JPH04120448A - 配線パターン検査装置 - Google Patents
配線パターン検査装置Info
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- JPH04120448A JPH04120448A JP2242120A JP24212090A JPH04120448A JP H04120448 A JPH04120448 A JP H04120448A JP 2242120 A JP2242120 A JP 2242120A JP 24212090 A JP24212090 A JP 24212090A JP H04120448 A JPH04120448 A JP H04120448A
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Landscapes
- Image Analysis (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Image Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、プリント基板における配線パターンの不良を
検査する配線パターン検査装置に関するものである。
検査する配線パターン検査装置に関するものである。
従来の技術
プリント基板への電子部品実装の高密度化に伴い、配線
パターンの細密化が進んでいる。従来、プリント基板等
の不良検査は人間による目視検査が行われてきたが、配
線パターンの細密化により検査精度を維持しつつ長時間
検査作業を続けることが困難になってきており、検査の
自動化が要望されている。
パターンの細密化が進んでいる。従来、プリント基板等
の不良検査は人間による目視検査が行われてきたが、配
線パターンの細密化により検査精度を維持しつつ長時間
検査作業を続けることが困難になってきており、検査の
自動化が要望されている。
配線パターンの欠陥検査方式としては、ジェー・エル−
シー・サンッやニー・ケー・ジエイン(J、L、C,5
anz and A、に、Jain、 ” Machi
ne vision techn−iques for
1nspection of printed bo
ards and thick−filmcircui
ts、 ’ J 、Opt、Soc、Amer、vol
、 3hno、9.1)p、 1465−1482、5
ept、 1986)らにより多くの方式が紹介されて
おり、特にデザインルール法あるいは比較法に分類され
る方式が数多く提案されている。これらの方式は長短が
あるが、中でも将来有望な興味深い方式として、ジエー
・アール・マンデビル(J。
シー・サンッやニー・ケー・ジエイン(J、L、C,5
anz and A、に、Jain、 ” Machi
ne vision techn−iques for
1nspection of printed bo
ards and thick−filmcircui
ts、 ’ J 、Opt、Soc、Amer、vol
、 3hno、9.1)p、 1465−1482、5
ept、 1986)らにより多くの方式が紹介されて
おり、特にデザインルール法あるいは比較法に分類され
る方式が数多く提案されている。これらの方式は長短が
あるが、中でも将来有望な興味深い方式として、ジエー
・アール・マンデビル(J。
R,Mandeville、 ” Novel met
hod for analysis of print
edcircuit images、 ” IBM J
、Res、Develop、、 vol、29. n
o、 1 、pp。
hod for analysis of print
edcircuit images、 ” IBM J
、Res、Develop、、 vol、29. n
o、 1 、pp。
349−376、 Jan、 1979)の方式があり
、2値画像データを収縮あるいは膨張させた後細線化し
、配線パターンの欠陥を検出する方式で、以下に従来例
として説明する。第12図に、欠陥検出処理の手順を示
す。同図(al〜(d)は欠落性欠陥の検出手順、同図
(el〜(hlは突出性欠陥の検出手順を示している。
、2値画像データを収縮あるいは膨張させた後細線化し
、配線パターンの欠陥を検出する方式で、以下に従来例
として説明する。第12図に、欠陥検出処理の手順を示
す。同図(al〜(d)は欠落性欠陥の検出手順、同図
(el〜(hlは突出性欠陥の検出手順を示している。
先ず欠落性欠陥の検出方法について図を参照しながら説
明する。(aiは欠陥画像を示しており、b点及び0点
は線幅不足及び断線で致命的欠陥として検出し、a点は
欠陥として検出しないものとする。第1の手順として(
blでは、画像を所定サイズ収縮(侵食)することによ
りb点の連結を遮断する。第2の手順として(C1では
1画素幅までパターンを細線化する。第3の手順として
(d)では3×3局所領域(図中口で示される位置)に
おいて細線化画像の連結性を判定し、b点及び0点を断
線として検出する。なお前記3×3局所領域の連結判定
により端子部と配線パターンの接合部(図中○で示され
る位置)も特徴点として検出できることを示している。
明する。(aiは欠陥画像を示しており、b点及び0点
は線幅不足及び断線で致命的欠陥として検出し、a点は
欠陥として検出しないものとする。第1の手順として(
blでは、画像を所定サイズ収縮(侵食)することによ
りb点の連結を遮断する。第2の手順として(C1では
1画素幅までパターンを細線化する。第3の手順として
(d)では3×3局所領域(図中口で示される位置)に
