JPH04113447U - wafer carrier - Google Patents

wafer carrier

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JPH04113447U JP2537891U JP2537891U JPH04113447U JP H04113447 U JPH04113447 U JP H04113447U JP 2537891 U JP2537891 U JP 2537891U JP 2537891 U JP2537891 U JP 2537891U JP H04113447 U JPH04113447 U JP H04113447U
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 挿入されたウエハの下端部を支持するための
ウエハ支持棒を二側面間の下部に設けることにより、ウ
エハキャリアに収納されたウエハのウエハ面に平行な方
向へのずれを無くし、ウエハ自動移載の際の位置出しを
確実とならしめるとともに、ウエハキャリアの持ち運び
際のウエハの発塵を防止するウエハキャリアに関する。 【構成】 一つの方向よりウエハを挿入し、ウエハの周
面端部を支持するための溝を相対する二側面に多数設け
た上面開放の箱型のウエハキャリアに、挿入されたウエ
ハの下部を支持するためのウエハ支持棒を前記二側面間
の下部に設ける。そして、ウエハ支持棒にウエハ厚さよ
りも広い位置決め溝を形成する。さらに、ウエハ周端部
を支持するための溝を有する2側面下部に突部を形成
し、突部上にウエハ支持棒を設けた構造とし、突部間距
離よりウエハ支持棒間距離を大きく形成する。
(57) [Summary] [Purpose] By providing a wafer support rod at the bottom between the two sides to support the lower end of the inserted wafer, it is possible to move the wafer stored in the wafer carrier in a direction parallel to the wafer surface. The present invention relates to a wafer carrier that eliminates misalignment, ensures reliable positioning during automatic wafer transfer, and prevents wafer dust from being generated when the wafer carrier is carried. [Structure] A wafer is inserted from one direction, and the lower part of the inserted wafer is inserted into a box-shaped wafer carrier with an open top surface that has many grooves on two opposing sides to support the peripheral edge of the wafer. A wafer support rod for supporting the wafer is provided at a lower portion between the two sides. Then, a positioning groove wider than the wafer thickness is formed in the wafer support rod. Additionally, protrusions are formed at the bottom of the two sides with grooves for supporting the peripheral edge of the wafer, and wafer support rods are provided on the protrusions, making the distance between the wafer support rods larger than the distance between the protrusions. do.

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed explanation of the idea]

【0001】0001

【産業上の利用分野】[Industrial application field]

本考案は上面開放の箱型のウエハキャリアに関し、詳しくは、挿入されたウエ ハの下端部を支持するためのウエハ支持棒を二側面間の下部に設けることにより 、ウエハキャリアに収納されたウエハのウエハ面に平行な方向へのずれを無くし 、ウエハ自動移載の際の位置出しを確実とならしめるとともに、ウエハキャリア の持ち運び際のウエハの発塵を防止するものに関する。 The present invention relates to a box-shaped wafer carrier with an open top surface. By providing a wafer support rod at the bottom between the two sides to support the bottom end of the wafer. , eliminates misalignment of wafers stored in wafer carriers in the direction parallel to the wafer surface. , to ensure reliable positioning during automatic wafer transfer, as well as wafer carrier This invention relates to a method for preventing dust generation from wafers during transportation.

【0002】0002

【従来の技術】[Conventional technology]

一般に、ウエハキャリア1は、図4ないし図6に示すように、相対して設けら れた側壁部材2、2と、側壁部材2、2の下部に設けられたウエハ支持部材6、 6と、これら側壁部材2,2の両端部どうしを連結する端面部材3,3とから構成 された上面開放の箱型に形成されたものである。そして、側壁部材2,2の内面 とウエハ支持部材6、6の上面には、ウエハ4,4を支持する多数の溝5が設け られており、ウエハ4は上方から前記溝5内部に面接触された状態で収納され、 ウエハ支持部材6、6によって支持されるようになっている。 Generally, the wafer carriers 1 are arranged facing each other as shown in FIGS. 4 to 6. side wall members 2, 2, and a wafer support member 6 provided at the bottom of the side wall members 2, 2; 6, and end members 3, 3 that connect both ends of these side wall members 2, 2. It is shaped like a box with an open top. And the inner surface of the side wall members 2,2 A large number of grooves 5 are provided on the upper surface of the wafer support members 6, 6 to support the wafers 4, 4. The wafer 4 is housed in surface contact with the inside of the groove 5 from above, It is supported by wafer support members 6, 6.

