JPH04102830A - 多色液晶表示パネル - Google Patents
多色液晶表示パネルInfo
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- JPH04102830A JPH04102830A JP2218899A JP21889990A JPH04102830A JP H04102830 A JPH04102830 A JP H04102830A JP 2218899 A JP2218899 A JP 2218899A JP 21889990 A JP21889990 A JP 21889990A JP H04102830 A JPH04102830 A JP H04102830A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はカラー液晶表示パネルにおける多色化の技術に
係り、特に視野角の広い多色カラーパネルを提供するも
のである。
係り、特に視野角の広い多色カラーパネルを提供するも
のである。
〔従来の技術〕
従来、液晶表示パネルの明るさの階調を選択する方法と
して以下の技術が用いられていた。
して以下の技術が用いられていた。
第2図は液晶表示パネルの1画素を示す説明図であり下
部電極1.上部電極2.液晶分子3で構成される。この
上下の電極に印加する電圧により、液晶分子3の配列状
態が第2図(aL (bL (c)のように変わる。(
a)はホモジニアス配列、(b)は傾斜配列、(Q)は
ホメオトロ配列と呼ばれている。
部電極1.上部電極2.液晶分子3で構成される。この
上下の電極に印加する電圧により、液晶分子3の配列状
態が第2図(aL (bL (c)のように変わる。(
a)はホモジニアス配列、(b)は傾斜配列、(Q)は
ホメオトロ配列と呼ばれている。
このように液晶の配列状態の変化に伴ない、この画素部
の光透過率を第3図に示すように変えることができる。
の光透過率を第3図に示すように変えることができる。
第3図中に各々の状態での光透過率を示した。(a)は
黒レベル、(b)は中間レベル、(c)は白レベルの状
態を示す。ただし、(a)の状態を黒とするか白とする
かは偏光板との組合わせで決定する。
黒レベル、(b)は中間レベル、(c)は白レベルの状
態を示す。ただし、(a)の状態を黒とするか白とする
かは偏光板との組合わせで決定する。
中間の明るさ(カラーの場合には中間色)を得るには第
2図(b)に示すような傾斜配列の程度を変えて行なう
方法が採られていた。
2図(b)に示すような傾斜配列の程度を変えて行なう
方法が採られていた。
上記従来技術は明るさの階調(中間色)を出すことがで
きるものの、下記の点について問題があった。
きるものの、下記の点について問題があった。
前述したように従来技術は液晶の傾斜配列を利用して中
間の明るさを表示している。しかしながら傾斜配列は第
3図より明らかなように、わずかな電圧の違いで透過率
が大きく変化するために、液晶パネル全体での明るさの
均一性を保つのが困雛であったり、さらに傾斜配列状態
での透過率は見る角度により変化するために視野角特性
が悪く、見る角度により階調や中間色の色が変わるなど
の欠点がある。
間の明るさを表示している。しかしながら傾斜配列は第
3図より明らかなように、わずかな電圧の違いで透過率
が大きく変化するために、液晶パネル全体での明るさの
均一性を保つのが困雛であったり、さらに傾斜配列状態
での透過率は見る角度により変化するために視野角特性
が悪く、見る角度により階調や中間色の色が変わるなど
の欠点がある。
本発明は上記欠点のない階調表示、中間色表示を可能に
する技術を提供することにある。
する技術を提供することにある。
上記目的を達成するために本発明では、傾斜配列を用い
ずに均一性、視野角特性の良いホメオトロピック、ホモ
ジニアス配列のみで階調表示を行なう。そのためには第
4図に示すように1画素をrR) 複数の異なる面積を持つ小画素領域に分ける。例えば第
4図において面積S□l SZI s、の比を1=2=
4に選べば第1表に示すように各々の小画素領域の明暗
を組合わせることにより8つの階調を表示することが可
能となる。赤、青、緑もしくは赤、青、緑、白などのカ
ラーフィルタと組合わせることにより、512色、4.
096色の中間色を表示することも可能となる。もちろ
ん、液晶配列状態は安定な特性を有するホモジニアスと
ホメオトロピック配列しか使用しないので均一性、視野
角特性は大幅に改善される。
ずに均一性、視野角特性の良いホメオトロピック、ホモ
ジニアス配列のみで階調表示を行なう。そのためには第
4図に示すように1画素をrR) 複数の異なる面積を持つ小画素領域に分ける。例えば第
4図において面積S□l SZI s、の比を1=2=
4に選べば第1表に示すように各々の小画素領域の明暗
を組合わせることにより8つの階調を表示することが可
能となる。赤、青、緑もしくは赤、青、緑、白などのカ
ラーフィルタと組合わせることにより、512色、4.
