JP2704439B2 - ピラゾール誘導体、その製造方法及び該誘導体を含有する除草剤 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ピラゾール誘導体、その製造方法及び該誘
導体を含有する除草剤に関する。

従来の技術 従来、１−フェニルピラゾール誘導体の中で除草活性
を有するある種の化合物は、既に公知である。例えば特
開昭62−77369号公報には、一般式 で表わされるピラゾール誘導体が除草活性を有している
ことが開示されている。しかしながら、上記公報に記載
のピラゾール誘導体のR¹基にはヒドロキシ基又はアルコ
キシ基が含まれておらず、そのためピラゾール環の４位
がヒドロキシ基又はアルコキシ基である化合物は全く開
示されていない。更に上記公報記載のピラゾール誘導体
の除草活性は、効力面及び選択性面において充分に満足
できるものとは言い難いものである。

一方、ピラゾール環の４位がヒドロキシ基で置換され
た４−ヒドロキシ−１−フェニルピラゾール誘導体は一
部公知であり、例えば該化合物の製造方法が特開昭60−
155160号公報やAnn.,313,13（1900）等に記載されてい
る。これらの誘導体を中間原料として農業用薬剤へ導く
試みとしては、例えば４位のヒドロキシ基をリン酸化
し、有機リン系殺虫剤にすることにより実用化されてい
る。しかしながら、該誘導体のハロゲン化は全く行なわ
れておらず、更に除草活性を有する化合物への誘導も一
切行なわれていない。

発明の開示 本発明は、新規なピラゾール誘導体、その製造方法及
び除草剤を提供するものである。即ち、本発明は、４−
アルコキシ（ヒドロキシ）−１−フェニルピラゾール誘
導体のハロゲン化方法及びハロゲン化された化合物が予
期し得ない優れた除草活性を発現することを見い出し、
ここに本発明が完成されるに至ったものである。

本発明のピラゾール誘導体は、下記一般式（１）で表
わされる。

［式中R¹は水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル
基、低級アルキニル基、フェニル低級アルキル基又は基
−CH（R³）COOR⁴を示す。ここでR³及びR⁴は、同一又は
異なって、水素原子又は低級アルキル基を示す。R²は水
素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シ低級アルキル基、フェノキシ低級アルキル基を示す。
Ｘはハロゲン原子を示す。Arは基 を示す。ここでY¹及びY²は、それぞれハロゲン原子、R⁵
は低級アルキル基又は低級アルキニル基を示す。］ 上記一般式（１）において示される各基は、次の通り
である。

低級アルキル基としては、例えばメチル、エチル、ｎ
−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、
sec−ブチル等の炭素数１〜４のアルキル基を挙げるこ
とができる。

低級アルケニル基としては、例えばビニル、プロペニ
ル、ブテニル基等の炭素数２〜４のアルケニル基を挙げ
ることができる。

低級アルキニル基としては、例えばエチニル、プロパ
ルギル、ブチニル基の炭素数２〜４のアルキニル基を挙
げることができる。

フェニル低級アルキル基としては、例えばベンジル、
フェネチル、フェニルプロピル基等のフェニル基が置換
した炭素数１〜４のアルキル基を挙げることができる。

低級アルコキシ低級アルキル基としては、、例えばメ
トキシメチル、エトキシメチル、ｎ−プロピルオキシメ
チル、ｎ−ブトキシメチル、メトキシエチル、メトキシ
プロピル、エトキシエチル、ｎ−ブトキシエチル基等の
炭素数１〜４のアルコキシ基で置換された炭素数１〜４
のアルキル基を挙げることができる。

フェノキシ低級アルキル基としては、例えばフェノキ
シメチル、フェノキシエチル、フェノキシプロピル基等
のフェノキシ基が置換した炭素数１〜４のアルキル基を
挙げることができる。