【0003】 ところで、ウエハキャリア1は、ウエハ4への金属、有機化合物及びその他の 汚染を防止し、さらには薬品等に対する耐腐食性に優れているという点で、フッ 素系樹脂を材料として成形されている。0003 By the way, the wafer carrier 1 does not allow metals, organic compounds and other substances to be transferred to the wafer 4. Fluorine is highly effective in preventing contamination and has excellent corrosion resistance against chemicals. It is molded from base resin.

【0004】0004

【考案が解決しようとする課題】[Problem that the idea aims to solve]

しかしながら、このフッ素系樹脂を材料としたウエハキャリア1は、図6に示 すように、成形時に成形型から取り外し樹脂が完全に固化する間に変形を生じて いた。この変形量は、ウエハ支持部6の位置、さらにはウエハキャリア1の固体 差によっても異なっていた。そこで、ほとんどのウエハキャリア1ではウエハ支 持部6の中央部でもっとも変形量が大きくなっていた。 However, the wafer carrier 1 made of this fluororesin is shown in FIG. During molding, the resin may be deformed while it is removed from the mold and completely solidified. there was. This amount of deformation depends on the position of the wafer support 6 and the solid state of the wafer carrier 1. It also differed by difference. Therefore, most wafer carriers 1 do not support the wafer. The amount of deformation was greatest at the center of the holding portion 6.

【0005】 このウエハ支持部6の変形により、ウエハキャリア1内でのウエハ4の正確な 位置出しをすることが出来なかった。また、ウエハキャリア1内でのウエハ4の 正確な位置出しが出来ていないために、ウエハ移載時に問題が生じていた。[0005] Due to this deformation of the wafer support portion 6, the wafer 4 can be accurately positioned within the wafer carrier 1. I couldn't locate it. Also, the wafer 4 in the wafer carrier 1 Problems occurred during wafer transfer because accurate positioning was not possible.

【0006】 ウエハキャリア1から1枚ずつウエハ4を取り出して、資料台または他のウエ ハキャリア1へ移載するタイプのウエハ移載機を使用する場合は、ウエハ4がウ エハキャリア1内で正確な位置出しが出来ていないために、移載中で必ずセンタ リング工程が必要となり、かつ全ウエハに対してセンタリングを行なう必要があ るのでスループットが落ちるという欠点があった。[0006] Take out the wafers 4 one by one from the wafer carrier 1 and place them on a data stand or other wafer. When using a wafer transfer machine of the type that transfers wafers to carrier 1, wafers 4 Because accurate positioning within the wafer carrier 1 is not possible, the wafer must be placed in the center during transfer. A ring process is required, and all wafers must be centered. This had the disadvantage of reducing throughput.

【0007】 図7に、複数枚のウエハ4を資料台20または他のウエハキャリアへ一括移載 するタイプのウエハ移載機21を使用する場合の移載状態の概略図を示す(この 図は、複数のウエハキャリア1から資料台20へ移載している状態である)。ウ エハキャリア1内で正確な位置出しが出来ていないウエハ4、すなわちA方向に ずれているウエハ4は、ずれたままの状態で移載され、資料台20のウエハ保持 部22(図中では省略しているが、ウエハ保持用の溝部が設けられている)にウ エハ4が届かずにウエハ4が落下しウエハ4が破損することや、ウエハ4が資料 台20に衝突しウエハ4が破損してしまうことがあった。[0007] In FIG. 7, multiple wafers 4 are transferred to the data stand 20 or other wafer carrier at once. A schematic diagram of the transfer state when using a type of wafer transfer machine 21 is shown. The figure shows a state in which wafers are being transferred from a plurality of wafer carriers 1 to a document stand 20). cormorant The wafer 4 that cannot be accurately positioned within the wafer carrier 1, that is, the direction A. The misaligned wafer 4 is transferred as it is, and the wafer 4 is held on the document table 20. 22 (not shown in the figure, but a groove for holding the wafer is provided). The wafer 4 may fall without reaching the wafer 4 and be damaged, or the wafer 4 may be damaged. There were cases where the wafer 4 collided with the table 20 and was damaged.

【0008】 このような事故はダメージが大きく、破損していないウエハ4までが破損した ウエハ4から発生する破片、粉塵によって汚染されて使用出来なくなり、資料台 20、移載装置等の周辺機器の洗浄、調整が必要になるという重大な欠点があっ た。[0008] Such an accident caused severe damage, and up to 4 undamaged wafers were damaged. The document table became unusable due to contamination with debris and dust generated from wafer 4. 20. There is a serious drawback that cleaning and adjustment of peripheral equipment such as transfer equipment is required. Ta.

