JPH0394113A - 位置検出装置 - Google Patents

位置検出装置

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JPH0394113A
JPH0394113A JP15918490A JP15918490A JPH0394113A JP H0394113 A JPH0394113 A JP H0394113A JP 15918490 A JP15918490 A JP 15918490A JP 15918490 A JP15918490 A JP 15918490A JP H0394113 A JPH0394113 A JP H0394113A
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objective lens
shielding plate
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detector
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Tokuji Shibahara
芝原 徳次
Shigeaki Fujiwara
成章 藤原
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、対象物と対物レンズの間隔が、所定の距離に
比べてどの程度ずれているかを検出する装置に関する。
く従来の技術および発明が解決しようとする課題〉対物
レンズによって、対象物の像を観察する場合、対象物を
対物レンズに対して所定の位置に保持する必要性が生じ
、数多くの光学的位置検出法が提案されている。それら
の方法は従来の用途に対しては充分な性能を発揮したも
のもあった。しかし、現在のように、例えば、集積回路
の製造過程における、検査工程等で要求される光学的位
置検出器の精度は、在来の位置検出方式では満たされな
くなった。その具体的な例を下記の(1)から(5)に
示す。
(1)ナイフエッヂ法:対象物に濃淡模様が存在する場
合、その影響を受ける。この方式の従来技術として、特
開昭58−60433号公報、特開昭60−7635号
公報等に記載されたものがある。
(2)位相法:規則性のある対象物の影響を受ける。
この方式の従来技術として、特開昭48−50645号
公報、特開昭60−37509号公報等に記載されたも
のがある。
(3)コントラス1・法:アクティブパターンと同一の
パターンの対象物の影響を受ける。この方式の従来技術
として特開昭59−232306号公報等に記載された
ものがある。
(4)非点収差法:対象物に濃淡模様が存在する場合、
その影響を受ける。この方弐の従来技術として、特開昭
50−99561号公報に記載されたものがある。
(5)アクティブ法:対象物に濃淡模様が存在する場合
、その影響を受ける。この方式の従来技術として、特開
昭58−217909号公報等に記載されたものがある
以上に記載した各々の不都合な現象はよく知られている
事実である。そこで、本発明は、以上に示した何れの対
象物の光学的条件に対しても影響を受けない光学的位置
検出器を提供することを目的とする。
〈実施例〉 3 本発明の〜・実施例は、第1図と第3図に示す、以下の
(A)から(F)の各要素で構威されている。
(A)対物レンズ4を経て試料面を照射する投光器1。
(B)投光器1と対物レンズ4の間で、かつ、対物レン
ズ4による結像光学系において、基準とする所定の位置
と共役な位置に配置した遮光板2の端縁2a。
(C)遮光板2を対物レンズ4の光軸Gと平行な方向に
振動させる駆動装置6。
(D)遮光板2の対物レンズ4例の面を照射する光束を
検出する光量検出器3。
(E)光量検出器3の出力信号を処理する位相検波器1
0。
(F)駆動装置6および位相検波器10に信号を供給す
る発振器9。
実施例の作用を図面に基づいて説明すると、第1図にお
いて、投光器1からの光束を対物レンズ4を経て試料面
5に導く投射光路の、投光器1と対物レンズ4の間に配
置した遮光板2の端縁2a4 は設定位置Aと共役な位置A′に配置されている。
そのため、試料面5が設定位置Aにある場合と、設定位