ハロゲン原子としては、例えば弗素原子、塩素原子、
臭素原子、沃素原子等を挙げることができる。

本発明の化合物は、例えば下記反応式−１に示す方法
に従い容易に製造され得る。

［反応式−１］ ［式中R¹、R²、Ar及びＸは前記に同じ。ｎは１又は２を
示す。］ 一般式（２）のピラゾール誘導体と一般式（３）のハ
ロゲン化剤との反応は、無溶媒下又は適当な溶媒中で行
なわれる。用いられる溶媒としては、例えばジクロロメ
タン、クロロホルム、ジクロロエタン、四塩化炭素等の
ハロゲン化炭化水素類、、ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジオキサン等のエ
ーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベン
ゼン等の芳香族炭化水素類等を挙げることができる。ハ
ロゲン化剤（３）は溶媒として兼用することができる。
ピラゾール誘導体（２）とハロゲン化剤（３）との配合
割合としては、ハロゲン化剤（３）は溶媒として兼用す
る場合には、ハロゲン化剤（３）をピラゾール誘導体
（２）に対して通常大過剰量とするのがよいが、上記溶
媒中で反応を行なう場合には、通常ピラゾール誘導体
（２）に対してハロゲン化剤（３）を少なくとも1.5倍
モル量程度、好ましくは1.5〜５倍モル量程度用いるの
がよい。上記反応は、室温下、冷却下及び加温下のいず
れでも行なわれ得るが、通常は０〜100℃程度で該反応
が好適に進行し、一般に１〜５時間程度で該反応は完結
する。

出発原料として用いられるピラゾール誘導体（２）
は、一部に新規化合物を包含している。その合成方法を
下記反応式−２で示す。

［式中R¹及びArは前記に同じ。R⁶は低級アルキル基又は
フェニル基を示す。X¹はハロゲン原子を示す。］ 上記反応式−２において、一般式（2a）の化合物及び
一般式（４）の化合物は、公知の方法により製造され
る。例えば一般式（2a）の化合物は、特開昭60−155160
号公報に記載の方法に従って、また一般式（４）の化合
物は、Ann,.313,13（1900）に記載の方法に従って、そ
れぞれ製造される。

一般式（2b）の化合物及び一般式（５）の化合物は、
通常のフェノール性OH基のアルキル化方法、即ち有機溶
媒中、塩基剤の存在下に原料化合物である一般式（2a）
の化合物及び一般式（４）の化合物をハロゲン化アルキ
ル（R¹X¹）でアルキル化することにより容易に製造され
る。

一般式（５）の化合物から一般式（６）の化合物を得
る反応は、常法に従い水素化リチウムアルミニウムを用
いてピラゾール環の３位のカルボキシル基をヒドロキシ
メチル基へ還元した後、臭化チオニルで臭素化すること
により行なわれる。

一般式（2c）の化合物は、上記で得られる一般式
（６）の化合物を還元することにより製造される。この
還元は、水素化硼素ナトリウムを使用するのがよい。

一般式（2d）の化合物は、一般式（６）の化合物の３
位ブロモメチル基にアルコール類又はフェノール類（R⁶
OH）を作用させることにより製造される。

上記各方法で得られる化合物及び本発明の化合物は、
通常の精製方法、例えば溶媒抽出法、溶媒洗浄法、再結
晶法、カラムクロマトグラフ等の方法により反応混合物
から単離、精製される。

本発明の化合物は、タカサブロウ、アオビユ、クサネ
ム、スズメノテッポウ、タデ、ヨモギ、オオアレチノギ
ク、ギシキシ、アゼナ、キカシグンサ、ノビエ、メヒシ
バ、オヒシバ、カヤツリグサ等の雑草に対して除草効果
を示すので、それらの雑草の生育が有害となるダイズ、
トウモロコシ、コムギ、ワタ、果樹、水稲等の農作物の
生産や景観上有害な雑草の防除に有効である。

