JP3998662B2 - Wafer pitch converter - Google Patents

Wafer pitch converter Download PDF

Info

Publication number
JP3998662B2
JP3998662B2 JP2004161111A JP2004161111A JP3998662B2 JP 3998662 B2 JP3998662 B2 JP 3998662B2 JP 2004161111 A JP2004161111 A JP 2004161111A JP 2004161111 A JP2004161111 A JP 2004161111A JP 3998662 B2 JP3998662 B2 JP 3998662B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
pitch
wafer holding
claw
holding member
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2004161111A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2005340729A (en
Inventor
守行 久留宮
正人 北井
Original Assignee
株式会社東京興業貿易商会
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社東京興業貿易商会 filed Critical 株式会社東京興業貿易商会
Priority to JP2004161111A priority Critical patent/JP3998662B2/en
Publication of JP2005340729A publication Critical patent/JP2005340729A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3998662B2 publication Critical patent/JP3998662B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

本発明は、半導体製造工程において、ウエハとウエハとの間のピッチを変更する際に用いるウエハピッチ変換機に関する。   The present invention relates to a wafer pitch converter used when changing the pitch between wafers in a semiconductor manufacturing process.

一般に、半導体の製造工程において、半導体集積回路を形成する際には、半導体ウエハに対して熱処理や成膜処理等が繰り返し行なわれる。このような処理には、多数枚のウエハを整列保持するウエハ保持具が使用されている。従来のウエハ保持具は、一対の側板に設けられた所定のピッチ溝にウエハの周縁部を差し入れることによって、各ウエハを所定のピッチで平行に収納するものである。   Generally, when a semiconductor integrated circuit is formed in a semiconductor manufacturing process, a heat treatment or a film forming process is repeatedly performed on a semiconductor wafer. In such processing, a wafer holder that aligns and holds a large number of wafers is used. Conventional wafer holders store wafers in parallel at a predetermined pitch by inserting the peripheral edge of the wafer into a predetermined pitch groove provided on a pair of side plates.

しかしながら、半導体の製造工程において、上記処理をする装置は、必ずしもウエハ収納ピッチが同一であるとは限らないため、このようなウエハ保持具にウエハの収納ピッチを変更できる手段を備えることが望まれていた。   However, since the wafer processing pitch is not necessarily the same in the semiconductor manufacturing process, it is desirable that the wafer holder is provided with means for changing the wafer storing pitch. It was.

また、従来、ピッチの異なるウエハキャリアへの変更を行なうには、所定のピッチのウエハキャリアからウエハを1枚ずつ取出して、他のピッチのウエハキャリアへ1枚ずつ収納していかなければならず、非常に手間のかかる作業が必要となっていた。   Conventionally, in order to change to a wafer carrier having a different pitch, it is necessary to take out wafers one by one from a wafer carrier having a predetermined pitch and store them one by one in wafer carriers having other pitches. It was very laborious work.

そこで、収納ピッチを変更できる手段を備えたウエハ保持具として、例えば特許文献1に、2種類のピッチに変換できる可変ウエハピッチ保持器が開示される。この可変ウエハピッチ保持器は、ウエハ保持プレート取付けブロックにウエハ保持プレートが固定され、該ウエハ保持プレートにウエハを保持するようになっている。また、固定ウエハ保持プレートは、所定位置に固定されており、ピッチ変換するときの基準となる。そして、ピッチ変換板の可変溝の一面または他面に、引張りばねで連結されたウエハ保持プレート取付けブロックをエアシリンダによって、押付け得る構成となっている。   Therefore, as a wafer holder provided with means capable of changing the storage pitch, for example, Patent Document 1 discloses a variable wafer pitch holder that can be converted into two types of pitches. In this variable wafer pitch holder, a wafer holding plate is fixed to a wafer holding plate mounting block, and the wafer is held on the wafer holding plate. Further, the fixed wafer holding plate is fixed at a predetermined position, and becomes a reference for pitch conversion. The wafer holding plate mounting block connected to the one surface or the other surface of the variable groove of the pitch conversion plate by a tension spring can be pressed by an air cylinder.

特開平7−37966号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-37966

ところが、上記特許文献1の可変ウエハピッチ保持器では、ウエハ保持プレート取付けブロックを連結している引張りばねは、使用回数を重ねるにつれて、弾性係数が僅かながら変化してしまう。これにより、各引張りばねに、弾性係数のばらつきが生じ、ウエハのピッチ間隔に誤差を生じる虞があった。   However, in the variable wafer pitch holder of Patent Document 1, the elastic coefficient of the tension spring connecting the wafer holding plate mounting block slightly changes as the number of uses increases. As a result, there is a possibility that variations in the elastic coefficient occur in each tension spring and an error occurs in the wafer pitch interval.

また、ウエハ保持プレート取付けブロックの間隔毎に引張りばねを配し、このウエハ保持プレート取付けブロックをエアシリンダによって機械的に押付けるように構成されているため、装置が大掛かりなものになり、構造が複雑化し、且つ製造コストの上昇を招いてしまうという問題があった。   In addition, a tension spring is provided for each interval of the wafer holding plate mounting block, and the wafer holding plate mounting block is mechanically pressed by an air cylinder. There is a problem that the manufacturing cost is increased and the manufacturing cost is increased.

さらに、この可変ウエハピッチ保持器では、均一なピッチ間隔を得るには、高度な寸法精度の制御が要求される。その結果、ウエハのピッチ変更作業において、労力およびコストを要するという問題があった。   Further, in this variable wafer pitch holder, a high degree of dimensional accuracy control is required to obtain a uniform pitch interval. As a result, there is a problem that labor and cost are required in the wafer pitch changing operation.

そこで、本発明は、上述したような事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、半導体ウエハのピッチ間隔を速やかに変更することができ、ピッチ間隔の寸法精度の制御が容易であるウエハピッチ変換機を低コストで提供することにある。   Accordingly, the present invention has been made in view of the circumstances as described above, and the object of the present invention is to quickly change the pitch interval of the semiconductor wafer and to easily control the dimensional accuracy of the pitch interval. It is to provide a wafer pitch converter at a low cost.

