JPH0399207A - 実装基板検査装置 - Google Patents

実装基板検査装置

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JPH0399207A
JPH0399207A JP1236158A JP23615889A JPH0399207A JP H0399207 A JPH0399207 A JP H0399207A JP 1236158 A JP1236158 A JP 1236158A JP 23615889 A JP23615889 A JP 23615889A JP H0399207 A JPH0399207 A JP H0399207A
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Yuji Maruyama
祐二 丸山
Kazutoshi Iketani
池谷 和俊
Yukifumi Tsuda
津田 幸文
Kunio Sannomiya
三宮 邦夫
Takumi Sekito
脊戸 卓美
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、プリント基板上に実装された部品の位置ずれ
等の実装不良を検査する実装基板検査装置に関するもの
である。
従来の技術 従来、プリント基板上に実装された部品の位置ずれ、欠
品や浮き等の不良の検査は人間による目視検査に頼って
いた。ところが、製品の小型化や軽量化が進むにつれ、
プリント基板上の部品の小型化や高密度実装化もより一
層進んでいる。このような状況の中で、人間が高い検査
精度を保ちつつ非常に細かな部品の実装状態を、しかも
長時間続けることが難しくなってきている。
そこで最近、検査の自動化が強く望まれている中で、ビ
デオカメラからの濃淡画像から部品の位置ズレ等を検査
する装置が提案されている。
?デオカメラで部品を撮像して、二次元的な情報を用い
ているために、例えば部品が半田付け不良等の原因で全
体的に浮き上がって実装されていたり、ICの足が部分
的に浮き上がっているような不良は検出できないという
ことがあり、三次元的データを測定し部品の位置ずれや
浮きを検査する方法が提案されている。
第4図falは、そのような従来例を示す実装基板検査
装置のブロック図である。第4図(a)において401
はプリン1基板、402はプリント基板401上に実装
されている部品、403はプリント基板401を移動さ
せる搬送手段、404はその移動方向を示す矢印である
。405はレーザ光源、406はレーザ光源405から
のレーザ光、407はポリゴンミラ−408はレーザ光
をポリゴン■ラー407に導く反射鏡、409はrθレ
ンズ、410は反射ミラーである。
411は集光レンズ、412は位置検出素子、413は
位置検出素子412からの位置信号、414はその位置
信号413から部品の高さデータに変換演算をする画像
演算処理手段、415はプリント基板401上の部品4
02の実装状態の良否を判定する判定処理演算手段であ
る。
以下にその動作を説明する。
部品402が実装されているプリント基板401を搬送
千段403により移動方向404の方向に移動させつつ
、レーザ光源405からのレーザ光406を反射鏡40
8を3個用いて、回転しているポリゴンミラ−407に
導き、ポリゴンミラ−407とfθレンズ409により
レーザ光406をプリント基板401上に垂直に照射す
る。これにより、プリント基板401上にレーザ光40
6を二次元的に全面走査する。
レーザ光406の走査によりプリント基板401上から
反射してくる散乱光を、検査対象物であるプリント基板
401とrθレンズ409との間に設けた反射ミラー4
10で反射させ、fθレンズ409とポリゴンミラ−4
07を介して、さらに集光レンズ411を通して位置検
出素子412に集光する。位置検出素子412からの位
置信号413は、画像演算処理千段414に入力される
画像演算処理手段414では、同期信号のタイミングで
入力された位置信号413をプリント基板401および
プリント基板401上に実装された部品402の高さデ
ータに変換し、実測高さデータとして判定処理手段41
5へ出力する。判定処理千段415では、画像演算処理
手段414で演算された実測高さデータとあらかじめ定
めておいた基準高さデータとを比較し、プリント基板4
01上の部品402の実装状態を判定するものである。
以上の動作を繰り返し、順次行うことによりプリント基
