JPH04107401A - 光学補償板の製造方法 - Google Patents

光学補償板の製造方法

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JPH04107401A
JPH04107401A JP2226398A JP22639890A JPH04107401A JP H04107401 A JPH04107401 A JP H04107401A JP 2226398 A JP2226398 A JP 2226398A JP 22639890 A JP22639890 A JP 22639890A JP H04107401 A JPH04107401 A JP H04107401A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、光学補償板の製造方法に関し、特に負の光学
異方性を有する光学補償板の製造方法に関する。
［従来の技術］ 光学補償板は、対象とする光学部材の光学異方性を補償
するなめに用いられる光学異方性を有する光学部材であ
る。
液晶表示装置等において用いられる液晶の液晶分子は、
通常細長い形状を有し、この分子軸に平行な方向に高い
屈折率、分子軸に垂直な方向に低い屈折率を有する。
このような液晶分子か透明基板間で基板に垂直に整列す
ると、液晶セルは正の光学異方性を示すことになる。こ
の状態の液晶セルは、基板法線からの角度に対する依存
性か強い。
この正の光学異方性を補償するには、厚さ方向に低い屈
折率、面内方向に高い屈折率を有する負の光学異方性を
有する材料が必要である。また、この時、補償しようと
する光学異方性の程度、Δｎ−ｄ（ｎは屈折率、Δｎ−
ｎｏ〜ｎｏ、ｄは厚さ）、に合わせて光学補償板のΔｎ
、　−ｄを調整する必要かある。
このような、光学補償板を製造する方法として、オート
クレーブ類を利用する方法かある。
たとえば、一対のカラス板の間に熱動塑性樹脂膜を挾み
、積層構造体を形成し、減圧排気可能な袋中に収容し、
袋内を減圧排気し、口をシールし、オートクレーブ類に
入れる。オートクレーブ炉内を加圧すると、圧力は２枚
のカラス板を介して、熱動塑性樹脂膜の膜圧方向に印加
される・。さらに、オートクレーブ炉内を所定の温度に
加熱することにより、熱動塑性樹脂膜は加圧、加熱、加
工される。
熱動塑性樹脂膜を、エチレン−メタクリル酸共重合体分
子間を金属イオンで架橋したアイオノマ樹脂で形成する
と、加熱、加圧処理により、負の光学異方性を有する樹
脂膜を得ることができる。
し発明か解決しようとする課題］ しかしながら、上に述べたような従来の光学補償板製造
工程によれば、光学補償板の光学特性が、使用時間と共
に変化する傾向かある。常温の使用によってはさほどの
変化を示さないが、特に６０°Ｃ程度以上の高温で保持
すると、走光線に対する屈折率と異常光線に対する屈折
率の差Δｎと、膜厚ｄの積であるΔｎｄが増大する。
液晶パネルにおいて、液晶の光学異方性に整合させた光
学補償板を組合わせても、使用中に光学補償板の光学定
数か変化してしまうと、適正な補償かできなくなってし
まう。
本発明の目的は、長期の使用によっても光学特性の変化
が少ない光学補償板の製造方法を提供することである。
［課題を解決するための手段］ 本発明の光学補償板の製造方法は、熱動塑性樹脂膜を加
熱、加圧して複屈折性を有する樹脂膜に加工する第１工
程と、第１工程後、樹脂の軟化点以上、融点以下の温度
範囲のアニール温度で、加工樹脂膜を約３０分以」ニア
ニールする第２工程とを含む。
［作用コ 通常の工程と同様の工程により、光学補償板を作成した
後、アニール工程を行なうことによって、光学補償板の
光学特性か安定化できる。
通常の工程によって作成した光学補償板も、厚さｄの変