096色の中間色を表示することも可能となる。もちろ
ん、液晶配列状態は安定な特性を有するホモジニアスと
ホメオトロピック配列しか使用しないので均一性、視野
角特性は大幅に改善される。
上述したように1画素を面積が整数比の関係にある複数
の小画素に分割し、この小画素の明暗を組合せることに
より階調表示が可能となる。しかも、液晶配列状態は安
定な特性を有するホモジニアス配列とホメオトロピック
配列しか使用しないので均一性、視野角特性は大幅に改
善できる。
の小画素に分割し、この小画素の明暗を組合せることに
より階調表示が可能となる。しかも、液晶配列状態は安
定な特性を有するホモジニアス配列とホメオトロピック
配列しか使用しないので均一性、視野角特性は大幅に改
善できる。
次に実際のパネル構成について説明を補足する。
本発明の利用したパネルの回路例を第5図から第8図に
示す。
示す。
第5図は1画素を面積S□+ 82183 の3つの小
画素に分離し、その各々を薄膜トランジスタT□11
T工2.T□3で駆動するようにしたものである。信号
端子D工、D2には、周期的に符号が変わる単純な電圧
パルス列(この場合3列)が印加される。このパルス列
はB1. B2. B3端子(小画素2選択端子)に順
次印加される電圧パルスに同期して印加される。このD
□、D2に印加される3列の電圧パルス列の組合わせで
明るさを選択できる。従来はD□、D2に印加する電圧
の大きさで明るさを選択していたが、本発明では3列の
電圧パルスの組合わせで明るさを選択する点が異なる点
である。
画素に分離し、その各々を薄膜トランジスタT□11
T工2.T□3で駆動するようにしたものである。信号
端子D工、D2には、周期的に符号が変わる単純な電圧
パルス列(この場合3列)が印加される。このパルス列
はB1. B2. B3端子(小画素2選択端子)に順
次印加される電圧パルスに同期して印加される。このD
□、D2に印加される3列の電圧パルス列の組合わせで
明るさを選択できる。従来はD□、D2に印加する電圧
の大きさで明るさを選択していたが、本発明では3列の
電圧パルスの組合わせで明るさを選択する点が異なる点
である。
G1.G2.G3はゲート端子であり、LCは液晶を示
し、COMは対向電極を示す。D1□、D工2゜D□3
は各々、信号線を示す小画素選択用の薄膜トランジスタ
TB□1. TB工2. TBB10・・・は表示部と
信号端子との間に配置される。
し、COMは対向電極を示す。D1□、D工2゜D□3
は各々、信号線を示す小画素選択用の薄膜トランジスタ
TB□1. TB工2. TBB10・・・は表示部と
信号端子との間に配置される。
動作の説明をする。例えばS工l szy B3で構成
する画素を表1で示す階調5の明るさにする場合にはB
□、 B2. B3端子に順次例えば+5■の電圧を印
加すると同時にこれに同期して、Dlに例えば−5V、
−10V、−5Vの3例の電圧パルスを印加する。ただ
しC0M端子には一10Vの電圧を印加する。この時ゲ
ート端子G1に+5V、これ以外のゲート端子には一2
0Vの電圧を印加しておく。これでこの画素は階調5の
明るさを表示する。
する画素を表1で示す階調5の明るさにする場合にはB
□、 B2. B3端子に順次例えば+5■の電圧を印
加すると同時にこれに同期して、Dlに例えば−5V、
−10V、−5Vの3例の電圧パルスを印加する。ただ
しC0M端子には一10Vの電圧を印加する。この時ゲ
ート端子G1に+5V、これ以外のゲート端子には一2
0Vの電圧を印加しておく。これでこの画素は階調5の
明るさを表示する。
第 1 表
第6図は第5図と同様であり、付加容量Caddが加え