板401上全面について検査することができる。なお、
この一連の動作は、適当な信号により同期して行う必要
がある。
三次元データを用いることにより、ビデオカメラのよう
な二次元的な濃淡画像からでは、検出できない部品の浮
きやICの足が部分的に浮き上がっているような不良が
検出できる点では最良の方法である。
発明が解決しようとする課題 しかし、測距法で高さデータを得ようとした場合、第4
図(blで示すように、部品の陰になりレーザの散乱光
が受光素子であるポジション センシティブ デテクタ
(Position Sensitive Detec
tor) pSD#Iに戻らないことが指摘されている
。この対策として、レーザの走査方向に対して対称位置
に反射ミラー、集光レンズおよび受光素子であるPSD
#1,$2を2組設け、それぞれの高さデータの平均値
を実測高さデータとすることも考えられている。
以上のように、部品の陰の影響や正反射光により高さデ
ータが正しく測定されないことがある。
よって、2つの高さデータの平均値だけでは、十分とは
言えない。
本発明は以上のような従来技術の課題に鑑みてなされた
もので、高精度の高さデータが得られ、信頼性の高い検
査を可能とし、人間の目視検査に頼ることなく、また二
次元的な位置情報では検査できなかった三次元的な部品
浮き等の不良を検査でき、検査の自動化が推進できる実
装基板検査装置を提供するものである。
課題を解決するための手段 上記課題を解決するため本発明の技術的解決手段は、部
品が実装されたプリント基板を移動させる搬送手段と、
レーザ光源からのレーザ光をポリゴンミラーとrθレン
ズにより前記プリント基板上を走査するレーザ光走査手
段と、前記レーザ光の走査により前記プリント基板上か
ら反射して得られる散乱光を、前記プリント基板と前記
fθレンズの間にレーザの走査面に対称な位置に設けた
反射ミラーで反射させ、前記fθレンズとポリゴンミラ
ーを介して反射させる散乱光反射手段と、前記散乱光反
射手段からの散乱光を導く前記対称の位置にそれぞれに
集光レンズおよび位置検出素子を設け、前記散乱光を位
置検出素子に集光し光電流信号11およびI2をそれぞ
れ出力する光量検出手段と、前記光量検出手段からのそ
れぞれの光電流信号11および12から輝度データL1
およびL2と前記プリント基板およびプリント基板上に
実装された部品の高さデータP1およびP2を演算する
画像演算手段と、前記画像演算手段からの輝度データL
1およびL2と高さデータP1およびP2より、IPI
−P2  ≦ΔP(ΔP:任意に設定した高さ差異閾値
)の場合は(P1十P2)/2の平均高さデータを選択
し、IPIP21〉ΔPの場合は、 L M AX > L 1 > L M INかつLl
>L2の場合は|P1を、またL M AX > L 
2 > L M INかつL 2>L1の場合はP2を
、またL 1 < L MINかつL2<LMINの場
合はOを、またL 1 > L MAXかつL2>LM
AXの場合はOを (但し、LMAX:高輝度閾値レベル、LMIN:低輝
度閾値レベル) 選択し高さデータを出力する統合演算手段と、前記統合
演算手段で演算された高さデータと予め定めた基準高さ
データとを比較し、前記プリント基板上の部品の実装状
態の良否を判定処理手段とから構成したものである。
作用 本発明は、部品が実装されたプリント基板をレーザ光で
全面走査し、プリント基板から反射して得られる散乱光
をレーザの走査方向に対称な位置に設けた2組の反射ミ
ラーおよび位置検出手段を用いて反射ミラーで位置検出
手段に導き、プリント基板上の高さの凹凸に従って変化
する位置検出素子上の散乱光の集光位置を光電流信号で
検出し、それぞれ光電流信号11および12を加算し輝
度データLL,L2とし、それぞれの11および12か
ら画像演算処理手段によりプリント基板上に実装された
部品の高さデータPI,P2を演算する。統合演算手段
では、高さデータの差異の大小により高さデータが正し
いかどうかを判断し、高さデータの差異が小さい場合は
P1とP2の平均高さデータを採用する。また、高さデ
ータの差異が大きい場合は、輝度データL1およびL2
から|P1,P2またはOデータのいずれかを選択し、
実測高さデータとする。実測した高さデータと基準高さ
データを比較することにより、プリント基板上の二次元
的(平面的)な位置ずれの検査に加え、三次元的な部品
の浮き等の不良も簡便で高精度に検査できるものである
実施例 以下、第1図を参照しながら本発明の一実施例について