本発明の上記目的は、複数のウエハを平行に保持する均一なピッチで整列された複数のウエハ保持部材と、該複数のウエハ保持部材の中空孔を貫通して延在された支柱と、前記複数のウエハ保持部材のうちの一端に配されたウエハ保持部材を前記複数のウエハ保持部材のピッチを変更する際の基準として、前記複数のウエハ保持部材のうちの他端に配されたウエハ保持部材を前記支柱に沿って摺動させる変換プレートとを備えたウエハピッチ変換機において、前記各ウエハ保持部材が、一端側に配された隣の前記ウエハ保持部材と対向するフランジ面の中心部に形成された円筒状の係合凹部と、該係合凹部の端部内周側面に一体に形成された鉤状の爪と、他端側に配された隣の前記ウエハ保持部材と対向するフランジ面の中心部に形成され、前記係合凹部内に嵌挿された円筒状の係合凸部と、該係合凸部の端部外周側面に一体に形成された鉤状の爪とを有し、前記複数のウエハ保持部材のピッチが、隣合う前記各ウエハ保持部材の互いの前記フランジ面が当接している第1ピッチと、前記係合凹部の爪と前記係合凸部の爪とが当接している、前記第1ピッチより大きい第2ピッチとに変更されることにより、達成される。
The above object of the present invention includes a plurality of wafer holding member aligned with a uniform pitch for holding in parallel a plurality of wafers, and struts extending through the hollow hole of the plurality of wafer holding member, the Using the wafer holding member arranged at one end of the plurality of wafer holding members as a reference when changing the pitch of the plurality of wafer holding members, wafer holding arranged at the other end of the plurality of wafer holding members In a wafer pitch converter having a conversion plate for sliding a member along the support column, each wafer holding member is formed at the center of the flange surface facing the adjacent wafer holding member arranged on one end side. A cylindrical engagement concave portion formed on the inner peripheral side surface of the end portion of the engagement concave portion, and a flange surface facing the adjacent wafer holding member disposed on the other end side . Formed in the center, Has a cylindrical engaging portion which is fitted into Kigakarigo the recess, the end portion outer peripheral surface of the engaging convex portion and the claw of the hook shape formed integrally, the plurality of wafer holding member The first pitch at which the flange surfaces of the wafer holding members adjacent to each other are in contact with each other, and the claw of the engagement recess and the claw of the engagement projection are in contact with each other. This is achieved by changing to a second pitch greater than one pitch .

また、上記目的は、前記係合凹部の爪および前記係合凸部の爪が、樹脂から形成されたことにより、効果的に達成される。
Moreover, the said objective is achieved effectively because the nail | claw of the said engagement recessed part and the nail | claw of the said engagement convex part were formed from resin.

さらに、上記目的は、前記係合凹部の爪が、前記係合凹部の端部内周側面に、全周にわたって設けられており、かつ、前記係合凸部の爪が、前記係合凸部の端部外周側面に、全周にわたって設けられていることにより、効果的に達成される。 Further, the object is that the claw of the engagement recess is provided on the inner peripheral side surface of the end of the engagement recess over the entire circumference, and the claw of the engagement projection is formed on the engagement projection. This is achieved effectively by being provided on the outer peripheral side surface of the end portion over the entire circumference.

本発明に係るウエハピッチ変換機によると、複数のウエハを略平行に保持する複数のウエハ保持部材と、該ウエハ保持部材を摺動自在に支持する支持体とを備え、各ウエハ保持部材は、一端側に配された隣のウエハ保持部材と連結するための係合凹部と、他端側に配された隣のウエハ保持部材と連結するための係合凸部とを有し、係合凹部の側面に設けられたと係合凸部の側面に設けられたとの係合によって連結されるようにした。そして、複数のウエハ保持部材の一端を基準として、複数のウエハ保持部材の他端に備えられた変換プレートを摺動することによって各ウエハ保持部材間のピッチを変換するようにした。これにより、ウエハのピッチ間隔を速やかに変更することができ、かつ、各ウエハ保持部材間にばね等の弾性部材を介在していないため、ピッチ間隔の寸法精度を容易に制御することができる。この結果、ウエハ製造工程において、製造効率の向上をはかることができる。
The wafer pitch converter according to the present invention includes a plurality of wafer holding members that hold a plurality of wafers substantially in parallel, and a support that slidably supports the wafer holding members, each wafer holding member having one end An engaging recess for connecting to an adjacent wafer holding member disposed on the side, and an engaging protrusion for connecting to an adjacent wafer holding member disposed on the other end side. It was to be connected by the engagement of the provided nail on the side surface of the pawl and the engaging portion provided on the side surface. Then, the pitch between the wafer holding members is converted by sliding a conversion plate provided at the other end of the plurality of wafer holding members with one end of the plurality of wafer holding members as a reference. As a result, the pitch interval of the wafers can be quickly changed, and an elastic member such as a spring is not interposed between the wafer holding members, so that the dimensional accuracy of the pitch interval can be easily controlled. As a result, the manufacturing efficiency can be improved in the wafer manufacturing process.

また、各ウエハ保持部材は、係合凹部側面に設けられたと係合凸部の側面に設けられたとの係合によって連結される簡素化された構成である。これにより、装置の小型化を図り、設置スペースに限りがある様々な装置に適用することができ、かつ、ウエハピッチ変換機の製造コストおよび労力を軽減することができる。
In addition, each wafer holding member has a simplified configuration in which the wafer holding members are connected by engagement between a claw provided on the side surface of the engaging concave portion and a claw provided on the side surface of the engaging convex portion. As a result, the apparatus can be reduced in size, can be applied to various apparatuses having limited installation space, and the manufacturing cost and labor of the wafer pitch converter can be reduced.

また、が係合凹部の側面に全周にわたって設けられ、かつ、が係合凸部の側面に全周にわたって設けられていることによって、各爪の耐久性を向上することができるとともに、より高い寸法精度でピッチ変換を行なうことができる。
In addition, since the claw is provided over the entire circumference on the side surface of the engagement concave portion and the claw is provided over the entire circumference on the side surface of the engagement convex portion, the durability of each claw can be improved, Pitch conversion can be performed with higher dimensional accuracy.

さらに、本ウエハピッチ変換機の構成は、モータなどの機械的要素を要さないため、ピッチ変換操作が容易であり、ウエハの製造効率の向上を図ることができる。   Furthermore, since the configuration of the wafer pitch converter does not require mechanical elements such as a motor, the pitch conversion operation is easy and the wafer manufacturing efficiency can be improved.

