JPH0395162A - ピラゾール誘導体、その製造方法及び該誘導体を含有する除草剤 - Google Patents
ピラゾール誘導体、その製造方法及び該誘導体を含有する除草剤Info
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Landscapes
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ピラゾール誘導体、その製造方法及び該誘導
体を含有する除草剤に関する。
体を含有する除草剤に関する。
従来の技術
従来、1−フエニルピラゾール誘導体の中で除草活性を
有するある種の化合物は、既に公知である。例えば特開
昭62−77369号公報には、一般式 Y で表わされるピラゾール誘導体が除草活性を有している
ことが開示されている。しかしながら、上記公報に記載
のピラゾール誘導体のR1基にはヒドロキシ基又はアル
コキシ基が含まれておらず、そのためピラゾール環の4
位がヒドロキシ基又はアルコキシ基である化合物は全く
開示されていない。更に上記公報記載のピラゾール誘導
体の除草活性は、効力面及び選択性面において充分に満
足できるものとは言い難いものである。
有するある種の化合物は、既に公知である。例えば特開
昭62−77369号公報には、一般式 Y で表わされるピラゾール誘導体が除草活性を有している
ことが開示されている。しかしながら、上記公報に記載
のピラゾール誘導体のR1基にはヒドロキシ基又はアル
コキシ基が含まれておらず、そのためピラゾール環の4
位がヒドロキシ基又はアルコキシ基である化合物は全く
開示されていない。更に上記公報記載のピラゾール誘導
体の除草活性は、効力面及び選択性面において充分に満
足できるものとは言い難いものである。
一方、ピラゾール環の4位がヒドロキシ基で置換された
4−ヒドロキシ−1−フエニルピラゾール誘導体は一部
公知であり、例えば該化合物の製造方法が特開昭60−
155160号公報やAnn..313.13 (19
00)等に記載されている。これらの誘導体を中間原料
として農業用薬剤へ導く試みとしては、例えば4位のヒ
ドロキシ基をリン酸化し、有機リン系殺虫剤にすること
により実用化されている。しかしながら、該誘導体のハ
ロゲン化は全く行なわれておらず、更に除草活性を有す
る化合物への誘導も一切行なわれていない。
4−ヒドロキシ−1−フエニルピラゾール誘導体は一部
公知であり、例えば該化合物の製造方法が特開昭60−
155160号公報やAnn..313.13 (19
00)等に記載されている。これらの誘導体を中間原料
として農業用薬剤へ導く試みとしては、例えば4位のヒ
ドロキシ基をリン酸化し、有機リン系殺虫剤にすること
により実用化されている。しかしながら、該誘導体のハ
ロゲン化は全く行なわれておらず、更に除草活性を有す
る化合物への誘導も一切行なわれていない。
発明の開示
本発明は、新規なピラゾール誘導体、その製造方法及び
除草剤を提供するものである。即ち、本発明は、4−ア
ルコキシ(ヒドロキシ)−1−フエニルピラゾール誘導
体のハロゲン化方法及びハロゲン化された化合物が予期
し得ない優れた除草活性を発現することを見い出し、こ
こに本発明が完成されるに至ったものである。
除草剤を提供するものである。即ち、本発明は、4−ア
ルコキシ(ヒドロキシ)−1−フエニルピラゾール誘導
体のハロゲン化方法及びハロゲン化された化合物が予期
し得ない優れた除草活性を発現することを見い出し、こ
こに本発明が完成されるに至ったものである。
本発明のピラゾール誘導体は、下記一般式(1)で表わ
される。
される。
Ar
[式中R!は水素原子、低級アルキル基、低級アルケニ
ル基、低級アルキニル基、フエニル低級アルキル基又は
基一CH (R3 )COOR4を示す。ここでR3及
びR4は、同一又は異なって、水素原子又は低級アルキ
ル基を示す。R2は水素原子、ハロゲン原子、低級アル
キル基、低級アルコキシ低級アルキル基、フェノキシ低
級アルキル基を示す。Xはハロゲン原子を示す。
ル基、低級アルキニル基、フエニル低級アルキル基又は
基一CH (R3 )COOR4を示す。ここでR3及
びR4は、同一又は異なって、水素原子又は低級アルキ
ル基を示す。R2は水素原子、ハロゲン原子、低級アル
キル基、低級アルコキシ低級アルキル基、フェノキシ低
級アルキル基を示す。Xはハロゲン原子を示す。
Y2は、それぞれハロゲン原子、R5は低級アルキル基
又は低級アルキニル基を示す。]上記一般式(1)にお
いて示される各基は、次の通りである。
又は低級アルキニル基を示す。]上記一般式(1)にお
いて示される各基は、次の通りである。
低級アルキル基としては、例えばメチル、エチル、n−
プロビル、イソプロビル、n−ブチル、イソブチル、s
ec−ブチル等の炭素数1〜4のアルキル基を挙げるこ
とができる。
プロビル、イソプロビル、n−ブチル、イソブチル、s
ec−ブチル等の炭素数1〜4のアルキル基を挙げるこ
とができる。
低級アルケニル基としては、例えばビニル、プロペニル
、ブテニル基等の炭素数2〜4のアルケニル基を挙げる
ことができる。
、ブテニル基等の炭素数2〜4のアルケニル基を挙げる
ことができる。
低級アルキニル基としては、例えばエチニル、プロパル
ギル、ブチニル基等の炭素数2〜4のアルキニル基を挙
げることができる。