説明する。
第1図は、本発明の実装基板検査装置の一実施例を示す
ブロック結線図である。第1図において101はプリン
ト基板、102はプリント基板101上に実装されてい
る部品、103はプリント基板101を移動させる搬送
手段、104はその移動方向を示す矢印である。105
はレーザ光源、106はレーザ光源105からのレーザ
光、107はポリゴンミラ−108 a 〜108 C
はレーザ光をポリゴンミラ−107に導く反射鏡、10
9はfθレンズである。110,111は反射ミラー 
112,  113は集光レンズ、114,  115
は位置検出素子、116,  117はその位置検出素
子114,  115からの位置信号で、レーザの走査
方向に対して対称に2組の信号を得ている。
118はその位置信号116,  117である11お
よび12から輝度データLl,L2および高さデータP
I,P2に変換演算をする画像演算処理手段、119は
画像演算手段118からの輝度データLl,L2および
高さデータPI,P2から正しい高さ?ータを演算する
統合演算手段、120は統合演算千段119からの高さ
データを用いてプリント基板101上の部品102の実
装状態の良否を判定する判定演算手段である。
以下に、その動作を説明する。
部品102が実装されているプリント基板101を搬送
手段103により移動方向104の方向に移動させつつ
、レーザ光源105からのレーザ光106を反射鏡10
8を3個用いて、回転しているポリゴンミラ−107に
導き、ポリゴンミラ−107とfθレンズ109により
レーザ光106をプリント基板101上に垂直に照射す
る。これにより、プリント基板101上にレーザ光10
6を二次元的に全面走査する。
レーザ光106の走査によりプリント基板101上から
反射してくる散乱光を、検査対象物であるプリント基板
101とfθレンズ109との間に設けた反射■ラー1
10,  111でそれぞれ反射させ、fθレンズ10
9とポリゴンミラ−107を介して、さらに集光レンズ
112,  113を通して、位置検出素子114, 
 115上に集光する。位置検出素子114 , 11
5からの位置信号116,  117は、画像演算処理
手段118へ出力される。
なお、上記実施例では、位置検出素子としてPSp (
Position Sensitive Detect
or :半導体位置検出素子)を用いており、PSDに
入射する入射位置は、素子の両端電極に流れる電流が各
電極間との距離に反比例するものを用いている。
次に、画像演算処理手段118では、それぞれの位置信
号116,  117である11およびI2よりプリン
ト基板101およびプリント基板101上に実装された
部品102の高さデータ|P1,P2および輝度データ
LL,L2に変換する演算を行い、高さデータおよび輝
度データを統合演算手段119に出力する。
統合演算千段119では、高さデータの差異の大小によ
り高さデータが正しいかどうかを判断し、高さデータの
差異が小さい場合はP1とP2の平均高さデータを採用
する。また、高さデータの差異が大きい場合は、輝度デ
ータL1およびL2から|P1,P2または0データの
いずれかを選択し、実測高さデータとし判定演算千段1
20に出力する。
判定演算手段120では、統合演算119で演算された
実測高さデータとあらかじめ定めておいた基準高さデー
タとを比較し、プリント基板101上の部品102の実
装状態を判定するものである。
以上の動作を繰り返し、順次行うことによりプリント基
板101上全面について検査することができる。この一
連の動作は、適当な信号により同期して行う必要がある
が、本実施例の場合ポリゴンミラ−107の回転に合わ
せた同期信号を用いて同期を取った。
次に、画像演算処理手段118および統合演算千段11
9について、第2図および第3図を用いてさらに詳しく
説明する。
画像演算処理手段118は、位置信号116,  11
7である11および12をA/Dコンパータ201〜2
04でそれぞれデジタル信号に変換し、11とI2を加
算回路205,  206で加算して輝度データ(Ll
)207および輝度データ(L2)208を得る。
高さ演算回路209,  210では、11および輝度
データ(11+I2)より第(1)式を用いて高さデー
タ(Pi)211および高さデータ(p2)212をそ
れぞれ演算する。なお、Kは、正規化するための係数で
ある。
高さデータ=K− I 1/ (I 1+I 2)・・
