JPH0389337A - 放射線画像情報記録読取装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、輝尽性蛍光体を有する画像変換パネルに反射
線画像情報を記録し、且該記録した画像情報を励起走査
して輝尽光として光電的に読取る放射線画像情報記録読
取に関し、特に画像変換パネルの後方で生ずる散乱放射
線のＳ／Ｎ障碍を排除した装置に関する。

〔発明の背景〕

一般に、輝尽性蛍光体にＸ線、紫外線等の放射線を照射
すると、この放射線のエネルギーの一部が蛍光体に蓄積
記録され、この後にその蛍光体に励起光を照射すると、
蓄積されていたエネルギーに応じてその蛍光体が輝尽発
光する。

放射線画像変換パネルは、このような特性を持つ輝尽性
蛍光体層を有するパネル（以下、特別の場合を除き単に
“パネル”と称する。）であり、この輝尽性蛍光体は人
体等のＸ線等の放射線画像を潜像として記録可能であり
、この潜像部分をレーザ光等の励起光で照射すれば、そ
の潜像の濃度に対応した強度の輝尽発光が起る。よって
、その輝尽発光光を７オトマル（光電子増倍管）等の光
検出器で検出して適宜処理すれば、記録されていた放射
線画像を得ることが可能となる。

１前記のｘａｉｍ像の光電変換パネル法の利便さが認識
されるに伴い、Ｘ線発生装置、被写体及びパネル処理装
置の三構成要素の中で、特にパネル処理装置詳は、パネ
ルへのＸ線照射、輝尽発光、輝尽光読取り、更に反復使
用に備える輝尽残留エネルギーの消去或は周辺処理は夫
々装置化が進み、かつパネルに対する各操作、処理を集
約し、又線源を含めた装置相互が制御機構で連結された
コンパクトで小型の放射線画像情報記録読取装置として
、パネルを内蔵し、放射線画像情報の記録と読取とを一
台の装置で行うビルトインタイブにまとめられて来てい
る。

ビルトインタイブと対照的な輝尽画像読取方法としては
、パネルをひとまずカセツテに収納して放射線画像を記
録した後、カセツテから取出して輝尽画像情報装置に装
着する方式があるが、この方法は多品種のパネルを取扱
えるという利点をもつ一方、撮影から画像データの入手
までに長時間を要する欠点をもち、コンピュータを用い
た大量データ処理には不適当であった。

しかし前記のようにコンパクト化され利便なビルトイン
タイブ記録読取装置を用いる際に思わざる障碍が伏在し
ていることが明らかになった。

即ち被写体画像をパネルに形成したＸ線は更にパネルを
貫通してその後部にある装置部材に入射し、後方散乱Ｘ
線としてパネルに跳返り、画像に擾乱、即ち鮮鋭性、コ
ントラスト、分解能等々の劣化を与える。

これらの後方散乱Ｘ線は、カセツテにパネルを収納する
方式では、従来のハロゲン化銀Ｘ線フィルム用カセツテ
同様、カセツテ裏蓋にＸ線吸収板を設ければ事足りるが
、現在趨勢となっている非カセツテ方式のビルトインタ
イブ記録読取装置に対して同様の対策を施すことが急務
となっている。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、後方散乱Ｘ線による画質擾乱のない画
像を与えるビルトインタイブ放射線画像情報記録読取装
置を提供することにある。

〔発明の構成及び作用効果〕

前記本発明の目的は、放射線源から照射された放射線を
、輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルに照射
して放射線画像情報を蓄積記録した後、該パネルを励起
光で走査して、発生する輝尽光を光電的に読取る放射線
画像情報記ａｌｌ！ｌｌ吸取おいて、放射線照射中は、
前記パネルの照射を受ける面とは反対側の面に近接、平
行して、後方散乱放射線吸収板を位置させる機構を有す
る放射線画量情報記録読取装置によって達成される。

