JPH0410583A - 端面発光ダイオード - Google Patents
端面発光ダイオードInfo
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- JPH0410583A JPH0410583A JP2113109A JP11310990A JPH0410583A JP H0410583 A JPH0410583 A JP H0410583A JP 2113109 A JP2113109 A JP 2113109A JP 11310990 A JP11310990 A JP 11310990A JP H0410583 A JPH0410583 A JP H0410583A
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- light emitting
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- emitting diode
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 5
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract description 4
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 abstract description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 2
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020489 SiO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Led Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、発光ダイオード、特に、光通信や情報処理、
および、計測の分野などに利用される端面発光ダイオー
ドに関するものである。
および、計測の分野などに利用される端面発光ダイオー
ドに関するものである。
(従来の技術)
従来の端面発光ダイオードは、第3図に示すように、p
−InPの単結晶基板32の上に、p−InPのバッフ
ァ層33、n−InPのブロック層34、p−InPの
ブロック層35、p−In2層36、n−InPクラッ
ド層37、n−InGaAsPのキャップ層38.5i
n2絶縁膜39が積層形成され、p−InPのバッファ
層33、n−InPのブロック層34、p−InPのブ
ロック層35に設けられたアローヘッド型溝40には、
p−InPクラッド層41、p−InGaAsPの活性
層42が形成され、活性層42の上部にn−InPのク
ラッド層37の一部が積層され、下部にp電極31、上
部にn電極43を有するものである。
−InPの単結晶基板32の上に、p−InPのバッフ
ァ層33、n−InPのブロック層34、p−InPの
ブロック層35、p−In2層36、n−InPクラッ
ド層37、n−InGaAsPのキャップ層38.5i
n2絶縁膜39が積層形成され、p−InPのバッファ
層33、n−InPのブロック層34、p−InPのブ
ロック層35に設けられたアローヘッド型溝40には、
p−InPクラッド層41、p−InGaAsPの活性
層42が形成され、活性層42の上部にn−InPのク
ラッド層37の一部が積層され、下部にp電極31、上
部にn電極43を有するものである。
SiO2絶縁膜により、アローヘッド型溝40の後部の
矢印44で示す部分は、活性層非励起領域となり、その
後部に矢印45で示す光吸収領域が形成されるものであ
る。活性層非励起領域44の前部は、活性層励起領域4
6であり、発光領域となる。発光領域の長さは、通常2
00〜300μm程度である。
矢印44で示す部分は、活性層非励起領域となり、その
後部に矢印45で示す光吸収領域が形成されるものであ
る。活性層非励起領域44の前部は、活性層励起領域4
6であり、発光領域となる。発光領域の長さは、通常2
00〜300μm程度である。
発光領域長がこのように長いものでは、発光領域の面積
が大きくなるから当然に光出力は増大する。加えて、発
生した光が伝搬する途中において、活性層を励起する、
いわゆる、誘導放出による発光成分も多くなることによ
り、発光領域長が長いものでは、大きい光出力が得られ
ることがわかっている。
が大きくなるから当然に光出力は増大する。加えて、発
生した光が伝搬する途中において、活性層を励起する、
いわゆる、誘導放出による発光成分も多くなることによ
り、発光領域長が長いものでは、大きい光出力が得られ
ることがわかっている。
ところで、誘導放出成分は、温度に対する依存性が大き
く、低温度で大きくなるから、従来の単面発光ダイオー
ドでは、特に低温での光出力が著しく増大する特性を示
している。
く、低温度で大きくなるから、従来の単面発光ダイオー
ドでは、特に低温での光出力が著しく増大する特性を示
している。
したがって、温度条件により増幅段が飽和することがあ