IZAにない場合とで、投光器lからの光束が試料面5
で反射した後、遮光板2の対物レンズ4例の面を照射す
る光景に、次のような違いが生じる。尚、以下の説明に
於いて、試料面5と平行で、かつ、遮光板2の端縁2a
を含む仮想面に於いて、遮光板2の端縁2aを境として
、遮光板2側を「遮光板側面」と称し、その反対側を「
否遮光板側而」と称する。
試料面5が設定位置Aにある場合、即ち、当該仮想面が
試料面5と共役な関係にある場合、投光器1から試料面
5へ導かれる往路の光束の内、当該「否遮光板側面j上
の点と交わった光線は、試料面5で反1:Iされた後、
復路で必ず、再度当該「否遮光板側面」上の同一点を通
過する。従って、復路で「否遮光板側面」と交わる光束
は存在せず、設定位置Aにある試料面5からの反則光は
、遮光板2の対物レンズ4側の面を照射することはない
他方、試料面5が設定位置Aにない場合、当該仮想面が
試料面5と共役な関係にないため、投光器1から試料面
5へ導かれる往路の光束の内、当該「否遮光板側面」上
の一点と交わった光線は、往1¥8で当該「否遮光板側
面j上の同一位置を通過しない。更に、試料面5と設定
位置Aとの隔たりに比例して、復路の光線は往路で通過
した当該「否遮光板側面j上の点から大きく離れた位置
を通過することになる。従って、試料面5と設定位置A
との間隔が増加するに従って、復路の光線が「遮光板側
面」と交わる確率は増加する、即ち、遮光板2の対物レ
ンズ4側の面を照射する確率が増加する。この、遮光板
2の対物レンズ4側の面を照射する光束の当該面での反
射光を、第1図の光量検出器3で受光した場合、試料面
5と設定位置Aとの間隔に対する該光量検出器3の出力
の関係は、第2図の曲線Eのようになる。尚、曲線Eの
グラフの縦軸は光量検出器3の出力値、横軸は試料面5
の光軸G上の位置を示す。以上のように、試料面5が設
定位置Aにある場合、該光量検出器3の出力は最小にな
り、試料面5が設定位7i′Aの近傍に於いて、設定位
置八から離れるに従って該光量検出器3の出力は増加す
る。
以上の作用にもとづいて、遮光板2を第1図に示すよう
に、設定位iAと共役な位置A′を中心に、矢印Bに示
すように対物レンズ4の光軸Gと平行な方向に振動させ
た場合、遮光板2の対物レンズ4例の面を照射する光量
は、その振動に依って変化する。その変化の様子を次に
示す。まず、試料面5が前述の設定位置Aにある場合は
、つぎに示す状態と光学的に等価である。即ち、遮光板
2の端縁2aが第1図の位置A′で静止状態で、試料面
5を、設定位置Aを中心に第2図山1線a2に示すよう
に振動させた場合と等価である。この場合、光量検出器
3を照射する光量の変化は第2図萌線b2のようになる
。尚、同図の曲線a1a2,a3のグラフの縦軸は時間
、横軸は試料面5の光軸G上の位置を示している。また
、曲線b1,b2,b3のグラフの縦軸は光量検出器3
の出力値、横軸は時間を示している。
次に、試料面5が第2図の位置A1、または、−7 位置A3の位置にある状態で遮光板2を振動させた場合
は、つぎに示す状態と光学的に等価である。
即ち、遮光Fi2の端縁2aが第1図の位置A′で静止
状態で、試料面5を第2図の位置A1、又は、位?WA
3を中心に曲線a1、または、曲線a3のように振動さ
セた場合と等価である。そのとき、光量検出器3を照射
する光量は同図曲線bL又は、l1ロ線b3のようにな
る。
以上の結果、第2図に示すように曲線b1と曲線b3と
の位相が逆になる。即ち、試料面5が設定位置Aから対
物レンズ4側にずれた場合と、それとは逆の向きにずれ
た場合とでは、光量検出器3を照射する光量変化の位相
が逆になる。また、試料面5が設定位置Aにある場合、
光量検出器3を照射する光量の変化を表す曲線b2の周
期は、前述の、試料面5が設定位置Aから離れた位置に
ある場合に比べて二分の一になる。このように、遮光仮
2の振動の周期や位相と、遮光板2の対物レンズ4側の
面を照射する光量変化の周期や位相の関係を比較するこ
とにより、試料面5が設定位8 置Aに有るか否か、また、設定位置Aにない場合は何れ
の方向にずれているかを検出することができる。
位相や周期の変化を検出することは、第3図に示す信号
処理装置で可能である。その方法を説明する。第1図の