以下、図面を参照にしながら、本発明の実施形態を説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本発明の実施例1に係るウエハピッチ変換機1を示す上面図であり、図2は、そのウエハピッチ変換機1の側面図である。なお、本実施例1に係るウエハピッチ変換機は、ピッチ間隔4.7625mmを7.1mmに、あるいは、ピッチ間隔7.1mmを4.7625mmに変換するものとするが、本発明はこれに限定されるものではなく、使用目的に応じて適宜変更可能である。   FIG. 1 is a top view showing a wafer pitch converter 1 according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a side view of the wafer pitch converter 1. The wafer pitch converter according to the first embodiment converts the pitch interval of 4.7625 mm to 7.1 mm, or the pitch interval of 7.1 mm to 4.7625 mm, but the present invention is not limited to this. It is not a thing and can be suitably changed according to the purpose of use.

図1および図2において、ウエハピッチ変換機1に隣接するように配されたキャリア2のカセット置き台3には、複数のウエハ4(本実施形態では、ピッチ4.7625mmである25枚のウエハ)を収納するカセット5(ピッチ4.7625mm用)が載置されている。ウエハピッチ変換機1は、各ウエハ4を略平行に保持するように均一なピッチで整列された複数のウエハ保持部材6と、該各ウエハ保持部材6にウエハ4を案内する案内部材7と、ウエハ保持部材6を支持するための支持体8とを備えている。   1 and 2, a plurality of wafers 4 (25 wafers having a pitch of 4.7625 mm in this embodiment) are placed on a cassette mounting table 3 of a carrier 2 arranged so as to be adjacent to the wafer pitch converter 1. A cassette 5 (for a pitch of 4.7625 mm) is placed. The wafer pitch converter 1 includes a plurality of wafer holding members 6 aligned at a uniform pitch so as to hold the wafers 4 substantially in parallel, a guide member 7 for guiding the wafers 4 to the wafer holding members 6, and a wafer. And a support 8 for supporting the holding member 6.

支持体8は、各ウエハ保持部材6の中空部を貫通して垂直方向に延在し、両端が上下の基台9,9に固定されている支柱10(本実施形態では4本)と、該支柱10にベアリング11,11を介して摺動自在に支持されている変換プレート12とから構成されている。   The support 8 extends through the hollow portion of each wafer holding member 6 in the vertical direction, and supports 10 (four in this embodiment) having both ends fixed to the upper and lower bases 9 and 9; The support plate 10 includes a conversion plate 12 that is slidably supported via bearings 11 and 11.

また、案内部材7は、一方の面にはピッチ変換前のピッチ(本実施形態では、4.7625mm)に対応するように形成された溝を有し、他方の面にはピッチ変換後のピッチ(本実施形態では、7.1mm)に対応するように形成された溝を有する。そして、この案内部材7は、垂直方向に延在し、両端が上下の基台9,9に固定されている回転軸13に回転自在に支持されており、上部(図2上側)に設けられたつまみ部材14を溝14aに沿って、図1中の矢印A−B方向に回動することによって、2種類のピッチの切り替えを行ない、ウエハ4を案内するようになっている。   The guide member 7 has a groove formed on one surface so as to correspond to the pitch before pitch conversion (4.7625 mm in the present embodiment), and the pitch after pitch conversion on the other surface. (In this embodiment, it has a groove formed to correspond to 7.1 mm). The guide member 7 extends in the vertical direction, and is rotatably supported by a rotating shaft 13 whose both ends are fixed to the upper and lower bases 9 and 9, and is provided at the upper part (upper side in FIG. 2). By rotating the knob member 14 along the groove 14a in the direction of the arrow A-B in FIG.

図3および図4は、ウエハピッチ変換機1の主要部を説明する図である。図3において、(a)は、ウエハ保持部材6の上端部材6A(図2に図示されるウエハ保持部材6の最上端の部材)の断面図、(c)は、ウエハ保持部材6の下端部材6C(図2に図示されるウエハ保持部材6の最下端の部材)の断面図、(b)は、ウエハ保持部材6である中間部材6B(図2に図示されるウエハ保持部材6において、上端部材6Aおよび下端部材6Cを除いた部材)である。また、図4は、上端部材6Aと該上端部材6Aの下に配された中間部材6Bとを連結した状態を示す断面図である。   3 and 4 are diagrams for explaining the main part of the wafer pitch converter 1. FIG. 3A is a sectional view of the upper end member 6A of the wafer holding member 6 (the uppermost member of the wafer holding member 6 shown in FIG. 2), and FIG. 3C is the lower end member of the wafer holding member 6. 6C (cross-sectional view of the lowermost member of the wafer holding member 6 shown in FIG. 2), (b) shows an intermediate member 6B which is the wafer holding member 6 (the upper end of the wafer holding member 6 shown in FIG. 2). The member excluding the member 6A and the lower end member 6C). FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state in which the upper end member 6A and the intermediate member 6B arranged under the upper end member 6A are connected.

図3に示すように、上端部材6A、中間部材6B、および下端部材6Cのいずれの部材(以下、総称してウエハ保持部材6)も、中心に支柱10が嵌挿され、上下に摺動できるように、中心孔(中空部)15が形成されている。また、各ウエハ保持部材6の側面には、凹状の溝16が形成されており、該溝16によって各ウエハ4を保持するようになっている。   As shown in FIG. 3, any of the upper end member 6 </ b> A, the intermediate member 6 </ b> B, and the lower end member 6 </ b> C (hereinafter collectively referred to as a wafer holding member 6) can be slid up and down with the support 10 inserted in the center. Thus, a center hole (hollow part) 15 is formed. A concave groove 16 is formed on the side surface of each wafer holding member 6, and each wafer 4 is held by the groove 16.

上端部材6Aおよび中間部材6Bの下部には、下に配されたウエハ保持部材6に連結するための係合凸部17が形成されており、該係合凸部17の下端部外周側面には鉤状の18が設けられている。また、中間部材6Bおよび下端部材6Cの上部には、上に配されたウエハ保持部材6に連結するための係合凹部19が形成されており、該係合凹部19の上端部外周側面には鉤状の20が設けられている。この18および20は、係合する際に高い寸法精度と耐久性が要求されるため、各側面の全周にわたって形成されている。
Engagement projections 17 are formed below the upper end member 6A and the intermediate member 6B to connect to the wafer holding member 6 disposed below. On the outer peripheral side surface of the lower end portion of the engagement projection 17 A hook-like nail 18 is provided. An engaging recess 19 is formed on the upper portion of the intermediate member 6B and the lower end member 6C. The engaging recess 19 is connected to the wafer holding member 6 disposed above. A hook-like nail 20 is provided. Since the claw 18 and the claw 20 are required to have high dimensional accuracy and durability when engaged, they are formed over the entire circumference of each side surface.