おいて細線化画像の連結性を判定し、b点及び0点を断
線として検出する。なお前記3×3局所領域の連結判定
により端子部と配線パターンの接合部(図中○で示され
る位置)も特徴点として検出できることを示している。
次に突出性欠陥の検出方法について図を参照しながら説
明する。(e)は欠陥画像を示しており、b点及び0点
を線幅異常及びショートで致命的欠陥として検出し、a
点は欠陥として検出しないものとする。第1の手順とし
て(f)では、画像を所定サイズ膨張することによりb
点に新たな連結を発生させる。第2の手順として(g)
では1画素幅までパターンを細線化する。第3の手順と
して(h)では3×3局所領域(図中口で示される位置
)において細線化画像の連結性を判定し、b点及び0点
を分岐点すなわちショートとして検出する。以上の手順
によって線幅太り、断線及びショートが検出できる。
明する。(e)は欠陥画像を示しており、b点及び0点
を線幅異常及びショートで致命的欠陥として検出し、a
点は欠陥として検出しないものとする。第1の手順とし
て(f)では、画像を所定サイズ膨張することによりb
点に新たな連結を発生させる。第2の手順として(g)
では1画素幅までパターンを細線化する。第3の手順と
して(h)では3×3局所領域(図中口で示される位置
)において細線化画像の連結性を判定し、b点及び0点
を分岐点すなわちショートとして検出する。以上の手順
によって線幅太り、断線及びショートが検出できる。
発明が解決しようとする課題
2値画像を収縮及び膨張することにより、欠陥の特徴を
助長した後細線化し、3×3局所領域における連結判定
てより欠陥を検出する方式について説明した。この方式
は配線パターンの設計ルールを巧妙に利用し、確実に欠
陥を検出できるもので有望な方式といえよう。
助長した後細線化し、3×3局所領域における連結判定
てより欠陥を検出する方式について説明した。この方式
は配線パターンの設計ルールを巧妙に利用し、確実に欠
陥を検出できるもので有望な方式といえよう。
しかしスルーホールを有する基板を検査する場合、導体
部とランド部ではパターン幅の基準が異なるため、同一
サイズで収縮するとランド部のパターンが途切れてしま
い、ランド位置で誤って線幅不足として検出される問題
点があった。
部とランド部ではパターン幅の基準が異なるため、同一
サイズで収縮するとランド部のパターンが途切れてしま
い、ランド位置で誤って線幅不足として検出される問題
点があった。
本発明は上記課題に鑑み、プリント基板にスルーホール
が存在しても、誤報のない検査を行なうとともに、座切
れ等のランドで発生する欠陥と、線幅違反、断線、ショ
ート等の導体で発生する欠陥を分離して検出することが
でき、多様な欠陥検査ができる配線パターン検査装置を
提供するものである。
が存在しても、誤報のない検査を行なうとともに、座切
れ等のランドで発生する欠陥と、線幅違反、断線、ショ
ート等の導体で発生する欠陥を分離して検出することが
でき、多様な欠陥検査ができる配線パターン検査装置を
提供するものである。
課題を解決するための手段
上記課題を解決するため本発明の技術的解決手段は、プ
リント基板上に形成された配線パターンを光学的に検知
し光電変換する画像入力手段と、前記プリント基板を透
過光源により所定の周期で変調した光を照射する変調光
発生手段と、前記画像入力手段からの濃淡画像を2値画
像に変換する2値化手段と、前記2値化手段からの2値
パターンのエツジを検出するエツジ検出手段と、前記エ
ツジ検出手段からのエツジ画像を所定サイズ膨張する第
1の膨張手段と、前記第1の膨張手段からの2値画像を
所定サイズ収縮する収縮手段と、前記収縮手段からの2
値画像を所定サイズ膨張する第2の膨張手段と、前記2
値化手段からの2値画像と前記第2の膨張手段からの2
値画像からランドと導体を分離し、ランドの欠陥を検出
する欠陥検出手段とから構成したものである。
リント基板上に形成された配線パターンを光学的に検知
し光電変換する画像入力手段と、前記プリント基板を透
過光源により所定の周期で変調した光を照射する変調光
発生手段と、前記画像入力手段からの濃淡画像を2値画
像に変換する2値化手段と、前記2値化手段からの2値
パターンのエツジを検出するエツジ検出手段と、前記エ
ツジ検出手段からのエツジ画像を所定サイズ膨張する第
1の膨張手段と、前記第1の膨張手段からの2値画像を
所定サイズ収縮する収縮手段と、前記収縮手段からの2
値画像を所定サイズ膨張する第2の膨張手段と、前記2
値化手段からの2値画像と前記第2の膨張手段からの2
値画像からランドと導体を分離し、ランドの欠陥を検出
する欠陥検出手段とから構成したものである。
作用
本発明は上記構成により、第1にプリント基板上の配線
パターンの反射光とスルーホールを透過する変調光を光
電変換して得られる濃淡画像を2値化し、反射光イメー
ジと透過光イメージが混在する2値画像からスルーホー
ル領域を分離するため、スルーホール領域のパターンの
幅検査、座切れ検査等多様な検査が可能となる。
パターンの反射光とスルーホールを透過する変調光を光
電変換して得られる濃淡画像を2値化し、反射光イメー
ジと透過光イメージが混在する2値画像からスルーホー
ル領域を分離するため、スルーホール領域のパターンの
幅検査、座切れ検査等多様な検査が可能となる。
第2に分離しスルーホール像を元の画像と重ね合わせて
スルーホール領域を塗りつぶした画像を生成することに
より、簡易な構成でスルーホール加工前の基板と同じ画
像を得ることができ、スルーホール領域において誤報を
発生することなく配線パターン検査が可能となる。
スルーホール領域を塗りつぶした画像を生成することに