ギル、ブチニル基等の炭素数2〜4のアルキニル基を挙
げることができる。
フエニル低級アルキル基としては、例えばベンジル、フ
エネチル、フエニルプロビル基等のフエニル基が置換し
た炭素数1〜4のアルキル基を挙げることができる。
エネチル、フエニルプロビル基等のフエニル基が置換し
た炭素数1〜4のアルキル基を挙げることができる。
低級アルコキシ低級アルキル基としては、例えばメトキ
シメチル、エトキシメチル、n−プロピルオキシメチル
、n−ブトキシメチル、メトキシエチル、メトキシプ口
ピル、エトキシエチル、n一ブトキシエチル基等の炭素
数t〜4のアルコキシ基で置換された炭素数1〜4のア
ルキル基を挙げることができる。
シメチル、エトキシメチル、n−プロピルオキシメチル
、n−ブトキシメチル、メトキシエチル、メトキシプ口
ピル、エトキシエチル、n一ブトキシエチル基等の炭素
数t〜4のアルコキシ基で置換された炭素数1〜4のア
ルキル基を挙げることができる。
フエノキシ低級アルキル基としては、例えばフエノキシ
メチル、フエノキシエチル、フエノキシプロビル基等の
フエノキシ基が置換した炭素数1〜4のアルキル基を挙
げることができる。
メチル、フエノキシエチル、フエノキシプロビル基等の
フエノキシ基が置換した炭素数1〜4のアルキル基を挙
げることができる。
ハロゲン原子としては、例えば弗素原子、塩素原子、臭
素原子、沃素原子等を挙げることができる。
素原子、沃素原子等を挙げることができる。
本発明の化合物は、例えば下記反応式−1に示す方法に
従い容易に製造され得る。
従い容易に製造され得る。
[反応式−1]
A r (3) A
r(2) (1)
[式中R1、R2、Ar及びXは前記に同じ。nは1又
は2を示す。] 一般式(2)のピラゾール誘導体と一般式(3)のハロ
ゲン化剤との反応は、無溶媒下又は適当な溶媒中で行な
われる。用いられる溶媒としては、例えばジクロロメタ
ン、クロロホルム、ジクロロエタン、四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素類、、ジエチルエーテル、ジイソプロ
ビルエーテル、ジブチルエーテル、ジオキサン等のエー
テル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼ
ン等の芳香族炭化水素類等を挙げることができる。ハ.
ロゲン化剤(3)は溶媒として兼用することができる。
r(2) (1)
[式中R1、R2、Ar及びXは前記に同じ。nは1又
は2を示す。] 一般式(2)のピラゾール誘導体と一般式(3)のハロ
ゲン化剤との反応は、無溶媒下又は適当な溶媒中で行な
われる。用いられる溶媒としては、例えばジクロロメタ
ン、クロロホルム、ジクロロエタン、四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素類、、ジエチルエーテル、ジイソプロ
ビルエーテル、ジブチルエーテル、ジオキサン等のエー
テル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼ
ン等の芳香族炭化水素類等を挙げることができる。ハ.
ロゲン化剤(3)は溶媒として兼用することができる。
ピラゾール誘導体(2)とハロゲン化剤(3)との配合
割合としては、ハロゲン化剤(3)は溶媒として兼用す
る場合には、ハロゲン化剤(3)をピラゾール誘導体(
2)に対して通常大過剰量とするのがよいが、上記溶媒
中で反応を行なう場合には、通常ピラゾール誘導体(2
)に対してハロゲン化剤(3)を少なくとも1.5倍モ
ル量程度、好ましくは1.5〜5倍モル量程度用いるの
がよい。上記反応は、室温下、冷却下及び加温下のいず
れでも行なわれ得るが、通常はO〜100℃程度で該反
応が好適に進行し、一般に1〜5時間程度で該反応は完
結する。
割合としては、ハロゲン化剤(3)は溶媒として兼用す
る場合には、ハロゲン化剤(3)をピラゾール誘導体(
2)に対して通常大過剰量とするのがよいが、上記溶媒
中で反応を行なう場合には、通常ピラゾール誘導体(2
)に対してハロゲン化剤(3)を少なくとも1.5倍モ
ル量程度、好ましくは1.5〜5倍モル量程度用いるの
がよい。上記反応は、室温下、冷却下及び加温下のいず
れでも行なわれ得るが、通常はO〜100℃程度で該反
応が好適に進行し、一般に1〜5時間程度で該反応は完
結する。
出発原料として用いられるピラゾール誘導体(2)は、
一部に新規化合物を包含している。その合成方法を下記
反応式−2で示す。
一部に新規化合物を包含している。その合成方法を下記
反応式−2で示す。
[反応式−2]
(2c)
(2d)
[式中R1及びArは前記に同じ。R6は低級アルキル
基又はフェニル基を示す。XIはハロゲン原子を示す。
基又はフェニル基を示す。XIはハロゲン原子を示す。
]
上記反応式−2において、一般式(2a)の化合物及び
一般式(4)の化合物は、公知の方法により製造される
。例えば一般式(2a)の化合物は、特開昭60−15
5160号公報に記載の方法に従って、また一般式(4
)の化合物は、Ann.,313.13 (1900)
に記載の方法に従って、それぞれ製造される。
一般式(4)の化合物は、公知の方法により製造される
。例えば一般式(2a)の化合物は、特開昭60−15
5160号公報に記載の方法に従って、また一般式(4