なお、この18および20は、耐久強度が高く、且つ軽量である樹脂から形成されることが望ましく、例えば、ポリウレタン系樹脂、フッ素樹脂、ポリプロピレン樹脂などが好ましい。
Note that the claws 18 and the claws 20 are desirably formed of a resin having high durability and light weight, and for example, polyurethane resins, fluororesins, polypropylene resins, and the like are preferable.

図4に示すように、上端部材6Aと中間部材6Bとは、上端部材6Aの係合凸部17が中間部材6Bの係合凹部19に嵌挿され、係合凸部17の18と係合凹部19の20とが係合することによって連結される。そして、各ウエハ保持部材6および各ウエハ4は、各ウエハ保持部材6間Tだけピッチ変換が可能になっている。
As shown in FIG. 4, the upper end member 6A and the intermediate member 6B are engaged with the claw 18 of the engagement convex portion 17 by engaging the engagement convex portion 17 of the upper end member 6A with the engagement concave portion 19 of the intermediate member 6B. It is connected by engaging the claw 20 of the joint recess 19. Each wafer holding member 6 and each wafer 4 can be pitch-converted by the distance T 1 between the wafer holding members 6.

なお、各中間部材6B間の連結、および中間部材6Bと下端部材6Cとの間の連結においても、上述した連結構造と同様である。   In addition, also in the connection between each intermediate member 6B and the connection between the intermediate member 6B and the lower end member 6C, it is the same as that of the connection structure mentioned above.

また、本実施形態では、T<S(Sは、18と20とが係合した状態における係合部17の下端面17aと係合凹部19の底面19aとの間のスペース)であるため、ピッチ変換の間隔はTであるが、T>Sの場合には、ピッチ変換の間隔は、Sである。
Further, in the present embodiment, T 1 <S 1 (S 1 , the pawl 18 and the pawl 20 and is defined between the bottom surface 19a of the lower end surface 17a and the engagement recess 19 of the engaging convex portion 17 in the engaged Space), the pitch conversion interval is T 1 , but when T 1 > S 1 , the pitch conversion interval is S 1 .

また、本ウエハピッチ変換機1におけるピッチとは、図4に示すように、各ウエハ保持部材6の溝16の中心線と中心線との間隔Pであり、本実施形態では、このピッチ間隔Pを4.7625mmから7.1mmに、あるいは7.1mmから4.7625mmに変換する。   Further, as shown in FIG. 4, the pitch in the wafer pitch converter 1 is an interval P between the center lines of the grooves 16 of the wafer holding members 6 and the center line. Convert from 4.7625 mm to 7.1 mm, or from 7.1 mm to 4.7625 mm.

さらに、本ウエハピッチ変換機1では、図4に示す各ウエハ保持部材間Tおよび各中間部材高さTの寸法精度が要求されるため、互いの部材が当接する部分、すなわち、各ウエハ保持部材6のフランジ面6f,6f、および18,20は、ばねやゴムなどの弾性部材を介さずに、部材同士が直接当接することが望ましい。
Further, in the wafer pitch converter 1, for each wafer holding member between T 1 and the dimensional accuracy of the intermediate member height T 2 shown in FIG. 4 is required, partial mutual member abuts, i.e., holding the wafer It is desirable that the flange surfaces 6f and 6f of the member 6 and the claws 18 and the claws 20 are in direct contact with each other without using an elastic member such as a spring or rubber.

次に、本実施例1におけるウエハピッチ変換機1の作用について説明する。   Next, the operation of the wafer pitch converter 1 in the first embodiment will be described.

図1および図2は、ピッチ変換前(ウエハ4のピッチ4.7625mm)のウエハピッチ変換機1を示す上面図および側面図であり、図5および図6は、ピッチ変換後(ウエハのピッチ7.1mm)のウエハピッチ変換機1を示す上面図および側面図である。また、図7は、ピッチ変換前のウエハ保持部材6の要部断面図であり、図4は、ピッチ変換後のウエハ保持部材6の要部断面図である。   FIGS. 1 and 2 are a top view and a side view showing the wafer pitch converter 1 before the pitch conversion (wafer 4 pitch 4.7625 mm), and FIGS. 5 and 6 show the pitch after conversion (wafer pitch 7.. FIG. 2 is a top view and a side view showing a wafer pitch converter 1 of 1 mm). 7 is a cross-sectional view of the main part of the wafer holding member 6 before the pitch conversion, and FIG. 4 is a cross-sectional view of the main part of the wafer holding member 6 after the pitch conversion.

図1および図2において、カセット5にピッチ間隔4.7625mmで収納された複数のウエハ4は、このピッチ間隔に対応した複数の押出し部を有する押出し板(図示せず)によって、図2の矢印X1方向に押出され、ウエハピッチ変換機1内に搬入される。この際、案内部材7は、ピッチ間隔4.7625mmに対応する溝を有する面が、ウエハ4の通路側に面するように、つまみ14によって調整される。   1 and 2, the plurality of wafers 4 accommodated in the cassette 5 at a pitch interval of 4.7625 mm are shown in FIG. 2 by an extrusion plate (not shown) having a plurality of extrusion portions corresponding to the pitch interval. Extruded in the X1 direction and carried into the wafer pitch converter 1. At this time, the guide member 7 is adjusted by the knob 14 so that the surface having the groove corresponding to the pitch interval of 4.7625 mm faces the passage side of the wafer 4.

そして、各ウエハ4は、この案内部材7を介して、ピッチ間隔4.7625mmのウエハを保持するように整列された複数のウエハ保持部材6に保持される。ここで、各ウエハ保持部材6は、図7に示すように、それぞれのフランジ部6f,6fが当接した状態である。   Each wafer 4 is held by a plurality of wafer holding members 6 arranged so as to hold wafers having a pitch interval of 4.7625 mm via the guide member 7. Here, as shown in FIG. 7, each wafer holding member 6 is in a state where the respective flange portions 6f and 6f are in contact with each other.