本発明化合物を除草剤として施用するに当っては、本
発明化合物をそのまま用いてもよいが、一般には通常農
薬の製造上使用される補助剤と混合して、いずれの剤型
としても使用することができる。この際、効果の安定性
及び効果の向上を期するための補助剤としては、例えば
珪藻土、カオリン、クレー、ベントナイト、ホワイトカ
ーボン、タルク等の増量剤、ポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエー
テル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、
ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、アルキルベンゼン
スルホン酸ナトリウム、リグニンスルホン酸ナトリウ
ム、アルキル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアル
キル硫酸ナトリウム等の非イオン系もしくは陰イオン系
界面活性剤、キシレン、アセトン、メタノール、エタノ
ール、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド等の有
機溶媒等が挙げられる。

本発明の除像剤は、有効成分が約0.5〜90重量％、好
ましくは約１〜70重量％になるように補助剤を添加する
ことによって製剤される。施用適量は、薬剤の製剤形
態、施用方法、施用時期、対象雑草の種類、気象条件、
土壌条件等によって一概には言えず、広い範囲内から適
宜選択され得るが、一般的には有効成分量として0.1〜1
00g/a程度、好ましくは0.5〜50g/a程度が散布される。

実 施 例 以下に参考例、実施例、処方例及び試験例を掲げて本
発明をより一層明らかにする。

参考例１（一般式（2b）の化合物の合成例） １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−プロパルギルオ
キシフェニル）−４−エトキシピラゾールの合成 １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−プロパルギル
オキシフェニル）−４−ヒドロキシピラゾール8.4g（0.
0315モル）、無水炭酸カルシウム13.0g（0.095モル）、
臭化エチル5.2g（0.047モル）及びアセトニトリル80ml
の混合物を、攪拌下６時間加熱還流した。反応終了後、
反応混合物を吸引過し、液を減圧濃縮した。残渣に
水及びクロロホルムを加えて抽出し、抽出液を飽和食塩
水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃
縮して9.7gの茶色油状物を得た。この粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、上記目的化
合物6.9g（収率75％）を淡黄結晶として得た。

mp91〜92℃ NMR（TMS、CDCl₃）δppm: 1.37（3H,t）、2.51（1H,t） 3.92（2H,q）、4.71（2H,d） 7.13（1H,d）、7.36（1H,s） 7.53（1H,d）、7.54（1H,d） 参考例２（一般式（５）の化合物の合成例） １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−プロパルギルオ
キシフェニル）−４エトキシ−３−エトキシカルボニル
ピラゾールの合成 １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−プロパルギル
オキシフェニル）−３−エトキシカルボニル−４−ヒド
ロキシカルボニルピラゾール50.8g（0.15）モル、臭化
エチル24.5g（0.225モル）、無水炭酸カリウム62.1g
（0.45モル）及びアセトニトリル800mlの混合物をメカ
ニカルスターラーで攪拌しながら14時間加熱還流した。
反応終了後、反応混合物を熱時過して得た液を減圧
濃縮して、茶色固体を得た。この粗生成物をアセトニト
リルから再結晶させ、上記目的化合物40.7g（収率74
％）を茶色結晶として得た。

NMR（TMS、CDCl₃）δppm: 1.38（3H,t）、1.43（3H,t） 2.53（1H,t）、3.97（2H,q） 4.37（2H,q）、4.74（2H,d） 7.16（1H,d）、7.49（1H,d） 7.57（1H,d） 参考例３（一般式（６）の化合物の合成例） ３−ブロモメチル−１−（４−クロロ−２−フルオロ−
５−プロパルギルオキシフェニル）−４−エトキシピラ
ゾールの合成 水素化リチウムアルミニウム8.3g（0.218モル）と乾
燥テトラヒドロフランとから調製した懸濁液に、冷却攪
拌下、１−（４−クロロ−２−フルオロ−５−プロポル
ギルオキシフェニル）−４−エトキシ−３−エトキシカ
ルボニルピラゾール40.0g（0.109モル）とテトラヒドロ
フラン200mlからなるスラリーを滴下し、室温下で更に
２時間撹拌した。砕氷を加えた希塩酸中に反応混合物を
徐々に注ぎ、過剰分の水素化リチウムアルミニウムを分
解した後、クロロホルムで抽出した。クロロホルム抽出
液を合わせて、希塩酸、飽和食塩水で順次洗浄した後、
乾燥、濃縮して淡黄結晶性固体を得た。この粗結晶をヘ
キサンとエーテルの混合溶媒（1:1）で洗浄して、１−
（４−クロロ−２−フルオロ−５−プロパルギルオキシ
フェニル）−４−エトキシ−３−ヒドロキシメチルピラ
ゾール31.5g（収率89％）をクリーム色の結晶として得
た。