化は無視できる程度であり、Δｎｄの変化は屈折率ｎの
変化によるものと考えられる。
通常の工程による光学補償板の作成直後においては、作
成中の熱履歴が内部応力として膜内に残ることとか多い
。また、結晶化度も安定していないと考えられる。軟化
点以上の温度でアニールを行なうことにより、内部応力
は解放されてその後の変化が減少し、光学異方性の程度
Δｎｄは、安定な値まで変化する。
そのなめ、その後の光学補償特性の変化が減少する。
液晶表示装置と組合わせて用いる場合には、所望の光学
特性Δｎｄを与えるように光学補償板作成工程およびそ
の後のアニール工程を設計すれば、適切な光学補償板を
得ることができる。
［実施例］ 以下実施例に沿って本発明を説明する。
まず、従来の技術同様にオートクレーブ類により、光学
補償板を作成する。ガラス板等の透明基板２枚の間に熱
加塑性樹脂としてエチレン−メタクリル酸共重合体分子
間を金属イオンで架橋したアイオノマ樹脂を挾み、気密
で減圧排気可能な袋中に収容し、袋の内部を減圧排気し
、オー１−クレープ炉内に設置する。オートクレーブ炉
内の温度、圧力を所望の値まで上昇させ、その後所定時
間−定に保持する。たとえば、１００〜１５０℃、圧力
１〜５　ｋ　ｇ　／　ｃ　ｍ　２で約３０分程度保持す
る。
その後、降温、降圧してオートクレーブ炉内から積層構
造体を取出す。このままこの積層構造体を光学補償板と
して使用すると、前述のように光学特性が時間と共に変
化してしまう。
作成工程後のアニール工程として、積層構造体をアニー
ル炉に収容し、たとえば、約６０〜１００℃のアニーリ
ングを約１〜３時間行なう４なお、アニール温度は軟化
点以上、融点以下で行なうことか好まし、い。軟化点以
下であると、アニール効果か低く、融点以上であると、
−旦作成した光学異方性が減少してしまう。ハイミラン
の場合、９０℃を越えないことか望ましい。また、アニ
ール時間はアニール温度にもよるか、約３０分以上行な
うことか好ましい。これ以下の時間ではアニール効果か
十分発揮されない場合かある。
所定のアニール処理を行なった後、アニール炉内を降温
し、積層構造体を取出して光学補償板として使用する。
このようなアニール処理によって、その後の屈折率変化
か少なくなると共に、光学補償板の面内の光学特性のバ
ラツキも減少した。また、使用温度としては、従来の場
合は約４０°Ｃか最高使用温度であったか、たとえば約
６０℃のアニール処理を行なうことにより、最高使用温
度は約６０℃に向上した。
エチレン−メタクリル酸共重合体分子間を、ナトリウム
イオンで架橋したアイオノマ樹脂と、マグネシウムイオ
ンで架橋したアイオノマ樹脂を例にとって、上述の実施
例によるアニール処理を行なった時の、光学異方性の量
（Ａｎｄ）の変化を第１図（Ａ）、（Ｂ）に示す。
横軸はアニール時間を表わし、縦軸はＡｎｄを示す。な
お、時間軸の零点はオートクレーブ法により作成した光
学異方性板をアニール炉中に設置し、アニール処理を開
始した時間を示す。アニールは、まず６０°Ｃで６時間
行ない、そのまま７０℃に加熱して６時間行ない、さら
に８０°Ｃに加熱して６時間行ない、さらに９０’Ｃに
加熱して６時間というように行なった。
第１図（Ａ）に示すように、ナトリウムイオン型の場合
には、Ａｎｄの値は、当初急激に立上がり、その後は極
めて緩かに変化しな。すなわち、約６０°Ｃの熱処理を
約３０分以上行なうことによって、Ａｎｄの初期の変化
はほぼ出現し尽すと考えられる。
第１図（Ｂ）に示すマグネシウムイオン型の場合には、
初期の変化はより大きく表われる６すなわち、６０℃の
アニールによって縦軸の任意スケールで、約１９０程度
であったＡｎｄの値は、約１時間のアニールによって約
２８０程度まで増加する。その後も増加の程度は緩かに
なるが、Ａｎｄは変化し続け、７０°Ｃに加熱すると再
