常に弱い。本質的に
、2倍の波強度を有する磁場のみが存在する。 [0034] 図12は、アンジュレータ40における3つの連続的な
伝送線路対を示しており、これらは、図13に示されて
いるような、磁場についての3つの全周期の合計を与え
る。ずっと多くの構造部材(50〜100まで)が、ア
ンジュレータ40を構成すべく使用される。 [0035] 図面は排気される領域を示していないが、自由電子レー
ザのライナック30及びアンジュレータ40の両方にお
ける電子の経路は真空の領域を通って延びており、且つ
スイッチ60も真空中にあるということは、当業者にと
っては明らかであろう。 [0036] アンジュレータ40の各素子で発生される電場は非常に
短時間(サブ−ナノ秒)の間のみ保持されるので、構造
部材は、永久磁石構造部材から得られ得る強度よりもず
っと大きい強度(20テスラのオーダ)の磁場を支持す
ることができる。この非常に高い磁場は、アンジュレー
タの構造ががなり短くなり、自由電子し−ザ全体でテー
ブルトップを占有するのみであるという結果をもたらす
。 [0037] 次表は、自由電子レーザに関する可能なパラメータの組
を含んでいる。これらの数字は、 ゛′テーブルトップ
″短波長自由電子レーザのパラメータの粗い見積りであ
る。 [0038] Emax           4      3  
    3   Gev/mアンジュレータ長   2
00   200   200   cmレーザ波長 
       2     2   150   nm
B            26    20    
20   テスラ八           〇、4  
 0.8   0.8   mmパルス長τ     
 0.2   0.5   0.5   ps電流密度
(J)       1. 3    10   5.
 3   Xl06A/cm2ア          
             460       65
2          75Eビーム       2
35   333    38   MeV利得/メー
トル      16      87117メ一トル
加速セクシヨン長    20     20    
 20   cmビーム負荷      0.8%  
0.8%  0.8%壁コンセント電力     15
     15     15   kW(はぼ20p
ps) [0039] この装置に関する実際の繰返し数は、パルス・パワー源
を用いた場合、100〜200ppsのオーダである。 もし構造部材が合成パルス法によって駆動されるならば
、より高い繰返し数も可能である。いずれにせよ、パル
ス−パルス安定性は重要である。1%未満のオーダでの
安定性は、通常、巧に設計されたパルス・パワー装置に
よって得られ得るが、本発明の自由電子レーザは、ライ
ナック30及びアンジュレータ40におけるE及びBの
(短期間及び長期間に亘る)極端に安定な値(1000
0分の1のオーダ)を必要とする。 [0040]
【発明の効果】
以上のように、本発明に係る自由電子レーザは、電場を
磁場に変換すべく、1990年1月9日こ特許された米
国特許第4,893,089号に記載されている加速構
造及び1990年1月9日こ特許された米国特許第4,
893,089号と類似の別の構造を、アンジュレータ
として使用する。電場の僅かな部分が残留することを許
容され、これにより、アンジュレータは、電子集群を共
振状態に保ちつつ、放射で失ったエネルギをビームに返
す。パルス・パワーで可能になる高い電場及び磁場のた
め、装置は、他の自由電子レーザと比較して、極めてコ
ンパクトである。
【図面の簡単な説明】
【国司 本発明に係る自由電子レーザを示すブロック図である。 【図2】 本発明に係る自由電子レーザを示す概略図である。
【図3】 電子インジェクタとして使用すべく形成されている、ラ
イナックの第1段の概略図である。
【図4】 本発明に使用される多素子ライナックの一素子の概略図
である。
【図5】 ライナックにパルス・パワーを注入するのに使用される
高速スイッチング装置の概略図である。
【図6】 加速器構成部材の端面図である。
【図7】 アンジュレータにおける2つの隣接する伝送線路の先端
部の拡大図である。