より、簡易な構成でスルーホール加工前の基板と同じ画
像を得ることができ、スルーホール領域において誤報を
発生することなく配線パターン検査が可能となる。
実施例
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。
する。
第1図は、本発明の一実施例における配線パターン検査
装置のブロック構成図である。第1図において、101
はプリント基板、102は104のリング状ライトガイ
ドなどの拡散照明装置と103のCCDセンサカメラな
どの撮像装置を備えた画像入力手段、105は透過光を
変調し変調光を生成する変調光発生手段、106は濃淡
画像を2値化する2値化手段、107は2値画像のパタ
ーンのエツジを検出するエツジ検出手段、108はエツ
ジ画像を所定サイズ膨張する第1の膨張手段、109は
前記第1の膨張手段108の出力画像を所定サイズ収縮
する収縮手段、110は収縮手段109の出力画像を所
定サイズ膨張する第2の膨張手段、111は2値化手段
106からの2値画像と第2の膨張手段からの2値画像
とからランド等の欠陥を検出する欠陥検出手段である。
装置のブロック構成図である。第1図において、101
はプリント基板、102は104のリング状ライトガイ
ドなどの拡散照明装置と103のCCDセンサカメラな
どの撮像装置を備えた画像入力手段、105は透過光を
変調し変調光を生成する変調光発生手段、106は濃淡
画像を2値化する2値化手段、107は2値画像のパタ
ーンのエツジを検出するエツジ検出手段、108はエツ
ジ画像を所定サイズ膨張する第1の膨張手段、109は
前記第1の膨張手段108の出力画像を所定サイズ収縮
する収縮手段、110は収縮手段109の出力画像を所
定サイズ膨張する第2の膨張手段、111は2値化手段
106からの2値画像と第2の膨張手段からの2値画像
とからランド等の欠陥を検出する欠陥検出手段である。
上記構成において、以下その動作について説明する。ま
ず、プリント基板101上に形成された配線パターンの
上方から、リング状ライトガイドなどの拡散照明装置1
04で照明し、CCDセンサカメラなどの撮像装置10
3を備えた画像入力手段102で濃淡画像として入力す
る。このときに同時にプリント基板の下方から、変調光
発生手段105により所定の周期で変調された光を照射
し、画像入力手段102に入力する。本実施例では撮像
装置103として1次元CCDセンサカメラを用いた例
を示し、変調光発生手段102は前記1次元CCDセン
サカメラの水平同期信号に同期して、透過光の振幅を変
調する。プリント基板101は図示しない移動テーブル
上に設置され、前記CCDセンサカメラによって走査さ
れるため、撮像装置103から得られる濃淡画像はスル
ーホール領域において副走査方向に1画素おきに画信号
レベルが変調された画像となる。2値化手段106では
、撮像装置103からの濃淡画像を所定の閾値と比較し
、配線パターン部を1、基材部を0とする2値画像に変
換する。2値化によってスルーホール領域の画信号レベ
ルが副走査方向に1と0が交番した縞状画像が得られる
。エツジ検出手段は前記2値化手段106からの2値画
像をエツジ画像に変換する。第1の膨張手段108は前
記エツジ画像を所定の画素数太らせ、スルーホール領域
を塗りつぶす。本実施例ではスルーホール領域はエツジ
が1画素間隔で並んでいるため、1画素の膨張によりス
ルーホール領域を塗りつぶすことができる。収縮手段1
09は、第1の膨張手段108からの2値画像を所定サ
イズ収縮し、スルーホール領域以外のエツジ画像を消去
する。第1の膨張手段108によってエツジが1画素膨
張して3画素幅になっているので、例えばパターンの両
側から2画素以上収縮すれば、スルーホール領域以外の
輪郭は消去され、スルーホール領域を分離できる。第2
の膨張手段110は、収縮手段109からの2値画像を
所定サイズ膨張し、スルーホールのサイズを元にもどす
。欠陥検出手段111は2値化手段106からの2値画
像と第2の膨張手段110からのスルーホール画像を用
いて、ランド部と導体部を分離して、欠陥の検出を行う
。
ず、プリント基板101上に形成された配線パターンの
上方から、リング状ライトガイドなどの拡散照明装置1
04で照明し、CCDセンサカメラなどの撮像装置10
3を備えた画像入力手段102で濃淡画像として入力す
る。このときに同時にプリント基板の下方から、変調光
発生手段105により所定の周期で変調された光を照射
し、画像入力手段102に入力する。本実施例では撮像
装置103として1次元CCDセンサカメラを用いた例
を示し、変調光発生手段102は前記1次元CCDセン
サカメラの水平同期信号に同期して、透過光の振幅を変
調する。プリント基板101は図示しない移動テーブル
上に設置され、前記CCDセンサカメラによって走査さ
れるため、撮像装置103から得られる濃淡画像はスル
ーホール領域において副走査方向に1画素おきに画信号
レベルが変調された画像となる。2値化手段106では
、撮像装置103からの濃淡画像を所定の閾値と比較し
、配線パターン部を1、基材部を0とする2値画像に変
換する。2値化によってスルーホール領域の画信号レベ
ルが副走査方向に1と0が交番した縞状画像が得られる
。エツジ検出手段は前記2値化手段106からの2値画
像をエツジ画像に変換する。第1の膨張手段108は前
記エツジ画像を所定の画素数太らせ、スルーホール領域
を塗りつぶす。本実施例ではスルーホール領域はエツジ
が1画素間隔で並んでいるため、1画素の膨張によりス
ルーホール領域を塗りつぶすことができる。収縮手段1
09は、第1の膨張手段108からの2値画像を所定サ