得られた結晶27.0g（0.083モル）をクロロロホルム27
0mlに懸濁させ、氷水で冷却した。これに撹拌下臭化チ
オニル26.8g（0.129モル）を徐々に滴下し、室温下で更
に１時間撹拌して反応を終了させた。反応混合物を分液
ロートに移し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食
塩水で順次洗浄後、乾燥、濃縮して淡黄油状物を得た。
この粗生成物をヘキサンとエーテルの混合溶媒から結晶
させて、上記目的化合物29.0g（収率90％）を淡黄結晶
として得た。

NMR（TMS、CDCl₃）δppm: 1.41（3H,t）、2.53（1H,t） 3.95（2H,q）、4.46（2H,s） 4.72（2H,d）、7.13（1H,d） 7.48（1H,s）、7.51（1H,d） 参考例４（一般式（2c）の化合物の合成例） １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−プロパルギルオ
キシフェニル）−４−エトキシ−３−メチルピラゾール
の合成 ３−ブロモメチル−１−（４−クロロ−２−フルオロ
−５−プロパルギルオキシフェニル）−４−エトキシピ
ラゾール11.0g（0.026モル）をジメチルスルホキシド10
0mlに溶解し、冷水でジメチルスルホキシドが固化しな
い程度に冷却した。次いで水素化硼素ナトリウム2.0g
（0.052モル）を数回に分けて添加し、室温下で24時間
攪拌した。砕水を入れた1N−塩酸中に反応混合物を徐々
に注ぎ、過剰分の水素化硼素ナトリウムを分解した後、
クロロホルムで抽出した。クロロホルム層を飽和食塩水
で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、更に減圧
濃縮して淡黄油状物7.0gを得た。この粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、上記目的化
合物2.5g（収率31％）を無色結晶として得た。

mp94〜95℃ NMR（TMS、CDCl₃）δppm: 1.35（3H,t）、2.20（3H,s） 2.51（1H,t）、3.84（2H,q） 4.66（2H,d）、7.02（1H,d） 7.39（1H,s）、7.40（1H,d） 参考例５（一般式（2d）の化合物の合成例） １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−プロパルギルオ
キシフェニル）−４−エトキシ−３−メトキシメチルピ
ラゾールの合成 メタノール150mlと金属ナトリウム1.4g（0.058モル）
とから調製したナトリウムメトキシド溶液に、３−ブロ
モメチル−１−（４−クロロ−２−フルオロ−５−プロ
パルギルオキシフェニル）−４−エトキシピラゾール1
5.0g（0.039モル）及び沃化カリウム0.5gを加え、１時
間攪拌しながら加熱還流した。反応終了後、反応物を減
圧濃縮し、残渣に水及びクロロホルムを加え抽出した。
抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、乾燥、濃縮して淡黄
油状物を得た。この粗生成物をヘキサントエーテルの混
合溶媒から結晶化させた後、吸引取して、上記目的化
合物10.0g（収率77％）を黄色羽毛状晶として得た。