【0009】 さらに従来のウエハキャリア1は、ウエハ支持部6間の距離が小さくウエハ4 を下から支える要素が大きく、ウエハキャリア1を傾けるとウエハ4がB方向に 転がり、ウエハキャリア1とウエハ4が擦れて発塵するおそれがあった。[0009] Further, in the conventional wafer carrier 1, the distance between the wafer support parts 6 is small and the wafer 4 The element supporting the wafer from below is large, and when the wafer carrier 1 is tilted, the wafer 4 will move in the direction B. There was a risk that the wafer carrier 1 and the wafer 4 would rub against each other due to rolling, and dust would be generated.

【0010】 本考案は、上記事情に鑑みてなされたもので、ウエハキャリアに収納されたウ エハのウエハ面に平行な方向へのずれを無くし、ウエハ自動移載の際の位置出し を確実とならしめるとともに、ウエハキャリアの持ち運び際のウエハの発塵を防 止すウエハキャリアを提供することを目的とするものである。0010 The present invention was developed in view of the above circumstances, and it Eliminates misalignment of the wafer in the direction parallel to the wafer surface and positions it during automatic wafer transfer. In addition to ensuring that the The purpose of this invention is to provide a wafer carrier that can

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】[Means to solve the problem]

本考案の請求項1記載のウエハキャリアは、一つの方向よりウエハを挿入し、 ウエハの周面端部を支持するための溝を相対する二側面に多数設けた上面開放の 箱型のウエハキャリアにおいて、挿入されたウエハの下部を支持するためのウエ ハ支持棒を前記二側面間に設けたことを特徴とするものである。 The wafer carrier according to claim 1 of the present invention has the wafer carrier inserted from one direction, An open top surface with multiple grooves on two opposing sides to support the peripheral edge of the wafer. In a box-shaped wafer carrier, the wafer is used to support the lower part of the inserted wafer. (c) A support rod is provided between the two sides.

【0012】 また、請求項2記載のウエハキャリアは、ウエハ支持棒にウエハ厚さよりも広 い位置決め溝を設けたことを特徴とするものである。0012 Further, in the wafer carrier according to claim 2, the wafer support rod has a width larger than the wafer thickness. It is characterized by having a large positioning groove.

【0013】 さらに、請求項3記載のウエハキャリアは、ウエハ周端部を支持するための溝 を有する2側面下部に突部を形成し、前記突部上にウエハ支持棒を設けてなり、 前記突部間距離より前記ウエハ支持棒間距離を大きく形成したことを特徴とする ものである。[0013] Furthermore, the wafer carrier according to claim 3 is provided with a groove for supporting the peripheral edge of the wafer. a protrusion is formed at the lower part of the two side surfaces having a wafer support rod, and a wafer support rod is provided on the protrusion. The distance between the wafer support bars is set larger than the distance between the protrusions. It is something.

【0014】[0014]

【作用】[Effect]

請求項1記載のウエハキャリアでは、ウエハ支持棒でウエハを支持するので、 ウエハキャリアの変形にかかわらず、ウエハキャリア内でウエハの正確な位置出 しができる。 In the wafer carrier according to claim 1, since the wafer is supported by the wafer support rod, Accurate positioning of the wafer within the wafer carrier regardless of wafer carrier deformation I can do it.

【0015】 請求項2記載のウエハキャリアでは、ウエハ支持棒に位置決め溝を形成してい るので位置決めの精度が向上する。[0015] In the wafer carrier according to claim 2, a positioning groove is formed in the wafer support rod. This improves positioning accuracy.

【0016】 請求項3記載のウエハキャリアでは、ウエハ周端部を支持するための溝を有す る2側面下部の突部上にウエハ支持棒を設けたので、ウエハキャリアの剛性が向 上し、ウエハキャリア内でウエハのさらなる正確な位置出しが出来る。さらに突 部間距離よりウエハ支持棒間距離を大きく成形したので、ウエハキャリアの移動 時にも、ウエハが安定に収納されており、ウエハがウエハキャリアと擦れること による発塵が防止される。[0016] The wafer carrier according to claim 3 has a groove for supporting the peripheral edge of the wafer. Since the wafer support rod is provided on the protrusion at the bottom of the two sides, the rigidity of the wafer carrier is improved. This allows for more accurate positioning of the wafer within the wafer carrier. Further The distance between the wafer support bars is molded to be larger than the distance between the parts, making it easier to move the wafer carrier. Sometimes, the wafer is stored stably and the wafer rubs against the wafer carrier. This prevents dust generation.