)の化合物は、Ann.,313.13 (1900)
に記載の方法に従って、それぞれ製造される。
一般式(2b)の化合物及び一般式(5)の化合物は、
通常のフェノール性O H基のアルキル化方法、即ち有
機溶媒中、塩基剤の存在下に原料化合物である一般式(
2a)の化合物及び一般式(4)の化合物をハロゲン化
アルキル(RI XI )でアルキル化することにより
容易に製造される。
通常のフェノール性O H基のアルキル化方法、即ち有
機溶媒中、塩基剤の存在下に原料化合物である一般式(
2a)の化合物及び一般式(4)の化合物をハロゲン化
アルキル(RI XI )でアルキル化することにより
容易に製造される。
一般式(5)の化合物から一般式(6)の化合物を得る
反応は、常法に従い水素化リチウムアルミニウムを用い
てピラゾール環の3位のカルボキシル基をヒドロキシメ
チル基へ還元した後、臭化チオニルで臭素化することに
より行なわれる。
反応は、常法に従い水素化リチウムアルミニウムを用い
てピラゾール環の3位のカルボキシル基をヒドロキシメ
チル基へ還元した後、臭化チオニルで臭素化することに
より行なわれる。
一般式(2c)の化合物は、上記で得られる一般式(6
)の化合物を還元することにより製造される。この還元
には、水素化硼素ナトリウムを使用するのがよい。
)の化合物を還元することにより製造される。この還元
には、水素化硼素ナトリウムを使用するのがよい。
一般式(2d)の化合物は、一般式(6)の化合物の3
位プロモメチル基にアルコール類又はフェノール類(R
60H)を作用させることにより製造される。
位プロモメチル基にアルコール類又はフェノール類(R
60H)を作用させることにより製造される。
上記各方法で得られる化合物及び本発明の化合物は、通
常の精製方法、例えば溶媒抽出法、溶媒洗浄法、再結晶
法、カラムクロマトグラフ等の方法により反応混合物か
ら単離、精製される。
常の精製方法、例えば溶媒抽出法、溶媒洗浄法、再結晶
法、カラムクロマトグラフ等の方法により反応混合物か
ら単離、精製される。
本発明の化合物は、タカサブロウ、アオビュ、クサネム
、スズメノテッポウ、タデ、ヨモギ、オオアレチノギク
、ギジキシ、アゼナ、キカシグサ、ノビエ、メヒシバ、
オヒシバ、カヤツリグサ等の雑草に対して除草効果を示
すので、それらの雑草の生育が有害となるダイズ、トウ
モロコシ、コムギ、ワタ、果樹、水稲等の農作物の生産
や景観上有害な雑草の防除に有効である。
、スズメノテッポウ、タデ、ヨモギ、オオアレチノギク
、ギジキシ、アゼナ、キカシグサ、ノビエ、メヒシバ、
オヒシバ、カヤツリグサ等の雑草に対して除草効果を示
すので、それらの雑草の生育が有害となるダイズ、トウ
モロコシ、コムギ、ワタ、果樹、水稲等の農作物の生産
や景観上有害な雑草の防除に有効である。
本発明化合物を除草剤として施用するに当っては、本発
明化合物をそのまま用いてもよいが、一般には通常農薬
の製剤上使用される補助剤と混合して、いずれの剤型と
しても使用することができる。この際、効果の安定性及
び効果の向上を期するための補助剤としては、例えば珪
藻土、カオリン、クレー、ベントナイト、ホワイトカー
ボン、タルク等の増量剤、ポリオキシェチレンアルキル
エーテル、ポリオキシェチレンアルキルフエニルエーテ
ル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポ
リオキシエチレン脂肪酸エステル、アルキルベンゼンス
ルホン酸ナトリウム、リグニンスルホン酸ナトリウム、
アルキル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキル
硫酸ナトリウム等の非イオン系もしくは陰イオン系界面
活性剤、キシレン、アセトン、メタノール、エタノール
、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド等の有機
溶媒等が挙げられる。
明化合物をそのまま用いてもよいが、一般には通常農薬
の製剤上使用される補助剤と混合して、いずれの剤型と
しても使用することができる。この際、効果の安定性及
び効果の向上を期するための補助剤としては、例えば珪
藻土、カオリン、クレー、ベントナイト、ホワイトカー
ボン、タルク等の増量剤、ポリオキシェチレンアルキル
エーテル、ポリオキシェチレンアルキルフエニルエーテ
ル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポ
リオキシエチレン脂肪酸エステル、アルキルベンゼンス
ルホン酸ナトリウム、リグニンスルホン酸ナトリウム、
アルキル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキル
硫酸ナトリウム等の非イオン系もしくは陰イオン系界面
活性剤、キシレン、アセトン、メタノール、エタノール
、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド等の有機
溶媒等が挙げられる。
本発明の除草剤は、有効成分が約0.5〜90重量%、
好ましくは約1〜70重量%になるように補助剤を添加
することによって製剤される。施用適量は、薬剤の製剤
形態、施用方法、施用時期、対象雑草の種類、気象条件
、土壌条件等によって一概には言えず、広い範囲内から
適宜選択され得るが、一般的には有効成分量として0.