イズ収縮し、スルーホール領域以外のエツジ画像を消去
する。第1の膨張手段108によってエツジが1画素膨
張して3画素幅になっているので、例えばパターンの両
側から2画素以上収縮すれば、スルーホール領域以外の
輪郭は消去され、スルーホール領域を分離できる。第2
の膨張手段110は、収縮手段109からの2値画像を
所定サイズ膨張し、スルーホールのサイズを元にもどす
。欠陥検出手段111は2値化手段106からの2値画
像と第2の膨張手段110からのスルーホール画像を用
いて、ランド部と導体部を分離して、欠陥の検出を行う
。
上記構成において以下各便部の動作につき、図面を参照
しながらさらに詳細に説明する。第2図は画像入力手段
102と変調光発生手段の具体例を示す図である。第2
図において、201はプリント基板、202は光学ノン
ズ、7203はCCDラインセンサ、204はリング状
ライトガイド、205はハロゲンランプ、206は拡散
板、207はLEDアレイ、208はLEDのドライバ
209は1/2分局回路、210はCCD駆動回路、
211はCCDセンサの画素クロック(以下CLKと略
記する) 、212はCCDセンサの水平同期クロック
(以下5YNCと略記する)、213はCCDラインセ
ンサからの濃淡画像の出力端子である。以下その動作を
説明する。ハロゲンランプ205からの照明光をリング
状ライトガイド204によって拡散させてプリント基板
201を拡散照明する。同時にLEDアレイ207から
の照明光を拡散板206によって拡散させプリント基板
201のスルーホールを透過照明する。リング状ライト
ガイド照明による反射光と、LEDアレイ207からの
透過光を光学レンズ202によりCCDラインセンサ2
03に結偉する。CCDラインセンサ203はCCD駆
動回路210よりCLK211と5YNC212の供給
を受は濃淡画像信号を端子213より出力する。このと
き5YNC212は1/2分周回路209によって1/
2分周されドライバ208を制御するため、LEDアレ
イ207は5YNC212に同期して1周期毎に点滅す
る。第3図に2値化手段106による2値化画像を示す
。第3図(alはスルーホール部における画信号レベル
の副走査方向の変動を示す図である。同図において30
1は導体部、302はスルーホール部である。画信号レ
ベルはスルーホール部302において副走査方向に1ラ
イン周期で振動するため、閾値θで2値化すると第3図
(blに示すようにスルーホール部において副走査方向
に1ラインおきに1′と0″が交番する2値画像が得ら
れる。
しながらさらに詳細に説明する。第2図は画像入力手段
102と変調光発生手段の具体例を示す図である。第2
図において、201はプリント基板、202は光学ノン
ズ、7203はCCDラインセンサ、204はリング状
ライトガイド、205はハロゲンランプ、206は拡散
板、207はLEDアレイ、208はLEDのドライバ
209は1/2分局回路、210はCCD駆動回路、
211はCCDセンサの画素クロック(以下CLKと略
記する) 、212はCCDセンサの水平同期クロック
(以下5YNCと略記する)、213はCCDラインセ
ンサからの濃淡画像の出力端子である。以下その動作を
説明する。ハロゲンランプ205からの照明光をリング
状ライトガイド204によって拡散させてプリント基板
201を拡散照明する。同時にLEDアレイ207から
の照明光を拡散板206によって拡散させプリント基板
201のスルーホールを透過照明する。リング状ライト
ガイド照明による反射光と、LEDアレイ207からの
透過光を光学レンズ202によりCCDラインセンサ2
03に結偉する。CCDラインセンサ203はCCD駆
動回路210よりCLK211と5YNC212の供給
を受は濃淡画像信号を端子213より出力する。このと
き5YNC212は1/2分周回路209によって1/
2分周されドライバ208を制御するため、LEDアレ
イ207は5YNC212に同期して1周期毎に点滅す
る。第3図に2値化手段106による2値化画像を示す
。第3図(alはスルーホール部における画信号レベル
の副走査方向の変動を示す図である。同図において30
1は導体部、302はスルーホール部である。画信号レ
ベルはスルーホール部302において副走査方向に1ラ
イン周期で振動するため、閾値θで2値化すると第3図
(blに示すようにスルーホール部において副走査方向
に1ラインおきに1′と0″が交番する2値画像が得ら
れる。
次にエツジ検出手段107における画信号処理の詳細に
ついて説明する。第4図はエツジ検出手段の回路構成を
示す図である。第4図において、401は2値化手段1
06からの2値データの入力端子、402は前記2値デ
ータを1ライン遅延させるラインメモリ、409はエツ
ジ検出回路、410はエツジ信号の出力端子である。第
4図はラインメモリとシフトレジスタを用いた3×3窓
走査回路の一般的な構成を示しており、図示しないCC
Dセンサの画素クロックCLKに同期して1画素ずつデ
ータをシフトしながら画像を走査する。2値画像のエツ
ジは注目画素値404とその4近傍の画素値405〜4
08を用いて同図409の組合せ回路で検出できる。次
に第1の膨張手段108、収縮手段109、第2の膨張
手段110の具体的処理について第5図を参照しながら
説明する。第5図は第1の膨張手段108、収縮手段1
09、第2の膨張手段110における膨張または収縮処
理のmxm論理マスクである。前記論理マスクは第4図
と同様ラインメモリとシフトレジスタを用いて構成され
、前記画素クロックに同期して1画素ずつ窓をシフトし
ながら所定の論理演算を行うものとする。第1の膨張手