まづ、第１図に本発明に係る放射線画像情報記録読取装
置（以後記録読取装置と略称）の−例の構成ブロック図
を示し、かつ胸部放射線撮影に適用した場合の例を示す
。

放射線発生源ｌは、放射線制御装置２によって制御され
て、被写体（人体胸部等）Ｍに向けて放射線を照射する
。記録読取装置３は、被写体Ｍを挟んで放射線発生源ｌ
と対向する面に上記したパネル４を備え、そのパネル４
は放射線発生源ｌからの照射放射線量に対する被写体Ｍ
の放射線透過率分布に従ったエネルギーを輝尽性蛍光体
層に（輝尽層と略称する）に蓄積することで、そこに被
写体Ｍの潜像を形成する。

光ビーム発生部（ガスレーザ、固体レーザ、半導体レー
ザ等）５は、出射強度が制御された光ビームを発生し、
そのビームは後記する種々の光学系を経由して走査器６
に到達し、そこで偏向を受け、更に反射鏡７で光路を変
更されて、パネル４に励起走査として導かれる。

集光体８は、励起光が走査されるパネル４に近接して光
ファイバからなる集光端が位置され、上記光ビームで走
査されたパネル４からの潜像エネルギーにほぼ比例した
輝尽発光光を受光する。９は集光体８から導入された光
から輝尽発光波長領域の光のみ通過させるフィルタであ
り、そこを通過した光は７オトマルｌＯに入射して、そ
の入射光に対応した電流信号に変換される。

フォトマルｌＯからの出力電流は、電流／電圧変換器１
１で電圧信号に変換され、増幅器１２で増幅された後、
Ａ／Ｄ変換器１３でデジタルデータに変換される。そし
て、このデジタルデータは画像メモリ１４に順次記憶さ
れる。１５はＣＰＵであり、メモリ１４にに格納された
画像情報に対して種々の画像処理（例えば、階調処理、
周波数処理、移動、回転、統計処理等）を施し、その処
理結果としての画像情報は、画像表示装置１６で表示さ
れる。１７はメモリ１４内の画像情報を外部に伝送する
ための、或は外部からの同様な情報を受は取るｔ；めの
インターフェースである。１８は読取ゲイン調整回路に
より、光ビーム発生部５の光ビーム強度調整、７オトマ
ルのゲイン調整、電流／電圧変換器１１と増幅器１２の
ゲイン調整、及びＡ／Ｄ変換器１３の入力ダイナミック
レンジ調整が行われ、放射線画像情報の読取ゲインが総
合的に調整される。

第２図は、パネル４を配置し、励起・読取ユニット３０
を移動可能に設けた機構部分を示す図である。

２１は装置ｔ３の本体の外枠を機構するフレームである
。

励起・読取ユニット３０は、その全体が移動板３１に固
定状態で構成されている。この移動板３１には雌螺子（
図示せず）が固定され、この雌螺子はフレーム２１に取
り付けたモータ２５により回転する雄螺子２６に螺合し
螺子ジヤツキを構成している。２７はガイド棒である。

従って、モータ２５を駆動することにより、移動板３１
は矢印Ｙ方向或ははそれと反対に移動可能である。

この移動板３１には前記した光ビーム発生部５が搭載（
第２図では図示せず）され、そこからのビームはビーム
径を整形（拡張）するビームエキスパンダ等の光学系（
図示せず）を経由してガルバノメータミラーやポリゴン
ミラー等（図ではガルバノメータミラーを示す。）の走
査器６で反射されて走査光となって、ピント調整用のｆ
θレンズ等の集光レンズ３２を通り、反射鏡７１〜７３
で光路を変更されて励起光８１となる。

パネル４は上記励起・読取ユニット３０の移動範囲の第
２図において左方に装着されており、上記励起光８１が
このパネル４の上に走査線８０となって走査される。

ここで、光ヒーム発生部５から反射鏡７１までの励起光
光路は、同一平面上にあり、かつパネル４と平行になる
ように構成されているが、このようにすることにより、
装置の組み立てや位置精度を必要とする光ビームの光路
調整作業等を容易に行うこともでき、更に装置をコンパ
クトにすることも可能となる。

フォトマルｌＯは移動板３１に固定され、そこに輝尽発
光光を伝達する集光体８の集光端面８ａが走査線８０の
近傍に位置しその走査線８０と平行に並んでいる。

さて、この装置３では、パネル４上にＸ方向（第２図の
図面の紙面に垂直な方向）主走査は、光ビーム発生部５
から出射したビームが走査器６で振られ（走査され）、
集光レンズ３２でパネル４の面に対してピントを合せら
れることにより行われ、これは従来と同様である。