られている点が異なる。駆動方法は第5図と全く同様に
行なう。
られている点が異なる。駆動方法は第5図と全く同様に
行なう。
第7図は小画素選択用の薄膜トランジスタT B1、y
TB□2. TBB10・・をゲート端子側に配置した
例である。この場合、Sl、B2.B3で1つの画素を
形成する。
TB□2. TBB10・・をゲート端子側に配置した
例である。この場合、Sl、B2.B3で1つの画素を
形成する。
動作を説明する。例えば、表1で示す階調5の明るさに
する場合には、ゲート端子G1に一20■から+5vの
振幅を持つ3個のパルス列を印加する。他のゲート端子
は一20Vにしておく。この3個のパルス列に同期して
B□、B2.B3端子に順次パルスを印加し、小画素S
□l Sol B3 の薄膜トランジスタT11. T
1□、T工3を順次オン(ON)にする。同時に信号端
子に前述した3列の電圧パルス、例えば−5V、−10
V、−5Vの3列のパルスを印加する。これでこの画素
は明るさ5の階調を表示する。
する場合には、ゲート端子G1に一20■から+5vの
振幅を持つ3個のパルス列を印加する。他のゲート端子
は一20Vにしておく。この3個のパルス列に同期して
B□、B2.B3端子に順次パルスを印加し、小画素S
□l Sol B3 の薄膜トランジスタT11. T
1□、T工3を順次オン(ON)にする。同時に信号端
子に前述した3列の電圧パルス、例えば−5V、−10
V、−5Vの3列のパルスを印加する。これでこの画素
は明るさ5の階調を表示する。
第8図は第7図に付加容量Caadを加えた場合の例で
あり、動作は第7図と全く同様にできる。
あり、動作は第7図と全く同様にできる。
先ず第6図の回路例で説明する。この回路を実現した平
面パターンを第1図に示す。第9図にTFT部の断面図
を示す。これらの図を用いて製作方法を説明する。
面パターンを第1図に示す。第9図にTFT部の断面図
を示す。これらの図を用いて製作方法を説明する。
ガラス基板10の上にスパッタ法でCrを1000人形
成し、ホトエツチングプロセスによりパターン化し、グ
ー1〜配線11を形成する。プラズマCVD法により、
SiN膜、非晶質シリコン(a−8i)膜、不純物(P
)を含んだa−8i膜(n+層)を各々、3500人、
2000人。
成し、ホトエツチングプロセスによりパターン化し、グ
ー1〜配線11を形成する。プラズマCVD法により、
SiN膜、非晶質シリコン(a−8i)膜、不純物(P
)を含んだa−8i膜(n+層)を各々、3500人、
2000人。
500人連続堆積し、ホトエツチングプロセスにてn+
膜、a−8i膜を島状に加工して、薄膜トランジスタ部
(T□11 T工2.Tよ、)と配線交差部Bにのみn
”a−8i膜(15)を残す。窒化シリコン膜(S i
N膜)17は端子部上コンタクトホールなどの部分を
エッチオフする。
膜、a−8i膜を島状に加工して、薄膜トランジスタ部
(T□11 T工2.Tよ、)と配線交差部Bにのみn
”a−8i膜(15)を残す。窒化シリコン膜(S i
N膜)17は端子部上コンタクトホールなどの部分を
エッチオフする。
次に、酸化インジウムCITO)をスパッタ法で100
0人堆積し、ホトエツチングプロセスにて加工し、画素
電極16を形成する。この時、各各の小画素面積S1.
B2.B3 の比は開口率が1−=2=4になっている
。この上にCrを1000人、AQを4000人スパッ
タにて堆積し、ホトエツチングプロセスにて加工し、信
号線D工□。
0人堆積し、ホトエツチングプロセスにて加工し、画素
電極16を形成する。この時、各各の小画素面積S1.