【0017】[0017]

【実施例】【Example】

本考案のウエハキャリアの実施例について、図1ないし図3を参照して説明す る。なお、図4及び図6において説明したものと同一構成部材には同一符号を付 してその説明を省略する。 An embodiment of the wafer carrier of the present invention will be explained with reference to FIGS. 1 to 3. Ru. Note that the same components as those explained in FIGS. 4 and 6 are designated by the same reference numerals. The explanation will be omitted.

【0018】 本考案のウエハキャリア10には、二本のウエハ支持棒11,11が配設され ている。これらウエハ支持棒11,11は、ウエハキャリア10と同様の材質で あるフッ素系樹脂で形成されており、側壁部材2、2の下部に設けられた突部1 6、16上に側壁部材2,2と平行となるように端面部材3,3の下部に配設され ている。ウエハ支持棒11、11間距離は、突部16、16間距離よりも大きい 。また、ウエハ支持棒11のウエハ4と接触する上面部分には、側面部材2,2 に設けられた溝5,5と略一致する位置に、ウエハ4の厚さよりやや広く設定さ れた位置決め溝12が高精度に形成されている。[0018] Two wafer support rods 11, 11 are arranged in the wafer carrier 10 of the present invention. ing. These wafer support rods 11, 11 are made of the same material as the wafer carrier 10. A protrusion 1 is formed of a certain fluororesin and is provided at the lower part of the side wall members 2, 2. 6, 16 are arranged at the lower part of the end face members 3, 3 so as to be parallel to the side wall members 2, 2. ing. The distance between the wafer support rods 11 and 11 is larger than the distance between the protrusions 16 and 16. . Further, side members 2, 2 are provided on the upper surface portion of the wafer support rod 11 that contacts the wafer 4. The grooves are set slightly wider than the thickness of the wafer 4 at a position that approximately coincides with the grooves 5, 5 provided in the wafer 4. The positioning groove 12 is formed with high precision.

【0019】 上記構成からなるウエハキャリア10は、支持棒11、11を配設することに より、支持棒11、12でウエハ4を保持するので、ウエハ4は図2に示すA方 向にずれることはない。すなわち、ウエハ4は、ウエハキャリア10内で正確な 位置に保持されるので自動移載作業に好適である。[0019] The wafer carrier 10 having the above configuration is provided with support rods 11, 11. Since the wafer 4 is held by the support rods 11 and 12, the wafer 4 is placed in direction A shown in FIG. It will not shift in the opposite direction. That is, the wafer 4 is placed within the wafer carrier 10 at a precise position. Since it is held in position, it is suitable for automatic transfer work.

【0020】 また、ウエハキャリア4はウエハ支持棒11の位置決め溝12に挿入されて支 持されるので、ウエハ4の位置出しがより正確になる。[0020] Further, the wafer carrier 4 is inserted into the positioning groove 12 of the wafer support rod 11 and supported. Since the wafer 4 is held in place, the positioning of the wafer 4 becomes more accurate.

【0021】 さらにまた、突部6、6間距離よりもウエハ支持棒11、11間距離を大きく 形成したので、ウエハキャリア10の移動時にも、ウエハ4が図2に示すB方向 に転がることなく、安定に収納されており、ウエハ4がウエハキャリア10と擦 れることにより発塵が防止される。[0021] Furthermore, the distance between the wafer support rods 11 and 11 is made larger than the distance between the protrusions 6 and 6. Since the wafer 4 is formed in the direction B shown in FIG. The wafer 4 is stored stably without rolling, and the wafer 4 does not rub against the wafer carrier 10. This prevents dust generation.

【0022】 また、ウエハキャリア10全体を高精度な構造としなくとも、ウエハ支持棒1 1の形状精度と、位置決め溝12の形成位置と、ウエハ支持棒11、11の取り 付け精度だけを高めてウエハ支持棒11を配設すればよいので、高精度でかつ製 造コストを抑えたウエハキャリアを得ることができる。[0022] Moreover, the wafer support rod 1 does not have to have a high-precision structure as a whole. 1, the formation position of the positioning groove 12, and the arrangement of the wafer support rods 11, 11. Since it is only necessary to arrange the wafer support rods 11 by increasing the attachment accuracy, it is possible to achieve high precision and manufacture. A wafer carrier with reduced manufacturing cost can be obtained.

【0023】[0023]

【考案の効果】[Effect of the idea]

以上説明したように、本考案の請求項1記載のウエハキャリアによれば、ウエ ハ支持棒でウエハを支持するため、ウエハキャリアの変形にかかわらず、ウエハ キャリア内でウエハの正確な位置出しができ、正常にウエハ自動移載作業を行な うことができる。 As explained above, according to the wafer carrier according to claim 1 of the present invention, Since the wafer is supported by the carrier support rod, the wafer can be The wafer can be accurately positioned within the carrier, and automatic wafer transfer work can be performed correctly. I can.