【図8】 本発明で使用されるアンジュレータの一素子の概略図で
ある。
【図9】 −素子の先端部の拡大図である。
【図101 アンジュレータの一素子の先端部における電場及び磁場
の方向を示す概略図である。 【図111 アンジュレータの一素子の先端部における磁場の方向を
示す概略図である。 【図12】 アンジュレータにおける3つの連続的な伝送線路対を示
す図である。
【図13】 磁場についての周期を示す図である。
【符号の説明】
10 自由電子レーザ 20 インジェクタ 23 高誘電率材料 30 ライナック 33 アパーチャ 34 電荷蓄積プレート 35 スイッチ 36 パワー人力領域 37 加速領域 38 誘電材料 39 加速路 40 アンジュレータ 60 気体電子なだれスイッチ 61 水晶素子 62 ガス 63 キャビティ
【書類名】
【図1】 図面 [図2】
【図31 【図4】
【図5】
【図6】
【図71 【図8】
【図9】
【図101 【図11】
【図12】
【図13】

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】自由電子レーザであって、 直線状の経路に沿って移動する荷電粒子を放出する第1
    の手段と、該荷電粒子を加速領域内で加速する第2の手
    段であって、該加速領域において直列に配列される複数
    の加速間隙を画成し、各該加速間隙は、該直線状の経路
    を横断して配列される一対の離隔した電極によって画定
    され、各該電極は、そこを通って該直線状の経路が延在
    するところのアパーチャを有しており、該電極は、それ
    ぞれの伝送線路によってエネルギ・パルス源に各々接続
    されており、離隔した電極の各対用の該伝送線路は、そ
    れらの端部において互いに他に対して開放されており、
    該荷電粒子は、該荷電粒子が該加速間隙を通過する際、
    各該エネルギ・パルスから得られる電場によって発生さ
    れる加速力の影響下に置かれる、ものと、 該第2の手段の後の該直線状の経路に沿って直列に配列
    される複数の対向する磁場を発生する第3の手段であっ
    て、該対向する磁場は、該直線状の経路を横断して配列
    される離隔した電極のそれぞれの対によって各々生成さ
    れ、各該電極は、そこを通って該直線状の経路が延在す
    るところのアパーチャを有しており、各該電極は、それ
    ぞれの伝送線路によってエネルギ・パルス源に接続され
    ており、離隔した電極の各対の該伝送線路は、それらの
    端部において互いに他に対して実質的に短絡されており
    、該荷電粒子は、該荷電粒子が当該第3の手段を通過す
    る際、各該エネルギ・パルスによって発生される該対向
    する磁場の影響下に置かれる、ものと、 を具備し、 加速された上記荷電粒子が、上記対向する磁場の影響下
    に置かれた際、実質的にコヒーレントな電磁放射を放出
    する、自由電子レーザ。
  2. 【請求項2】前記第1の手段が、ラジアル線路変成器を
    備えている請求項1記載の自由電子レーザ。
  3. 【請求項3】前記第2の手段が、線形加速器からなって
    おり、且つ、隣接する前記加速間隙の前記伝送線路の対
    が、互いに60°離れて配列されている請求項1記載の
    自由電子レーザ。
  4. 【請求項4】前記第3の手段が、アンジュレータからな
    っており、該アンジュレータの伝送線路が、単一の平面
    内に配列されている請求項1記載の自由電子レーザ。
  5. 【請求項5】前記アンジュレータの電極の各対の前記伝
    送線路の末端が、小さいインピーダンスを有しており、
    もって、前記荷電粒子が該アンジユレータの各対向する
    磁場を通過する際、該荷電粒子によって失われるエネル
    ギを補償するための電場が発生される請求項4記載の自
    由電子レーザ。
  6. 【請求項6】前記第2の手段及び前記第3の手段に加え
    られる前記エネルギ・パルスが、電子なだれスイッチ装
    置によって発生される請求項1記載の自由電子レーザ。
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