1〜100g/a程度、好ましくは0.5〜50g
/a程度が散布される。
好ましくは約1〜70重量%になるように補助剤を添加
することによって製剤される。施用適量は、薬剤の製剤
形態、施用方法、施用時期、対象雑草の種類、気象条件
、土壌条件等によって一概には言えず、広い範囲内から
適宜選択され得るが、一般的には有効成分量として0.
1〜100g/a程度、好ましくは0.5〜50g
/a程度が散布される。
実施例
以下に参考例、実施例、処方例及び試験例を掲げて本発
明をより一層明らかにする。
明をより一層明らかにする。
参考例1(一般式(2b)の化合物の合成例)1−(4
−クロロ−2−フルオロ−5−プロパルの合戊 1−(4−クロロー2−フルオロ−5−プロパルギルオ
キシフエニル)−4−ヒドロキシピラゾール8.4g
(0.0315モル)、無水炭酸カリウム13.0g
(0.095モル)、臭化エチル5.2g (0.04
7モル)及びアセトニトリルBo1lの混合物を、攪拌
下6時間加熱還流した。
−クロロ−2−フルオロ−5−プロパルの合戊 1−(4−クロロー2−フルオロ−5−プロパルギルオ
キシフエニル)−4−ヒドロキシピラゾール8.4g
(0.0315モル)、無水炭酸カリウム13.0g
(0.095モル)、臭化エチル5.2g (0.04
7モル)及びアセトニトリルBo1lの混合物を、攪拌
下6時間加熱還流した。
反応終了後、反応混合物を吸引炉過し、炉液を減圧濃縮
した。残渣に水及びクロロホルムを加えて抽出し、抽出
液を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、減圧濃縮して9.7gの茶色油状物を得た。この
粗生或物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
して、上記目的化合物6.9g(収率75%)を淡黄結
晶として得た。
した。残渣に水及びクロロホルムを加えて抽出し、抽出
液を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、減圧濃縮して9.7gの茶色油状物を得た。この
粗生或物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
して、上記目的化合物6.9g(収率75%)を淡黄結
晶として得た。
mp91〜92℃
NMR (TMS,
1. 37 (3H.
3. 92 (2H,
7. 13 (IH,
7. 53 (IH,
参考例2(一般式
CDCA’3) δppm:
t) 、2. 51 (IH,
q) 、4.71 (2H,
d) 、7.36 (IH,
d) 、7. 54 (IH.
(5)の化合物の合成例)
1−(4−クロロー2−フルオロ−5−プロバルギルオ
キシフエニル)−3−エトキシカルボニル−4−ヒドロ
キシ力ルポニルピラゾール50.8g (0.15モル
)、臭化エチル24.5g (0.225モル)、無水
炭酸カリウム62.1g (0.45モル)及びアセト
ニトリル800zIlの混合物をメカニカルスターラー
で攪拌しながら14時間加熱還流した。反応終了後、反
応混合物を熱時炉過して得た炉液を減圧濃縮して、茶色
固体を得た。この粗生戊物をアセトニトリルから再結晶
させ、上記目的化合物40.7g(収率74%)を茶色
結晶として得た。
キシフエニル)−3−エトキシカルボニル−4−ヒドロ
キシ力ルポニルピラゾール50.8g (0.15モル
)、臭化エチル24.5g (0.225モル)、無水
炭酸カリウム62.1g (0.45モル)及びアセト
ニトリル800zIlの混合物をメカニカルスターラー
で攪拌しながら14時間加熱還流した。反応終了後、反
応混合物を熱時炉過して得た炉液を減圧濃縮して、茶色
固体を得た。この粗生戊物をアセトニトリルから再結晶
させ、上記目的化合物40.7g(収率74%)を茶色
結晶として得た。
NMR (TMS,CDCl3)δppm:1.38
(3H,t) 、1.43 (:H−1,t)2.53
(IH,t) 、3.98 (2H,q)4.37
(2H.q) 、4.74 (2}r,d)7.16
(IH,d) 、7。49 (IH,d)7.57 (
IH,d) 参考例3(一般式(6)の化合物の合成例)水素化リチ
ウムアルミニウム8.3g (0.218モル)と乾燥テトラヒド口フランとから調
製した懸濁液に、冷却攪拌下、1−(4クロロー2−フ
ルオロー5−プロパルギルオキシフエニル)−4−エト
キシ−3−エトキシ力ルボニルピラゾール40.0g
(0.109モル)とテトラヒドロフラン200zA’
からなるスラリーを滴下し、室温下で更に2時間攪拌し
た。砕氷を加えた希塩酸中に反応混合物を徐々に注ぎ、
過剰分の水素化リチウムアルミニウムを分解した後、ク
ロロホルムで抽出した。クロロホルム抽出液を合わせて
、希塩酸、飽和食塩水で順次洗浄した後、乾燥、濃縮し
て淡黄結晶性固体を得た。この粗結晶をヘキサンとエー
テルの混合溶媒(1 : 1)で洗浄して、1−(4−
クロロ−2−フルオロー5−プロパルギルオキシフエニ
ル)−4−エトキシ−3−ヒドロキシメチルピラゾール
31.5g(収率89%)をクリーム色の結晶として得
た。
(3H,t) 、1.43 (:H−1,t)2.53
(IH,t) 、3.98 (2H,q)4.37
(2H.q) 、4.74 (2}r,d)7.16
