JPH04112868A - 置換ヘテロ環を有するフェニルカルボン酸誘導体 - Google Patents

置換ヘテロ環を有するフェニルカルボン酸誘導体

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JPH04112868A
JPH04112868A JP23362390A JP23362390A JPH04112868A JP H04112868 A JPH04112868 A JP H04112868A JP 23362390 A JP23362390 A JP 23362390A JP 23362390 A JP23362390 A JP 23362390A JP H04112868 A JPH04112868 A JP H04112868A
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JP
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compound
acid
group
reaction
general formula
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JP23362390A
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English (en)
Inventor
Shinichi Watabe
伸一 渡部
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Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は新規な置換へテロ環を有するフェニルカルボン
酸誘導体又はその塩、より詳しくは血中脂質低下作用を
有し、医薬として有用な上記化合物に関する。
従来技術とその問題点 本発明は、殊に医薬として有用な文献等に未載の新規な
フェニルカルボン酸誘導体及びその塩を提供することを
目的とする。
問題点を解決するための手段 本発明によれば、一般式 〔式中R1はハロゲン原子、低級アルキル基、低級アル
コキシ基、フェニル環上に置換基として低級アルコキシ
基を有することのあるフェニル低級アルコキシ基又は水
酸基を示し、kは1〜3の整数を示す。また(R1)、
は低級アルキレンジオキシ基であってもよい。Aはカル
ボニル基又はスルホニル基を示す。mは0又は1である
。Dは低級アルキレン基を示す。R2は水素原子又は低
級アルキル基を示す。〕 で表わされる置換へテロ環を有するフェニルカルボン酸
誘導体及びその塩が提供される。
尚、本明細書中基(R1’) kにおいてkが2又は3
の場合、各R1基は前記定義の同−基である必要はなく
異なる基であってもよい。
上記一般式(1)で表わされる本発明化合物及びその塩
は、これを生体に投与すれば、生体内でCoA化される
ことにより、コレステロール及び脂肪酸生合成系酵素を
更により強力に阻害すると考えられ、脂肪酸合成阻害作
用及びコレステロール合成阻害作用を有している。また
生体内への吸収性がよく、薬効の持続時間が長く、更に
安全性が高く、吸収、排出性にも優れ、低毒性である特
徴を有している。従って之等は、高脂血症治療剤、動脈
硬化予防及び治療剤、抗肥満薬、糖尿病治療剤等の医薬
品として有用である。
上記一般式(1)中A、D、R+及びR2で定義される
各基、その他の本明細書に記載の各基は、より具体的に
はそれぞれ次の通りである。
ハロゲン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原子
、沃素原子を例示できる。
低級アルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、tert−
ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数1〜6の直鎖
又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。
低級アルコキシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ
、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、1erl−
ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等の炭素
数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を例示できる
フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基を有する
ことのあるフェニル低級アルコキシ基としては、例えば
ベンジルオキシ、2−フェニルエトキシ、3−フェニル
プロポキシ、4−フェニルブトキシ、1.1−ジメチル
−2−フェニル−ブトキシ、5−フェニルペンチルオキ
シ、6−フェニルへキシルオキシ基等のアルコキシ部分
が炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状である無置換のフェ
ニルアルコキシ基、及び例えば4−メトキシベンジルオ
キシ、2−エトキシベンジルオキシ、3プロピルオキシ
ベンジルオキシ、4−イソプロピルオキシベンジルオキ
シ、4−1crt−ブチルオキシベンジルオキシ、2−
ペンチルオキシベンジルオキシ、3−へキシルオキシベ
ンジルオキシ、2(2−メトキシフェニル)エトキシ、
3− (4メトキシフエニル)プロポキシ、2− (4
−エトキシフェニル)エトキシ、3− (2−メトキシ
フェニル)プロポキシ、2  (4−tert−ブトキ
シフェニル)へキシルオキシ、6− (4−ten+ブ
トキシフェニル)へキシルオキシ、6− (4ヘキシル
オキシフエニル)へキシルオキシ基等のフェニル環上に
炭素数1〜6の直鎖状又は分枝鎖状アルコキシ基の1〜
3個を有し、アルコキシ部分が炭素数1〜6の直鎖又は
分枝鎖状であるフェニルアルコキシ基を例示できる。
低級アルキレンジオキシ基としては、例えばメチレンジ
オキシ、エチレンジオキシ、トリメチレンジオキシ、テ
トラメチレンジオキシ基等の炭素数1〜4のアルキレン
ジオキシ基を例示できる。
低級アルキレン基としては、例えばメチレン、エチレン
、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘ
キサメチレン、2,2−ジメチルトリメチレン、2−メ
チルトリメチレン、メチルメチレン基等の炭素数1〜6
の直鎖又は分枝鎖状アルキレン基を例示できる。
本発明の前記一般式(1)で表わされる誘導体は、種々
の化合物を原料として、各種方法により製造することが
できる。その具体例を反応工程式を挙げて以下に詳述す
る。
〈反応工程式−1〉 〔式中A、DSR1、R2k及びmは前記に同じ。Xは
ハロゲン原子、置換基を有することのある低級アルカン
スルホニルオキシ基又は置換基を有することのあるアリ
ールスルホニルオキシ基を示す。〕 上記反応工程式−1によれば、一般式(2)で表わされ
る化合物と一般式(3)で表わされる化合物とを、適当
な不活性溶媒中、塩基性化合物の存在下に反応させるこ
とにより、所望の一般式(1)で表わされる本発明化合
物を製造することができる。
一般式(2)の化合物において、Xで示されるハロゲン
原子としては、前記例示のものと同様のものを、置換基
を有することのある低級アルカンスルホニルオキシ基と
しては、例えばメタンスルホニルオキシ、エタンスルホ
ニルオキシ、プロパンスルホニルオキシ、トリフルオロ
メタンスルホニルオキシ基等のハロゲン原子で置換され
ていてもよい炭素数1〜6のアルカンスルホニルオキシ
基を、また置換基を有することのあるアリールスルホニ
ルオキシ基としては、例えばベンゼンスルホニルオキシ
、トルエンスルホニルオキシ、pクロロベンゼンスルホ
ニルオキシ、p−ニトロベンゼンスルホニルオキシ基等
の炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン原子もしくはニ
トロ基で置換されていてもよいアリールスルホニルオキ
シ基をそれぞれ例示できる。
反応工程式−1に示す方法において用いられる不活性溶
媒としては、反応に悪影響を与えない各種のもの、例え
ばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(THE)、
ジオキサン等のエーテル類、ジクロロメタン、ジクロロ
エタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化
水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類、ピリジン、ピペリジン、トリエチルアミン等の
アミン類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化素水素類
、メタノール、エタノール、プロパツール等のアルコー
ル類、ジメチルホルムアミド(DMF) 、ジメチルア
セトアミド(DMA) 、ジメチルスルホキシド(DM
SO) 、ヘキサメチルリン酸トリアミド(HMPA)
等の非プロトン性極性溶媒や二硫化炭素等を例示できる
。また塩基性化合物としては、例えばトリエチルアミン
、ピリジン等の第3級アミン類等の有機塩基性化合物及
び炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸
塩、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカ
リ金属炭酸水素塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等のアルカリ金属水酸化塩、ナトリウム、カリウム等の