光景検出器3の出力信号、即ち、第3図の光量検出器3
の出力を乗算器7の一方に人力し、他方に、遮光板駆動
信号と同期して、+1,−1を交互に発生する±1発生
器8の信号を人力する。ここで、遮光板駆動信号とは、
遮光板2を振動させる駆動装置6に振動数および位相の
情報を供給する発振器9からの信号を言う。このように
、第3図の乗算器7と±1発生器8の構或をもって、既
知の位相検波器10が形或される。
衆知のように該位相検波器10の出力レヘルは、例えば
、発振器9と同相の信号が入力されると正の値を出力し
、発振器9と逆位相の信号が入力されると負の値を出力
すると言うものである。従って、第2図の曲線bl,b
2,b3の各信号が該位相検波器10に人力されると、
同図曲線1」1のような出力特性をもつ。即ち、試料面
5が設定位置Aにある場合はゼロになり、試料面5が設
定位置Aから離れている場合、その方向によって正また
は負の、ずれた距離に対応した出力値が得られる。尚、
曲線H1のグラフの横軸は試料面5の光軸G上の位置、
縦軸は位相検波器10の出力を示す。
更に、所定の定数Kを設定することにより、次式のF 
+c+ の値によって、該定数Kで決定される任意位置
と、試料面5の位置とのずれ量、及び、方向を検出する
ことができる。
F (G)  =H 1 +K その他の実施例として、対物レンズ4、又は、試料面5
自体、あるいは、試料面5を保持する台を第1図の矢印
C,  Dに示すように、振動させても、前述の遮光板
2を振動させたことと光学的には等価であり、第2図に
示した各曲線と同一の現象が得られる。
次に、試料面5が傾斜している場合、第2図に示した曲
線Eは、第4図に示す曲線E′のように、設定位置Aを
中心に非対称になる。尚、曲線E′のグラフの縦軸は光
量検出器3の出力値、横軸は試料而5の光軸G上の位置
を示す。この場合、前述の実施例と同様、試料面5が設
定位置Aにある場合、第1図示遮光板2の端縁2aを位
置A′を中心に第4図曲線a5のように振動させた時の
光量検出器3の出力は第4図の曲線b5のようになる。
該曲線b5には矢印bに示すように、曲線b4の矢印a
と同周期、同位相の戒分が含まれている。曲線b4は前
述のように試料面5が設定位置Aになく、第4図曲線a
4の位置で振動した場合と光学的に等価な場合の藺線で
ある。尚、第4図の曲線a4,a5グラフの縦軸は時間
、横軸は試料面5の光軸G上の位置を示している。また
、曲綿b4  b5のグラフの縦軸は光量検出器3の出
力値、横軸は時間を示している。このように、試料面5
が設定位WAにある場合、罰述のごとく第3図の位相検
波器10の出力はゼロになるべきものが、試料面5が傾
斜している場合ゼロにならない不都合が生じる。この不
都合を解決するための1 1 − 実施例を第5図に示す。
第5図に示す処理装置では、光量検出器3の出力を極大
値検出器l1と極小値検出器12に入力する。更に、各
々の出力をRSフリップフロツプ13のリセット人力R
とセット人力Sに導く。以上の作用を第6図によって説
明する。同図の各曲線の概要は、第6図(a)の曲線b
3,bl,b2は第2図に示したものと同一である。更
に、第6図(b)の曲線b4,b5は第4図に示したも
のと同一である。そして、曲線b3,bl,b2,b4
,b5の各々の出力が光量検出器3から出力された場合
の、第5図のRSフリップフロップ13の出力を、各々
、折れ線b’ 3,b’  1,b’ 2,b’ 4,
b’ 5で示している。尚、曲線bl,b2.b3、b
4,b5のグラフの縦軸は光量検出器3の出力値、横軸
は時間を示している。また、折れ線b’  1,b’ 
2,b’ 3,b’ 4,b’ 5の縦軸はRSフリッ
プフロップ13の出力レベル、横軸は時間を示している
。曲線b3を例に説明する。同曲線の左端から1・レー
スすると、上方向に1 2一 変化している状態から、下方向へ変化の方向が変わる時
点に極大値が存在する。該極大値を第5図の極大値検出
器11が検出し、トリガーを出力する。ずると該トリガ
ーがRSフリップフロップl3のリセッ1・入力Rに人
力し、その出力はL o状態に変わる。即ち、第6図の
折れ線b’3が170レベルになる。更に、第6図(a
)の曲線b3をトレースすると極小位置に到る。その時