(IH,d) 、7。49 (IH,d)7.57 (
IH,d) 参考例3(一般式(6)の化合物の合成例)水素化リチ
ウムアルミニウム8.3g (0.218モル)と乾燥テトラヒド口フランとから調
製した懸濁液に、冷却攪拌下、1−(4クロロー2−フ
ルオロー5−プロパルギルオキシフエニル)−4−エト
キシ−3−エトキシ力ルボニルピラゾール40.0g
(0.109モル)とテトラヒドロフラン200zA’
からなるスラリーを滴下し、室温下で更に2時間攪拌し
た。砕氷を加えた希塩酸中に反応混合物を徐々に注ぎ、
過剰分の水素化リチウムアルミニウムを分解した後、ク
ロロホルムで抽出した。クロロホルム抽出液を合わせて
、希塩酸、飽和食塩水で順次洗浄した後、乾燥、濃縮し
て淡黄結晶性固体を得た。この粗結晶をヘキサンとエー
テルの混合溶媒(1 : 1)で洗浄して、1−(4−
クロロ−2−フルオロー5−プロパルギルオキシフエニ
ル)−4−エトキシ−3−ヒドロキシメチルピラゾール
31.5g(収率89%)をクリーム色の結晶として得
た。
得られた結晶27.0g (0.083モル)をクロロ
ホルム270zIに懸濁させ、氷水で冷却した。これに
攪拌下臭化チオニル26.8g(0。129モル)を徐
々に滴下し、室温下で更に1時間攪拌して反応を終了さ
せた。反応混合物を分液ロートに移し、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、乾燥、濃縮
して淡黄油状物を得た。この粗生成物をヘキサンとエー
テルの混合溶媒から結晶化させて、上記目的化合物29
.0g(収率90%)を淡黄結晶として得た。
ホルム270zIに懸濁させ、氷水で冷却した。これに
攪拌下臭化チオニル26.8g(0。129モル)を徐
々に滴下し、室温下で更に1時間攪拌して反応を終了さ
せた。反応混合物を分液ロートに移し、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、乾燥、濃縮
して淡黄油状物を得た。この粗生成物をヘキサンとエー
テルの混合溶媒から結晶化させて、上記目的化合物29
.0g(収率90%)を淡黄結晶として得た。
NMR (TMS,CDCA’3 )δppm:1.4
1 (3H,t) 、2.53 (1}1,t)3.
95 (2H,q) 、4.46 (2H,s)4.
72 (2H, d) 、 7.
1 3 (IH, d)7.48 (
IH,s) 、7.51 (IH,d)参考例4(一
般式(2C)の化合物の合或例)3−プロモメチル−1
−(4−クロロー2−フルオロー5−プロパルギルオキ
シフエニル)−4−エトキシピラゾール11.0g (
0.026モル)をジメチルスルホキシド1001Il
に溶解し、冷水でジメチルスルホキシドが固化しない程
度に冷却した。次いで水素化硼素ナトリウム2.0g(
0.052モル)を数回に分けて添加し、室温下で24
時間攪拌した。砕氷を入れたIN一塩酸中に反応混合物
を徐々に注ぎ、過剰分の水素化硼素ナトリウムを分解し
た後、クロロホルムで抽出した。クロロホルム層を飽和
食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、更
に減圧濃縮して淡黄油状物7.0gを得た。この粗生或
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、
上記目的化合物2.5g(収率31%)を無色結晶とし
て得た。
1 (3H,t) 、2.53 (1}1,t)3.
95 (2H,q) 、4.46 (2H,s)4.
72 (2H, d) 、 7.
1 3 (IH, d)7.48 (
IH,s) 、7.51 (IH,d)参考例4(一
般式(2C)の化合物の合或例)3−プロモメチル−1
−(4−クロロー2−フルオロー5−プロパルギルオキ
シフエニル)−4−エトキシピラゾール11.0g (
0.026モル)をジメチルスルホキシド1001Il
に溶解し、冷水でジメチルスルホキシドが固化しない程
度に冷却した。次いで水素化硼素ナトリウム2.0g(
0.052モル)を数回に分けて添加し、室温下で24
時間攪拌した。砕氷を入れたIN一塩酸中に反応混合物
を徐々に注ぎ、過剰分の水素化硼素ナトリウムを分解し
た後、クロロホルムで抽出した。クロロホルム層を飽和
食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、更
に減圧濃縮して淡黄油状物7.0gを得た。この粗生或
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、
上記目的化合物2.5g(収率31%)を無色結晶とし
て得た。
mp94〜95℃
NMR (TMS,CDCj73)δppm:1.35
(3H,t)、2.20 (3H,s)2.51 (
IH,t) 、3.84 (2H,q)4.66 (2
H,d) 、7.02 (IH,d)7. 39
(IH,s) 、7. 40 (IH, d.)
参考例5(一般式(2d)の化合物の合成例)メタノー
ル150ylと金属ナトリウム1.4g(0.058モ
ル)とから調製したナトリウムメトキシド溶液に、3−
プロモメチル−1−(4−クロロー2−フルオロー5−
プロパルギルオキシフエニル)−4−エトキシピラゾー
ル15.0g(0.039モル)及び沃化カリウム0.