段108及び第2の膨張手段110における膨張処理は
、第5図の論理マスクにおける所定の画素の論理和によ
り実現できる。サイズk(k≦m)の膨張処理を行う場
合は、論理マスクについた番号かに以下の画素の論理和
をとる。また収縮手段109における収縮処理は、同様
に所定サイズに以下の番号のついた画素の論理積をとる
。エツジ検出手段107に入力されるエツジ画像は、ス
ルーホール部において透過光イメージのエツジが1画素
間隔で並んでおり、第1の膨張手段によりサイズ1膨張
するとスルーホール部は1で塗りつぶされる。
ついて説明する。第4図はエツジ検出手段の回路構成を
示す図である。第4図において、401は2値化手段1
06からの2値データの入力端子、402は前記2値デ
ータを1ライン遅延させるラインメモリ、409はエツ
ジ検出回路、410はエツジ信号の出力端子である。第
4図はラインメモリとシフトレジスタを用いた3×3窓
走査回路の一般的な構成を示しており、図示しないCC
Dセンサの画素クロックCLKに同期して1画素ずつデ
ータをシフトしながら画像を走査する。2値画像のエツ
ジは注目画素値404とその4近傍の画素値405〜4
08を用いて同図409の組合せ回路で検出できる。次
に第1の膨張手段108、収縮手段109、第2の膨張
手段110の具体的処理について第5図を参照しながら
説明する。第5図は第1の膨張手段108、収縮手段1
09、第2の膨張手段110における膨張または収縮処
理のmxm論理マスクである。前記論理マスクは第4図
と同様ラインメモリとシフトレジスタを用いて構成され
、前記画素クロックに同期して1画素ずつ窓をシフトし
ながら所定の論理演算を行うものとする。第1の膨張手
段108及び第2の膨張手段110における膨張処理は
、第5図の論理マスクにおける所定の画素の論理和によ
り実現できる。サイズk(k≦m)の膨張処理を行う場
合は、論理マスクについた番号かに以下の画素の論理和
をとる。また収縮手段109における収縮処理は、同様
に所定サイズに以下の番号のついた画素の論理積をとる
。エツジ検出手段107に入力されるエツジ画像は、ス
ルーホール部において透過光イメージのエツジが1画素
間隔で並んでおり、第1の膨張手段によりサイズ1膨張
するとスルーホール部は1で塗りつぶされる。
次に収縮手段109によりサイズに’(k’≧2)以上
収縮するとスルーホール以外のエツジは消去され、スル
ーホール領域が分離される。収縮手段109の出力画像
は元のスルーホールよりサイズが(k’−1)小さくな
っているので、第2の膨張手段109によってサイズ(
k’−1)膨張すると、元の大きさのスルーホール画像
が得られる。そして欠陥検出手段111により、2値化
手段106からの2値画像と第2の膨張手段111から
のスルーホール画像を入力し欠陥検査を行う。
収縮するとスルーホール以外のエツジは消去され、スル
ーホール領域が分離される。収縮手段109の出力画像
は元のスルーホールよりサイズが(k’−1)小さくな
っているので、第2の膨張手段109によってサイズ(
k’−1)膨張すると、元の大きさのスルーホール画像
が得られる。そして欠陥検出手段111により、2値化
手段106からの2値画像と第2の膨張手段111から
のスルーホール画像を入力し欠陥検査を行う。
以下欠陥検事手段111における具体的処理について第
6図を用いて説明する。第6図は本発明の一実施例にお
ける欠陥検出手段の構成図である。
6図を用いて説明する。第6図は本発明の一実施例にお
ける欠陥検出手段の構成図である。
第6図において、601はスルーホール画像の入力端子
、602は2値化手段106からの2値画像の入力画像
の入力端子、603はスルーホール画像を所定サイズ膨
張する膨張手段、605はパターンを外側から1画素ず
つ細める細線化手段、606は前記細線化と同時に配線
パターンを構成する画素にパターンの外側からの距離値
を与える距離変換手段、607は細線化パターンに沿っ
て前記距離値を参照しパターンの幅を測定する測長手段
、608は細線化パターンの分岐や端点を検出する分岐
・端点検出手段である。以下、欠陥検出手段の動作を説
明する。端子601からのスルーホール画像を反転し端
子602からの2値画像と論理積をとり、元の2値画像
のスルーホール部の周期パターンを除去した画像を細線
化手段605に入力する。細線化手段605においては
1画素ずつパターンを細める処理を所定回数反復する。
、602は2値化手段106からの2値画像の入力画像
の入力端子、603はスルーホール画像を所定サイズ膨
張する膨張手段、605はパターンを外側から1画素ず
つ細める細線化手段、606は前記細線化と同時に配線
パターンを構成する画素にパターンの外側からの距離値
を与える距離変換手段、607は細線化パターンに沿っ
て前記距離値を参照しパターンの幅を測定する測長手段
、608は細線化パターンの分岐や端点を検出する分岐
・端点検出手段である。以下、欠陥検出手段の動作を説
明する。端子601からのスルーホール画像を反転し端
子602からの2値画像と論理積をとり、元の2値画像
のスルーホール部の周期パターンを除去した画像を細線
化手段605に入力する。細線化手段605においては
1画素ずつパターンを細める処理を所定回数反復する。
第7図にn回目の細線化の具体的な回路構成を示す。第
7図において701は(n−1)回細線化した画像の入
力端子、702はn回目の細線化処理後の画像の出力端
子、703はラインメモリ、704はシフトレジスタ、
705〜708は細線化の判定のルックアップテーブル
(以下LUTと略記する) 、710〜713はエツジ
検出回路である。1回の細線化は上下左右4方向からの