一方、Ｙ方向の副走査は、本例ではパネル４が固定され
、移動板３１のＹ方向への移動、つまり励起・読取ユニ
ット３０自体の移動により行われる。

従ってパネル４上を励起光８１で二次元的に走査するこ
とができ、その励起光８１で走査された部分において潜
像の濃度に対応する輝尽発光光が発生すると、その発光
ず集光体８で集体されて７オトマル１０に導かれ、そこ
で検出され電気信号となる。

そして、この電気信号を主走査及び副走査と同期して気
運することにより、パネル４上に潜像として記録されて
いた画像を再生することができるのである。

本例の装置では、上記のように励起・読取ユニット３０
を一体的に構成しているので、各部分の相互の位置ずれ
が少なくなり、より安定した画像読取が可能となる。

又パネル４を反復使用するには画像照射に先立って残っ
ている潜像を消去する必要がある。この消去はパネル４
に強力な光を照射することにより行うことができるので
、第２図の消去ランプ３３を走査域に先行できる位置に
集光体８とほぼ平行に設け、このラング３３を移動板３
１に固定すれば良い。

又、このランプ３３には、そこからの光を効率良くパネ
ル４に対して照射するために、反射板３４で覆うように
する。

消去ランプ３３と反射板３４は消去ユニットを構成Ｌ１
その取付位置としては、パネル４に近ければ消費電力も
少なく、ランプ３３自体の小型・軽量化も可能となる。

又、第２図に示すように集光体８と消去ユニットとの間
に励起光８１を通すことにより、デッドスペースが少な
くなり、装置３そのものを大幅にコンパクト化すること
が可能となる。

ここで使用する消去ランプ３３としては、タングステン
ランプ、ハロゲンランプ、蛍光灯等がある。

なお、集光体８とランプ３３を一体化しているので、画
像読取を行いながら先行して障碍となる像部分を順次消
去することが可能であるが、ランプ３３の光が集光体８
に入射したり、現在読取中の走査線８０を照射すると大
きなノイズとなって７オトマルｌＯで検知されるという
問題が発生する。

そこで、これを防止するためには矢印Ｙの向きへの副走
査時に読み取りを行い、その反対の向きへの戻り時に予
め消去を行っておくというプロセスを採用することが好
ましい。

又、このランプ３３による消去時の光によって゛フォト
マルＩＯの光電面が劣化することを抑えるために、走査
線８０から７オトマルｌＯに至る光路に、抜き差し可能
な遮光手段３５（第２図）を設けることが好ましい。こ
のようにすれば、フォトマルｌＯへのランプ光を遮断す
ることが可能となり、その寿命を長くすることが可能と
なる上に次回の読み取りの支障が減少される。

この場合の遮光手段３５として用いられる遮光板は、輝
尽発光光を透過させ励起光を減衰させるフィルタと差し
換える機構としても良い。又、遮光手段３５としては、
液晶シャッタなどの光シャッタを用いることもできる。

更に、この遮光手段３５は、消去ランプ光を遮光すると
共に、撮影時の放射線も遮断できることが好まく、この
場合は材質として鉛板等を付加したものが好適である。

又、上記例では、パネル４を垂直に縦に配置した立位用
の記録読取装置を示したが、パネル４を水平方向に寝か
せた所謂“臥位”用にも同様の構成で実現できることは
勿論である。

以上説明したパネル４における輝尽性蛍光体とは、最初
の光もしくは高エネルギー放射線が照射された後に、先
約、熱的、機械的、化学的又は電気的等の刺激（輝尽励
起）により、最初の光もしくは高エネルギー放射線の照
射量に対応した輝尽発光を示す蛍光体を言うが、実用的
な面から好まましくは５００ｎｍ以上の輝尽励起光によ
って輝尽発光を示す蛍光体である。