次に、ウエハ4を保持した状態で変換プレート12を図1中の矢印V方向に摺動させ、図6に示すように、各ウエハ4のピッチを一様に大きくし、ウエハ4のピッチ間隔を7.1mmにする。ここで、各ウエハ保持部材6は、図4に示すように、係合部17の18と係合凹部19の20との係合によって連結している。なお、この変換プレート12を摺動させる作業は、手動で行なってもよいし、機械的に行なってもよい。
Next, with the wafer 4 held, the conversion plate 12 is slid in the direction of arrow V in FIG. 1, and the pitch of each wafer 4 is uniformly increased as shown in FIG. To 7.1 mm. Wherein each wafer holding member 6, as shown in FIG. 4, are connected by the engagement between the pawl 20 of the pawl 18 and the engagement recess 19 of the engaging protrusion 17. The operation of sliding the conversion plate 12 may be performed manually or mechanically.

ピッチ間隔が7.1mmに変換されたウエハ4は、このピッチ間隔に対応した複数の押出し部を有する押出し板(図示せず)によって、図4の矢印X2方向に押出され、ウエハピッチ変換機1から搬出される。この際、案内部材7は、ピッチ間隔7.1mmに対応する溝を有する面が、ウエハ4の通路側に面するように、つまみ14によって調整される。   The wafer 4 having the pitch interval converted to 7.1 mm is extruded in the direction of the arrow X2 in FIG. 4 by an extrusion plate (not shown) having a plurality of extrusion portions corresponding to the pitch interval. It is carried out. At this time, the guide member 7 is adjusted by the knob 14 so that the surface having the groove corresponding to the pitch interval of 7.1 mm faces the passage side of the wafer 4.

そして、ピッチ変換機1から搬出されたウエハ4は、ピッチ間隔7.1mmで収納するように構成された金属キャリア21に収納され、対応ピッチが異なる移載装置に対応することができる。なお、逆に、ウエハ4を大きなピッチから小さなピッチに変換する場合には、上述した作用の反対を行なえばよい。   And the wafer 4 carried out from the pitch converter 1 is accommodated in the metal carrier 21 comprised so that it may accommodate with a pitch space | interval of 7.1 mm, and can respond | correspond to the transfer apparatus from which a corresponding pitch differs. On the contrary, when the wafer 4 is converted from a large pitch to a small pitch, the above-described operation may be reversed.

以上のように、本実施例1のウエハ変換機1では、複数のウエハ4を略平行に保持する複数のウエハ保持部材6と、該ウエハ保持部材6を摺動自在に支持する支持体8とを備え、各ウエハ保持部材6は、上に配されたウエハ保持部材6と連結するための係合凹部19と、下に配されたウエハ保持部材と連結するための係合凸部17とを有し、係合凹部19の側面に設けられた20と係合凸部17の側面に設けられた18との係合によって連結されるようにした。そして、複数のウエハ保持部材6の一端を基準として、複数のウエハ保持部材6の他端に備えられた変換プレート12を摺動することによって、各ウエハ保持部材6間のピッチを変換するようにした。これにより、ウエハ保持部材6に保持されたウエハ4のピッチ間隔を高速に変更することができ、且つピッチ間隔の寸法精度を容易に制御することができる。この結果、ウエハ製造工程における作業効率の向上を図ることができる。
As described above, in the wafer converter 1 according to the first embodiment, the plurality of wafer holding members 6 that hold the plurality of wafers 4 substantially in parallel, and the support 8 that slidably supports the wafer holding members 6. Each wafer holding member 6 includes an engaging concave portion 19 for connecting to the wafer holding member 6 disposed above, and an engaging convex portion 17 for connecting to the wafer holding member disposed below. And the claw 20 provided on the side surface of the engagement concave portion 19 and the claw 18 provided on the side surface of the engagement convex portion 17 are connected by engagement. Then, the pitch between the wafer holding members 6 is converted by sliding the conversion plate 12 provided at the other end of the plurality of wafer holding members 6 with one end of the plurality of wafer holding members 6 as a reference. did. Thereby, the pitch interval of the wafer 4 held by the wafer holding member 6 can be changed at high speed, and the dimensional accuracy of the pitch interval can be easily controlled. As a result, it is possible to improve work efficiency in the wafer manufacturing process.

さらに、本ウエハ変換機1は、構成要素としてモータやエアシリンダなどの機械的要素を用いていないため、ピッチ変換操作が容易であり、また、簡素化された構成にしたことによって、装置の小型化を図ることができ、且つ製造コストおよび労力の軽減を図ることができる。   Further, since the wafer conversion machine 1 does not use mechanical elements such as a motor and an air cylinder as components, the pitch conversion operation is easy, and the simplified configuration reduces the size of the apparatus. The manufacturing cost and labor can be reduced.

図8ないし図11は、本発明の実施例2に係るウエハピッチ変換機1´を示すものであり、実施例1と同一の部材には同一の符号を付して、その説明を省略する。なお、本実施形態のウエハピッチ変換機1´は、ピッチ間隔2.3mmで略平行に並列しているウエハのピッチを4.7625mmに変換するものとするが、本発明はこれに限定されるものではなく、使用目的に応じて適宜変更可能である。   8 to 11 show a wafer pitch converter 1 ′ according to the second embodiment of the present invention. The same members as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted. The wafer pitch converter 1 ′ of the present embodiment converts the pitch of wafers arranged in parallel at a pitch interval of 2.3 mm to 4.7625 mm, but the present invention is not limited to this. Instead, it can be appropriately changed according to the purpose of use.