B2.B3 の比は開口率が1−=2=4になっている
。この上にCrを1000人、AQを4000人スパッ
タにて堆積し、ホトエツチングプロセスにて加工し、信
号線D工□。
(1n)
D□2.D□3、ドレイン電極18.ソース電極19を
形成する。これで薄膜トランジスタT1□、’r12゜
T□3が完成する。
形成する。これで薄膜トランジスタT1□、’r12゜
T□3が完成する。
この薄膜トランジスタのW/Lは同じである必要はなく
、画素面積S工l S21 s3 に応じて小さくする
。付加容量C&1.はゲーI・配線11と画素電極16
とが重なった部分で形成される。この重なりをなくせば
第5図の回路例になる。
、画素面積S工l S21 s3 に応じて小さくする
。付加容量C&1.はゲーI・配線11と画素電極16
とが重なった部分で形成される。この重なりをなくせば
第5図の回路例になる。
この上に保護膜としてプラズマSiN膜20を1μm形
成する。これてTPT基板が完成する。
成する。これてTPT基板が完成する。
この」二に配向膜を形成し、ラビングを施す。一方、画
素電極に対応してR,G、Bのカラーフィルタを配置し
た対向電極基板を準備し、この両基板を対向して貼合わ
せ、間に液晶を封止してパネルが完成する。小画素選択
用の薄膜トランジスタはこの小画素駆動用のトランジス
タと同時に形成する。
素電極に対応してR,G、Bのカラーフィルタを配置し
た対向電極基板を準備し、この両基板を対向して貼合わ
せ、間に液晶を封止してパネルが完成する。小画素選択
用の薄膜トランジスタはこの小画素駆動用のトランジス
タと同時に形成する。
なお、2層配線部は第1図のようにゲート配線材料11
とドレイン電極材料18とで構成する。
とドレイン電極材料18とで構成する。
以上の実施例ではゲート電極11をCrで形成したが、
AQ、でも良い。この場合、第10図に示す断面となる
。製法としては、ガラス基板10上にAflもしくはA
Qを主体とする金属をスパッタ法で2800人形成し、
ホ1−エツチングプロセスにてゲートパターンに加工し
11′を作る。これを陽極酸化し、Ap203膜を10
00〜2000人形成して、11”を形成する。陽極酸
化の場合、端子やコンタク1〜ホール部などAQ203
が不必要な部分はホトレジストでマスキングしておく。
AQ、でも良い。この場合、第10図に示す断面となる
。製法としては、ガラス基板10上にAflもしくはA
Qを主体とする金属をスパッタ法で2800人形成し、
ホ1−エツチングプロセスにてゲートパターンに加工し
11′を作る。これを陽極酸化し、Ap203膜を10
00〜2000人形成して、11”を形成する。陽極酸
化の場合、端子やコンタク1〜ホール部などAQ203
が不必要な部分はホトレジストでマスキングしておく。
第11図にやはり第5図の回路例を実現する別のパター
ンを示した。記号も製法も前述の例と同じであり省略す
る。
ンを示した。記号も製法も前述の例と同じであり省略す
る。
第12図には第8図の回路例を実現した平面パターンを
示した。この場合も、記号、製法とも前述の通りであり
省略する。
示した。この場合も、記号、製法とも前述の通りであり
省略する。
本発明によれば液晶分子の傾斜配列を利用することなし
に階調表示ができるので、明るさの均一性の改善、視野
角特性の改善に効果がある。
に階調表示ができるので、明るさの均一性の改善、視野
角特性の改善に効果がある。
第1図は本発明の実施例を示す液晶表示パネルの平面図
、第2図は液晶表示素子の説明図、第3図は液晶表示素
子の光透過特性図、第4図は本発明の画素構成を示す平
面図、第5図乃至第8図は本発明の表示パネルの等何回
路を示す図、第9図。 第10図は薄膜トランジスタの断面図、第11図。 第12図は本発明の他の実施例になる液晶表示パネルの
平面図である。 TT11 T12. T、3・・・小画素駆動用トラン
ジスタ、G工、G2・・・グー1〜配線、DT1.D□
2.D13・・・信号線、S□+ Sol S3 ・・
・小画素表示領域、B・・・配線交差部、11−・ゲー
h (Cr) 、15−a−8i膜、16・・・透明電
極(iTO) 、18.19・・・ドレイン、ソース電
極(Cr / A Q ) 、 Caaa・・・付加容
量部。
、第2図は液晶表示素子の説明図、第3図は液晶表示素
子の光透過特性図、第4図は本発明の画素構成を示す平
面図、第5図乃至第8図は本発明の表示パネルの等何回
路を示す図、第9図。 第10図は薄膜トランジスタの断面図、第11図。 第12図は本発明の他の実施例になる液晶表示パネルの
平面図である。 TT11 T12. T、3・・・小画素駆動用トラン
ジスタ、G工、G2・・・グー1〜配線、DT1.D□
2.D13・・・信号線、S□+ Sol S3 ・・
・小画素表示領域、B・・・配線交差部、11−・ゲー
h (Cr) 、15−a−8i膜、16・・・透明電
極(iTO) 、18.19・・・ドレイン、ソース電
極(Cr / A Q ) 、 Caaa・・・付加容
量部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、マトリクス状に画素を配列した液晶表示パネルにお
いて、各画素を各々の面積が整数倍の関係になるように
複数の小画素に分割し、この小画素の点灯状態を組合わ
せることにより中間調を表示せしめることを特徴とする
液晶表示パネル。 2、前記画素を面積比が1:2:4の関係にある3つの
小画素に分割することにより各々の画素が8階段の明る
さを表示できるようにした請求項第1項記載の液晶表示
パネル。 3、複数のゲート線を上記ゲート線に交叉するように形
成された複数の信号線と、上記ゲート線と信号線との交
点に接続された薄膜トランジスタとこれに上記トランジ
スタに接続された画素電極を少なくとも有する液晶表示
パネルであって、前記画素電極を各々の面積が整数倍の
関係になるように複数の小画素電極に分割し、この小画
素電極の点灯状態を組合わせることにより中間調を表示