り、端面発光ダイオードを使いにくいものとしている。
り、端面発光ダイオードを使いにくいものとしている。
これを避けるために、温度制御を行なうことも考えられ
るが、低価格の発光ダイオードを用いるにもかかわらず
、温度制御に費用を要する結果となり、むしろ、コスト
を高いものとする原因となってしまう。
るが、低価格の発光ダイオードを用いるにもかかわらず
、温度制御に費用を要する結果となり、むしろ、コスト
を高いものとする原因となってしまう。
(発明が解決しようとする課題)
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたもので、発光
領域の長さを短くすることにより、温度変化による出力
変動が少ない端面発光ダイオードを提供することを目的
とするものである。
領域の長さを短くすることにより、温度変化による出力
変動が少ない端面発光ダイオードを提供することを目的
とするものである。
(課題を解決するための手段)
本発明は、端面発光ダイオードにおいて、発光領域長を
発光領域幅のほぼ10倍以下としたことを特徴どするも
のである。
発光領域幅のほぼ10倍以下としたことを特徴どするも
のである。
(作 用)
本発明は、端面発光ダイオードにおいて、発光領域長を
発光領域幅のほぼ10倍以下としたことにより、誘導放
出成分を小さくでき、低温領域における出力の増大を抑
えることができ、温度特性を良好なものとすることが可
能である。
発光領域幅のほぼ10倍以下としたことにより、誘導放
出成分を小さくでき、低温領域における出力の増大を抑
えることができ、温度特性を良好なものとすることが可
能である。
(実施例)
第1図は、本発明の一実施例を説明するためのメサ型の
端面発光ダイオードの斜視図である。図中、1はn−I
nPの基板、2はn−InPのクラッド層、3は工nG
aAsPの活性層、4はpInPのクラッド層、6はp
−InGaAsPにZnを拡散したコンタクト層、7は
メサ形成部、8はSiO3またはSiNxの絶縁膜、9
はn電極、10はn電極である。
端面発光ダイオードの斜視図である。図中、1はn−I
nPの基板、2はn−InPのクラッド層、3は工nG
aAsPの活性層、4はpInPのクラッド層、6はp
−InGaAsPにZnを拡散したコンタクト層、7は
メサ形成部、8はSiO3またはSiNxの絶縁膜、9
はn電極、10はn電極である。
メサ形成部7は、その幅が、例えば、5〜10μmであ
り、その長さは、20〜50μmである。
り、その長さは、20〜50μmである。
通常の端面発光ダイオードの場合のメサ部の長さが、2
00〜300μmであるのに比較すれば、きわめて短い
ものである。メサ部の長さが短くなったことにより光出
力の低下は避けられないが、温度特性が良好となること
は上述したとおりであり、光出力の低下は受光器の感度
と増幅度で補うことができるので、温度特性に重点をお
くと、発光領域の長さは、発光領域の幅の10倍以下が
よい。
00〜300μmであるのに比較すれば、きわめて短い
ものである。メサ部の長さが短くなったことにより光出
力の低下は避けられないが、温度特性が良好となること
は上述したとおりであり、光出力の低下は受光器の感度
と増幅度で補うことができるので、温度特性に重点をお
くと、発光領域の長さは、発光領域の幅の10倍以下が
よい。
次に、第1図の実施例の端面発光ダイオードの製作手順
の一例を第2図により説明する。
の一例を第2図により説明する。
同図(A)に示すように、n−InPの基板1の上に、
n−InPのクラッド層2、InGaAsPの活性層3
、p−InPのクラッド層4、pInGaAsPのコン
タクト層5を順次結晶成長する。InGaAsPの活性
層3の典型的な厚みは、0.1〜0.2μm程度である
。
n−InPのクラッド層2、InGaAsPの活性層3
、p−InPのクラッド層4、pInGaAsPのコン
タクト層5を順次結晶成長する。InGaAsPの活性
層3の典型的な厚みは、0.1〜0.2μm程度である
。
同図(B)に示すように、電極金属との接触抵抗を良好
にするために、p−InGaAsPのコンタクトM5の
全面に、例えば、Znを拡散してコンタクト層6を形成
する。
にするために、p−InGaAsPのコンタクトM5の
全面に、例えば、Znを拡散してコンタクト層6を形成
する。
つぎに、メサ部7の形成を行なう。同図(C)に示すよ
うに、メサは、結晶軸<011>方向に形成する。メサ
形成のためのエツチングは、SiO2または5INxを
マスクとして、臭素を含む酢酸系のエツチング液を用い
て、n−InPのクラッド層2の中間ぐらいの深さまで
エツチングする。このとき、<011>方向と垂直な面
(011)面においては、緩やかな斜面が形成される。
うに、メサは、結晶軸<011>方向に形成する。メサ
形成のためのエツチングは、SiO2または5INxを
マスクとして、臭素を含む酢酸系のエツチング液を用い
て、n−InPのクラッド層2の中間ぐらいの深さまで
エツチングする。このとき、<011>方向と垂直な面
(011)面においては、緩やかな斜面が形成される。
したがって、活性層から後方へ伝搬する光は、前記斜面