図8は、ウエハピッチ変換機1´を用いたウエハ移載装置21を示す上面図である。同図において、ウエハ移載装置21は、ピッチ間隔2.3mmで略平行にウエハ4を収納しているウエハボート22と、該ウエハボート22から複数(本実施例では25枚)のウエハ4を取出し、該ウエハ4のピッチ間隔を4.7625mmに変換するウエハピッチ変換機1´と、ピッチ間隔を4.7625mmに変換されたウエハ4を収納するカセット5´とを、基台23上に備えている。なお、本実施例では、ウエハボート22は、25枚のウエハ4を1セットのウエハ集合体とし、最大で4セットのウエハ集合体を収納できるようになっている。   FIG. 8 is a top view showing the wafer transfer device 21 using the wafer pitch converter 1 ′. In the figure, a wafer transfer device 21 includes a wafer boat 22 storing wafers 4 substantially parallel with a pitch interval of 2.3 mm, and a plurality (25 in this embodiment) of wafers 4 from the wafer boat 22. A wafer pitch converter 1 ′ for taking out and converting the pitch interval of the wafer 4 to 4.7625 mm and a cassette 5 ′ for storing the wafer 4 having the pitch interval converted to 4.7625 mm are provided on the base 23. Yes. In the present embodiment, the wafer boat 22 is configured such that 25 wafers 4 constitute one set of wafer aggregates and can accommodate a maximum of 4 sets of wafer aggregates.

図9は、ウエハピッチ変換機1´の要部を示す斜視図であり、図10は、ウエハピッチ変換機1´の側面図である。図9および図10において、ウエハピッチ変換機1´は、複数のウエハ保持部材6からなる1本の上ウエハ保持部材集合体6aと、複数のウエハ保持部材6からなる2本の下ウエハ保持部材集合体6b,6bと、ウエハ保持部材6を支持するための支持体8とからなる。また、ウエハピッチ変換機1´は、上下方向(図10中矢印Y−Y´方向)に移動できるようになっている。   FIG. 9 is a perspective view showing a main part of the wafer pitch converter 1 ′, and FIG. 10 is a side view of the wafer pitch converter 1 ′. 9 and 10, the wafer pitch converter 1 ′ includes a single upper wafer holding member assembly 6 a made up of a plurality of wafer holding members 6 and two lower wafer holding member sets made up of a plurality of wafer holding members 6. It consists of bodies 6b, 6b and a support 8 for supporting the wafer holding member 6. Further, the wafer pitch converter 1 ′ can move in the vertical direction (the direction of the arrow Y-Y ′ in FIG. 10).

夫々の下保持部材集合体6b,6bは、ウエハピッチ変換機1´が上方向(図10中矢印Y方向)に移動した場合には、図9中矢印C方向に閉まり、一方、ウエハピッチ変換機1´が下方向(図10中矢印Y´方向)に移動した場合には、図9中矢印O方向に開くようになっている。   Each of the lower holding member aggregates 6b and 6b closes in the direction of arrow C in FIG. 9 when the wafer pitch converter 1 ′ moves upward (in the direction of arrow Y in FIG. 10), while the wafer pitch converter 1 When ′ moves downward (in the direction of arrow Y ′ in FIG. 10), it opens in the direction of arrow O in FIG.

なお、ウエハ4を保持する際に、夫々の下保持部材集合体6b,6bがウエハ4の周縁部に当接する位置は、少なくともウエハの中心より下方である。また、夫々の下保持部材集合体6b,6bが開いたときの下保持部材集合体6b,6bの間隔は、少なくともウエハ4の直径より大きく、また、閉まったときの間隔は、少なくともウエハ4の直径より小さくなっている。   When the wafer 4 is held, the position where the lower holding member assemblies 6b and 6b abut on the peripheral edge of the wafer 4 is at least below the center of the wafer. The distance between the lower holding member assemblies 6b and 6b when the respective lower holding member assemblies 6b and 6b are opened is at least larger than the diameter of the wafer 4, and the interval when the lower holding member assemblies 6b and 6b are closed is at least that of the wafer 4. It is smaller than the diameter.

支持体8は、各ウエハ保持部材6の中空部を貫通して水平方向に延在し、両端が左右の基台9,9に固定されている1本の上支柱10aおよび2本の下支柱10b,10bと、これらの各支柱10a,10b,10bにベアリング11を介して摺動自在に支持されている変換プレート12とから構成されている。この変換プレート12は、水平方向(図10中矢印H−H´方向)に摺動するようになっている。   The support 8 extends in the horizontal direction through the hollow portion of each wafer holding member 6, and has one upper support 10 a and two lower supports that are fixed to the left and right bases 9, 9 at both ends. 10b, 10b and a conversion plate 12 slidably supported on each of these columns 10a, 10b, 10b via a bearing 11. The conversion plate 12 slides in the horizontal direction (the direction of the arrow HH ′ in FIG. 10).

次に、本実施例2におけるウエハピッチ変換機1´の作用について説明する。   Next, the operation of the wafer pitch converter 1 ′ in the second embodiment will be described.

図10は、ピッチ変換前(ウエハ4のピッチ2.3mm)のウエハピッチ変換機1´を示す側面図であり、図11は、ピッチ変換後(ウエハのピッチ4.7625mm)のウエハピッチ変換機1´を示す側面図である。   FIG. 10 is a side view showing the wafer pitch converter 1 ′ before pitch conversion (wafer 4 pitch 2.3 mm), and FIG. 11 shows the wafer pitch converter 1 ′ after pitch conversion (wafer pitch 4.7625 mm). FIG.

図10において、ウエハボート22にピッチ間隔2.3mmで収納された複数のウエハ4のうち、1セット分(25枚)のウエハ4が、このピッチ間隔に対応した複数の押出し部を有する押出し板24aによって、ウエハボート22の上面より半分以上(好ましくは6割以上)の部分が現れる位置まで上(図10中矢印U方向)に押上げられる。   In FIG. 10, among a plurality of wafers 4 accommodated in a wafer boat 22 with a pitch interval of 2.3 mm, one set (25 sheets) of wafers 4 has an extrusion plate having a plurality of extrusion portions corresponding to this pitch interval. By 24a, the wafer boat 22 is pushed up (in the direction of arrow U in FIG. 10) to a position where half or more (preferably 60% or more) of the wafer boat 22 appears.

この押上げられたウエハ4を保持するために、ウエハピッチ変換機1´は、下方向(図10中矢印Y´方向)に移動する。この際、夫々の下保持部材集合体6b,6bは、間隔がウエハ4の直径より大きくなるように、図9中の矢印O方向に開いている。   In order to hold the pushed wafer 4, the wafer pitch converter 1 ′ moves downward (in the direction of arrow Y ′ in FIG. 10). At this time, the lower holding member aggregates 6 b and 6 b are opened in the direction of arrow O in FIG. 9 so that the interval is larger than the diameter of the wafer 4.