、第5図の極小値検出器12が検出し、トリガーを出力
する。
すると該トリガーがRSフリップフロップ13のセット
人力Sに人力し、その出力はHt状態に変わる。即ち、
第6図(a)の折れ線b’3がI−1 tレベルになる
以上のように、第3図の処理装置の代わりに第5図の処
理装置で処理しても、第6図(a3の折れ線b’ 3,
b’ 1,b’ 2の周期や位相の関係は、第2図で示
した曲線b3,bl.b2と同しである。次に、第4図
の曲線b4,b5を同様に第5図の処理装置で処理した
場合を、第6図(b)の折れ線b’ 4,b’ 5に示
ず。第4図の曲線b5にば曲線b4と同周期、同位相の
戒分が含まれていたが、第6図(b)の折れ線b’5に
はb’4と同周期の戒分は含まれていない。以上のよう
に、第4図で示した試料面5が傾斜している場合の不都
合な現象は、第5図の処理装置で処理することにより解
消される。
次に、第2図のIII{線Eは、試料面5が設定位置A
の近傍にある場合の特性である。試料面5が設定位置A
から大きく離れた場合、第2図のdl{線Eは第7図の
曲線E1のようになる。尚、曲線E1のグラフの縦軸は
光量検出器3の出力値、横軸は試料面5の光軸G上の位
置を示す。第2図のIllI線Eから同図ψ曲線H 1
が導かれたのと同じ処理を、第7図の曲線E1に施せば
同図中曲線H 2が得られる。尚、曲線H 2のグラフ
の横軸は試料面5の光軸G上の位置、縦軸は位相検波器
10の出力を示す。同図曲線H2に於いて、矢印lで示
す領域では第2図の曲線H1と同様に、設定位置Aに対
ずる試料面5のずれの方向と曲線H2の極性は一敗して
いる。しかし、該領域Iの外では、該極性と方向が逆転
している。この現象は、曲線H2を基に試料面5を設定
位置Aに近づける制御をする際、不都合な現象である。
次に、この不都合な現象が生しないよう対処した実施例
を示す。
はじめに、第7図の曲線E1は、第1図の投光器1から
の光束が遮光板2の端縁2aの位置に集光している光学
系の場合を示している。即ち、発光部の結像位置が端縁
2aの位置にある場合を想定している。そこで、第8図
の投光器1からの実線で示す光束のように、集光位置が
遮光板2の端縁2aの位置より投光器1側にずれた位置
にある場合、第7図の曲線E1ば、第9図の曲線E3の
様に設定位ffiAを中心に非対称となる。同様に第8
図の投光器1′からの破線で示す光束のように、該集光
位置が遮光板2の端縁2aの位置より対物レンズ4側に
ずれた位置にある場合、第7図曲線E1は、第9図の曲
線E2の様に、曲線E3とは設定位置Aを軸に反転した
形になる。尚、第9図の曲線E2,E3のグラフの縦軸
は光量検出器3の出力値、横軸は試料面5の光軸G上の
位置を示l5 す。
この現象に基づいて、第1図の説明で述べたように、遮
光板2を第8図の矢印J 2のように振動させるととも
に、第8図に矢印J1で示すように投光器1を遮光板2
の振動と同一周波数、逆位相で振動させると、次に述べ
るような特殊な現象が得られる。その現象を第9図で説
明する。まず、試料面5が同図P5の位置にある状態、
即ち、第8図に示すように試料面5が設定位WAに対し
て、対物レンズ4から遠ざかる方向にずれている場合に
於いて、前述のように第8図の投光器1と遮光板2が振
動しているものとすると、両者が最も大きく振れた位置
、即ち、遮光板2が第8図の矢印J2のaの位置、また
、投光器1が矢印J1のaの位置にある場合の光量検出
器3の出力を第9図で求めると、光源が実線で示す投光
器1の位置にある場合であるから、前述のように光量検
出器3の出力は第9図の曲線E3の状態である。更に、
遮光板2が第8図の矢印J2のa側にあると言うことは
、遮光板2は試料面5と共役な関係になろl6 うとする方向に振れた状態である。従って、第9図に於
いては、a5の位置にあることになる。
同様に、投光器1と遮光板2が前述と逆の方向に最も大
きく振れた場合、即ち、投光器1が、第8図矢印Jlの
bで示す位置に有り、遮光板2が同図矢印J2のbで示
す位置にある場合の光量検出器3の出力を第9図で求め
ると、前述と同様の理出で、b5の位置にあることにな
る。即ち、光量検出器3の出力は第9図のa5とb5の
間を往復していることになる。同様に、試料面5が第9