5gを加え、1時間攪拌しながら加熱還流した。反応終
了後、反応物を減圧濃縮し、残渣に水及びクロロホルム
を加えて抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、
乾燥、濃縮して淡黄油状物を得た。
(3H,t)、2.20 (3H,s)2.51 (
IH,t) 、3.84 (2H,q)4.66 (2
H,d) 、7.02 (IH,d)7. 39
(IH,s) 、7. 40 (IH, d.)
参考例5(一般式(2d)の化合物の合成例)メタノー
ル150ylと金属ナトリウム1.4g(0.058モ
ル)とから調製したナトリウムメトキシド溶液に、3−
プロモメチル−1−(4−クロロー2−フルオロー5−
プロパルギルオキシフエニル)−4−エトキシピラゾー
ル15.0g(0.039モル)及び沃化カリウム0.
5gを加え、1時間攪拌しながら加熱還流した。反応終
了後、反応物を減圧濃縮し、残渣に水及びクロロホルム
を加えて抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、
乾燥、濃縮して淡黄油状物を得た。
この粗生戒物をヘキサントエーテルの混合溶媒から結晶
化させた後、吸引炉取して、上記目的化合物10.0g
(収率77%)を黄色羽毛状晶として得た。
化させた後、吸引炉取して、上記目的化合物10.0g
(収率77%)を黄色羽毛状晶として得た。
mp73〜75℃
NMR (TMS,
1.40 (3T{.
3.93 (2H.
4.72 (2H.
7. 49 (IH,
実施例1
CDCA’3)
t)、3.
q)・ 4・
d) 、7.
s)、7.
δppm:
38(3H,
43(2H,
12(IH.
53(IH.
1−(4−クロロー2−フルオロ−5−プロパルギルオ
キシフエニル)−4−エトキシ−3−メトキシメチルピ
ラゾール5.0g (:0.018モル)を四塩化炭素
501lに溶解させ、これに室温攪拌下に塩化スルフリ
ル4.7g (0.035モル)を滴下し、そのまま1
時間攪拌した。反応混合物に四塩化炭素と水を加えて分
液ロート内で洗浄した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後、乾燥、減圧濃
縮して粗生成物5.5gを淡黄油状物として得た。この
粗生成物をヘキサンとエーテルの混合溶媒から結晶化さ
せた後、吸引炉取して、上記目的化合物4.5g(収率
79%)を淡黄結晶として得た。
キシフエニル)−4−エトキシ−3−メトキシメチルピ
ラゾール5.0g (:0.018モル)を四塩化炭素
501lに溶解させ、これに室温攪拌下に塩化スルフリ
ル4.7g (0.035モル)を滴下し、そのまま1
時間攪拌した。反応混合物に四塩化炭素と水を加えて分
液ロート内で洗浄した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後、乾燥、減圧濃
縮して粗生成物5.5gを淡黄油状物として得た。この
粗生成物をヘキサンとエーテルの混合溶媒から結晶化さ
せた後、吸引炉取して、上記目的化合物4.5g(収率
79%)を淡黄結晶として得た。
mp97〜99℃
NMR (TMSXCDCl3 )δppm:2.51
(IH,t)、3.31 (3H,s)4.68 (
2H,d) 、7.05 (IH,d)7.18 (I
H,d) 、7.45 (IH,s)実施例2 1−(4−クロロー2−フルオロ−5−プロパルギルオ
キシフエニル)−4−エトキシ−3−メトキシメチルピ
ラゾール6.0g (0.019モル)を四塩化炭素1
00z/に溶解し、室温攪拌下、これに室温攪拌下に塩
化スルフリル4.0g(0.03モル)を滴下し、更に
1時間攪拌した。
(IH,t)、3.31 (3H,s)4.68 (
2H,d) 、7.05 (IH,d)7.18 (I
H,d) 、7.45 (IH,s)実施例2 1−(4−クロロー2−フルオロ−5−プロパルギルオ
キシフエニル)−4−エトキシ−3−メトキシメチルピ
ラゾール6.0g (0.019モル)を四塩化炭素1
00z/に溶解し、室温攪拌下、これに室温攪拌下に塩
化スルフリル4.0g(0.03モル)を滴下し、更に
1時間攪拌した。
反応混合物を分液ロートに移し、水、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した。
リウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した。
四塩化炭素層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減
圧濃縮して淡黄油状物7.0gを得た。この粗生成物を
ヘキサンとエーテルの混合溶媒から結晶化させた後、吸
引炉取して、上記目的化合物3.0g(収率47%)を
無色結晶として得た。
圧濃縮して淡黄油状物7.0gを得た。この粗生成物を
ヘキサンとエーテルの混合溶媒から結晶化させた後、吸
引炉取して、上記目的化合物3.0g(収率47%)を
無色結晶として得た。
mp98〜99°C
NMR (TMS,CDCA’3 )δppm:1.3
5 (3H,t) 、2.23 (3H,s)4.03
(2H,d) 、4.68 (2H,d)7.03
(IH,d) 、7.16 (IH,d)実施例3 4−エトキシー5−クロロー1−(4−クロロー2−フ
ルオロ−5−プロパルギルオキシフエニル)−4−メト
キシメチルピラゾールの合戊4−エトキシー1−(4−
クロロー2−フルオロー5−プロパルギルオキシフェニ
ル)−4−メトキシメチルピラゾール8.0g (0.