画素の消去によって行い、3×3窓のビットパターンか
らLUTA−LUTD705〜708を参照し、注目位
置の消去判定を行5゜細線化処理は一般的な処理である
ので詳細な説明は省略するが、例えば第8図(at〜(
d)に示すように、消去すべき位置をLUTAからLU
TDに振り分ければ、複数画素幅のパターンが消滅する
ことなく、連結を保持してパターンを細めることができ
る。エツジ検出回路710〜713は細線化による画素
の消去位置をパターンの4連結工ツジ位置にするか8連
結エツジにするかを決めるもので、エツジ検出信号で前
記LUTの出力信号をゲートする。検出すべきエツジは
例えば1〜n回の細線化において、順に8連結エツジ、
8連結エツジ、4連結エツジ、8連結エツジ・・・・・
・というよりに設定しておく。検出回路は注目画素をd
O18近傍の画素をd1〜d8として 4連結エツジの場合 dO・(di・d2・d3・d4・d5・d6・d7・
d8)8連結エツジの場合 dO・(di・d3・d5・d7) という組合せ論理で構成する。(但し、「・」は論理積
を、「−」は否定を示す。) 次に第9図を用いて距離変換手段606の動作を説明す
る。第9図は距離変換の手順を説明するフロー図である
。距離変換手段606は細線化と同時に入力画像に細線
化の反復番号を与える処理で最初の細線化を行う前に、
入力画像において1の位置に距離値1を、0の位置に距
離値0を与えておくものとする。第9図において、90
1の判定で注目画素がエツジ位置かどうかを判定しエツ
ジ位置の場合902の判定を行い、そうでない場合90
3の判定を行う。902の判定においてn回目の細線化
で注目画素が消去されたときステップ904で注目位置
に距離値nを与え、そうでない場合ステップ905へ進
み距離値は更新しない。また903の判定において注目
位置の距離値がnかどうか判定し、nの場合はステップ
906で距離値(n+1)を与え、そうでない場合はス
テップ907へ進み距離値は更新しない。以上の手順で
入力画像に1〜n+1までの細線化の反復番号を与え、
距離画像610として細線化画像609と同時に測長手
段607と分岐・端点検出手段608に入力する。次に
測長手段607の具体的処理について説明する。測長手
段607は細線化画像に沿って距離画像を参照しながら
、注目位置の線幅を測定し、設計上の線幅に違反する位
置を検出する。注目位置が細線化画像において1の位置
であるとき、次式によって線幅の測長値Wを決める。
7図において701は(n−1)回細線化した画像の入
力端子、702はn回目の細線化処理後の画像の出力端
子、703はラインメモリ、704はシフトレジスタ、
705〜708は細線化の判定のルックアップテーブル
(以下LUTと略記する) 、710〜713はエツジ
検出回路である。1回の細線化は上下左右4方向からの
画素の消去によって行い、3×3窓のビットパターンか
らLUTA−LUTD705〜708を参照し、注目位
置の消去判定を行5゜細線化処理は一般的な処理である
ので詳細な説明は省略するが、例えば第8図(at〜(
d)に示すように、消去すべき位置をLUTAからLU
TDに振り分ければ、複数画素幅のパターンが消滅する
ことなく、連結を保持してパターンを細めることができ
る。エツジ検出回路710〜713は細線化による画素
の消去位置をパターンの4連結工ツジ位置にするか8連
結エツジにするかを決めるもので、エツジ検出信号で前
記LUTの出力信号をゲートする。検出すべきエツジは
例えば1〜n回の細線化において、順に8連結エツジ、
8連結エツジ、4連結エツジ、8連結エツジ・・・・・
・というよりに設定しておく。検出回路は注目画素をd
O18近傍の画素をd1〜d8として 4連結エツジの場合 dO・(di・d2・d3・d4・d5・d6・d7・
d8)8連結エツジの場合 dO・(di・d3・d5・d7) という組合せ論理で構成する。(但し、「・」は論理積
を、「−」は否定を示す。) 次に第9図を用いて距離変換手段606の動作を説明す
る。第9図は距離変換の手順を説明するフロー図である
。距離変換手段606は細線化と同時に入力画像に細線
化の反復番号を与える処理で最初の細線化を行う前に、
入力画像において1の位置に距離値1を、0の位置に距
離値0を与えておくものとする。第9図において、90
1の判定で注目画素がエツジ位置かどうかを判定しエツ
ジ位置の場合902の判定を行い、そうでない場合90
3の判定を行う。902の判定においてn回目の細線化
で注目画素が消去されたときステップ904で注目位置
に距離値nを与え、そうでない場合ステップ905へ進
み距離値は更新しない。また903の判定において注目
位置の距離値がnかどうか判定し、nの場合はステップ
906で距離値(n+1)を与え、そうでない場合はス
テップ907へ進み距離値は更新しない。以上の手順で
入力画像に1〜n+1までの細線化の反復番号を与え、
距離画像610として細線化画像609と同時に測長手
段607と分岐・端点検出手段608に入力する。次に
測長手段607の具体的処理について説明する。測長手
段607は細線化画像に沿って距離画像を参照しながら
、注目位置の線幅を測定し、設計上の線幅に違反する位
置を検出する。注目位置が細線化画像において1の位置
であるとき、次式によって線幅の測長値Wを決める。
(但し、撮像分解能をμ、DOは注目位置の距離値D1
〜D8はその8近傍の距離値を示し、[*]は*の切捨
てを示す。)この測長値Wを用いて、設計上の線幅WC
とランド座残り幅WLとの比較による線幅検査の手順を
第10図に示す。951においてスルーホール領域信号
604が1かどうかを検出し、1の場合952で測長値