・・・・(1)そして、統合演算千段119は、画像演
算処理手段118からの輝度データLl,L2および高
さデータPi,P2より、高さデータの差異の大小によ
り高さデータが正しいかどうかを判断し、高さデータの
差異が小さい場合はP1とP2の平均高さデータを採用
する。また、高さデータの差異が大きい場合は、輝度デ
ータL1およびL2からP1,P2またはOデータのい
ずれかを選択し、実測高さデータPとする。
判定演算手段120では、統合演算千段119からの実
測高さデータPと基準高さデータ格納メモリ214から
の基準高さデータとを比較回路213で比較しその差分
な比較データとして判定回路215に出力する。判定回
路215では、比較回路213からの比較データを基に
その差分の大小によって部品の実装状態を判定するもの
である。
次に、統合演算手段119についてさらに詳しく第3図
(alを用いて説明する。
第3図(alは、統合演算手段119のブロック構成図
を示す。306は高さデータP1およびP2の平均演算
回路、307は高さデータP1およびP2の差異演算回
路、308〜310は輝度データL1およびL2を比較
する比較回路、311は差異演算回路および比較回路か
らの信号によりどの高さデータを選択するかを決める判
定テーブルROM,  305は高さデータPI,P2
、高さ平均およびOデータを選択する選択回路である。
画像演算処理手段118から、輝度データLl,L2お
よび高さデータPi,P2を入力し、高さデータP1お
よびP2は選択回路305に接続され、平均演算回路3
05に接続され、平均演算回路306で平均演算され選
択回路305に接続される。さらに、選択回路305に
は、0データが接続されている。
差異演算回路307は、高さデータP1とP2の差異を
演算し、高さの差異閾値ΔPと比較され、PI−P2|
≦ΔPの場合は“1# |P1−P2|>ΔPの場合は″′0”を判定テーブル
ROManに出力する。
輝度データLl,L2は、比較回路308,  309
により、 L MAX > L 1 > L MINの場合は″1
”L MAX > L 2 > L MINの場合は“
1#とし、その範囲外なら“0#とする。さらに、比較
回路310により、 Ll>L2  の場合は@1” L1≦L2 の場合は″′0” とし、判定テーブルROM311に出力する。
判定テーブルROM311は、下表に示すような判定テ
ーブルとなっている。
以下余白 高さデータPI,P2の差異が高さ差異閾値ΔPより小
さい場合は、無条件に高さの平均値を実測高さデータP
として選択する。高さデータP1,P2の差異が高さ差
異閾値ΔPより大きい場合は、P1あるいはP2の高さ
データが正反射または部品の陰の影響等により正しくな
い場合であり、P1,P2またはOデータのどれを選択
するかを判定テーブルROM311に従って選択するも
のである。
発明の効果 以上述べてきたように本発明の効果としては、プリント
基板上の部品の高さデータを測定し、基準高さデータと
比較し部品の実装状態を判定する際に、金属面など正反
射光や部品の陰により高さデータが正しく測定されない
ことがある。このために、2組の受光系を設け、それぞ
れの高さデータおよび輝度データを用いて、高さデータ
の差異の大小により高さデータが正しいかどうかを判断
し、高さデータの差異が小さい場合はP1とP2の平均
高さデータを採用する。また、高さデータの差異が大き
い場合は、輝度データL1およびL2から|P1,P2
または0データのいずれかを選択し、実測高さデータP
とする。これにより高精度の高さデータが得られ、信頼
性の高い検査を可能とし、人間の目視検査に頼ることな
く、また二次元的な位置情報では検査できなかった三次
元的な部品浮き等の不良を検査できるようになり、検査
の自動化が推進でき、その効果は大きい。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例における基板検査装置のブロ
ック結線図、第2図,第3図は同要部の詳細ブロック結
線図、第4図(al, (blは従来の基板検査装置の
ブロック結線図である。 101・・・プリント基板、102・・・部品、103
・・・搬送手段、105・・・レーザ光源、107・・
・ポリゴンミラー109・・・fθレンズ、110・・
・反射ミラー 111・・・集光レンズ、112・・・
位置検出素子、118・・・画像演算処理手段、119