図のPI,P2,A,P4の各位置にある場合、同様の
理由で光量検出器3の出力は、第9図のa1とbl,a
2とb2.a3とb3,a4とb4の各々の間を往復し
ていることになる。
次に、前述のように、試料面5が第9図のPIP2,A
,P4,P5の各点に対応する位置にある状況で、前述
の第8図矢印J2,Jlで示すように遮光板2と投光器
1を振動させた場合の光量検出器3の出力変化を第11
図に示す。第9図のa1〜a5,bl〜b5に対応ずる
時点を第1l図中にも同記号で示す。また、第11図中
P1で示す曲線は、第9図で試料面5の位置がP1にあ
る場合の光量検出器3の出力1111線を示している。
同第11図中のP2,A,P4,  P5の各記号も同
様である。尚、第11図の曲線PI  F’2  AP
4,P5のグラフの縦軸は光量検出器3の出力値、横軸
は時間を示している。同第11図の各+I+線を見ると
、PI.P2の各曲線が同位相、P4,P5の各曲線が
曲線PL,P2とは逆位相になっており、また、曲線A
は投光器lと遮光板2を振動させた同周期の周波数或分
はゼロである。このような信号を前述の第3図の処理装
置に示す位相検波器10に入力した場合、その出力は第
9図の藺線H3になる。尚、該曲線H 3のグラフの横
軸は試料面5の光軸G上の位置、縦軸は位相検波器10
の出力を示す。このように、第7図中曲線H2に示すよ
うな、領域Iの外に於ける極性逆点の不都合は、第9図
の■線H 3に示すように解消することができる。
その他の実施例。第8図に於いては、遮光板2と投光器
1との振動の位相が逆になっている。この状態を実施す
ることが困難な場合は、第10図に示すように投光器1
の機能を構成する、光源l4と集光レンズ15に於いて
、光源14を固定にし、集光レンズI5と遮光板2を同
相に振動さ・Uることによっても実施できる。作用を説
明する。
第10図に示すように集光レンズl5が矢印J3のaの
位置にある場合、実線で示す光束の集光部は矢印.J 
5のaの位置にある。一方、集光レンズ15が矢印J 
3のbの位置にある場合、破線で示す光束の集光部は矢
印.15のbの付置にある。以上のように、集光レンズ
15と集光部の位相は逆になっている。従って、集光レ
ンズ15と遮光板2を同位相で振動させても、該集光部
と遮光板2の位相は逆になっている。従って、集光レン
ズ15と遮光板2を同相で振動させても、第8図に示し
た、投光器1と遮光板2を逆位相で振動させた場合と同
し作用になる。
なお、第8図に於いて、投光器1と遮光板2を逆相に振
動させた実施例を示したが、これは、同− 1 9一 相で振動させても基本的な作用は同じである。しかし、
第9図から推察できるように、投光器1と遮光板2を同
相で振動させた場合、第9図に示した矢印の傾斜が全て
逆傾斜になり光量検出器3の出力信号の振幅が減少し、
それに伴って、装置のS/Nが減少することになる。ま
た、投光器1と遮光板2を異なった周波数で振動させ、
光量検出器3の出力を第一の位相検波器で遮光板2の振
動をもとに処理し、その後、第二位相検波器で投光器1
の振動をもとに処理しても同様の効果が得られる。従っ
て、投光器1と遮光板2の振動周波数は同一である必要
は無い。同様に、遮光板2と集光レンズ15に対しても
同一の振グDJ周波数である必要は無い。
以上の実施例の第1図、第8図、第10図に於いて、遮
光板2の端縁2aが作図上の光軸Gに接して描かれてい
るが、原理的に接している必要はない。更に、遮光板2
の対物レンズ4例の面で反射した光束を光量検出器3で
検出しているが、遮光板2の対物レンズ4側を光量検出
素子で構或し20 た場合、「遮光板2の試料面5側の面を照射する光束を
検出する光量検出要素」と言う意味で等価である。従っ
て、この場合、当該光量検出器3ぱ必須の構或要素では
なくなる。
〈効果〉 この発明は以上説明したように、投光器1から出射した
光束のうち試料而5で反射した光束は、遮光板2の端縁
2aと試料面5が共役な関係にあるとき、遮光板2の対
物レンズ4側の面を照射する光量が極小になるという、
結像光学系に於ける普遍的な原理に基づいた位置検出法
であるため、在来の総ての光学的位置検出法と異なり、
位置検出対象物の光学的条件に影響されることがフ!!