で下方へ反射されることになり、再び活性層に戻ること
を防止できる。本発明においては、誘導放出成分が少な
いから、従来のように、光吸収領域を設けずに、前記緩
斜面だけで、レーザ発振を抑制することができる。
で下方へ反射されることになり、再び活性層に戻ること
を防止できる。本発明においては、誘導放出成分が少な
いから、従来のように、光吸収領域を設けずに、前記緩
斜面だけで、レーザ発振を抑制することができる。
マスクを除去した後、上面にSiO2あるいはSiNx
の絶縁膜を形成し、メサ上の電流注入領域の部分の絶縁
膜を除去し、上面にn電極、下面にn電極形成する。
の絶縁膜を形成し、メサ上の電流注入領域の部分の絶縁
膜を除去し、上面にn電極、下面にn電極形成する。
ついで、へき開によって前端面を形成し、第1図に示し
た端面発光ダイオードが得られる。8は絶縁膜、9はn
電極、10はn電極である。
た端面発光ダイオードが得られる。8は絶縁膜、9はn
電極、10はn電極である。
前端面に反射防止膜を施すようにしてもよい。
なお、上記実施例では、メサの長さを短くしたが、メサ
の長さは、従来のように200〜300μmていどに長
くしておいて、電流注入領域の長さを短くして発光領域
の長さを短くしてもよい。
の長さは、従来のように200〜300μmていどに長
くしておいて、電流注入領域の長さを短くして発光領域
の長さを短くしてもよい。
また、メサ型の端面発光ダイオードについて述べたが、
これに限られるものではなく、リッジ型、■情理め込み
型等、他の形式の端面発光ダイオードにも本発明が適用
できることは明らかである。
これに限られるものではなく、リッジ型、■情理め込み
型等、他の形式の端面発光ダイオードにも本発明が適用
できることは明らかである。
また、InGaAsP系の発光ダイオードについて説明
したが、他の系のものにも同様に実施できるものである
。
したが、他の系のものにも同様に実施できるものである
。
(発明の効果)
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、簡単
な構成であるから、安価であり、かつ、温度特性のよい
端面発光ダイオードを提供できる効果がある。
な構成であるから、安価であり、かつ、温度特性のよい
端面発光ダイオードを提供できる効果がある。
第1図は、本発明の一実施例を説明するための端面発光
ダイオードの斜視図、第2図は、第1図の端面発光ダイ
オードの製造工程を説明するための斜視図、第3図は、
従来例の端面発光ダイオードの斜視図である。 1−・−n−InP基板、2−n−InPクラッド層、
3・ InGaAsP活性層、4・・・p−InPクラ
ッド層、6−p−InGaAsPにZnを拡散したコン
タクト層、7・・・メサ形成部、8・・・絶縁膜、9・
・・p電極、10・・・n電極。 特許出願人 株式会社島津製作所
ダイオードの斜視図、第2図は、第1図の端面発光ダイ
オードの製造工程を説明するための斜視図、第3図は、
従来例の端面発光ダイオードの斜視図である。 1−・−n−InP基板、2−n−InPクラッド層、
3・ InGaAsP活性層、4・・・p−InPクラ
ッド層、6−p−InGaAsPにZnを拡散したコン
タクト層、7・・・メサ形成部、8・・・絶縁膜、9・
・・p電極、10・・・n電極。 特許出願人 株式会社島津製作所
Claims (1)
- 発光領域長を発光領域幅のほぼ10倍以下としたこと
を特徴とする端面発光ダイオード。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2113109A JPH0410583A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 端面発光ダイオード |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2113109A JPH0410583A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 端面発光ダイオード |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0410583A true JPH0410583A (ja) | 1992-01-14 |
Family
ID=14603732
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2113109A Pending JPH0410583A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 端面発光ダイオード |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0410583A (ja) |
-
1990
- 1990-04-27 JP JP2113109A patent/JPH0410583A/ja active Pending
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