び急に変化する。８０°Ｃに加熱すると、Ａｎｄの値は
かえって減少するが、アニール時間によって僅かに上昇
する。９０℃に加熱すると、Ａｎｄの値はさらに大きく
減少する。すなわち、マグネシウムイオン型の場合には
、７０°Ｃ付近て最もΔｎ、　ｄの値が大きい。
マグネシウムイオン型の場合にも、約６０℃以上の温度
で約３０付置度以上の熱処理を行なうことにより、初期
のＡｎｄの変化を強制的に発生させ、その後の変化の量
を少なくすることができることか分る。
以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれ
らに制限されるものではない。たとえは、種々の変更、
改良、組み合わせ等か可能なことは当業者に自明であろ
つ。
［発明の効果］ 以上説明したように、本発明によれば、光学的性質の安
定した光学補償板を提供することかできる。
【図面の簡単な説明】
第１図（Ａ）、（Ｂ）は、本発明の実施例により処理を
行なった場合の光学補償板の光学的性質の変化の例を示
すグラフである。 特許出願人　　スタンレー電気株式会社代　理　人　弁
理士　高橋　敬四部 手続補正書 く自発） 平成 ３年 ５月２９日 （１）、明細書　第　２頁第１８〜３頁　２行「補償し
ようとする光学異方性の程度、Δｎ−ｄ（ｎは屈折「補
償しようとする正の光学異方性の程度、Δｎ−ｄ（Δｎ
発明の名称 光学補償板の製造方法 補正の内容 名称 （２３０）スタンレー電気株式会社 別紙の通り 明細書　第　５頁第　８〜１０行 「通常の工程によって作成した光学補償板も、厚さｄの
変化は無視できる程度であり、Δｎｄの変化は屈折率ｎ
の変化によるものと考えられる。」を 「通常の工程によって作成した光学補償板も、アニール
工程を実施した本発明の光学補償板も、アニール温度程
度における厚さｄの変化は無視できる程度であり、Δｎ
ｄの変化は屈折率異方性Δｎの変化によるものと考えら
れる。」と補正する。 （３）、明細書　第　５頁第１３行 「こととか多い」を「ことが多いｊと補正する。 （４）、明細書　第　７頁第　８〜９行「ハイミランの
場合を」を「例えはハイミラン（商品名）の場合」と補
正する。 明細書　第　７頁第１９〜２０行 「従来の場合は約４０°Ｃが最高使用温度てあったが、
」をｒ例゛えは前記ハイミランの場合、従来は光学Ｍ償
板の光学特性Δｎｄか変化する為に、液晶セルの視角や
色が変化するものて、約４０℃が最高使用温度であった
が、ｊと補正する。 明細書　第１０頁第　１行の前に 「また、温度に対しての光学特性が安定した。従来の場
合、液晶表示装置に光学補償板を使用した時、バックラ
イトの温度だけで光学特性が変化するのて、冷却装置を
要していた。上述の光学補償板を用いると、冷却装置を
用いなくても良くなる等の効果も有している。 また、アニール処理温度に関しても、従来の光学特性の
変化に比べ、変化量が少ないのて、液晶表示装置の光学
特性の変化量が少なくて済むという効果も有している。 」を加入する。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）、熱加塑性樹脂膜を加熱、加圧して複屈折性を有
    する樹脂膜に加工する第１工程と、 前記第１工程後、前記樹脂の軟化点以上、融点以下の温
    度範囲のアニール温度で、前記加工樹脂膜を約３０分以
    上アニールする第２工程とを含む光学補償板の製造方法
    。
  2. （２）、請求項１記載の光学補償板の製造方法であって
    、前記樹脂はエチレン−メタクリル酸共重合体分子間を
    金属イオンで架橋したアイオノマ樹脂であり、前記アニ
    ール温度は６０〜１００℃の温度である光学補償板の製
    造方法。
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