せしめることを特徴とする液晶表示パネル。 4、前記画素電極を面積比が1:2:4の3つの小画素
電極に分割することにより各々の画素が8段階の明るさ
を表示できるようにした請求項第3項記載の液晶表示パ
ネル。 5、ひとつの画素電極を構成する前記小画素電極を駆動
する薄膜トランジスタのゲート電極が共通のゲート配線
に接続され、ドレイン電極が互いに分離された信号線に
接続されていることを特徴とする請求項第3項、第4項
記載の液晶表示パネル。 6、前記信号線と信号端子との間に小画素選択用の薄膜
トランジスタを介在させていることを特徴とする請求項
第5項記載の液晶表示パネル。 7、ひとつの画素電極を構成する前記小画素電極を駆動
する薄膜トランジスタの信号電極が共通の信号線に接続
され、ゲート電極が互いに分離しているゲート配線に接
続されていることを特徴とする請求項第3項、第4項記
載の液晶表示パネル。 8、前記ゲート配線とゲート端子との間に小画素選沢用
の薄膜トランジスタを介在させていることを特徴とする
請求項第7項記載の液晶表示パネル。 9、対向基板上に配列するカラーフィルタを赤、緑、青
の3色の組合わせ配列とし、512色の色を表示せしめ
る請求項第2項、第4項記載の液晶表示パネル。 10、対向基板上に配列するカラーフィルタを赤、緑、
青、白の4色の組合わせ配列とし、4096色を表示せ
しめる請求項第2項、第4項記載の液晶表示パネル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2218899A JPH04102830A (ja) | 1990-08-22 | 1990-08-22 | 多色液晶表示パネル |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2218899A JPH04102830A (ja) | 1990-08-22 | 1990-08-22 | 多色液晶表示パネル |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04102830A true JPH04102830A (ja) | 1992-04-03 |
Family
ID=16727057
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2218899A Pending JPH04102830A (ja) | 1990-08-22 | 1990-08-22 | 多色液晶表示パネル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04102830A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07191634A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-28 | Nec Corp | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
JP2002504717A (ja) * | 1998-02-18 | 2002-02-12 | ケンブリッジ ディスプレイ テクノロジー リミテッド | エレクトロルミネッセントデバイス |
JP2006209135A (ja) * | 2005-01-26 | 2006-08-10 | Samsung Electronics Co Ltd | 液晶表示装置 |
JP2009258710A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-11-05 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 表示装置及び当該表示装置の作製方法 |
-
1990
- 1990-08-22 JP JP2218899A patent/JPH04102830A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07191634A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-28 | Nec Corp | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
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JP2012118565A (ja) * | 2005-01-26 | 2012-06-21 | Samsung Electronics Co Ltd | 液晶表示装置 |
US8941789B2 (en) | 2005-01-26 | 2015-01-27 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display |
US9618803B2 (en) | 2005-01-26 | 2017-04-11 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display |
JP2009258710A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-11-05 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 表示装置及び当該表示装置の作製方法 |
US8441021B2 (en) | 2008-03-28 | 2013-05-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and manufacturing method thereof |
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