024モル)と四塩化炭素801lの混合物に、室温攪
拌下塩化スルフリル4.8g (0.035モル)を滴
下し、そのまま1時間反応した。反応混合物を分液ロー
トに移し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食
塩水で順次洗浄した。四塩化炭素層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、減圧濃縮して黄色固体を得た。この
粗結晶にヘキサンを加えて洗浄した後、吸引炉取して、
上記目的化合物6.0g(収率67%)を淡黄結晶とし
て得た。
5 (3H,t) 、2.23 (3H,s)4.03
(2H,d) 、4.68 (2H,d)7.03
(IH,d) 、7.16 (IH,d)実施例3 4−エトキシー5−クロロー1−(4−クロロー2−フ
ルオロ−5−プロパルギルオキシフエニル)−4−メト
キシメチルピラゾールの合戊4−エトキシー1−(4−
クロロー2−フルオロー5−プロパルギルオキシフェニ
ル)−4−メトキシメチルピラゾール8.0g (0.
024モル)と四塩化炭素801lの混合物に、室温攪
拌下塩化スルフリル4.8g (0.035モル)を滴
下し、そのまま1時間反応した。反応混合物を分液ロー
トに移し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食
塩水で順次洗浄した。四塩化炭素層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、減圧濃縮して黄色固体を得た。この
粗結晶にヘキサンを加えて洗浄した後、吸引炉取して、
上記目的化合物6.0g(収率67%)を淡黄結晶とし
て得た。
mp127〜128°C
NMR (TMS,CDCA’3 )δppm:1.3
6 (3H,t) 、2.50 (1}−x,D3.3
5 (3H,s) 、4; 08 (2H,q)4.3
7 (2H,s) 、4.67 (2}i,d)7.0
5 (IH,d) 、7. 17 (IH,d)
実施例4 1−(4−クロロー2−フルオロ−5−プロパルギルオ
キシフエニル)−4−プロパルギルオキシピラゾール1
2.0g (0.039モル)、塩化スルフリル80.
0g (0.59モル)及び四塩化炭素300ylの混
合物を、攪拌しながら2時間加熱還流した。反応混合物
を減圧濃縮して得た残渣に水とクロロホルムを加えて抽
出した。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和
食塩水で順次洗浄した後、乾燥、減圧濃縮して橙色固体
15.0gを得た。この粗生成物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで分離、精製して、上記目的化合物5
.4g(収率37%)を淡黄結晶として得た。
6 (3H,t) 、2.50 (1}−x,D3.3
5 (3H,s) 、4; 08 (2H,q)4.3
7 (2H,s) 、4.67 (2}i,d)7.0
5 (IH,d) 、7. 17 (IH,d)
実施例4 1−(4−クロロー2−フルオロ−5−プロパルギルオ
キシフエニル)−4−プロパルギルオキシピラゾール1
2.0g (0.039モル)、塩化スルフリル80.
0g (0.59モル)及び四塩化炭素300ylの混
合物を、攪拌しながら2時間加熱還流した。反応混合物
を減圧濃縮して得た残渣に水とクロロホルムを加えて抽
出した。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和
食塩水で順次洗浄した後、乾燥、減圧濃縮して橙色固体
15.0gを得た。この粗生成物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで分離、精製して、上記目的化合物5
.4g(収率37%)を淡黄結晶として得た。
mp96〜97℃
NMR (TMS,CDCA’3 ) δppm:2
.53 (2H, t) 、4.61 (2H,
d)4.66 (2H,d) 、7.00 (IH
,d)7. 18 (1B,d) 実施例5〜21 実施例1〜4と同様にして下記第1表に示す実施例5〜
21の化合物を得た。これらの化合物の融点及びNMR
データを第1表に併せて示す。
.53 (2H, t) 、4.61 (2H,
d)4.66 (2H,d) 、7.00 (IH
,d)7. 18 (1B,d) 実施例5〜21 実施例1〜4と同様にして下記第1表に示す実施例5〜
21の化合物を得た。これらの化合物の融点及びNMR
データを第1表に併せて示す。
第 1
表
Y2
処方例1(50%永和剤)
(重量部)
実施例1の化合物 50リグニンス
ルホン酸ナトリウム 1ドデシルベンゼンスル
ホン酸ナトリウム 4クレー
45各成分を均一に混合粉砕し、50%永和
剤を得た。
ルホン酸ナトリウム 1ドデシルベンゼンスル
ホン酸ナトリウム 4クレー
45各成分を均一に混合粉砕し、50%永和
剤を得た。
◆
処方例2(20%乳剤)
(重量部)
実施例2の化合物 20ボリオキシ
エチレンノニル 1oフエニルエーテル キシレン 70各成分を均
一に溶解し、20%乳剤を得た。
エチレンノニル 1oフエニルエーテル キシレン 70各成分を均
一に溶解し、20%乳剤を得た。
処方例3(10%粉剤)
実施例3の化合物
(重量部)
10
リグニンスルホン酸ナトリウム 0.5ドデシル
ベンゼンスルホン酸ナトリウム 2珪藻土
27.5ベントナイト
60各成分を均一に混合し、水を加えて
充分混練した後、造・粒し、次いで細かく切断して粒状
のものとし、乾燥して10%粉剤を得た。
ベンゼンスルホン酸ナトリウム 2珪藻土
27.5ベントナイト
60各成分を均一に混合し、水を加えて
充分混練した後、造・粒し、次いで細かく切断して粒状
のものとし、乾燥して10%粉剤を得た。
試験例1(土壌処理テスト)
1 / 2 0 0 0 aのワグナーポットに殺菌し
た沖積土壌を入れ、下記第2表に示す供試植物の種子を
播種して約0.5〜1,Ocm覆土した。次いで処方例
1に準じて調整した永和剤を、有効成分が10g/aと
なるように水で希釈し、これを土壌表面が均一に濡れる
ように散布した。散布後3週間目に各植物に対する除草
活性を調べた。その結果を下記第2表に示した。除草活
性は、肉眼観察により次の基準に従い、無処理の場合と
対比した指数で評価した。尚、第2表における供試化合
物の番号は、上記実施例の番号と対応する。
た沖積土壌を入れ、下記第2表に示す供試植物の種子を
播種して約0.5〜1,Ocm覆土した。次いで処方例
1に準じて調整した永和剤を、有効成分が10g/aと
なるように水で希釈し、これを土壌表面が均一に濡れる
ように散布した。散布後3週間目に各植物に対する除草
活性を調べた。その結果を下記第2表に示した。除草活
性は、肉眼観察により次の基準に従い、無処理の場合と
対比した指数で評価した。尚、第2表における供試化合
物の番号は、上記実施例の番号と対応する。
(指 数) (除草活性)
0 変化なし
1 1〜24%阻害
2 25〜49%阻害
3 50〜74%阻害
4 75〜90%阻害
5 完全枯死
また、第2表において、供試植物A−Gは次の植物であ
る。
る。
A・・・アオビュ
C・・・ノビエ
E・・・ソバ
G・・・コムギ
B・・・クサネム
D・・・ダイコン
F・・・アサガオ
第2表
試験例2(茎葉処理テスト)
1 / 2 0 0 0 aのワグナーボットに殺菌し
た沖積土壌を入れ、下記第3表に示す供試植物の種子を
播種し、各植物がほぼ一定の大きさ(2〜3葉期)に達
した時、処方例2に準じて調整した乳剤を、有効或分が
10g/aとなるように水で希釈したものを植物の茎葉
全面が充分一様に濡れるように散布した。散布後3週間
目に各植物に対する除草活性を調べた。その結果を第3
表に示した。
た沖積土壌を入れ、下記第3表に示す供試植物の種子を
播種し、各植物がほぼ一定の大きさ(2〜3葉期)に達
した時、処方例2に準じて調整した乳剤を、有効或分が
10g/aとなるように水で希釈したものを植物の茎葉
全面が充分一様に濡れるように散布した。散布後3週間
目に各植物に対する除草活性を調べた。その結果を第3
表に示した。
評価の基準、供試化合物の番号及び供試植物の種類は、
第2表におけるそれらと同じである。
第2表におけるそれらと同じである。
H・・・タカサブロウ
Claims (3)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中R^1は水素原子、低級アルキル基、低級アルケ
ニル基、低級アルキニル基、フェニル低級アルキル基又
は 基−CH(R^3)COOR^4を示す。ここでR^3
及びR^4は、同一又は異なって、水素原子又は低級ア
ルキル基を示す。R^2は水素原子、ハロゲン原子、低
級アルキル基、低級アルコキシ低級アルキル基、フェノ
キシ低級アルキル基を示す。Xはハロゲン原子を示す。 Arは基▲数式、化学式、表等があります▼を示す。こ
こでY^1及 びY^2は、それぞれハロゲン原子、R^5は低級アル
キル基又は低級アルキニル基を示す。]で表わされるピ
ラゾール誘導体。 - (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中R^1、R^2及びArは前記に同じ。]で表わ
されるピラゾール誘導体を、一般式 SO_nX_2 [式中Xは前記に同じ。nは1又は2を示す。]で表わ
されるハロゲン化剤でハロゲン化することを特徴とする
請求項(1)に記載のピラゾール誘導体の製造方法。 - (3)請求項(1)に記載のピラゾール誘導体を有効成
分とする除草剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23448089A JP2704439B2 (ja) | 1989-09-08 | 1989-09-08 | ピラゾール誘導体、その製造方法及び該誘導体を含有する除草剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23448089A JP2704439B2 (ja) | 1989-09-08 | 1989-09-08 | ピラゾール誘導体、その製造方法及び該誘導体を含有する除草剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0395162A true JPH0395162A (ja) | 1991-04-19 |
JP2704439B2 JP2704439B2 (ja) | 1998-01-26 |
Family
ID=16971680
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23448089A Expired - Fee Related JP2704439B2 (ja) | 1989-09-08 | 1989-09-08 | ピラゾール誘導体、その製造方法及び該誘導体を含有する除草剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2704439B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6138890A (en) * | 1997-10-30 | 2000-10-31 | Nec Corporation | Automatic soldering mechanism capable of improving a working efficiency with stabilizing a soldering quality |
-
1989
- 1989-09-08 JP JP23448089A patent/JP2704439B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US6138890A (en) * | 1997-10-30 | 2000-10-31 | Nec Corporation | Automatic soldering mechanism capable of improving a working efficiency with stabilizing a soldering quality |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2704439B2 (ja) | 1998-01-26 |
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