Wとランド座残り幅WLを比較し、WL>Wのときラン
ド座残り幅違反とする。951においてスルーホール領
域信号604が0の場合、954で最小設計線幅WCと
測長値Wを比較し、WC>Wのとき最小線幅違反とする
。上記手順においてスルーホール領域信号604は、端
子601からのスルーホール画像を膨張手段603によ
って所定サイズ膨張した領域を示し、元のスルーホール
の大きさからランドが包含される際太きさだけ膨張され
た領域であるものとする。次に分岐・端点検出手段60
8の具体的処理について説明する。分岐・端点の検出処
理は細線化画像を3×3窓で走査し、パターンの端点や
分岐点といった図形特徴を検出し、距離画像の同じ位置
の距離値を参照して断線・ショートを検出する処理であ
る。
〜D8はその8近傍の距離値を示し、[*]は*の切捨
てを示す。)この測長値Wを用いて、設計上の線幅WC
とランド座残り幅WLとの比較による線幅検査の手順を
第10図に示す。951においてスルーホール領域信号
604が1かどうかを検出し、1の場合952で測長値
Wとランド座残り幅WLを比較し、WL>Wのときラン
ド座残り幅違反とする。951においてスルーホール領
域信号604が0の場合、954で最小設計線幅WCと
測長値Wを比較し、WC>Wのとき最小線幅違反とする
。上記手順においてスルーホール領域信号604は、端
子601からのスルーホール画像を膨張手段603によ
って所定サイズ膨張した領域を示し、元のスルーホール
の大きさからランドが包含される際太きさだけ膨張され
た領域であるものとする。次に分岐・端点検出手段60
8の具体的処理について説明する。分岐・端点の検出処
理は細線化画像を3×3窓で走査し、パターンの端点や
分岐点といった図形特徴を検出し、距離画像の同じ位置
の距離値を参照して断線・ショートを検出する処理であ
る。
第11図に分岐・端点のパターンを示す。第11図(a
)のパターンがあられれた場合、その位置はショートと
して検出する。また第11図(blのパターンは端点と
して検出し、距離画像の同じ位置の距離値を参照し、前
記第1式と同じ手順で測長値Wを求め、設計上の最小パ
ッドサイズWpと比較しwp>wの場合断線と判定する
。第11図において、3×3パターンの鏡面対称及び回
転対称は図示を省略した。なおスルーホール領域信号6
04が1の領域において断線が発生した場合はランドの
座切れと判定する。
)のパターンがあられれた場合、その位置はショートと
して検出する。また第11図(blのパターンは端点と
して検出し、距離画像の同じ位置の距離値を参照し、前
記第1式と同じ手順で測長値Wを求め、設計上の最小パ
ッドサイズWpと比較しwp>wの場合断線と判定する
。第11図において、3×3パターンの鏡面対称及び回
転対称は図示を省略した。なおスルーホール領域信号6
04が1の領域において断線が発生した場合はランドの
座切れと判定する。
なお、本実施例は入力の2値画像においてスルーホール
画像を用いてスルーホール部の縞パターンを消去したが
、スルーホール画像と2値画像を重ね合わせてスルーホ
ール加工前のパターンと同じパターンに変換し、スルー
ホールに留意することなく欠陥検査を行うことも可能で
ある。
画像を用いてスルーホール部の縞パターンを消去したが
、スルーホール画像と2値画像を重ね合わせてスルーホ
ール加工前のパターンと同じパターンに変換し、スルー
ホールに留意することなく欠陥検査を行うことも可能で
ある。
発明の効果
本発明の効果としては、1つの撮像装置でプリント基板
の反射光イメージと透過光イメージを検出し、2値化の
後エツジを検出し、膨張、収縮を行い、スルーホール画
像を検出するため、簡易な構成でスルーホールイメージ
と基板の配線パターンのイメージを分離でき、スルーホ
ール領域とそれ以外の領域の検査基準を切り替えて、誤
報のない多様な欠陥検査が可能となる。
の反射光イメージと透過光イメージを検出し、2値化の
後エツジを検出し、膨張、収縮を行い、スルーホール画
像を検出するため、簡易な構成でスルーホールイメージ
と基板の配線パターンのイメージを分離でき、スルーホ
ール領域とそれ以外の領域の検査基準を切り替えて、誤
報のない多様な欠陥検査が可能となる。
第1図は本発明の一実施例における配線パターン検査装
置のブロック結線図、第2図は同装置の要部である画像
入力手段と変調光発生手段の要部ブロック結線図、第3
図は同装置の要部である2値化手段による2値化画像を
示す図、第4図は同装置の要部であるエツジ検出手段の
回路図、第5図は同装置の要部である第1.第2の膨張
手段及び収縮手段の論理マスクの概念図、第6図は同装
置の要部である欠陥検出手段のブロック結線図、第7図
は同装置の要部である細線化手段の回路図、第8図は同
細線化の消去パターンの概念図、第9図は同装置の要部
である距離変換手段の手順を示すフロー図、第10図は
同装置の線幅検査手順を示すフロー図、第11図は同装
置の要部である分岐・端点検出手段のパターンを示す図
、第12図は従来の配線パターン検査装置における欠陥
検出を示す図である。 201・・・プリント基板、202・・・光学レンズ、
203・・・CCDラインセンサ、204・・・リング
状ライトガイド、205・・・ハロゲンランプ、206
・・・拡散板、207・・・LEDアレイ、208・・
・LEDドライバ209・・・1/2分周回路、210
・・・CCD駆動回路。 代理人の氏名 弁理士 小鍜治 明 ほか2名第 図 第 図 第 図 第 図 第 図 第 図 (Q) 第 図 (の (l:l) (e)
置のブロック結線図、第2図は同装置の要部である画像
入力手段と変調光発生手段の要部ブロック結線図、第3