mp73〜75℃ NMR（TMS、CDCl₃）δppm: 1.40（3H,t）、3.38（3H,s） 3.93（2H,q）、4.43（2H,s） 4.72（2H,d）、7.12（1H,d） 7.49（1H,s）、7.53（1H,d） 実施例１ ５−クロロ−１−（４−クロロ−２−フルオロ−５−プ
ロパルギルオキシフェニル）−４−メトキシピラゾール
の合成 １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−プロパルギル
オキシフェニル）−４−エトキシ−３−メトキシメチル
ピラゾール5.0g（0.018モル）を四塩化炭素50mlに溶解
させ、これに室温攪拌下に塩化スルフリル4.7g（0.035
モル）を滴下し、そのまま１時間撹拌した。反応混合物
に四塩化炭素と水を加えて分液ロート内で洗浄した。有
機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順
次洗浄した後、乾燥、減圧濃縮して粗生成物5.5gを淡黄
油状物として得た。この粗生成物をヘキサンとエーテル
の混合溶媒から結晶化させた後、吸引取して、上記目
的化合物4.5g（収率79％）を淡黄結晶として得た。

mp97〜99℃ NMR（TMS、CDCl₃）δppm: 2.51（1H,t）、3.31（3H,s） 4.68（2H,d）、7.05（1H,d） 7.18（1H,d）、7.45（1H,s） 実施例２ ５−クロロ−１−（４−クロロ−２−フルオロ−５−プ
ロパルギルオキシフェニル）−４−エトキシ−３−メチ
ルピラゾールの合成 １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−プロパルギル
オキシフェニル）−４−エトキシ−３−メトキシメチル
ピラゾール6.0g（0.019モル）を四塩化炭素100mlに溶解
し、室温攪拌下、これに室温攪拌下に塩化スルフリル4.
0g（0.03モル）を滴下し、更に１時間撹拌した。反応混
合物を分液ロートに移し、水、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した。四塩化炭素層を無
水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮して淡黄油
状物7.0gを得た。この粗生成物をヘキサンとエーテルの
混合溶媒から結晶化させた後、吸引取して、上記目的
化合物3.0g（収率47％）の無色結晶として得た。

mp98〜99℃ NMR（TMS、CDCl₃）δppm: 1.35（3H,t）、2.23（3H,s） 4.03（2H,d）、4.68（2H,d） 7.03（1H,d）、7.16（1H,d） 実施例３ ４−エトキシ−５−クロロ−１−（４−クロロ−２−フ
ルオロ−５−プロパルギルオキシフェニル）−４−メト
キシメチルピラゾールの合成 ４−エトキシ−１−（４−クロロ−２−フルオロ−５
−プロパルギルオキシフェニル）−４−メトキシメチル
ピラゾール8.0g（0.024モル）と四塩化炭素80mlの混合
物に、室温攪拌下塩化スルフリル4.8g（0.035モル）を
滴下し、そのまま１時間反応した。反応混合物を分液ロ
ートに移し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和
食塩水で順次洗浄した。四塩化炭素層を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、減圧濃縮して黄色固体を得た。こ
の粗結晶にヘキサンを加えて洗浄した後、吸引取し
て、上記目的化合物6.0g（収率67％）を淡黄結晶として
得た。

mp127〜128℃ NMR（TMS、CDCl₃）δppm: 1.36（3H,t）、2.50（1H,t） 3.35（3H,s）、4.08（2H,q） 4.37（2H,s）、4.67（2H,d） 7.05（1H,d）、7.17（1H,d） 実施例４ １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−プロパルギルオ
キシフェニル）−3,5−ジクロロ−４−プロパルギルオ
キシピラゾールの合成 １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−プロパルギル
オキシフェニル）−４−プロパルギルオキシピラゾール
12.0g（0.039モル）、塩化スルフリル80.0g（0.59モ
ル）及び四塩化炭素300mlの混合物を、攪拌しながら２
時間加熱還流した。反応混合物を減圧濃縮して得た残渣
に水とクロロホルムを加えて抽出した。抽出液を飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した
後、乾燥、減圧濃縮して橙色固体15.0gを得た。この粗
生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離、
精製して、上記目的化合物5.4g（収率37％）を淡黄結晶
として得た。

mp96〜97℃ NMR（TMS、CDCl₃）δppm: 2.53（2H,t）、4.61（2H,d） 4.66（2H,d）、7.00（1H,d） 7.18（1H,d） 実施例５〜21 実施例１〜４と同様にして下記第１表に示す実施例５
〜21の化合物を得た。これらの化合物の融点及びNMRデ
ータを第１表に併せて示す。