(いという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図から第11図は本発明の実施例に係り、第1図は
光学系第1実施例の構威図、 第2図は光学系第1実施例の光量検出器3の出力特性第
1例図、 第3図は信号処理部第1実施例のブロック図、第4図は
光学系第1実施例の光量検出器3の出力特性第2例図、 第5図は信−リ処理部第2実飽例のブしIツク図、第6
図は信号処理部第2実施例の説明図、第7図は光景検出
器3の出力特性第3例図、第8図は光学系第2実施例の
構或図、 第9図は光学系第2実施例の光量検出器3の出力特性図
、 第10図は光学系第3実施例の構成図、第11図は光学
系第2実施例の光量検出器3の出力変化を示す図、 である。 ・・・乗算器 ・・・±■発生器 ・・・発振器 0・・・位相検波器 1・・・極大値検出器 2・・・極小値検出器 3・・・RSフリップフロップ 4・・・光源 5・・・集光レンズ

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基準とする所定の位置からの試料面の位置ずれ状
    態を検出する位置検出装置において、(A)対物レンズ
    を経て試料面を照射する投光器、(B)投光器と対物レ
    ンズの間で、かつ、対物レンズによる結像光学系におい
    て、基準とする所定の位置と共役な位置に配置した遮光
    板の端縁、(C)遮光板を対物レンズの光軸と平行な方
    向に振動させる駆動装置、 (D)遮光板の対物レンズ側の面を照射する光束を検出
    する光量検出器、 (E)光量検出器の出力信号を処理する位相検波器、 (F)駆動装置および位相検波器に信号を供給する発振
    器、 からなり、位相検波器の出力によって基準とする所定の
    位置からの試料面の位置ずれを検出することを特徴とす
    る位置検出装置。
  2. (2)光量検出器の出力信号を位相検波器に導く信号伝
    達路に、最大値検出器と最小値検出器を並列にした要素
    と、RSフリップフロップとを直列に設けた第1項記載
    の位置検出装置。
  3. (3)投光器にも対物レンズの光軸と平行な方向に振動
    させる駆動装置を付設した第1項記載の位置検出装置。
  4. (4)投光器の代わりに、固定した光源と集光レンズを
    設け、駆動装置を、対物レンズの光軸と平行な方向に集
    光レンズを振動させるように設けた第1項記載の位置検
    出装置。
  5. (5)遮光板を固定し、対物レンズの光軸と平行な方向
    に対物レンズを振動させるように駆動装置を設けた第1
    項記載の位置検出装置。
  6. (6)遮光板を固定し、対物レンズの光軸と平行な方向
    に試料面を振動させるように駆動装置を設けた第1項記
    載の位置検出装置。
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4865957A (ja) * 1971-12-10 1973-09-10
JPS514426A (en) * 1974-06-28 1976-01-14 Hitachi Ltd Deiizeruenjinno kyukikanetsunenshoki
JPH0161608U (ja) * 1987-10-13 1989-04-19

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4865957A (ja) * 1971-12-10 1973-09-10
JPS514426A (en) * 1974-06-28 1976-01-14 Hitachi Ltd Deiizeruenjinno kyukikanetsunenshoki
JPH0161608U (ja) * 1987-10-13 1989-04-19

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