夫々の下保持部材集合体6b,6bは、ウエハ4を保持する位置(ウエハ4の中心より下方)に達すると、図9中の矢印C方向に閉じて、ウエハ4を保持する。ウエハ4を保持したウエハピッチ変換機1´は、上方向(図8中矢印Y方向)に移動し、変換プレート12を矢印H方向に摺動させ、各ウエハ4のピッチを一様に4.7625mmにする。   When the lower holding member aggregates 6b and 6b reach the position for holding the wafer 4 (below the center of the wafer 4), the lower holding member aggregates 6b and 6b are closed in the direction of arrow C in FIG. The wafer pitch changer 1 ′ holding the wafer 4 moves upward (in the direction of arrow Y in FIG. 8), slides the conversion plate 12 in the direction of arrow H, and uniformly sets the pitch of each wafer 4 to 4.7625 mm. To.

ウエハ4のピッチを変換したウエハピッチ変換機1´は、図8中の矢印Z方向に移動し、図11に示すように、ピッチ4.7625mmのウエハ4を収納するカセット5´の上方に配される。そして、ピッチ変換したウエハ4をカセット5´に収納するため、下方向(図11中矢印Y´方向)に移動する。ウエハピッチ変換機1´からカセット5´にウエハ4を移す場合には、このピッチ間隔に対応した複数の押出し部を有する押出し板24bをカセット5´の下方から押出した状態で維持しておき、夫々の下保持部材集合体6b,6bは、ウエハピッチ変換機1´に保持されているウエハ4の周縁部が押出し板の押出し部に当接する位置に達すると、図9中の矢印O方向に開いて、ウエハ4の保持を解除する。その後、押出し板24bをゆっくり下方(図11中矢印D方向)に移動し、ウエハ4がカセット5´に収納される。   The wafer pitch converter 1 ′ that has converted the pitch of the wafer 4 moves in the direction of arrow Z in FIG. 8, and is disposed above the cassette 5 ′ that stores the wafer 4 having a pitch of 4.7625 mm as shown in FIG. The Then, in order to store the pitch-converted wafer 4 in the cassette 5 ', the wafer 4 is moved downward (in the direction of arrow Y' in FIG. 11). When the wafer 4 is transferred from the wafer pitch converter 1 ′ to the cassette 5 ′, the extrusion plate 24b having a plurality of extrusion portions corresponding to the pitch interval is maintained in a state of being extruded from below the cassette 5 ′. The lower holding member aggregates 6b and 6b open in the direction of arrow O in FIG. 9 when the peripheral edge of the wafer 4 held by the wafer pitch converter 1 ′ reaches a position where it abuts against the pushing portion of the pushing plate. Then, the holding of the wafer 4 is released. Thereafter, the pushing plate 24b is slowly moved downward (in the direction of arrow D in FIG. 11), and the wafer 4 is stored in the cassette 5 ′.

なお、逆に、ウエハ4を大きいピッチ(4.7625mm)から小さなピッチ(2.3mm)に変換する場合には、上述した作用の反対を行なえばよい。また、各部材の動作は、手動で行なってもよいし、機械的に行なってもよい。   On the contrary, when converting the wafer 4 from a large pitch (4.7625 mm) to a small pitch (2.3 mm), the above-described operation may be reversed. The operation of each member may be performed manually or mechanically.

以上のように、本実施例2のピッチ変換機1´では、ウエハボート22から複数のウエハ4を取出し、該ウエハ4のピッチを変換してカセット5´に収納するために、各ウエハ保持部材6が水平方向に摺動するように構成したが、実施例1と同様の作用効果を得ることができる。   As described above, in the pitch converter 1 ′ of the second embodiment, each wafer holding member is used to take out a plurality of wafers 4 from the wafer boat 22, change the pitch of the wafers 4, and store them in the cassette 5 ′. Although 6 is configured to slide in the horizontal direction, the same effects as those of the first embodiment can be obtained.

以上、本発明を具体的に説明してきたが、本発明はそれに限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。   Although the present invention has been specifically described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

本発明の実施例1に係るウエハピッチ変換機の上面図であり、ピッチ変換前の状態を示すものである。It is a top view of the wafer pitch converter based on Example 1 of this invention, and shows the state before pitch conversion. 上記ウエハピッチ変換機のピッチ変換前の状態を示す側面図である。It is a side view which shows the state before the pitch conversion of the said wafer pitch converter. (a)は、上記ウエハピッチ変換機のウエハ保持部材の上端部材を示す断面図、(b)は、上記ウエハ保持部材の中間部材を示す断面図、(c)は、上記ウエハ保持部材の下端部材を示す断面図である。(a) is sectional drawing which shows the upper end member of the wafer holding member of the said wafer pitch converter, (b) is sectional drawing which shows the intermediate member of the said wafer holding member, (c) is the lower end member of the said wafer holding member FIG. ピッチ変換後の上記ウエハ保持部材の要部断面図である。It is principal part sectional drawing of the said wafer holding member after pitch conversion. 上記ウエハピッチ変換機のピッチ変換後の状態を示す上面図である。It is a top view which shows the state after the pitch conversion of the said wafer pitch converter. 上記ウエハピッチ変換機のピッチ変換後の状態を示す側面図である。It is a side view which shows the state after the pitch conversion of the said wafer pitch converter. ピッチ変換前の上記ウエハ保持部材の要部断面図である。It is principal part sectional drawing of the said wafer holding member before pitch conversion. 本発明の実施例2に係るウエハピッチ変換機ウエハピッチ変換機を用いたウエハ移載装置の上面図である。It is a top view of the wafer transfer apparatus using the wafer pitch converter which concerns on Example 2 of this invention. 上記ウエハピッチ変換機の要部を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the principal part of the said wafer pitch converter. 上記ウエハピッチ変換機のピッチ変換前の状態を示す側面図である。It is a side view which shows the state before the pitch conversion of the said wafer pitch converter. 上記ウエハピッチ変換機のピッチ変換後の状態を示す側面図である。It is a side view which shows the state after the pitch conversion of the said wafer pitch converter.