・・・統合演算手段、120・・・判定演算手段。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  部品が実装されたプリント基板を移動させる搬送手段
    と、 レーザ光源からのレーザ光をポリゴンミラーとfθレン
    ズにより前記プリント基板上に走査させるレーザ光走査
    手段と、 前記レーザ光の走査により前記プリント基板上から反射
    して得られる散乱光を、前記プリント基板と前記fθレ
    ンズの間にレーザの走査面に対称な位置に設けた反射ミ
    ラーで反射させ、前記fθレンズとポリゴンミラーを介
    して反射させる散乱光反射手段と、 前記散乱光反射手段からの散乱光を導く前記対称の位置
    にそれぞれに集光レンズおよび位置検出素子を設け、前
    記散乱光を位置検出素子に集光し光電流信号11および
    12をそれぞれ出力する光量検出手段と、 前記光量検出手段からのそれぞれの光電流信号11およ
    び12から輝度データK1およびL2と前記プリント基
    板およびプリント基板上に実装された部品の高さデータ
    P1およびP2を演算する画像演算手段と、 前記画像演算手段からの輝度データL1およびL2と高
    さデータP1およびP2より、|P1−P2|≦ΔP(
    ΔP:任意に設定した高さ差異閾値)の場合は(P1+
    P2)/2の平均高さデータを選択し、|PI−P2|
    >ΔPの場合は、L_M_A_X>L1>L_M_I_
    NかつL1>L2の場合はP1を、 L_M_A_X>L2>L_M_I_NかつL2>L1
    の場合はP2を、 L1>L_M_I_NかつL2<L_M_I_Nの場合
    は0を、L1>L_M_A_XかつL2>L_M_A_
    Xの場合は0を(但し、L_M_A_X:高輝度閾値レ
    ベル、L_M_I_N:低輝度閾値レベル) 選択し高さデータを出力する統合演算手段と、前記統合
    演算手段で演算された高さデータと予め定めた基準高さ
    データとを比較し、前記プリント基板上の部品の実装状
    態の良否を判定する判定処理手段と具備する実装基板検
    査装置。
JP1236158A 1989-09-12 1989-09-12 実装基板検査装置 Expired - Lifetime JPH0749930B2 (ja)

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JP1236158A JPH0749930B2 (ja) 1989-09-12 1989-09-12 実装基板検査装置
EP90117499A EP0417736B1 (en) 1989-09-12 1990-09-11 System for optically inspecting conditions of parts packaged on substrate
DE69014505T DE69014505T2 (de) 1989-09-12 1990-09-11 System zur optischen Inspektion von Bedingungen von Teilen, die auf einem Substrat angebracht sind.
US07/580,547 US5200799A (en) 1989-09-12 1990-09-11 System for optically inspecting conditions of parts packaged on substrate

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005103609A1 (ja) * 2004-03-31 2005-11-03 Ihi Aerospace Engineering Co. Ltd. 三次元形状測定装置及び三次元形状測定方法
JP2006133049A (ja) * 2004-11-05 2006-05-25 Sick Optex Kk 高さ形状センサ
JP2008180646A (ja) * 2007-01-25 2008-08-07 Pulstec Industrial Co Ltd 形状測定装置および形状測定方法
JP2008309532A (ja) * 2007-06-13 2008-12-25 Lasertec Corp 3次元測定装置及び検査装置
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