処方例１（50％水和剤） （重量部） 実施例１の化合物 50 リグニンスルホン酸ナトリウム 1 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 4 クレー 45 各成分を均一に混合粉砕し、50％水和剤を得た。

処方例２（20％乳剤） （重量部） 実施例２の化合物 20 ポリオキシエチレンノニル 10 フェニルエーテル キシレン 70 各成分を均一に溶解し、20％乳剤を得た。

処方例３（10％粉剤） （重量部） 実施例３の化合物 10 リグニンスルホン酸ナトリウム 0.5 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 2 珪藻土 27.5 ベントナイト 60 各成分を均一に混合し、水を加えて充分混練した後、
造粒し、次いで細かく切断して粒状のものとし、乾燥し
て10％粉剤を得た。

試験例１（土壌処理テスト） 1/2000aのワグナーポットに殺菌した沖積覆土を入
れ、下記第２表に示す供試植物の種子を播種して約0.5
〜1.0cm土壌した。次いで処方例１に準じて調整した水
和剤を、有効成分が10g/aとなるように水で希釈し、こ
れを土壌表面が均一に濡れるように散布した。散布後３
週間目に各植物に対する除草活性を調べた。その結果を
下記第２表に示した。除草活性は、肉眼観察により次の
基準に従い、無処理の場合と対比した指数で評価した。
尚、第２表における供試化合物の番号は上記実施例の番
号と対応する。

（指 数） （除草活性） ０ 変化なし １ 1〜24％阻害 ２ 25〜49％阻害 ３ 50〜74％阻害 ４ 75〜90％阻害 ５ 完全枯死 また、第２表において、供試植物Ａ〜Ｇは次の植物で
ある。

Ａ……アオビユ Ｂ……クサネム Ｃ……ノビエ Ｄ……ダイコン Ｅ……ソバ Ｆ……アサガオ Ｇ……コムギ 試験例２（茎葉処理テスト） 1/2000aのワグナーポットに殺菌した沖積土壌を入
れ、下記第３表に示す供試植物の種子を播種し、各植物
がほぼ一定の大きさ（２〜３葉期）に達した時、処方例
２に準じて調整した乳剤を、有効成分が10g/aとなるよ
うに水で希釈したものを植物の茎葉全面が充分一様に濡
れるように散布した。散布後３週間目に各植物に対する
除草活性を調べた。その結果を第３表に示した。評価の
基準、供試化合物の番号及び供試植物の種類は、第２表
におけるそれらと同じである。

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式 ［式中R¹は水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル
   基、低級アルキニル基、フェニル低級アルキル基又は 基−CH（R³）COOR⁴を示す。ここでR³及びR⁴は、同一又
   は異なって、水素原子又は低級アルキル基を示す。R²は
   水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコ
   キシ低級アルキル基、フェノキシ低級アルキル基を示
   す。Ｘはハロゲン原子を示す。 Arは基 を示す。ここでY¹及びY²は、それぞれハロゲン原子、R⁵
   は低級アルキル基又は低級アルキニル基を示す。］ で表わされるピラゾール誘導体。
2. 【請求項２】一般式 ［式中R¹、R²及びArは前記に同じ。］ で表わされるピラゾール誘導体を、一般式 SO_nX₂ ［式中Ｘは前記に同じ。ｎは１又は２を示す。］ で表わされるハロゲン化剤でハロゲン化することを特徴
   とする請求項に記載のピラゾール誘導体の製造方法。
3. 【請求項３】請求項に記載のピラゾール誘導体を有効
   成分とする除草剤。