アルカリ金属、水素化ナトリウム等の水素化アルカリ金
属等の無機塩基性化合物を例示できる。
一般式(2)の化合物に対する一般式(3)の化合物の
使用割合は、通常1〜5倍モル量程度、好ましくは1〜
2倍モル量程度とされ、塩基性化合物は一般式(2)の
化合物に対して、通常1〜100倍モル量程度、好まし
くは1〜3倍モル量程度とされるのがよい。上記反応は
、一般にO〜200’C程度、好ましくは室温〜120
℃程度の温度条件下に20分〜72時間程度、好ましく
は30分〜48時間程度を要して実施される。
また上記反応工程式−1において、R1基として低級ア
ルコキシ基又はフェニル環上に置換基として低級アルコ
キシ基を有することのあるフェニル低級アルコキシ基を
有する一般式(1)の本発明化合物は、同R1基が水酸
基である一般式(1)の本発明化合物を原料として、こ
れを同反応工程式−1に示すエーテル結合生成反応と同
条件下に反応させることによって製造することができる
逆に上記R1基が水酸基である一般式(1)の本発明化
合物は、同R1基がフェニル環上に置換基として低級ア
ルコキシ基を有することのあるベンジルオキシ基である
一般式(1)の化合物を原料として、これを接触還元反
応させることによって製造することができる。この接触
還元反応は、適当な触媒を用いて不活性溶媒中で実施で
きる。
ここで用いられる接触還元触媒としては、例えは酸化白
金、白金黒、白金線、白金板、スポンジ状白金、コロイ
ド状白金等のプラチナ触媒、パラジウム黒、塩化パラジ
ウム、酸化パラジウム、パラジウム−炭素、パラジウム
−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリウム、スポンジ
状パラジウム等のパラジウム触媒、還元ニッケル、酸化
ニッケル、ラネーニッケル等のニッケル触媒、還元コバ
ルト、ラネーコバルト等のコバルト触媒、還元鉄、ラネ
ー鉄等の鉄触媒、還元銅、ラネー銅等の銅触媒等を例示
できる。また不活性溶媒としては、反応に悪影響を与え
ない各種のもの、例えばジメチルエーテル、ジエチルエ
ーテル、THF、ジオキサン、アニソール等のエーテル
類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ピリジン、ピペ
リジン、トリエチルアミン等のアミン類、ヘキサン、ヘ
プタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、メタノール、
エタノール、プロパツール等のアルコール類、酢酸エチ
ル、酢酸メチル等の酢酸エステル類、DMF、HMPA
等の非プロトン性極性溶媒や水、或いは水と上記各種有
機溶媒との混合溶媒等を例示できる。原料化合物に対す
る上記接触還元触媒の使用量は、触媒量〜大過剰量とす
るのがよい。反応温度は、通常O〜200℃程度、好ま
しくは0〜100℃程度を採用でき、反応は通常30分
〜48時間程度、好ましくは30分〜24時間程度で終
了する。
〈反応工程式−2〉 〔式中A、、D、R1k及びmは前記に同じ。
R2′は低級アルキル基を示す。〕 上記反応工程式−2によれば、一般式(1a)で表わさ
れる本発明化合物の脱エステル化反応により、一般式(
1b)で表わされる本発明化合物を製造することができ
る。
該脱エステル化反応は、適当な不活性溶媒中で、一般式
(1a)の化合物に酸性化合物又は塩基性化合物を作用
させることにより実施できる。
上記反応工程式−2に示す方法において、不活性溶媒と
しては、反応に悪影響を与えない各種のもの、例えばジ
メチルエーテル、ジエチルエーテル、THF1ジオキサ
ン、アニソール等のエーテル類、ジクロロメタン、ジク
ロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化
炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、ピリジン、ピペリジン、トリエチルアミン
等のアミン類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪
族炭化素水素類、メタノール、エタノール、プロパツー
ル等のアルコール類、DMFlDMSO,HMPA等の
非プロトン性極性溶媒や二硫化炭素、水等、或いは水と
上記各種有機溶媒との混合溶媒等を使用できる。また酸
性化合物としては、例えば無水塩化アルミニウム、塩化
第二錫、四塩化チタン、三塩化硼素、三弗化硼素−エチ
ルエーテル錯体、塩化亜鉛等のルイス酸、塩酸、硝酸、
硫酸等の無機酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、
メタンスルホン酸、酢酸等の有機酸、酸型イオン交換樹
脂等を使用でき、更に塩基性化合物としては、例えばト
リエチルアミン、トリブチルアミン等のトリアルキルア
ミン類、ピリジン、ピコリン、1,5−ジアザビシクロ
[4,3,0]ノネン−5(DBN) 、1.8−ジア
ザビシクロ[5,4,O]ウンデセン−7(DBU) 
、1゜4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン(D
ABCO)等の有機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩等の
無機塩基を使用することができる。
上記酸性化合物及び塩基性化合物の使用量は、通常−数
式(1a)の化合物に対して1〜100倍モル量程度、
好ましくは1〜20倍モル量程度とされるのがよい。上
記反応は通常−20℃〜150℃程度、好ましくは一1
0’C〜120℃程度の温度条件下に、30分〜48時
間程度、好ましくは1〜24時間程度を要して実施され
る。
上記各反応工程式に示す方法に従い、所望の本発明化合
物を製造できる。
尚、前記反応工程式−1に示す方法において出発原料と
して用いられる一般式(2)の化合物には一部新規化合
物が包含され、2等化合物は例えば下記反応工程式−3
に示す方法により製造することができる。
〈反応工程式−3〉 ↓ ↓ 〔式中A、D、R’  k、m及びXは前記に同じ。
D′はDより主鎖の炭素数が1少ない低級アルキレン基
を示し、R3は低級アルキル基を示し、pは0又は1を
示す。〕 上記反応工程式−3によれば、まず一般式(4)の化合
物の還元反応により一般式(5)の化合物を製造できる
この還元反応は、通常の方法に従い適当な溶媒中で一般
的還元剤を用いて実施できる。ここで用いられる溶媒と
しては、通常の各種の不活性溶媒、例えばジエチルエー
テル、THF、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、
ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、メタノール、エタノー
ル、プロパツール等のアルコール類、之等の混合溶媒等
を例示できる。還元剤としては通常の金属水素化物、例
えば水素化シアノ硼素ナトリウム、水素化硼素ナトリウ
ム、水素化アルミニウムリチウム等やボラン等を使用で
き、より好ましくは水素化硼素ナトリウムにメタノール
を滴下しながら使用するのかよい。上記還元剤の使用量
は原料エステルに対して通常0.1〜5倍モル量程度、
好ましくは0.5〜2倍モル量程度とするのかよく、反
応は通常−50°C程度〜溶媒の還流温度付近の温度条
件下に、10分〜24時間程度、好ましくは1〜5時間
程度を要して行ない得る。メタノールを滴下する場合は
、該メタノールを還元剤に対して通常1〜50倍モル量
程度、好ましくは4〜20倍モル量程度用いるのが適当
である。
また、前記一般式(4)の化合物の還元反応は、前記例
示の各種不活性溶媒中で、還元剤さして水素化アルミニ
ウムリチウム等の金属水素化物やボラン等、好ましくは
水素化アルミニウムリチウムを用いても実施することが
できる。上記還元剤の使用量は、原料化合物に対して通
常0.1〜5倍モル、好ましくは0.5〜3倍モル量程
度とするのがよく、反応は通常−20〜180℃程度、
好ましくは0〜100℃程度の温度条件下に、10分〜
24時間程度、好ましくは3〜20時間程度を要して行
ない得る。
尚、上記反応工程式−3において、一般式(4)の化合
物を還元して一般式(5)の化合物を得る際に、R+基
か水酸基である一般式(4)の化合物を用いる場合は、
そのエステル化物をエーテル化反応させて、上記R+基
を低級アルコキシ基又はフェニル環上に置換基として低
級アルコキシ基を有することのあるフェニル低級アルコ
キシ基に変換した後、還元反応させることもできる。こ
のR1基の変換反応(エーテル化反応)は、前記反応工
程式−1に示したエーテル結合生成反応と同条件下に実
施できる。
かくして所望の一般式(5)の化合物を製造することが
できる。
反応工程式−3によれば、次いで上記で得られる一般式
(5)の化合物の有する低級アルキレン基(D)に結合
した水酸基(OH)を、X基に変換して、所望の一般式
(2)の化合物を得ることができる。
上記水酸基のX基への変換反応は、溶媒の存在下に、一
般式(5)の化合物にスルホン酸化合物もしくはそのス
ルホ基における反応性誘導体又はハロゲン化剤を反応さ
せることにより行なうことができる。
一般式(5)の化合物とスルホン酸化合物もしくはその
スルホ基における反応性誘導体との反応は、溶媒の存在
下に、一般式(5)の化合物に上記Xのスルホニルオキ
シ基に対応するスルホン酸化合物もしくはそのスルホ基
における反応性誘導体(例えばクロライド、ブロマイド
等のハライド類、酸無水物等)を反応させることにより
実施できる。この反応で使用される溶媒としては、例え
ばベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、ジエチル
エーテル、THE等のエーテル類、塩化メチレン、クロ
ロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、
DMF、DMSO,HMPA等の非プロトン性極性溶媒
、アセトニトリル等を例示できる。
一般式(5)の化合物に対する上記スルホン酸化合物も
しくはそのスルホ基における反応性誘導体の使用割合は
、少なくとも等モル量、好ましくは1〜1,5倍モル量
程度とするのがよい。該反応は、好ましくは塩基性化合
物の存在下に行なわれる。塩基性化合物としては、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化
物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウ
ム等のアルカリ金属炭酸塩もしくは炭酸水素塩等の無機
塩基、トリエチルアミン、ピリジン、N、  N−ジメ
チルアニリン、DBN、DABCO。
DBU等の有機塩基か挙げられ、之等の内では有機塩基
が好ましい。該反応は、通常−10℃〜100℃程度、
好ましくはO0C〜室温程度で行なわれ、1〜20時間
程度、好ましくは1〜10時間程時間路了する。
Xかハロゲン原子である一般式(2)の化合物は、一般
式(5)の化合物にハロゲン化剤を反応させることによ
り製造することができる。この反応において使用される
ハロゲン化剤としては、例えば塩素、臭素、沃素等のハ
ロゲン分子、チオニルクロリド、チオニルプロミド等の
チオニルハライド等を例示できる。該反応は、通常、溶
媒中で行なわれ、溶媒としては、例えば塩化メチレン、
1.2−ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化
炭化水素類、THF、ジオキサン等のエーテル類等を例
示できる。一般式(5)の化合物に対するハロゲン化剤
の使用量は、水酸基を有する化合物に対して、ハロゲン
化剤を少なくとも等モル量、好ましくは1−〜22倍モ
ル量程用いられるのがよい。該反応は、通常−10℃〜
100℃程度、好ましくはO〜50℃程度で行なわれ、
1〜20時間、好ましくは1〜10時間程時間路了する
反応工程式−3において原料とする一般式(4)の化合
物には、一部新規化合物が包含されており、之等は下記
反応工程式−4に示す方法に従い製造することができる
〔式中D’ 、R’、R3k、m及びpは前記に同じ。
〕 上記反応工程式−4によれば、一般式(6)のカルボン
酸化合物と一般式(7)の化合物とを、通常のアミド結
合生成反応に従い反応させることにより、所望の一般式
(4′)の化合物を得ることができる。
上記アミド結合生成反応は、通常の各種方法、例えば混
合酸無水物法、活性エステル法、縮合剤を用いる方法、
カルボン酸無水物法、高温高圧法、酸ハライド法等に従
い実施することができる。
酸ハライド法につき詳述すれば、この方法は、まず一般
式(6)の化合物を通常の方法に従い酸ハライドに変換
した後、該酸ハライドと一般式(7)の化合物とを、脱
酸剤の存在下に、適当な溶媒中で反応させることにより
実施できる。ここで脱酸剤としては通常よく知られてい
るもの、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、ピリジン、トリエチルアミン等を使用で
きる。溶媒としても通常使用されているもの、例えばベ
ンゼン、クロロホルム、塩化メチレン、ジオキサン、T
HF等をいずれも使用できる。上記反応における酸ハラ
イドの使用量は、一般式(7)の化合物に対して通常少
なくとも等モル量程度、好ましくは等モル−3倍モル量
程度とされるのが適当である。反応温度は、通常−30
’C〜100℃程度、好ましくは室温〜80℃程度とさ
れるのがよく、反応は通常20分〜20時間程度で終了
する。
尚、上記一般式(6)の化合物を酸ハライドとする反応
は、例えば塩素、臭素、沃素等のハロゲン分子、チオニ
ルクロリド、チオニルプロミド等のチオニルハライド等
のハロゲン化剤を用いて、適当な溶媒、例えば塩化メチ
レン、1.2−ジクロロエタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素類、THF、ジオキサン等のエーテル類
等の溶媒中で実施できる。上記ハロゲン化剤の使用量は
、原料化合物に対して少なくとも等モル量、好ましくは
1〜2倍モル量程度とするのがよい。
反応は通常−106C〜150℃程度、好ましくは0〜
100℃程度で行なわれるのかよく、一般に1〜20時
間程度、好ましくは1〜10時間程度で完結する。
また、上記アミド結合生成反応として縮合剤を用いる方
法を採用する場合、該方法は、代表的にはN、  N’
−ジシクロへキシルカルボジイミド(D CC)等の脱
水剤を用いて、以下の如くして実施できる。即ち、一般
式(6)のカルボン酸化合物と一般式(7)の化合物と
を、上記DCC等の脱水剤の存在下に、適当な溶媒中で
反応させることにより、所望の化合物(4′)を収得で
きる。
上記カルボン酸化合物(6)は、通常化合物(7)に対
して少なくとも等モル量程度、好ましくは1〜4倍モル
量程度用いられる。溶媒としては各種の不活性溶媒、例
えばジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素類、ジオキサン、THF、ジエチルエ
ーテル等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン
等のケトン類、アセトニトリル、酢酸エチル、DMF。
DMSO等を使用でき、之等は無水であるのが好ましい
。脱水剤としては上記DCCの他、例えば1−エチル−
3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド、
1−シクロへキシル−3−(2モルホリノエチル)カル
ボジイミド等をも使用することができる。反応温度は一
般に0°C〜室温付近とされ、反応は約20分〜30時
開路度で完結する。
また、本発明化合物は下記反応工程式−5に示す方法に
よっても製造することができる。
〈反応工程式−5〉 〔式中R’  kXA、X、m、D及びR2は前記に同
じ〕 上記反応工程式−5によれば、一般式(8)の化合物と
一般式(9)の化合物との反応によって、目的とする本
発明発明化合物(1)を製造できる。
この反応は、前記反応工程式−4に示したアミド結合生
成反応と同様の条件下に実施できる。
上記反応工程式−5に示す方法に原料として利用される
一般式(9)の化合物中、mかOであるものは、例えば
下記反応行程式−6に示す方法により製造することがで
きる。
〈反応工程式−6〉 (9′ ) 〔式中り及びR−2は前記に同じ。Rは低級アルキル基
、低級アルケニル基、フェニル基又はベンジル基を示す
。〕 上記反応工程式−6によれば、一般式(10)の化合物
から直接接触還元反応によって、或は該化合物(10)
から一般式(11)の化合物及び一般式(12)の化合
物を経由して、所望の一般式(9′)の化合物を製造す
ることができる。
上記化合物(10)の接触還元反応は、前記反応工程式
−1に示した方法と同様にして実施することができる。
また化合物(10)を化合物(11)に導く反応は、適
当な溶媒中で、化合物(10)にクロロギ酸エステル類
を反応させることにより実施される。上記クロロギ酸エ
ステル類としては、例えばクロロギ酸メチル、クロロギ
酸エチル等のクロロギ酸アルキルを有利に使用できる。
之等は通常化合物(10)に対して1〜10倍モル量程
度、好ましくは1〜3倍モル量程度で用いられる。溶媒
としては、各種の不活性溶媒、例えばジクロロメタン、
クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、
ジオキサン、THF、ジエチルエーテル等のエーテル類
、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、DMF、
DMSOlHMPA等の非プロトン性極性溶媒等を使用
できる。反応温度は通常室温〜200℃程度、好ましく
は50〜150℃程度とされ、約1〜48時開路度、好
ましくは2〜24時間程度開路応は完結する。
上記で得られる化合物(11)を化合物(12)に導く
反応は、通常のアルカリ加水分解反応に従うことができ
、一般には塩基性化合物の存在下に適当な溶媒中で実施
できる。ここで用いられる塩基性化合物としては、例え
ば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属
水酸化物や炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ
金属炭酸塩を例示できる。また溶媒としては、例えばジ
オキサン、THF1ジエチルエーテル等のエーテル類、
メタノール、エタノール、プロパツール等のアルコール
類、DMF、DMSO,HMPA等の非プロトン性極性
溶媒や水等或は上記有機溶媒と水との混合溶媒を使用で
きる。上記塩基性化合物の使用量は、原料化合物(11
)に対して通常1〜20倍モル量程度、好ましくは3〜
10倍モル量程度とされるのがよく、反応は通常室温〜
200℃程度、好ましくは50〜150℃程度の温度条
件下に、約5〜72時間、好ましくは約10〜48時開
路度を要して行なわれる。
次いで得られる化合物(12)を化合物(9′)に導く
反応は、通常のエステル化反応、殊に酸触媒を用いた一
般的エステル化反応に従って実施することができる。こ
こで酸触媒としては、例えば塩酸、硫酸等の無機酸やメ
タンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等の有機酸を
使用できる。2等酸触媒の使用量は、原料化合物(12
)に対して0.1〜5倍モル量程度、好ましくは0.5
〜2倍モル量程度とされるのがよい。上記反応は一般に
適当な溶媒、例えばメタノール、エタノール、プロパツ
ール等のアルコール類単独又は該アルコール類とジクロ
ロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭
化水素類、ジオキサン、THF、ジエチルエーテル等の
エーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類
、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類等との混合
溶媒中で、室温〜溶媒の還流温度程度の温度条件下に、
1〜72時間程度開路ましくは10〜48時間程度を開
路て実施されるのが適当である。
かくして得られる本発明の一般式(1)で表わされる化
合物は、その有する基R1の種類を前述したように種々
変化させ得る。また、本発明化合物及びその製造のため
の前記各工程で示された中間体化合物の内、以下の各R
1基を有するものは、それぞれ以下に詳述するような各
種反応に従い、それぞれ対応する所望のR1基を有する
本発明化合物及びその中間体化合物に導くこともてきる
即ち、例えばR1基が水酸基である化合物は、これに−
数式 〔Rは水酸基以外の前記R1基を示し、Xは)10ゲン
原子を示す。〕 で表わされる化合物を、前記反応工程式−1に示したエ
ーテル結合生成反応に準じる条件下に反応させることに
より、対応するR基を有する所望の化合物に誘導するこ
とができる。但し、この反応において上記化合物R−X
の使用量は、原料化合物に対して1〜30倍モル量程度
、好ましくは1〜10倍モル量程度とされるのがよい。
また、R1基が水酸基である化合物は、これに0− t
erl−ブチル−N、N’ −ジシクロヘキシルイソ尿
素を、下記条件に従って反応させることにより、R1基
がtert−ブトキシ基である対応化合物に誘導できる
。このアルキル化反応は、適当な溶媒中、例えばジエチ
ルエーテル、THF、ジオキサン等のエーテル類、ジク
ロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭
素等のノ10ゲン化炭化水素類、ヘンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン等
の脂肪族炭化水素類、DMF、DMA、DMSO。
HMPA等の非プロトン性極性溶媒等の溶媒中で実施で
きる。Q −tert−ブチル−N、 N’ −ジシク
ロヘキシルイソ尿素の使用量は、R1基が水酸基である
化合物に対して通常1〜30倍モル量程度、好ましくは
1〜5倍モル量程度とされるのがよく、反応は一般に0
〜150℃程度、好ましくは室温〜80℃程度の温度条
件下に進行する。
本発明の一般式(1)で表わされる置換へテロ環を有す
るフェニルカルボン酸誘導体の内、塩基性基を有する化
合物は、これに医薬的に許容される酸を作用させること
により、容易に酸付加塩とすることができる。該酸とし
ては、例えば塩酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸等の無機
酸、シュウ酸、マレイン酸、フマール酸、リンゴ酸、酒
石酸、クエン酸、安息香酸、酢酸、p−4ルエンスルホ
ン酸、エタンスルホン酸等の有機酸を例示できる。
また、本発明の一般式(1)で表わされる置換へテロ環
を有するフェニルカルボン酸誘導体の内、酸性基を有す
る化合物は、これに医薬的に許容される塩基性化合物を
作用させることにより、容易に塩を形成させ得る。該塩
基性化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化カルシウム等の金属水酸化物、炭酸ナ
トリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素カリウム等のア
ルカリ金属炭酸塩又は重炭酸塩等を例示できる。
かくして得られる本発明化合物は、通常の分離手段によ
り容易に単離精製できる。該分離手段としては、例えば
溶媒抽出法、希釈法、再結晶法、カラムクロマトグラフ
ィー、プレパラテイブ薄層クロマトグラフィー等を例示
できる。
尚、本発明の一般式(1)で表わされる化合物には、光
学異性体の形態をとりうるちのが存在しており、本発明
はかかる異性体をも当然に包含するものである。かかる
異性体は、また慣用の分割法、例えば光学分割剤を使用
する方法等により容易に分離できる。
本発明の誘導体及びその塩は、通常−収約な医薬製剤の
形態で用いることができる。該製剤は通常使用される充
填剤、増量剤、結合剤、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、
滑沢剤等の希釈剤或は賦形剤を用いて調製される。この
医薬製剤としては各種の形態が治療目的に応じて選択で
き、その代表的なものとしては錠剤、火剤、散剤、液剤
、懸濁剤、乳剤、顆粒剤、カプセル剤、半割、注射剤(
液剤、懸濁剤等)、軟膏剤等が挙げられる。錠剤の形態
に成形するに際しては、担体として例えば乳糖、白糖、
塩化ナトリウム、ブドウ糖、尿素、デンプン、炭酸カル
シウム、カオリン、結晶セルロース、ケイ酸等の賦形剤
、水、エタノール、プロパツール、単シロップ、ブドウ
糖液、デンプン液、ゼラチン溶液、カルボキシメチルセ
ルロース、セラック、メチルセルロース、リン酸カリウ
ム、ポリビニルピロリドン等の結合剤、乾燥デンプン、
アルギン酸ナトリウム、カンテン末、ラミナラン末、炭
酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、ポリオキシエチレ
ンソルビタン脂肪酸エステル類、ラウリル硫酸ナトリウ
ム、ステアリン酸モノグリセリド、デンプン、乳糖等の
崩壊剤、白糖、ステアリン、カカオバター、水素添加油
等の崩壊抑制剤、第4級アンモニウム塩基、ラウリル硫
酸ナトリウム等の吸収促進剤、グリセリン、デンプン等
の保湿剤、デンプン、乳糖、カオリン、ベントナイト、
コロイド状ケイ酸等の吸着剤、精製タルク、ステアリン
酸塩、ホウ酸末、ポリエチレングリコール等の滑沢剤等
を使用することができる。更に錠剤は必要に応じ通常の
剤皮を施した錠剤、例えば糖衣錠、ゼラチン披包錠、腸
溶被錠、フィルムコーティング錠或は二重錠、多層錠と
することができる。火剤の形態に成形するに際しては、
担体として例えばブドウ糖、乳糖、デンプン、カカオ脂
、硬化植物油、カオリン、タルク等の賦形剤、アラビア
ゴム末、トラガント末、ゼラチン、エタノール等の結合
剤、ラミナラン、カンテン等の崩壊剤等を使用すること
ができる。半割の形態に成形するに際しては、担体とし
て例えばポリエチレングリコール、カカオ脂、高級アル
コール、高級アルコールのエステル類、ゼラチン、半合
成グリセライド等を使用することができる。カプセル剤
は、常法に従い通常本発明化合物を上記で例示した各種
の担体と混合して、硬質ゼラチンカプセル、軟質カプセ
ル等に充填して調製され得る。注射剤として調製される
場合、液剤、乳剤及び懸濁剤は殺菌され、且つ血液と等
張であるのか好ましく、これらの形態に成形するに際し
ては、希釈剤として例えば水、乳酸水溶液、エチルアル
コール、プロピレングリコール、エトキシ化イソステア
リルアルコール、ポリオキシ化イソステアリルアルコー
ル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等
を使用することかできる。尚、この場合等張性の溶液を
調製するに充分な量の食塩、ブドウ糖或はグリセリンを
医薬製剤中に含有させてもよく、また通常の溶解補助剤
、緩衝剤、無痛化剤等を添加してもよい。更に必要に応
じて着色剤、保存剤、香料、風味剤、甘味剤等や他の医
薬品を上記医薬製剤中に含有させてもよい。ペースト、
クリーム及びゲルの形態に製剤するに際しては、希釈剤
として例えば白色ワセリン、パラフィン、クリセリン、
セルロース誘導体、ポリエチレングリコール、シリコン
、ベントナイト等を使用することができる。
上記医薬製剤中に含有されるべき本発明の一般式(1)
で表わされる化合物又はその塩(有効成分化合物)の量
としては、特に限定されず広範囲に適宜選択されるか、
通常医薬製剤中に1〜70重量%含有される量とするの
がよい。
上記医薬製剤の投与方法は特に限定なく、各種製剤形態
、患者の年齢、性別その他の条件、疾患の程度等に応じ
て決定される。例えば錠剤、火剤、液剤、懸濁剤、乳剤
、顆粒剤及びカプセル剤は経口投与される。注射剤は単
独で又はブドウ糖、アミノ酸等の通常の補液と混合して
静脈内投与され、更に必要に応じ単独で筋肉内、皮内、
皮下もしくは腹腔内投与される。半割は直腸内投与され
る。
上記医薬製剤の投与量は、用法、患者の年齢、性別その
他の条件、疾患の程度等により適宜選択されるが、通常
有効成分とする本発明化合物の量が1日当り体重1kg
当り約0. 5〜100■程度、好ましくは2〜20■
程度とするのがよく、該製剤は1日に1〜4回に分けて
投与できる。
実   施   例 以下、本発明を更に詳しく説明するため実施例を挙げる
実施例 1 (1)1− (4−クロロベンゾイル)ピペリジン−3
−カルホン酸エチルの製造 ニペコチン酸エチル3.6511及びトリエチルアミン
9.75zIをテトラヒドロフラン30yl!に溶解後
、氷冷し、これにp−クロロ塩化ベンゾイル3,0xl
lを加えた後、室温下に20時間攪拌した。反応混合物
を減圧濃縮後、酢酸エチル100xA’に溶解させ、水
、IN塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び水
の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃
縮して、油状の目的物6.89gを得た。
NMR(CD CI! 3 )δppm ニア、  3
6 (bs、  4H)、4. 67−3. 50(m
、4H) 、3.35−2.93 (m、2H)、2、
 70−2. 33  (m、  LH)  、2. 
27−1、 16  (m、  7H) (2)l(4−クロロベンゾイル)−3−ヒドロキシメ
チルピペリジンの製造 1−(4−クロロベンゾイル)ピペリジン−3カルボン
酸エチル2.27gをテトラヒドロフラン2511に溶
解させ、水素化ホウ素ナトリウム0.64gを加え、加
熱還流下にメタノール5.47ylを1時間を要してゆ
っくりと滴下し、その後頁に1時間加熱した。反応混合
物を冷却後、濃塩酸1.47zlと本釣0.5xllと
を加えた後、減圧濃縮し、残渣に塩化メチレン約401
1を加えて不溶物を消去し、炉液を約10xllの水で
洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減
圧濃縮して、油状の目的物1.94gを得た。
NMR(CDCA’3)δppm  ニア、35 (s
、4H) 、4.24−2.24(m、7H) 、2.
02−1.07 (m、5H)(3)4−C1−(4−
クロロベンゾイル)ピペリジン−3−イル〕メトキシ安
息香酸メチルの製造 1−(4−クロロベンゾイル)−3−ヒドロキシメチル
ピペリジン1.94gを塩化メチレン2011に溶解後
水冷し、塩化メタンスルホニル0.89zlとトリエチ
ルアミン2.12.v/を加えた後、室温下14時間撹
拌した。反応混合物を減圧濃縮後、酢酸エチル5011
を加え、水で3回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧濃縮して油状のメシル体2.36gを得た。
これをジメチルホルムアミド3011に溶解させ、p−
ヒドロキシ安息香酸メチル1.08g及び炭酸カリウム
1.96gを加えて80℃で5時間加熱撹拌した。反応
混合物を減圧濃縮し、残渣に水を加えて放置後、分離す
るガム状物質をデカンテーションにより得、同様の方法
で2回水洗した後、約10%′含水メタノール中で結晶
化させ、結晶を諒取して目的物2.20gを得た。
mp92−94.5°C (4)4− [1−(4−クロロベンゾイル)ピペリジ
ン−3−イル〕メトキシ安息香酸の製造 4− [:1− (4−クロロベンゾイル)ピペリジン
−3−イル〕メトキシ安息香酸メチル2,00g及び水
酸化ナトリウム0.31gを約20%含水メタノール5
0111に溶解させ、60℃で13時間加熱撹拌した。
反応混合物を冷却後、減圧濃縮し、残渣を水50z/に
溶解して濾過し、炉液に濃塩酸0.6’711を加え、
析出結晶を炉取し、水洗した。これを約30%含水メタ
ノールから再結晶して目的物1.61gを得た。
mp  199−201.5°C 実施例 2〜7 実施例1と同様にして適当な出発原料を用いて下記実施
例2〜7の各化合物を得た。
実施例 2 (1)  1− (4−t e r t−ブチルベンゾ
イル)ピペリジン−3−カルボン酸エチル NMR(CDC13)δppm 7.48−7.25 (m、4H) 、4.393.8
3 (m、4H) 、3.31−2.87(m、2H)
 、2.66−2.37 (b、LH)、1.92−1
.48 (m、4H) 、1.321.15 (m、1
2H) (2) 1− (4−t e r t−ブチルベンゾイ
ル)−3−ヒドロキシメチルピペリジン NMR(CDCA’3)δppm  ニア、48−7.
25 (m、4H) 、4.102.77 (m、6H
) 、2.40−1.10(m、15H) (3) 4− [1−(4−t e r t−ブチルベ
ンゾイル)ピペリジン−3−イル〕メトキシ安息香酸メ
チル mp   147−148°C (4)4  [1(4−tert−ブチルベンゾイル)
ピペリジン−3−イル〕メトキシ安息香酸 mp  184−186.5°C 実施例 3 (1)1− (4−イソプロピルベンゾイル)ピペリジ
ン−3−カルボン酸エチル NMR(CDC13)δppm  ニ ア、39−7.17 (m、4H) 、4.583.5
6 (m、4H) 、3.32−2.79(m、3B)
 、2.69−2.34 (m、IH)、2.28−1
.42 (m、4H) 、1.3.1−1.15 (m
、9H) (2)1− (4−イソプロピルベンゾイル)−3ヒド
ロキシメチルピペリジン NMR(CDCl2 )δppm ニ ア、40−7.17 (m、4H) 、4.08−2、
 68  (m、  7H) 、2. 02−1. 0
2(m、12H) (3)4− [1−(4−イソプロピルベンゾイル)ピ
ペリジン−3−イル〕メトキシ安息香酸メチル mp  104−106℃ (4)4− (1−(4−イソプロピルベンゾイル)ピ
ペリジン−3−イル〕メトキシ安息香酸mp  161
−162.5°C 実施例 4 (1)1−(4−n−プロポキシベンゾイル)ピペリジ
ン−3−カルボン酸エチル NMR(CDCl2)δppm  ニ ア、36 (d、2H,J=8.8Hz)、6.89 
(d、2H,J=8.8Hz)、4.54−3.67 
(m、6H) 、3.312.86 (m、2H) 、
2.69−2.37(m、IH) 、2.26−1.4
2 (m、6H)、1、 24  (t、  3H,J
=7. 0Hz)  、1. 04  (t、  3H
,J=7. 2Hz)(2)1−(4−n−プロポキシ
ベンゾイル)3−ヒドロキシメチルピペリジン 7.37 (d、2H,J=8.8Hz)、6.88 
(d、2H,J=8.8Hz)、4.18−2.95 
(m、8H) 、2.591.26 (m、8H) 、
1.04 (t、3H,J=7.4Hz) (3) 4− [1−(4−n−プロポキシベンゾイル
)ピペリジン−3−イル〕メトキシ安息香酸メチル mp  110−111.5°C (4) 4  (1−(4−n−プロポキシベンゾイル
)ピペリジン−3−イル〕メトキシ安息香酸 mp  179−180°C 実施例 5 (1)1− (4−ベンジルオキシへンゾイル)ピペリ
ジン−3−カルボン酸エチル NMR(CDC/3 )δppm 7、 45−7. 27 (m、  7H) 、6. 
98(d、2H,J=8.8Hz) 、5.09(S、
2H) 、4.50−3.75 (m、4H)、3、 
32−2. 81 (m、  2H) 、2. 702
.31 (m、LH) 、2.27−1.41 (m。
4H)、1.23 (t、3H,J=7.0Hz)(2
)1− (4−ベンジルオキシベンゾイル)=3−ヒド
ロキシメチルピペリジン NMR(CD C113)δppm  ニア、46−7
.30 (m、7H) 、6.98(d、2H,J=8
.8Hz) 、5.08(s、2H) 、4.10−2
.90 (m、6H)、2.43−2.10 (bs、
LH)、2.031.13 (m、5H) (3)4− (1−(4−ベンジルオキシベンゾイル)
ピペリジン−3−イル〕メトキシ安息香酸メチル mp  153−155.5°C (4)4− (1−(4−ベンジルオキシベンゾイル)
ピペリジン−3−イル1メトキシ安息香酸 mp  184−186°C 実施例 6 (1) 1−(4−t e r t−ブチルベンゾイル
)ピペリジン−4−カルボン酸エチル NMR(CDC/3)δppm  ニ ア、48−7.25 (m、4H) 、4.41−3.
84 (m、4H) 、3.22−2.91(m、2H
) 、2.74−2.39 (m、LH)、2.12−
1.61 (m、4H) 、1.32−1.18 (m
、12H) (2) 1− (4−t e r t−ブチルベンゾイ
ル)4−ヒドロキシメチルピペリジン NMR(CDC13)  δppm  ニア、 48−
7. 23  (m、  4H)  、4. 763、
 81  (b、  2H)  、3. 51  (d
、  2H,J5、 7Hz) 、3. 09−2. 
62  (m、  2H)2、 04−1. 60  
(m、  5H)  、1. 491、 04  (m
、  l0H) (3) 4− [1−(4−t e r t−ブチルベ
ンゾイル)ピペリジン−4−イル1メトキシ安息香酸メ
チル mp  160−162°C (4) 4− (1−(4−t e r t−ブチルベ
ンゾイル)ピペリジン−4−イル〕メトキシ安息香酸 mp  248−2508C 実施例 7 (1)1−(4−n−プロポキシベンゾイル)ピペリジ
ン−4−カルボン酸エチル NMR(CDCA3 )δppm : 7.34  (d、2H,J=8.8Hz)、6.90
  (d、2H,J=8.8Hz)、4.28−3.8
7  (m、6H)、3. 192.89  (m、2
H) 、2.75−2.41(m、IH) 、2.04
−1.46  (m、6H)、1.34−0.95  
(m、6H) (2) 1− (4−n−プロポキシヘンジイル)4−
ヒドロキシメチルピペリジン NMR(CDC13)δppm  ニ ア、35 (d、2H,J=8.8Hz)、6.88 
(d、2H,J=8.8Hz)、4.51−4.07 
(b、2H) 、3.94(t、2H,J=6.5Hz
)、3.52(d、2H,J=5.7Hz) 、3.1
02.67 (m、2H) 、2.02−1.55(m
、7H) 、1.47−0.95 (m、4H)(3)
 4  [1−(4−n−プロポキシベンゾイル)ピペ
リジン−4−イル〕メトキシ安息香酸メチル mp  121−123°C (4) 4−[1−(4−n−プロポキシベン・〕゛イ
イルペリジン−4−イル]メトキシ安Q、香酸 mp  168−169°C 実施例 8 (1)1− (3,5−ジーtert−ブチルー4ヒド
ロキシベンゾイル)ピペリジン−3=カルボン酸エチル
の製造 3.5−ジーtert−ブチルー4−ヒドロキシ安息香
酸4.Og及びニペコチン酸エチル2.4611をピリ
ジン4Qylに溶解後、ジシクロへキシルカルボジイミ
ド(DCC)3.30gを加えて室温下11時間撹拌し
た。反応混合物をlp過後、減圧濃縮し、残渣を酢酸エ
チル100zlに溶解させ、水、IN塩酸、水、飽和炭
酸水素ナトノウム水溶液、水の順に洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、減圧濃縮して油状物を得た。これ
をシリカゲルカラムクロマトクラフィーにチャージし、
クロロホルムで洗浄後、クロロホルムメタノール(50
: 1 (V/V) )混合溶媒で溶出して油状の目的
物6.13gを得た。
NMR(CDC13)δppm 7.24 (d、2H,J=1.8Hz)、5.39 
(s、LH)、4.58−3.89(m、4H) 、3
.24−2.81 (m、2H)、2.69−2.34
 (m、IH) 、2.281.16 (m、25H) (2)1− (3,5−ジーtert−ブチルー4ヒド
ロキシベンゾイル)−3−ヒドロキシメチルピペリジン
の製造 1−(3,5−ジーtert−ブチルー4−ヒドロキシ
ベンゾイル)ピペリジン−3−カルボン酸エチル6.1
1gをテトラヒドロフラン60y/に溶解させ、水冷撹
拌下水素化アルミニウムリチウム0.60gを少量ずつ
約1時間を要して加え、その後室温にて21時間撹拌後
、残渣にIN塩酸約20zl!と酢酸エチル約8011
を加えて分配した。
有機層を分取し、IN塩酸、水の順に洗浄し無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、減圧濃縮して油状物を得た。これ
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにチャージし、
クロロホルムで洗浄後、クロロホルム−メタノール(4
0: 1 (V/V) )混合溶媒で溶出して油状の目
的物3.19gを得た。
NMR(CDCA’3 )δppm 7、 24 (s、  2H) 、5.43(s、IH
)、4、 15−2. 93 (m、  6H) 、2
. 852.50 (bs、LH)、2.04−1.2
1(m、  23 H) (3)4− [1 ルー4 ンー3 製造 (3,5−ジーtert−ブチ ヒドロキシベンゾイル)ピペリジ イル〕メトキシ安息香酸メチルの 実施例1.−(3)と同様にして1−(3,5〜ジーt
ert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾイル)−3−ヒ
ドロキシメチルピペリジンを出発原料として合成した。
mp  165.5−167°C (4)4− [1−(3,5−ジーtert−ブチルー
4−ヒトロキシヘンゾイル)ピペリジン−3−イル〕メ
トキシ安息香酸の製造実施例1−(4)と同様の方法に
より合成した。
mp  249−251°C(分解) 実施例 9 (1)4− (1−[4−(4−メトキシベンジル)オ
キシベンゾイルコピペリジン−3−イル〕メトキシ安息
香酸メチルの製造 1− 〔1−(4−ヒドロキシベンゾイル)ピペリジン
−3−イル〕メトキシ安息香酸メチル1.80g、4−
メトキシ塩化ベンジル0.9311及び炭酸カリウム1
.35gをジメチルホルムアミ)”18ylに溶解、懸
濁させ、80℃で7時間加熱撹拌後、溶媒を減圧留去し
、得られる残渣に水を加えて沈殿を1p取した。これを
約15%含水メタノールから再結晶して目的物2.33
gを得た。
mp   158−161°C (2)l−(> [4−(4−メトキシベンジル)オキ
シベンゾイルコピペリジン−3−イル〕メトキシ安息香
酸の製造 実施例1−(4)と同様の方法により合成した。
mp  213−216°C 実施例 10 (1)4− (1−(4−ヒドロキシベンゾイル)ピペ
リジン−3−イル〕メトキシ安息香酸メチルの製造 4−[1−(4−ベンジルオキシベンゾイル)ピペリジ
ン−3−イル〕メトキシ安息香酸メチル15.0gをク
ロロホルム200ylとメタノール100zI!の混合
溶媒に溶解させ、10%パラジウム炭素1.50gを加
えて、常圧水素雰囲気上室温にて24時間撹拌し、触媒
を消去後、2戸液を減圧濃縮した。残渣に水を加えて少
時加熱後、放冷し、結晶をンp取して目的物11.36
gを得た。
mp  156−157°C (2)4− 〔1−(4−ヒドロキシベンゾイル)ピペ
リジン−3−イル]メトキシ安息香酸の製造 実施例1−(4)と同様の方法により合成した。
mp  241−243.5°C 実施例 11 (1)1−ベンジル−5−オキソ−3−ピロリジンカル
ボン酸の製造 ヘンシルアミン25.20ylとイタコン酸30.0g
を混合して130°Cで2時間加熱溶融後放冷し、水2
00zlを加えて反応混合物を破砕した。得られる結晶
を2p取し、水、IN塩酸、水の順に洗浄して目的物4
5.39gを得た。
mp  141−142°C (2)1−ベンジル−3−ヒドロキシメチルピロノジン
の製造 テトラヒドロフラン300.vlに水冷下、水素化アル
ミニウムリチウム15.73gを懸濁させ、1−ベンジ
ル−5−オキソ−3−ピロリジンカルボン酸45.38
gのテトラヒドロフラン20011懸濁液を少量ずつ加
えた後、室温下に30分、更に加熱還流下に6時間撹拌
した。反応混合物に酢酸エチルと少量のIN水酸化ナト
リウム水溶液を加えて、過剰の還元剤を分解後、濾過し
、減圧濃縮して油状の目的物40.60gを得た。
NMR(CDCl2)δppm  ニ ア、35−7.18 (m、5H) 、3.77−3.
43 (m、4H) 、2.93−1.50(m、8H
) (3)4− (1−ベンジルピロリジン−3−イル)メ
トキシ安息香酸メチルの製造 1−ベンジル−3−ヒドロキシメチルピロリジン40.
59gを塩化メチレン250yA’に溶解後水冷し、塩
化メタンスルホニル24.67y/とトリエチルアミン
58.8211をそれぞれ滴下後、室温下15時間撹拌
した。反応混合物を減圧濃縮後、酢酸エチル450xl
lを加え、水で3回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、減圧濃縮して油状のメシル体46.63gを得た
これをジメチルホルムアミド550yA’に溶解させ、
p−ヒドロキシ安息香酸メチル26.35g及び炭酸カ
リウム47.84gを加えて80℃で16時間加熱撹拌
した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣に酢酸エチル60
0y/を加えて、水で3回洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、減圧濃縮して、油状の目的物55.38g
を得た。
NMR(CDC13)δppm  ニ ア、97 (d、2H,J=9.0Hz)、7、 39
−7. 22  (m、  5H)  、6. 88(
d、  2H,J=9. 0Hz)、3. 963、 
 8 7   (m、    5H)   、  3.
  6 2   (s、    2  トI )  、
2、 90−2. 38  (m、  5H)  、2
. 261、 35  (m、  2H) (4)4− (1−エトキシ力ルホニルビロリジン3−
イル)メトキシ安息香酸メチルの製造 4−(1−ベンジルピロリジン−3−イル)メトキシ安
息香酸メチル55.38gをベンゼン500zllに溶
解し、クロロギ酸エチル40.551/を加えて加熱還
流下22時間撹拌後、減圧濃縮して粗製の目的物57.
56gを得た。この内、一部をカラムクロマトグラフィ
ーにチャージし、クロロホルムで溶出して油状の精製物
を得た。
NMR(CDC/3 )δppmニ ア、98 (d、2H,J=9.0Hz)、6.89 
(d、2H,J=9.0Hz)、4、 26−3. 8
8  (m、  7H) 、3. 783、 18  
(m、  4H)  、2. 88−2. 56(m、
  IH) 、2. 31−1. 70  (m、  
2H)、1、 26  (t、  3H,J=7. 1
Hz)(5)4− (3−ピロリジニル)メトキシ安息
香酸の製造 4−(1−エトキシカルボニルピロリジン−3−イル)
メトキシ安息香酸メチル粗製物56.56gをメタノー
ル50011に溶解させ、水酸化ナトリウム44.22
gを水2 、OOy/!に溶解して加え、加熱還流下1
9時間撹拌後、メタノール約400;il!を留去し、
水20011を追加して、更に19時間加熱還流した。
反応混合物を減圧濃縮し、残渣をエーテル洗浄しく40
0aA’x3回)、エーテルを減圧下に完全に留去後、
本釣400zlに溶解させ、濃塩酸9611を徐々に加
えて中和した。上清を濾過し、沈澱から熱水抽出(30
0zl×2回)を行なってが液と合し、減圧濃縮した。
残渣に約10%含水メタノール400ylを加え、不溶
の塩をか去し、ン戸液を減圧濃縮後、エタノール−エー
テル(1: 4 (V/V) )混合溶媒300zlに
懸濁させ、結晶をlp取して、目的物25.08gを得
た。
mp  260−263°C(分解) (6)4− (3−ピロリジニル)メトキシ安息香酸メ
チル・硫酸塩の製造 4−(3−ピロリジニル)メトキシ安息香酸24.58
gを無水メタノール500y/に懸濁させ、濃硫酸6.
52z/を加えて加熱還流下、12時間30分撹拌後、
減圧濃縮し、残渣に酢酸エチル−ヘキサン混合溶媒(1
: 4 (V/V) )約200、vlとメタノール少
量を加えて結晶を消散し、目的物32.02gを得た。
mp  122−124°C (7)4− [1−(4−クロロベンゾイル)ピロリジ
ン−3−イル]メトキシ安息香酸メチルの製造 4−(3−ピロリジニル)メトキシ安息香酸メチル・硫
酸塩2.84g及びトリエチルアミン3.5311をテ
トラヒドロフラン20yllに溶解後水冷し、p−クロ
ロ塩化ヘンジイル1.09ylを加えた後、室温下13
時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮後、酢酸エチル5
011に溶解させ、水。
IN塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液。
水の順に洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃
縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
チャージし、クロロホルムで洗浄後、クロロホルム−メ
タノール(50: 1 (V/V) )混合溶媒で溶出
して、目的物結晶1.41gを得た。
NMR(CD Cl 3 )δppm 7.98 (d、2H,J=9.0Hz)、7.53−
7.31  (m、4H) 、6.88(d、2H,J
=7.9Hz)、4. 133、 23  (m、  
9H) 、2.95−2. 54(m、LH) 、2.
38−1.71  (m、2H)(8)4− CI(4
−クロ0ベンゾイル)ピロリジン−3−イル〕メトキシ
安息香酸の製造 実施例1−(4)と同様の方法により合成した。
mp  216.5−219.5°C 実施例12〜21 実施例1l−(7)及び(8)と同様にして適当な出発
原料を用いて、下記実施例12〜21の各化合物を得た
実施例 12 (1) 4 〔1−(4−t e r t−ブチルベン
ゾイル)ピロリジン−3−イル〕メトキシ安息香酸メチ
ル NMR(CDCl2 )δppm ニ ア、98 (d、2H,J=8.8Hz)、7.56−
7.34 (m、4H) 、6.88 (d。
2H,J=7.9Hz)、4. 14−3. 17(m
、    9H)   、  2.   93−2. 
  49   (m、    1 ト■ )  、2、
   36−1.   68   (m、    2 
 LD   、  1.、   32   (s。
9H) (2) 4− [1−(4−t e r t−ブチルベ
ンゾイル)ピロリジン−3−イル〕メトキシ安息香酸 mp  217.5−219.5°C 実施例 13 (1)4− [1−(4−イソプロピルベンゾイル)ピ
ロリジン−3−イル〕メトキシ安息香酸メチル NMR(CDCA’3)  δppm  ニア、98 
 (d、2H,J=9.0Hz)、7.45  (d、
2H,J=8.4Hz)、7.25  (d、2H,J
=8.4Hz)、6.88  (d、2H,J=8.8
Hz)、4、 14−3.23  (m、9H) 、3
.082.53  (m、2H) 、2.26−1.7
1  (m。
2H) 、L  25  (d、6H,J=6.8Hz
)(2)4− C1−(4−イソプロピルベンゾイル)
ピロリジン−3−イル〕メトキシ安息香酸mp  17
7−178°C 実施例 14 (1)4− [:1−(4−メトキシベンゾイル)ピロ
リジン−3−イル〕メトキシ安息香酸メチル mp   151−153°C (2)4−[1−(4−メトキシベンゾイル)ピロリジ
ン−3−イル〕メトキシ安息香酸mp  188.5−
191°C 実施例 15 (1)4− [1−(4−エトキシベンゾイル)ピロリ
ジン−3−イル〕メトキシ安息香酸メチル mp   139−140°C (2)4− [1−(4−エトキシベンゾイル)ピ01
Jジン−3−イル〕メトキシ安息香酸mp  182−
183.5°C 実施例 16 (1) 4− [1−(4−n−プロポキシベンゾイル
)ピロリジン−3−イル〕メトキシ安息香酸メチル mp  122−123°C (2) 4− (1−(4−n−プロポキシベンゾイル
)ピロリジン−3−イル〕メトキシ安息香酸 mp  161.5−162.5°C 実施例 17 (1) 4   (1−(4−n−ブトキシベンゾイル
)ピロリジン−3−イル〕メトキシ安息香酸メチル mp   126−128°C (2) 4   [1−(4−n−ブトキシベンゾイル
)ピロリジン−3−イル〕メトキシ安息香酸mp  1
58−160°C 実施例 18 (1)4− (1−(4−ヘンジルオキシヘンジイル)
ピロリジン−3−イル〕 メトキシ安息香酸メチル mp  152−153°C (2)4− [1−、(4−ベンジルオキシベンゾイル
)ピロリジン−3−イル〕メトキシ安息香酸 mp  197.5−199°C 実施例 19 (1)4− (1−ピペロ二ロイルピロリジンー3イル
)メトキシ安息香酸メチル NMR(CDCA’3)δppm 7.98 (a、2H,J=8.8Hz)、7.12−
6.75 (m、5H) 、5.98(s、  2H)
 、4. 04−3. 20 (m、  9)4)、2
、 92−2. 53  (m、  LH)  、2.
 351、 64  (m、  2H) (2)4− (1−ピペロ二ロイルピロリジンー3−イ
ル)メトキシ安息香酸 mp  191.5−194°C 実施例 20 (1)4 (1−(4−クロロベンゼンスルホニル)ピ
ロリジン−3−イル〕メトキシ安息香酸メチル mp   117−118°C (2)4  [1−(4−クロロベンゼンスルホニル)
ピロリジン−3−イル〕メトキシ安息香酸mp  20
6.5−209.5℃ 実施例 21 (1) 4− (1−(4−t e r t−ブチルベ
ンゼンスルホニル)ピロリジン−3−イル〕メトキシ安
息香酸メチル mp  112−114°C (2) 4− [1−(4−t e r t−ブチルベ
ンセンスルホニル)ピロリジン−3−イル〕メトキシ安
息香酸 mp  214−217°C 実施例 22 (1)4− [1−(3,5−ジーtert−ブチルー
4−ヒドロキシベンゾイル)ピロリジン−3−イル〕メ
トキシ安息香酸メチルの製造 3.5−ジーtert−ブチルー4−ヒドロキシ安息香
酸1.35g及び4−(3−ピロリジニル)メトキシ安
息香酸メチル・硫酸塩1.80gをピリジン202A’
に溶解後、DCCl、l1gを加えて室温下11時間撹
拌した。反応混合物をンp過後、減圧濃縮し、残渣を酢
酸エチル501/に溶解させ、水、IN塩酸、水、飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順に洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮して無晶形の目的物2
.44gを得た。
NMR(CDC13)  δppm 7.98 (d、2H,J=8.8Hz)、7.38 
 (s、2H) 、6.89  (d、2H,J8.8
Hz) 、5.43  (bs、  IH)、4.05
−3.38  (m、9H) 、2.922、 60 
 (m、  IH) 、2. 34−0. 92(m、
  20H) (2)4− (1−(3,5−ジーtert−ブチルー
4−ヒドロキシベンゾイル)ピロリジン−3−イル〕メ
トキシ安息香酸の製造実施例1−(4)と同様の方法に
より合成した。
mp  259−261℃(分解) 実施例 23 実施例1O−(1)及び(2)と同様の方法により下記
各化合物を合成した。
(1)4− [1−(4−ヒドロキシベンゾイル)ピロ
リジン−3−イル〕メトキシ安息香酸メチル mp   150−152.5°C (2)4−C1−(4−ヒドロキシベンゾイル)ピロリ
ジン−3−イル〕メトキシ安息香酸mp  245−2
47℃ 実施例 24 実施例9− (1)及び(2)と同様の方法により下記
各化合物を合成した。
(1)4− (1−(4−メトキシベンジル)オキシベ
ンゾイル1 ピロリジン−3−イル〕メトキシ安息香酸
メチル mp  145.5−146.5°C (2)4− [1−[4−(4−メトキシベンジル)オ
キシベンゾイル]ピロリジン−3−イル〕メトキシ安息
香酸 mp  196−198°C 次に、本発明誘導体を用いた製剤例及び薬理試験例を挙
げる。
製剤例 1 実施例2の化合物 ブドウ糖 200■ 250■ ポリエチレングリコール−60003gヒマシ油   
           40gエタノール      
       40g注射用蒸留水に、実施例2の化合
物及びブドウ糖を溶解させた後、5 yllアンプルに
注入し、窒素置換後、121℃で15分間加圧滅菌を行
なって上記組成の注射剤を得る。
製剤例 2 実施例3の化合物        100gアビセル(
商標名、旭化成(株)製)40gコーンスターチ   
        30gステアリン酸マグネシウム  
    2gTC−5(商標名、信越化学工業  10
g(株)製、ヒドロキシプロピルメ チルセルロース) 実施例3の化合物、アビセル、コーンスターチ及びステ
アリン酸マグネシウムを、混合研磨後、糖衣R10mm
のキネで打錠する。得られた錠剤をTC−5、ポリエチ
レングリコール−6000゜ヒマシ油及びエタノールか
らなるフィルムコーティング剤被覆を行い、上記組成の
フィルムコーティング錠を製造する。
製剤例 3 実施例4の化合物          2g精製ラノリ
ン             5gサラシミツロウ  
         5g白色ワセリン        
    88g全   量             
  100gサラシミツロウを加温して液状となし、次
いて実施例4の化合物、精製ラノリン及び白色ワセリン
を加え、液状となるまで加温後、固化しはじめるまで撹
拌して、上記組成の軟膏剤を得る。
〔薬理試験例I] この試験には、ウィスター系雄性ラット(体重約200
 g)を、屠殺後肝臓を摘出し、冷クレブス−リンゲル
(Krebs−Ringer)重炭酸緩衝液(以下KR
Bと略す)で肝潅流を行ない、細片とした肝細片を利用
し、下記文献を参考として、以下の操作に従い実施した
oBortZW M、 and 5teele、 L、
 A、 (1973)、 BiochimBiophy
s、Acja 、 306.85−94oTsuiNa
、 Y、 、 Kuroda、 M、 、 Shima
da、 Y、 、 TanxawaK、Arai M、
、Kaneko、1.、Tanaka、M、、Masu
da、t(Tarumi CWajanabe Y、a
nd Fuiii、S、 (1986)Biochim
、Biophys、Ac1a  、  877.5G−
60即ち、上記肝細片100mgを秤取し、「114C
]酢酸(2u Ci、/2 μmo l )及び所定濃
度となる量の供試化合物を含むKRB1y#中に加え、
95%02−5%CO2気相下で37°C下に2時間振
盪反応を行なわせる。その後、15%水酸化ナトリウム
・エタノール液(ly/)を加えて、更に75°Cで2
時間加熱する。冷却後、石油エーテル(2zl)を加え
て振盪・分離操作を行ない、石油エーテル層(上層)を
抽出する。これを濃縮乾固の後、ジギトニン溶液(lz
l)を加えて、ステロールを沈澱画分として分取する。
この両分をジエチルエーテルで洗浄後、酢酸111に溶
解させ、放射能を測定してステロール生合成活性を求め
る。
供試化合物を使用しない対照(コントロー/I、−)に
つき、上記と同一操作を行なって得られた値を基準とし
て、そのステロール生合成活性を50%阻害する各供試
化合物の使用濃度(μM)を、50%阻害濃度として求
める。
一方、上記方法において、石油エーテル抽出により得ら
れる下層に塩酸を加え、これを酸性下で石油エーテル抽
出し、抽出液を濃縮後、同様にして放射能を測定して、
脂肪酸合成活性を求める。
また同様にして対照(コントロール)の脂肪酸合成活性
値を基準として、各供試化合物の脂肪酸合成活性50%
阻害濃度を求める。
得られた結果を下記第1表に示す。
第   1   表

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R^1はハロゲン原子、低級アルキル基、低級ア
    ルコキシ基、フェニル環上に置換基として低級アルコキ
    シ基を有することのあるフェニル低級アルコキシ基又は
    水酸基を示し、kは1〜3の整数を示す。また(R^1
    )_kは低級アルキレンジオキシ基であってもよい。 Aはカルボニル基又はスルホニル基を示す。 mは0又は1である。Dは低級アルキレン基を示す。R
    ^2は水素原子又は低級アルキル基を示す。〕 で表わされる置換ヘテロ環を有するフェニルカルボン酸
    誘導体又はその塩。
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