【0024】 また、請求項2記載のウエハキャリアでは、ウエハ支持棒に位置決め溝を形成 しているため、ウエハの位置決めの精度を向上させることができる。[0024] Further, in the wafer carrier according to claim 2, a positioning groove is formed in the wafer support rod. Therefore, the accuracy of wafer positioning can be improved.

【0025】 さらに、請求項3記載のウエハキャリアでは、ウエハ周端部を支持するための 溝を有する2側面下部の突部上にウエハ支持棒を設けたため、ウエハキャリア内 でウエハのさらなる正確な位置出しが出来る。[0025] Furthermore, in the wafer carrier according to claim 3, a Since the wafer support rod is installed on the protrusion at the bottom of the two sides with grooves, the inside of the wafer carrier is This enables more accurate positioning of the wafer.

【0026】 さらにまた、突部間距離よりウエハ支持棒間距離を大きく成形したため、ウエ ハキャリアの移動時にも、ウエハが安定に収納されており、ウエハがウエハキャ リアと擦れることによる発塵を防止することができる。[0026] Furthermore, since the distance between the wafer support bars is molded to be larger than the distance between the protrusions, the wafer Even when the wafer carrier is moved, the wafer is stored stably and the wafer remains in the wafer carrier. Dust generation due to friction with the rear can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】 本考案のウエハキャリアを示す平面図であ
る。
FIG. 1 is a plan view showing a wafer carrier of the present invention.

【図2】 図1におけるIIーII矢視を示す断面図であ
る。
2 is a cross-sectional view taken along the line II-II in FIG. 1. FIG.

【図3】 図1におけるIIIーIII矢視を示す断面図であ
る。
3 is a cross-sectional view taken along arrow III-III in FIG. 1. FIG.

【図4】 従来のウエハキャリアを示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing a conventional wafer carrier.

【図5】 従来のウエハキャリアを示す側面図である。FIG. 5 is a side view showing a conventional wafer carrier.

【図6】 図4におけるVIーVI矢視を示す断面図であ
る。
6 is a sectional view taken along the line VI-VI in FIG. 4. FIG.

【図7】 従来のウエハ自動移載作業を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a conventional automatic wafer transfer operation.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2…側壁部材(二側面)、4…ウエハ、5…二側面に設け
られた溝、10…ウエハキャリア、11…ウエハキャリ
ア支持棒、12…位置決め溝、16…突部。
2... Side wall member (two side surfaces), 4... Wafer, 5... Groove provided on two side surfaces, 10... Wafer carrier, 11... Wafer carrier support rod, 12... Positioning groove, 16... Protrusion.

Claims (3)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】 一つの方向よりウエハを挿入し、ウエハ
の周面端部を支持するための溝を相対する二側面に多数
設けた上面開放の箱型のウエハキャリアにおいて、挿入
されたウエハの下部を支持するためのウエハ支持棒を前
記二側面間の下部に設けたことを特徴とするウエハキャ
リア。
Claim 1: A wafer is inserted from one direction, and a box-shaped wafer carrier with an open top surface is provided with a large number of grooves on two opposing sides to support the circumferential edge of the wafer. A wafer carrier characterized in that a wafer support rod for supporting the lower part is provided at the lower part between the two sides.
【請求項2】 ウエハ支持棒にウエハ厚さよりも広い位
置決め溝を形成したことを特徴とする請求項1記載のウ
エハキャリア。
2. The wafer carrier according to claim 1, wherein the wafer support rod has a positioning groove wider than the wafer thickness.
【請求項3】 ウエハ周端部を支持するための溝を有す
る2側面下部に突部を形成し、前記突部上にウエハ支持
棒を設けてなり、前記突部間距離より前記ウエハ支持棒
間距離を大きく形成したことを特徴とする請求項1また
は請求項2記載のウエハキャリア。
3. A protrusion is formed at the lower part of two side surfaces having a groove for supporting the peripheral edge of the wafer, a wafer support rod is provided on the protrusion, and the distance between the protrusions is larger than the distance between the wafer support rods. 3. The wafer carrier according to claim 1, wherein the wafer carrier has a large distance between the wafer carriers.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60926U (en) * 1983-06-15 1985-01-07 ソニー株式会社 Semiconductor substrate storage container
JPH0235448U (en) * 1988-08-29 1990-03-07

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