図は同装置の要部である2値化手段による2値化画像を
示す図、第4図は同装置の要部であるエツジ検出手段の
回路図、第5図は同装置の要部である第1.第2の膨張
手段及び収縮手段の論理マスクの概念図、第6図は同装
置の要部である欠陥検出手段のブロック結線図、第7図
は同装置の要部である細線化手段の回路図、第8図は同
細線化の消去パターンの概念図、第9図は同装置の要部
である距離変換手段の手順を示すフロー図、第10図は
同装置の線幅検査手順を示すフロー図、第11図は同装
置の要部である分岐・端点検出手段のパターンを示す図
、第12図は従来の配線パターン検査装置における欠陥
検出を示す図である。 201・・・プリント基板、202・・・光学レンズ、
203・・・CCDラインセンサ、204・・・リング
状ライトガイド、205・・・ハロゲンランプ、206
・・・拡散板、207・・・LEDアレイ、208・・
・LEDドライバ209・・・1/2分周回路、210
・・・CCD駆動回路。 代理人の氏名 弁理士 小鍜治 明 ほか2名第 図 第 図 第 図 第 図 第 図 第 図 (Q) 第 図 (の (l:l) (e)
Claims (1)
- プリント基板上に形成されたスルーホール部を有する
配線パターンを光学的に検知した光電変換する画像入力
手段と、前記プリント基板を透過光源により所定の周期
で変調した光を照射する変調光発生手段と、前記画像入
力手段からの濃淡画像を2値画像に変換する2値化手段
と、前記2値化手段からの2値パターンのエッジを検出
するエッジ検出手段と、前記エッジ検出手段からのエッ
ジ画像を所定サイズ膨張する第1の膨張手段と、前記第
1の膨張手段からの2値画像を所定サイズ収縮する収縮
手段と、前記収縮手段からの2値画像を所定サイズ膨張
する第2の膨張手段と、前記2値化手段からの2値画像
と前記第2の膨張手段の出力である2値画像からランド
と導体を分離し、前記ランドの欠陥を検出する欠陥検出
手段とを具備する配線パターン検査装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2242120A JPH087155B2 (ja) | 1990-09-11 | 1990-09-11 | 配線パターン検査装置 |
US07/757,408 US5214712A (en) | 1990-09-11 | 1991-09-10 | Pattern inspection system for inspecting defect of land pattern for through-hole on printed board |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2242120A JPH087155B2 (ja) | 1990-09-11 | 1990-09-11 | 配線パターン検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04120448A true JPH04120448A (ja) | 1992-04-21 |
JPH087155B2 JPH087155B2 (ja) | 1996-01-29 |
Family
ID=17084597
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2242120A Expired - Fee Related JPH087155B2 (ja) | 1990-09-11 | 1990-09-11 | 配線パターン検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH087155B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5608816A (en) * | 1993-12-24 | 1997-03-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Apparatus for inspecting a wiring pattern according to a micro-inspection and a macro-inspection performed in parallel |
JP2007322402A (ja) * | 2006-06-05 | 2007-12-13 | Yoshiro Yamada | 表面検査装置 |
-
1990
- 1990-09-11 JP JP2242120A patent/JPH087155B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5608816A (en) * | 1993-12-24 | 1997-03-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Apparatus for inspecting a wiring pattern according to a micro-inspection and a macro-inspection performed in parallel |
JP2007322402A (ja) * | 2006-06-05 | 2007-12-13 | Yoshiro Yamada | 表面検査装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH087155B2 (ja) | 1996-01-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |