JPH04123310A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- JPH04123310A JPH04123310A JP24502290A JP24502290A JPH04123310A JP H04123310 A JPH04123310 A JP H04123310A JP 24502290 A JP24502290 A JP 24502290A JP 24502290 A JP24502290 A JP 24502290A JP H04123310 A JPH04123310 A JP H04123310A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、非磁性基材にCr薄膜およびCo合金薄膜を
積層した磁気記録媒体およびその製造方法に関するもの
である。
積層した磁気記録媒体およびその製造方法に関するもの
である。
[従来の技術]
従来、磁気記録媒体としては非磁性基材上に酸化鉄など
の針状粒子を樹脂バインダー中に分散させ塗布した塗布
型磁気記録媒体が主流であった。しかしながら、近年の
情報の高密度記録化の要求から。
の針状粒子を樹脂バインダー中に分散させ塗布した塗布
型磁気記録媒体が主流であった。しかしながら、近年の
情報の高密度記録化の要求から。
湿式メツキ、真空蒸着、スパッタリング等の薄膜形成法
により形成された強磁性薄膜を磁気記録層とする磁気記
録媒体が開発されており、中でもスパッタリング法によ
り作製される磁気記録媒体が高密度記録特性および量産
性に優れるもので、今後の磁気記録媒体の主流になるも
のと考えられる。
により形成された強磁性薄膜を磁気記録層とする磁気記
録媒体が開発されており、中でもスパッタリング法によ
り作製される磁気記録媒体が高密度記録特性および量産
性に優れるもので、今後の磁気記録媒体の主流になるも
のと考えられる。
所で、このスパッタリング法により作製される磁気記録
媒体(以下、メタルスパッタ媒体と称す、)は、一般的
にN1−P下地硬化層を設けた^1−Mg基根上にCr
薄膜、Co合金薄膜、保護膜を順次形成することにより
得られる。ローディングチャンバー、基板加熱チャンバ
ー−Crカソード、Co合金カソードおよび保護膜材カ
ソードを備えたスパッタリングチャンバーおよびアンロ
ーディングチャンバーから構成されるインライン型スパ
ッタリング装置により製造されるが、Cr薄膜、Co合
金薄膜および保護膜を形成する方法としては、基板が各
ターゲットの前を通過しなから成膜を行う通過型、基板
がターゲットの前に静止し成膜を行う静止対向型がある
が、何れの方式においても、メタルスパッタ媒体をII
?する際の手順は同じである。
媒体(以下、メタルスパッタ媒体と称す、)は、一般的
にN1−P下地硬化層を設けた^1−Mg基根上にCr
薄膜、Co合金薄膜、保護膜を順次形成することにより
得られる。ローディングチャンバー、基板加熱チャンバ
ー−Crカソード、Co合金カソードおよび保護膜材カ
ソードを備えたスパッタリングチャンバーおよびアンロ
ーディングチャンバーから構成されるインライン型スパ
ッタリング装置により製造されるが、Cr薄膜、Co合
金薄膜および保護膜を形成する方法としては、基板が各
ターゲットの前を通過しなから成膜を行う通過型、基板
がターゲットの前に静止し成膜を行う静止対向型がある
が、何れの方式においても、メタルスパッタ媒体をII
?する際の手順は同じである。
所で、このメタルスパッタ媒体で1iilFi!?度記
録を達成するためには、磁気特性の向上のみならず媒体
ノイズの低減が必要である9例えば刊行物(J、App
l。
録を達成するためには、磁気特性の向上のみならず媒体
ノイズの低減が必要である9例えば刊行物(J、App
l。
Pbys、59(2)、15 January 198
6 p557〜p563)に報告されているように、メ
タルスパッタ媒体の媒体ノイズは、γ−Fe20a塗布
やCo−Cr垂直媒体の媒体ノイズと比較して大きくこ
の大きな媒体ノイズは記録されたビットの磁化遷移領域
に発生するジグザグ磁壁の不規則性によるものである。
6 p557〜p563)に報告されているように、メ
タルスパッタ媒体の媒体ノイズは、γ−Fe20a塗布
やCo−Cr垂直媒体の媒体ノイズと比較して大きくこ
の大きな媒体ノイズは記録されたビットの磁化遷移領域
に発生するジグザグ磁壁の不規則性によるものである。
媒体ノイズを低減させる方法としては、例えば刊行物(
J、Appl−Phys−63(8)、15 Apri
l 19g& p3248〜p3253)に報告されて
いるように、磁性粒間に働< 1nterにranul
arexchenge couplingを低減させて
やればよく、具体的には例えば刊行物(Interma
g ’90 Conference予稿集BP−01)
に報告されているように、スパッタリング時のArガス
圧を高め、結晶粒間の1solationを高めてやれ
ばよい。
J、Appl−Phys−63(8)、15 Apri
l 19g& p3248〜p3253)に報告されて
いるように、磁性粒間に働< 1nterにranul
arexchenge couplingを低減させて
やればよく、具体的には例えば刊行物(Interma
g ’90 Conference予稿集BP−01)
に報告されているように、スパッタリング時のArガス
圧を高め、結晶粒間の1solationを高めてやれ
ばよい。
[発明が解決しようとする課ill]
以上のように、メタルスパッタ媒体においても高密度化
を達成するためには、媒体ノイズの低減が必須である。
を達成するためには、媒体ノイズの低減が必須である。
そのために、従来、Cr薄膜およびCo合金薄膜成膜時
のスパッタガスであるArガス圧を高めていたが、Ar
ガスを用いているので、媒体ノイズ低減に対して、ガス
圧の増大等の成膜条件による改善にも限度があり、より
一層の媒体ノイズ低減には結晶構造を考慮した新しい方
法が必要である。
のスパッタガスであるArガス圧を高めていたが、Ar
ガスを用いているので、媒体ノイズ低減に対して、ガス
圧の増大等の成膜条件による改善にも限度があり、より
一層の媒体ノイズ低減には結晶構造を考慮した新しい方
法が必要である。
本発明はかかる課題を解決するためになされたもので、
Co合金薄膜の結晶性を制御し、媒体ノイズが低減され
、高密度記録に適した磁気記録媒体およびその製造方法
を得ることを目的とする。
Co合金薄膜の結晶性を制御し、媒体ノイズが低減され
、高密度記録に適した磁気記録媒体およびその製造方法
を得ることを目的とする。
[課題を解決するための手段]
本発明の磁気記録媒体は、非磁性基材にCrN膜および
Co合金薄膜を積層したものにおいて、上記Cr薄膜お
よびCo合金薄膜がKrを含有することを特徴とするも
のである。
Co合金薄膜を積層したものにおいて、上記Cr薄膜お
よびCo合金薄膜がKrを含有することを特徴とするも
のである。
本発明の別の発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性
基材にCr#IIおよびCo合金薄膜をKrガスをスパ
ッタガスとして、スパッタリング法により積層するもの
である。
基材にCr#IIおよびCo合金薄膜をKrガスをスパ
ッタガスとして、スパッタリング法により積層するもの
である。
[作用コ
本発明において、Cr薄膜およびCO合金薄膜形成時の
スパッタガスをKrとしているので、Co合金薄膜の結
晶性が制御され、媒体ノイズが低減される。
スパッタガスをKrとしているので、Co合金薄膜の結
晶性が制御され、媒体ノイズが低減される。
[実施例]
図面は本発明の一実施例の磁気記録媒体の断面図であり
、(1)はAl−Mg基板、(2)はN1−P下地硬化
層で、A1−Mg基板(1)およびN1−P下地硬化層
(2)により非磁性基材(11)を構成しており、(3
)はCr薄膜、(4)はCo合金薄膜、(5)は保護層
である。
、(1)はAl−Mg基板、(2)はN1−P下地硬化
層で、A1−Mg基板(1)およびN1−P下地硬化層
(2)により非磁性基材(11)を構成しており、(3
)はCr薄膜、(4)はCo合金薄膜、(5)は保護層
である。
実施例
非磁性基板として−Ni−P下地硬化層が設けられたA
I −M g基板にテクスチャー加工を施したものを
用い、co合金としてG O62,SN i 3@Cr
v、sの組成のCo N i Crを、保護膜材とし
てはカーボンを用いた。Cr薄膜およびCo N i
Cr薄膜の膜厚をそれぞれ2Co0人、5Co人としス
パッタガスとしてKrを用いた。基板温度は2Co℃と
した。また、カーボン薄膜はArガスをスパッタガスと
して4Co人形成し、本発明の一実施例の磁気記録媒体
を得た。
I −M g基板にテクスチャー加工を施したものを
用い、co合金としてG O62,SN i 3@Cr
v、sの組成のCo N i Crを、保護膜材とし
てはカーボンを用いた。Cr薄膜およびCo N i
Cr薄膜の膜厚をそれぞれ2Co0人、5Co人としス
パッタガスとしてKrを用いた。基板温度は2Co℃と
した。また、カーボン薄膜はArガスをスパッタガスと
して4Co人形成し、本発明の一実施例の磁気記録媒体
を得た。
比較例
Cr薄膜およびCo N i Cr iil膜形成時の
スパッタガスとしてArガスを用いる他は、実施例と同
様にして磁気記録媒体を得た。
スパッタガスとしてArガスを用いる他は、実施例と同
様にして磁気記録媒体を得た。
以上のようにして得た本発明の実施例および比較例の磁
気記録媒体の磁気特性を試料振動型磁力型(VSM)に
て、電気特性は薄膜磁気ヘッドを用いて、記録周波数を
lF2.1MH2,8/3F5.9MH2,相対速度5
.61/see、ノイズ帯域11.8MH2にて測定し
た。磁気特性及び電気特性のスパッタガス圧依存性を表
に示す、実施例および比較例を比較すると、同じスパッ
タガス圧において、保磁力は同程度であり、Br・δに
おいては実施例の方が高い値を示しており、分解能およ
びオーバライド(0/W)は同程度である。媒体ノイズ
は実施例の方が小さく、再生出力の差もかみ合って、S
/Nにおいては実施例の方が全てのガス圧において。
気記録媒体の磁気特性を試料振動型磁力型(VSM)に
て、電気特性は薄膜磁気ヘッドを用いて、記録周波数を
lF2.1MH2,8/3F5.9MH2,相対速度5
.61/see、ノイズ帯域11.8MH2にて測定し
た。磁気特性及び電気特性のスパッタガス圧依存性を表
に示す、実施例および比較例を比較すると、同じスパッ
タガス圧において、保磁力は同程度であり、Br・δに
おいては実施例の方が高い値を示しており、分解能およ
びオーバライド(0/W)は同程度である。媒体ノイズ
は実施例の方が小さく、再生出力の差もかみ合って、S
/Nにおいては実施例の方が全てのガス圧において。
2〜3.6dB高い値を示している。
本発明の実施例の磁気記録媒体は、Cr薄膜およびCO
合金薄膜形成時のスパッタガスとしてKrガスを用いて
いるため、従来のArガスにより形成されたCr薄膜お
よびCo合金薄膜の結晶構造(結晶粒径、結晶間の1s
olation)と異なり、その構造変化により媒体ノ
イズが減少し、5/N比が向上している。
合金薄膜形成時のスパッタガスとしてKrガスを用いて
いるため、従来のArガスにより形成されたCr薄膜お
よびCo合金薄膜の結晶構造(結晶粒径、結晶間の1s
olation)と異なり、その構造変化により媒体ノ
イズが減少し、5/N比が向上している。
なお、上記実施例では非磁性基材として、N1−P下地
硬化層が設けられたAl−Mg基板にテクスチャー加工
を施したもの、Co合金薄膜としてC。
硬化層が設けられたAl−Mg基板にテクスチャー加工
を施したもの、Co合金薄膜としてC。
82.6N i 31ICr t、sat%のCoNi
Cr1lllを形成した場合について説明したが、これ
に限らずガラス基板やセラミック基板等の他の基板また
はC。
Cr1lllを形成した場合について説明したが、これ
に限らずガラス基板やセラミック基板等の他の基板また
はC。
CrTa、CoCrV、CoCrPt、CoNiPt等
の他のCo合金薄膜に適用しても同様の効果を呈する。
の他のCo合金薄膜に適用しても同様の効果を呈する。
また、基板加熱温度、スパッタガス圧、膜厚等スパッタ
リング条件も上記実施例に限定されるものではない。
リング条件も上記実施例に限定されるものではない。
[発明の効果]
以上IR明した通り、本発明は非磁性基材に、Cr薄膜
およびCo合金薄膜を積層したものにおいて。
およびCo合金薄膜を積層したものにおいて。
上記Cr薄膜およびCo合金薄膜がKrを含有すること
を特徴とするものを用いることにより、又本発明の別の
発明は、非磁性基材に薄膜右よびCo合金薄膜を、Kr
ガスをスパッタガスとしてスパッタリング法により積層
することにより、 Cr Co合金薄膜の結晶性を制御
し、媒体ノイズが低減され、高密度記録に適した磁気記
録媒体およびその製造方法を得ることができる。
を特徴とするものを用いることにより、又本発明の別の
発明は、非磁性基材に薄膜右よびCo合金薄膜を、Kr
ガスをスパッタガスとしてスパッタリング法により積層
することにより、 Cr Co合金薄膜の結晶性を制御
し、媒体ノイズが低減され、高密度記録に適した磁気記
録媒体およびその製造方法を得ることができる。
図面は、本発明の一実施例の磁気記録媒体の断面図であ
る。 図において、(11)は非磁性基材、(3)はCr薄膜
。 (4)はCo合金薄膜である。
る。 図において、(11)は非磁性基材、(3)はCr薄膜
。 (4)はCo合金薄膜である。
Claims (2)
- (1)非磁性基材にCr薄膜およびCo合金薄膜を積層
したものにおいて、上記Cr薄膜およびCo合金薄膜が
Krを含有することを特徴とする磁気記録媒体。 - (2)非磁性基材に、Cr薄膜およびCo合金薄膜を、
Krガスをスパッタガスとしてスパッタリング法により
積層する磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24502290A JPH04123310A (ja) | 1990-09-13 | 1990-09-13 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24502290A JPH04123310A (ja) | 1990-09-13 | 1990-09-13 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04123310A true JPH04123310A (ja) | 1992-04-23 |
Family
ID=17127413
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24502290A Pending JPH04123310A (ja) | 1990-09-13 | 1990-09-13 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04123310A (ja) |
-
1990
- 1990-09-13 JP JP24502290A patent/JPH04123310A/ja active Pending
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