符号の説明Explanation of symbols

1 ウエハピッチ変換機
4 ウエハ
6 ウエハ保持部材
8 支持体
12 変換プレート
17 係合凸部
18
19 係合凹部
20
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Wafer pitch conversion machine 4 Wafer 6 Wafer holding member 8 Support body 12 Conversion plate 17 Engaging convex part 18 nail 19 Engaging concave part 20 nail

Claims (3)

複数のウエハを平行に保持する均一なピッチで整列された複数のウエハ保持部材と、
該複数のウエハ保持部材の中空孔を貫通して延在された支柱と、
前記複数のウエハ保持部材のうちの一端に配されたウエハ保持部材を前記複数のウエハ保持部材のピッチを変更する際の基準として、前記複数のウエハ保持部材のうちの他端に配されたウエハ保持部材を前記支柱に沿って摺動させる変換プレートと
を備えたウエハピッチ変換機であって、
前記各ウエハ保持部材は、
一端側に配された隣の前記ウエハ保持部材と対向するフランジ面の中心部に形成された円筒状の係合凹部と、
該係合凹部の端部内周側面に一体に形成された鉤状の爪と、
他端側に配された隣の前記ウエハ保持部材と対向するフランジ面の中心部に形成され、前記係合凹部内に嵌挿された円筒状の係合凸部と、
該係合凸部の端部外周側面に一体に形成された鉤状の爪とを有し、
前記複数のウエハ保持部材のピッチは、隣合う前記各ウエハ保持部材の互いの前記フランジ面が当接している第1ピッチと、前記係合凹部の爪と前記係合凸部の爪とが当接している、前記第1ピッチより大きい第2ピッチとに変更されることを特徴とするウエハピッチ変換機。
A plurality of wafer holding members aligned at a uniform pitch for holding a plurality of wafers in parallel;
Struts extending through the hollow holes of the plurality of wafer holding members;
Wafers arranged at the other end of the plurality of wafer holding members, using the wafer holding member arranged at one end of the plurality of wafer holding members as a reference when changing the pitch of the plurality of wafer holding members. A wafer pitch converter comprising: a conversion plate that slides the holding member along the column ;
Each wafer holding member is
A cylindrical engaging recess formed at the center of the flange surface facing the adjacent wafer holding member disposed on one end side;
A hook-shaped claw integrally formed on the inner peripheral side surface of the end of the engagement recess;
A cylindrical engagement convex portion formed at the center of the flange surface facing the adjacent wafer holding member disposed on the other end side, and fitted into the engagement concave portion;
A hook-like claw integrally formed on the outer peripheral side surface of the end of the engagement convex portion ;
The pitches of the plurality of wafer holding members are the first pitch at which the flange surfaces of the adjacent wafer holding members are in contact with each other, and the claw of the engaging concave portion and the claw of the engaging convex portion. The wafer pitch converter is changed to a second pitch larger than the first pitch which is in contact with the wafer pitch .
前記係合凹部の爪および前記係合凸部の爪は、樹脂から形成された請求項1に記載のウエハピッチ変換機。   The wafer pitch converter according to claim 1, wherein the claw of the engaging concave portion and the claw of the engaging convex portion are formed of resin. 前記係合凹部の爪は、前記係合凹部の端部内周側面に、全周にわたって設けられており、かつ、前記係合凸部の爪は、前記係合凸部の端部外周側面に、全周にわたって設けられている請求項1または2に記載のウエハピッチ変換機。
The claw of the engagement concave portion is provided on the inner peripheral side surface of the end of the engagement concave portion over the entire circumference, and the claw of the engagement convex portion is provided on the outer peripheral side surface of the end of the engagement convex portion , The wafer pitch converter according to claim 1 or 2 provided over the entire circumference.
JP2004161111A 2004-05-31 2004-05-31 Wafer pitch converter Expired - Fee Related JP3998662B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004161111A JP3998662B2 (en) 2004-05-31 2004-05-31 Wafer pitch converter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004161111A JP3998662B2 (en) 2004-05-31 2004-05-31 Wafer pitch converter

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005340729A JP2005340729A (en) 2005-12-08
JP3998662B2 true JP3998662B2 (en) 2007-10-31

Family

ID=35493905

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004161111A Expired - Fee Related JP3998662B2 (en) 2004-05-31 2004-05-31 Wafer pitch converter

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3998662B2 (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6049970B2 (en) 2011-08-10 2016-12-21 川崎重工業株式会社 End effector device and substrate transfer robot provided with the end effector device
EP2940723B1 (en) 2012-12-27 2020-05-20 Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha End-effector device
KR101863473B1 (en) 2013-12-26 2018-05-31 가와사끼 쥬고교 가부시끼 가이샤 End effector and substrate transfer robot
JP6309756B2 (en) 2013-12-26 2018-04-11 川崎重工業株式会社 End effector device
WO2015114850A1 (en) 2014-01-28 2015-08-06 川崎重工業株式会社 Substrate transfer system and method

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005340729A (en) 2005-12-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN216288355U (en) Wafer transfer system
CN103688348B (en) End effector device and possess the board carrying manipulator of this end effector device
KR0129405B1 (en) Pitch changing device for changing pitches of plate-like objects and method of changing pitches
US8356713B2 (en) Retainer and substrate storage container
JP6294908B2 (en) Wafer transfer apparatus and wafer transfer method
JP3998662B2 (en) Wafer pitch converter
JP2007227941A (en) Cushioned wafer container
JP2020102532A (en) Multistep hand and transfer robot including the same
KR100746850B1 (en) Apparatus for Transfering Semiconductor Wafer
KR101653243B1 (en) Spin chuck
EP1373099A1 (en) Thin wafer insert
JP2013503473A (en) Wafer carrier
US6132160A (en) Substrate transferring apparatus
JP4278275B2 (en) Array pitch converter
JP4252887B2 (en) Sliding device
JP4791498B2 (en) Test tray transfer device for test handler, test handler, and test tray transfer method for test handler
JP2006351119A (en) Disk clamp device
JP2010080462A (en) Component mounting apparatus
CN113247615B (en) Assembly system for spring clamp
JP2011027231A (en) Cvt belt assembling device and cvt belt assembling method
CN212833474U (en) Glass cutting equipment
JP2007242980A (en) Maintenance pitch conversion structure
JP2590363B2 (en) Pitch converter
JP2796169B2 (en) Wafer transfer equipment
KR970018341A (en) Transfer device of silicon wafer for semiconductor

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070314

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070320

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070521

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070619

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070703

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070731

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070807

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100817

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100817

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110817

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120817

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120817

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130817

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees