JPH04111530A - 2-input logic circuit - Google Patents

2-input logic circuit

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JPH04111530A
JPH04111530A JP2229772A JP22977290A JPH04111530A JP H04111530 A JPH04111530 A JP H04111530A JP 2229772 A JP2229772 A JP 2229772A JP 22977290 A JP22977290 A JP 22977290A JP H04111530 A JPH04111530 A JP H04111530A
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  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
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Abstract

PURPOSE:To attain a high integration and a high speed by constituting a NAND circuit or a NOR circuit of only two MOSFETs. CONSTITUTION:A p-type MOSFET Q1 and an n-type MOSFET Q2 of surface channel type are provided, and respective gates are joined to form the pn junction, and the gate of one of them is connected to a first input terminal 10 through a first resistance R1, and the gate of the other is directly connected to a second input terminal 12. Drains of the p-type MOSFET Q1 and the n-type MOSFET Q2 are connected with a second resistance R2 between them, and either side of the second resistance R2 is connected to an output terminal 14. Consequently, two MOSFETs are operated as a ratioless inverter when only one of them is turned on, but a ratio type output is obtained by the operation resistance of MOSFETs and the second resistance R2 when both of MOSFETs are turned on. Thus, the number of transistors is reduced to obtain a high speed and a high integration.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、同一のサブストレート上に集積回路化して形
成されるMOSFET、特にp型MOSFETとn型M
OSFETからなるCMO3によって構成される2入力
論理回路に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to MOSFETs formed by integrating circuits on the same substrate, particularly p-type MOSFETs and n-type MMOSFETs.
The present invention relates to a two-input logic circuit constituted by CMO3 made of OSFET.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第6図(a)は、従来の2入力論理回路の一例の回路図
である。この回路はQ ++ 、 Q lxがp型MO
S F ET、 Qll、 Qllがn型MOSFET
であり、QIIとQIffのゲート同士、QllとQl
lのゲート同士が接続されたいわゆるC M OS (
Complementary MOS )型と呼ばれる
回路である。p型MO5FETはゲート電圧がローレベ
ル(以下rLJ又は「0」と記す)のときはオン、ハイ
レベル(以下rHJ又は「1」と記す)のときはオフで
あり、n型MOS F ETはこの逆である。したがっ
て入力Aを1、入力Bを0とするとQ□、Qllがオン
であるがQo、Qllはオフであるため出力Yは1とな
る。同様にA=O1B−1のときはQ、1とQ10がオ
ン、QllとQllがオフであるのでY=1となる。更
にA=O1B−0のときはQIIとQ1□がオン、Ql
lとQ10がオフであるのでY−1となり、A−B−1
のときはQllとQllがオフ、QllとQllがオン
であるのでY−0となる。第6図(b)はこれらの結果
をまとめたものであり、これより同図(a)の回路がN
AND回路、として動作することが理解される。
FIG. 6(a) is a circuit diagram of an example of a conventional two-input logic circuit. In this circuit, Q ++ and Q lx are p-type MO
S FET, Qll, Qll is n-type MOSFET
, the gates of QII and QIff are connected to each other, and the gates of Qll and Ql
The so-called CMOS (
This is a circuit called a complementary MOS (complementary MOS) type. A p-type MOSFET is on when the gate voltage is at a low level (hereinafter referred to as rLJ or "0") and is off when it is at a high level (hereinafter referred to as rHJ or "1"), and an n-type MOSFET is at this level. It's the opposite. Therefore, if input A is 1 and input B is 0, Q□ and Qll are on, but Qo and Qll are off, so the output Y is 1. Similarly, when A=O1B-1, Q1 and Q10 are on and Qll and Qll are off, so Y=1. Furthermore, when A=O1B-0, QII and Q1□ are on, and Ql
Since l and Q10 are off, it becomes Y-1, and A-B-1
When , Qll and Qll are off and Qll and Qll are on, so it becomes Y-0. Figure 6(b) summarizes these results, and it shows that the circuit in Figure 6(a) has N
It is understood that it operates as an AND circuit.

第7図(a)(b)はそれぞれCMO3を構成するn型
とp型のMOSFETの断面図である。
FIGS. 7(a) and 7(b) are cross-sectional views of n-type and p-type MOSFETs forming CMO3, respectively.

CMO3を構成する場合、p型MOSFETとn型MO
S F ETのゲート同士を接続することを考慮し、通
常はいずれのゲート電極も同じn”型のポリシリコンに
よって形成する。このとき同図(a)のnチャネル型で
はp型基板の表面付近にチャネルができる表面チャネル
型となるのに対し、同図(b)のpチャネル型では仕事
関数などの関係からn型基板の内部にチャネルができる
埋込チャネル型となる。
When configuring CMO3, p-type MOSFET and n-type MOSFET
Considering that the gates of SFETs are connected to each other, normally both gate electrodes are formed of the same n'' type polysilicon.In this case, in the case of the n-channel type shown in Figure (a), the gate electrodes are formed near the surface of the p-type substrate. In contrast, the p-channel type shown in FIG. 3B is a buried channel type in which a channel is formed inside the n-type substrate due to work function and other factors.

(発明が解決しようする課題〕 従来の2入力論理回路では、第6図に示すように最低で
も4つのトランジスタが必要となる。このためシリコン
チップ上に一つの2入力論理回路を形成する場合にMO
SFET4つ分の面積が必要となり、単位面積当りに形
成できる基本回路(NAND回路やNOR回路など)の
数を増やして集積度を向上させる際の妨げとなっている
(Problems to be Solved by the Invention) A conventional two-input logic circuit requires at least four transistors as shown in Figure 6.For this reason, when forming one two-input logic circuit on a silicon chip, M.O.
This requires an area equivalent to four SFETs, which is an obstacle to improving the degree of integration by increasing the number of basic circuits (NAND circuits, NOR circuits, etc.) that can be formed per unit area.

また、従来のCMO3では第7図に示すようにp型MO
SFETが埋込チャネルとなっている。
In addition, in the conventional CMO3, as shown in FIG.
The SFET is a buried channel.

このため短チヤネル効果に対して弱く、バンチスルーが
起こる場合がある。この短チヤネル効果に対処するため
に、第7図(b)に示すp型MOSFETのゲート電極
をp゛型としてp型MOSFETを表面チャネル型とす
ることが考えられる。
Therefore, it is vulnerable to short channel effects, and bunch-through may occur. In order to cope with this short channel effect, it is conceivable to make the gate electrode of the p-type MOSFET shown in FIG. 7(b) a p-type and make the p-type MOSFET a surface channel type.

しかしこの場合、ゲート同士をそのまま接続すると両方
のゲートの間にpn接合が生して所定の動作が得られな
い、このため金属配線によってn型MOSFETとp型
MOS F ETのゲート同士を短絡することが必要と
なり、作業工程が増加するだけでなく極めて能率が悪く
なり、またコストがかさむという問題がある。
However, in this case, if the gates are connected as is, a pn junction will occur between both gates, making it impossible to obtain the desired operation. Therefore, the gates of the n-type MOSFET and p-type MOSFET are shorted together using metal wiring. This not only increases the number of work steps, but also causes problems such as extremely low efficiency and increased costs.

本発明は上記事情に基づいてなされたものであり、論理
回路の構成に必要なトランジスタの個数を削減して高速
度化、高集積化を図るとともに、短チヤネル効果に強く
、また少ない作業工程で形成できる2入力論理回路を提
供することを目的とするものである。
The present invention has been made based on the above circumstances, and aims to achieve high speed and high integration by reducing the number of transistors required for the configuration of a logic circuit, is resistant to short channel effects, and requires fewer work steps. The object is to provide a two-input logic circuit that can be formed.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記の目的を達成するための本発明に係る2入力論理回
路は、表面チャネル型とされたp型MOSFETとn型
MOS F ETを設け、前記p型MOSFETとn型
MOSFETのゲート同士を接合してpn接合を形成す
るとともに、いずれか−方のゲートを第1の抵抗を介し
て第1の入力端子に接続し他方のゲートを直接第2の入
力端子に接続し、前記p型MOS F ETとn型MO
SFETのドレイン同士を第2の抵抗を介して接続する
とともに前記第2の抵抗のいずれかの側を出力端子に接
続したことを特徴とするものである。
A two-input logic circuit according to the present invention for achieving the above object includes a surface channel type p-type MOSFET and an n-type MOSFET, and connects the gates of the p-type MOSFET and n-type MOSFET to each other. to form a p-n junction, one of the gates is connected to the first input terminal via the first resistor, and the other gate is directly connected to the second input terminal, and the p-type MOS FET and n-type MO
This device is characterized in that the drains of the SFETs are connected to each other via a second resistor, and either side of the second resistor is connected to an output terminal.

〔作用〕[Effect]

本発明は前記の構成によって、p型MOSFETとn型
MOSFETのゲートによって形成されるpn接合のダ
イオードのアノードとカソードとの間にゼロバイアス若
しくは順方向バイアスが印加された場合には、p型MO
S F ETとn型MOSFETのゲートには同一レベ
ルの電圧(どちらもHl又はどちらもL)が加わり、二
つのMOSFETのうち一方がオン、他方がオフとなる
。したがって二つのMOS F ETはレシオレス型の
インバータとして動作する。また、前記ダイオードに逆
バイアスが印加された場合には、p型MOSFET、n
型MOSFETのいずれもオンとなり、これらのMOS
FETの動作抵抗と第2の抵抗とによるレシオ型の出力
となる。
According to the above-described structure, when zero bias or forward bias is applied between the anode and cathode of the pn junction diode formed by the gates of the p-type MOSFET and the n-type MOSFET, the p-type MOSFET
A voltage of the same level (both Hl or both L) is applied to the gates of the S FET and the n-type MOSFET, and one of the two MOSFETs is turned on and the other is turned off. Therefore, the two MOS FETs operate as a ratioless inverter. Furthermore, when a reverse bias is applied to the diode, the p-type MOSFET, n
Both type MOSFETs are turned on and these MOS
A ratio type output is produced by the operating resistance of the FET and the second resistance.

また、上記の回路は必要とされるMOSFETが2つに
削減され、これらのゲートの間のpn接合も、単にn型
MOS F ETのn9型のゲート電極とp型MOSF
ETのp゛型電極を直接接合することにより得られるの
で、シリコンチップ上の面積を新たに必要とすることは
ない、したがって、シリコンチップ上で必要とされる面
積が大幅に削減され、高速化処理にきわめて有利である
Also, in the above circuit, the required MOSFET is reduced to two, and the pn junction between these gates is simply the n9 type gate electrode of the n type MOSFET and the p type MOSFET.
Since it is obtained by directly bonding the p-type electrode of ET, no additional area on the silicon chip is required. Therefore, the area required on the silicon chip is greatly reduced, and the speed is increased. Extremely advantageous for processing.

更に、n型MOSFETSp型MOSFETのいずれも
表面チャネル型として形成することにより、短チヤネル
効果に対して強い回路素子を得ることができ、集積度と
速度の向上を図ることができる。
Furthermore, by forming both the n-type MOSFET and the Sp-type MOSFET as a surface channel type, a circuit element that is resistant to short channel effects can be obtained, and the degree of integration and speed can be improved.

〔実施例〕〔Example〕

以下に図面を参照しつつ本発明の実施例について説明す
る。第1図は本発明の第1実施例の2入力論理回路の回
路図であり、この回路は図のようにp型MOS F E
TであるQl及びn型MOSFETであるQ2とからな
っている。この回路は後述するようにNAND回路とし
て動作する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a circuit diagram of a two-input logic circuit according to a first embodiment of the present invention, and this circuit is composed of p-type MOS F E
It consists of Ql, which is a T, and Q2, which is an n-type MOSFET. This circuit operates as a NAND circuit as described later.

第1図の回路において、Q1QドレインとQ。In the circuit of FIG. 1, Q1Q drain and Q.

のドレインとは抵抗R2を介して接続されており、Ql
のソースは電源V□に、Q2のソースはグランドへそれ
ぞれ接続されている。そして抵抗R2のQ、側が出力端
子14に接続されている。また、Q、のゲートは抵抗R
1を介して入力端子10に接続され、Q、のゲートは直
接入力端子12に接続されている。抵抗R0は、例えば
ポリシリコン層にイオン注入を行ってゲート電極を形成
する際に、これらのイオンが注入されないようにするこ
とによって得られ、こうすることにより非常に高い値の
抵抗素子を得ることができる。更に、これらのゲートは
pn接合ダイオードDによって接続されている。このダ
イオードDの形成については後述する。
is connected to the drain of Ql through a resistor R2.
The source of Q2 is connected to the power supply V□, and the source of Q2 is connected to ground. The Q side of the resistor R2 is connected to the output terminal 14. Also, the gate of Q is resistor R
1 to the input terminal 10, and the gate of Q is directly connected to the input terminal 12. The resistance R0 can be obtained, for example, by preventing ions from being implanted when forming a gate electrode by implanting ions into a polysilicon layer, and by doing so, it is possible to obtain a resistance element with a very high value. I can do it. Furthermore, these gates are connected by a pn junction diode D. The formation of this diode D will be described later.

第1図において入力端子10に信号A=0を、入力端子
12に信号B=Oを供給する。このときダイオードDの
アノードとカソードは同電位のためゼロバイアスとなっ
ている。このためダイオードDに電流は流れずQlのゲ
ート、Q2のゲートはいずれもしとなる。したがってQ
lはオンであるがQオはオフとなり、出力端子14に現
れる信号YはHlすなわち1となる。この場合Q、、Q
、及び抵抗R2よりなる回路はレシオレス型のインバー
タとして動作する0次にA=B=1とすると、この場合
もダイオードDはゼロバイアスであるため電流は流れな
い、このときQ、のゲート、Q、のゲートはいずれもH
となり、Q2はオンとなるがQlはオフである。したが
って出力Yはし、すなわち0となる。この場合もQ、 
、Q、 、抵抗R2よりなる回路はレシオレス型のイン
バータとして動作する。
In FIG. 1, an input terminal 10 is supplied with a signal A=0, and an input terminal 12 is supplied with a signal B=O. At this time, the anode and cathode of diode D are at the same potential and are therefore at zero bias. Therefore, no current flows through the diode D, and the gates of Ql and Q2 are both turned off. Therefore Q
l is on, but Qo is off, and the signal Y appearing at the output terminal 14 becomes Hl, that is, 1. In this case Q,,Q
The circuit consisting of , and resistor R2 operates as a ratioless inverter. Assuming that A=B=1, the diode D is also at zero bias in this case, so no current flows. At this time, the gate of Q, , all gates are H
Therefore, Q2 is on, but Ql is off. Therefore, the output Y becomes 0, that is, 0. In this case as well, Q,
, Q, , the circuit consisting of resistor R2 operates as a ratioless inverter.

次にA=0、B=1とする。この場合、ダイオードDは
逆バイアスとなり、やはりダイオードDに電流は流れな
い、このときQl、Qzはいずれもオンとなり、ぞれぞ
れのコンダクタンスgに応じて電源V工から供給される
電流を流す、したがってこの場合、Q、 、Q、 、抵
抗R2からなる回路はレシオ型の動作となる。ここでQ
l、Qtの動作抵抗に比べて抵抗R2を十分大きくしで
あるので、出力Yは抵抗R1によってプルアップされて
Hlすなわちlとなる。
Next, let A=0 and B=1. In this case, diode D becomes reverse biased and no current flows through diode D. At this time, both Ql and Qz are turned on, and the current supplied from the power source V flows according to their respective conductances g. , Therefore, in this case, the circuit consisting of Q, , Q, , and resistor R2 operates in a ratio type operation. Here Q
Since the resistor R2 is made sufficiently large compared to the operating resistances of 1 and Qt, the output Y is pulled up by the resistor R1 and becomes H1, that is, 1.

更にA−1、B=Oとする。この場合、ダイオードDは
順方向バイアスとなるため、QlのゲートとQ8のゲー
トは短絡された状態となる。そして上述のように抵抗R
1は十分大きい抵抗値を有するため、いずれのゲートも
抵抗R1によってプルダウンされてLとなる。したがっ
てQ、はオンとなるがQ、はオフとなり、出力Yは1と
なる。
Furthermore, it is assumed that A-1 and B=O. In this case, the diode D becomes forward biased, so the gate of Ql and the gate of Q8 are short-circuited. And as mentioned above, the resistance R
1 has a sufficiently large resistance value, both gates are pulled down by the resistor R1 and become L. Therefore, Q is turned on, but Q is turned off, and the output Y becomes 1.

この場合もレシオレス型の動作を行う。In this case as well, ratioless operation is performed.

第2図はこれまでの結果をまとめて示した第1図の回路
の動作表である。これより第1図の回路はNAND回路
として動作することが理解される。
FIG. 2 is an operation table of the circuit shown in FIG. 1 summarizing the results obtained so far. It is understood from this that the circuit of FIG. 1 operates as a NAND circuit.

しかも使用するMOS F ETの数は2個であり、4
個のMOS F ETが必要とされた従来のNAND回
路に比べ半分のMOS F ETで済む、したがって本
実施例によるNAND回路を同一のシリコン基板上に多
数集積する場合、必要とされる面積が従来の約半分とな
るので、大幅に高密度化、高集積化及び高速度化を図る
ことができ、またゲート同士を接続する際に特別の工程
を必要としないので、製造時間及び製造コストを大幅に
削減することができる。
Moreover, the number of MOS FETs used is 2, and 4
Compared to a conventional NAND circuit, which requires 100 MOS FETs, only half of the MOS FETs are required. Therefore, when a large number of NAND circuits according to this embodiment are integrated on the same silicon substrate, the area required is smaller than that of a conventional NAND circuit. This makes it possible to significantly increase density, integration, and speed, and since no special process is required to connect gates, manufacturing time and costs can be significantly reduced. can be reduced to

第3図(a)、(b)は第1図の回路のp型MOSFE
Tとn型MOSFETの断面図であり、第7図(a)、
(b)に対応するものである。第7図の場合と異なるの
は、同図(b)に示すように本実施例ではp型MOS 
F ETのゲート電極をp゛型としである点である。こ
のためp型MOSFETは表面チャネル型となり、短チ
ヤネル効果に強いp型MOS F ET素子を得ること
ができ、これにより、高集積化と高速度化を図ることが
できる。従来、短チヤネル効果に強い素子を得るべくこ
のようにn型MO5FETのゲートをn゛型、p型MO
5FETのゲートをp゛型とすると、両者を接続する際
にこれらのゲート間にpn接合が生じないよう両方のゲ
ートを金属配線で短絡しなければならなかった。しかし
本実施例では、このpn接合を積極的に利用し、ダイオ
ードDとすることによって、上記問題点を一挙に解決す
ることができる。
Figures 3(a) and (b) show the p-type MOSFE of the circuit in Figure 1.
It is a cross-sectional view of T and n-type MOSFET, and FIG. 7(a),
This corresponds to (b). The difference from the case in FIG. 7 is that in this example, as shown in FIG. 7(b), the p-type MOS
The point is that the gate electrode of the FET is p-type. Therefore, the p-type MOSFET becomes a surface channel type, and a p-type MOSFET element that is resistant to short channel effects can be obtained, thereby achieving high integration and high speed. Conventionally, in order to obtain a device that is resistant to short channel effects, the gate of an n-type MO5FET was changed to an n-type MO5FET or a p-type MO5FET.
When the gates of the 5FETs are p-type, it is necessary to short-circuit both gates with metal wiring so that a pn junction does not occur between these gates when connecting them. However, in this embodiment, by actively utilizing this pn junction and forming the diode D, the above problems can be solved at once.

第4図は本発明の第2実施例の2入力論理回路の回路図
であり、第1図と同一!底部分には同一符号を付してそ
の説明を省略する。この回路ではQ8のゲート側に抵抗
R1を設け、抵抗RtのQ、側に出力端子14を設けた
点が第1図の回路と異なっている。但し、この抵抗R8
の形成方法は上述の抵抗R5の形成方法と同様である。
FIG. 4 is a circuit diagram of a two-input logic circuit according to a second embodiment of the present invention, and is the same as FIG. 1! The same reference numerals are given to the bottom portion, and the explanation thereof will be omitted. This circuit differs from the circuit shown in FIG. 1 in that a resistor R1 is provided on the gate side of Q8, and an output terminal 14 is provided on the Q side of resistor Rt. However, this resistance R8
The method of forming is similar to the method of forming the resistor R5 described above.

第4図において入力信号をA=B=1とすると、ダイオ
ードDはゼロバイアスであるためQ、 、 Q2のゲー
トはいずれもHとなり、Qlはオフ、Q2はオンとなる
。したがって出力Yはし、すなわちOとなる。A=B=
Oの場合もダイオードDはゼロバイアスであるためQ、
 、Q、のゲートはいずれもしとなり、Qlはオン、Q
2はオフとなる。
In FIG. 4, when the input signal is A=B=1, since the diode D is at zero bias, the gates of Q, Q2, Q2 are all at H, Ql is off, and Q2 is on. Therefore, the output Y becomes O. A=B=
In the case of O, the diode D is also at zero bias, so Q,
The gates of ,Q, are all positive, Ql is on, and Q
2 is off.

したがって出力YはHlすなわち1となる。Therefore, the output Y becomes Hl, that is, 1.

更にA=0.B=1とすると、ダイオードDは逆バイア
スとなり、Q、のゲートはり、Q、のゲートはHとなる
。これよりQ、 、Q、はともにオンとなり、Q、 、
Q、 、抵抗R2はレシオ型の動作となる。そして出力
Yは抵抗R2によってプルダウンされてり、すなわち0
となる。A=1、B=0の場合にはダイオードDは順方
向バイアスとなるため、QlとQ□のゲートは互いに短
絡された状態となり、抵抗R1によってQ、とQ2のゲ
ートはプルアップされてHとなる。したがってQlはオ
フ、Q8はオンとなり、出力Yはし、すなわち0となる
Furthermore, A=0. When B=1, the diode D becomes reverse biased, and the gate of Q becomes H. From this, Q, , Q, are both turned on, and Q, ,
Q, , and resistor R2 operate in a ratio type manner. And the output Y is pulled down by resistor R2, that is, 0
becomes. When A=1 and B=0, the diode D becomes forward biased, so the gates of Ql and Q□ are shorted together, and the gates of Q and Q2 are pulled up by the resistor R1 and become H. becomes. Therefore, Ql is turned off, Q8 is turned on, and the output Y becomes 0, that is, 0.

この結果をまとめると第5図のようになり、これより第
4図の回路がNOR回路として動作することが理解され
る。この回路も第1図の回路と同様に二つのMOSFE
Tによって構成することができる。なお、その他の作用
、効果は第1実施例と同様である。
The results are summarized as shown in FIG. 5, from which it can be understood that the circuit in FIG. 4 operates as a NOR circuit. This circuit also has two MOSFEs, similar to the circuit in Figure 1.
It can be configured by T. Note that other functions and effects are similar to those of the first embodiment.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明によれば、二つのMOSFE
TのみによってNAND回路若しくはNOR回路を構成
することができるので、これらの回路を構成するのに必
要とされる素子数を従来の半分に抑えることができ、し
たがってこれらの回路をシリコンチップ上に形成する際
に必要とされる面積も約半分となり、このため従来のも
のよりも大幅に高密度化、高集積化及び高速度化するこ
とができる2入力論理回路を提供することができる。
As explained above, according to the present invention, two MOSFE
Since a NAND circuit or a NOR circuit can be constructed using T alone, the number of elements required to construct these circuits can be reduced to half of the conventional number, making it possible to form these circuits on a silicon chip. The area required to do this is also reduced to about half, making it possible to provide a two-input logic circuit that can achieve significantly higher density, higher integration, and higher speed than conventional logic circuits.

また、本発明によればp型MOSFETのゲート電極を
p′″型とすることにより二つのMOSFETをいずれ
も表面チャネル型とすることができるので、短チヤネル
効果に強いMOSFETとすることができ、したがって
高集積化、高速度化を図ることができ、更に二つのMO
S F ETのゲートをpn接合として利用するために
これらのゲートを短絡させるための金属配線などは不要
であり、製造時間、製造コストを削減することができる
2入力論理回路を提供することができる。
Further, according to the present invention, by making the gate electrode of the p-type MOSFET p''' type, both of the two MOSFETs can be made into surface channel type, so it is possible to make the MOSFET resistant to short channel effects. Therefore, high integration and high speed can be achieved, and two MO
Since the gates of SFET are used as pn junctions, there is no need for metal wiring to short-circuit these gates, making it possible to provide a two-input logic circuit that can reduce manufacturing time and manufacturing costs. .

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の第1実施例の2入力NAND回路の回
路図、第2図は第1図の回路の入力と出力との関係を示
した動作表、第3図(a)は第1図の回路を構成するn
型MOS F ETの断面図、同図(b)はp型MOS
FETの断面図、第4図は本発明の第2実施例の2入力
NOR回路の回路図、第5図は第4図の回路の入力と出
力との関係を示した動作表、第6図(a)は従来の2入
力NAND回路の回路図、同図(b)は同図(a)の回
路の入力と出力との関係を示す動作表、第7図(a)は
従来のn型MOS F ETの断面図、同図(b)は従
来のp型MOS F ETの断面図である。 10.12・・・入力端子、14・・・出力端子、Ql
 、 Qz ・・・I)型MOS F ET。 Qz 、Q4−・−n型MOS F ET。 D ・・・ ダイオード、 Rz。 R3 抵抗、 VDD・・・ 電源。
FIG. 1 is a circuit diagram of a two-input NAND circuit according to the first embodiment of the present invention, FIG. 2 is an operation table showing the relationship between the input and output of the circuit of FIG. 1, and FIG. n constituting the circuit in Figure 1
A cross-sectional view of type MOS FET, the same figure (b) is p-type MOS
A cross-sectional view of the FET, FIG. 4 is a circuit diagram of a two-input NOR circuit according to the second embodiment of the present invention, FIG. 5 is an operation table showing the relationship between the input and output of the circuit in FIG. 4, and FIG. (a) is a circuit diagram of a conventional 2-input NAND circuit, (b) is an operation table showing the relationship between the input and output of the circuit in (a), and Fig. 7 (a) is a conventional n-type NAND circuit. A cross-sectional view of a MOS FET, and FIG. 3(b) is a cross-sectional view of a conventional p-type MOS FET. 10.12...Input terminal, 14...Output terminal, Ql
, Qz...I) type MOS FET. Qz, Q4--n-type MOS FET. D... Diode, Rz. R3 resistance, VDD... power supply.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 表面チャネル型とされたp型MOSFETとn型MOS
FETを設け、前記p型MOSFETとn型MOSFE
Tのゲート同士を接合してpn接合を形成するとともに
、いずれか一方のゲートを第1の抵抗を介して第1の入
力端子に接続し他方のゲートを直接第2の入力端子に接
続し、前記p型MOSFETとn型MOSFETのドレ
イン同士を第2の抵抗を介して接続するとともに前記第
2の抵抗のいずれかの側を出力端子に接続したことを特
徴とする2入力論理回路。
Surface channel type p-type MOSFET and n-type MOS
A FET is provided, and the p-type MOSFET and the n-type MOSFET
The gates of T are connected to each other to form a pn junction, one of the gates is connected to the first input terminal via the first resistor, and the other gate is connected directly to the second input terminal, A two-input logic circuit characterized in that the drains of the p-type MOSFET and the n-type MOSFET are connected to each other via a second resistor, and either side of the second resistor is connected to an output terminal.
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