このような輝尽性蛍光体としては、例えば特開昭４８−
８０４８７号に記載されているＢａ５Ｏａ：Ａｘ、特開
昭４８−８０４８９号に記載されている５ｒＳＯ，：Ａ
ｘ、特開昭５３−３９２７７号に記載されているＬｉ、
Ｂ、Ｏｙ：Ｃｕ、Ａｇ等、特開昭５４−４７８８３号に
記載されているＬｉ１Ｏ（Ｂ＊０１）ｘ：Ｃｕ及びＬｉ
、０−（Ｂ、０．）：ＣｕｌＡｇ等、米国特許３，８５
９．５２７号のＳｒＳ：Ｃｅ、Ｓｍ、ＳｒＳ：Ｅｕ、Ｓ
＋ｓ、Ｌａ、Ｏ，Ｓ：Ｅｕ、Ｓｍおよび（Ｚｎ、Ｃｄ）
Ｓ：Ｍｎ、Ｘで示される蛍光体が挙げられる。

また、特開昭５５−１２１４２号に記載されているＺｎ
Ｓ：Ｃｕ、Ｐｂ蛍光体、一般式ＢａＯ＊ｘＡａ、Ｏ，：
Ｅｕで示されるアルミン酸バリウム蛍光体、および一般
式、ＭＩＯ・ｘｓｉｏｌ：Ａで示されるアルカリ土類金
属珪酸塩系蛍光体が挙げられる。また、特開昭５５−１
２１４３号に記載されている一般式、 （Ｂａ、−、−、Ｍｇ、Ｃａ、）　ＦＸ：　Ｅｕ”で示
されるアルカリ土類弗化ハロゲン化物蛍光体、特開昭５
５−１２１４４号に記載されている一般式、ＬｎＯＸ　
：　　ｘＡ で示される蛍光体、特開昭５５−１２１４５号に記載さ
れている一般式、 （Ｂａｔ−ｗ　　Ｍ　　−）　　ＦＸ　：　ｙＡに示さ
れる蛍光体、特開昭５５−８４３８９号に記載されてい
る一般式、 ＢａＦＸ　：　　ｘｃｅ、　　ｙＡ で示される蛍光体、特開昭５５−１６００７８号に記載
されている一般式、 Ｍ　Ｆｘ＠　ｘＡ：　ｙＬｎ で示される希土類元素付活２価金属フルオロハライド蛍
光体、一般式、ＺｎＳ：　Ａ、　ＣｄＳ：　Ａ、　　（
Ｚｎ、　Ｃｄ）Ｓ　：　Ａ、　ＺｎＳ　：　Ａ、Ｘ及び
ＣｄＳ　：　Ａ、Ｘ−ｔ’示される蛍光体、特開昭５９
−３８２７８号に記載されている下記いずれかの一般式
、 ｘＭ、（ＰＯ，）２　・ＮＸ、：　ｙＡＭｓ　（ＰＯ４
）　　ｘ　：　３’Ａ ゛で示される蛍光体、特開昭５９−１５５４８７号に記
載されている下記のいずれかの一般式、 ｎＲｅＸ　３　・ｍＡＸ２’　：　ｘＥｕｎＲｅＸ３　
・　ｍＡＸ２’　：　　ｘＥｕ、ｙｓｍで示される蛍光
体、および特開昭６１−７２０８７号に記載されている
下記一般式、 Ｍ　ＩＸ−ａＭＩｒＸ’　、　・ｂＭＩ［［Ｘ、”　：
ｃＡで示されるアルカリハライド蛍光体および特開昭６
１−２２８４００号に記載されている一般式、ＭＩＸ　
：　ｘＢｉ。

で示されるビスマス付活アルカリハライド蛍光体等が挙
げられる。特にアルカリハライド蛍光体は、蒸着、スパ
ッタリング等の方法で輝尽層を形成しやすく好ましい。

しかし、本発明の変換パネルに用いられる輝尽性蛍光体
は、前述の蛍光体に限られるものではなく、放射線を照
射した後輝尽励起光を照射した場合に輝尽発光を示す蛍
光体であればいかなる蛍光体であってもよい。

本発明の変換パネルにおける輝尽層は、前記の輝尽性蛍
光体の少なくとも一種類を含むｌもしくは２以上の輝尽
層から戊る輝尽層群であってもよい。また、それぞれの
輝尽層に含まれる輝尽性蛍光体は同一であってもよいが
異なっていてもよい。

輝尽層の形成方法としては、特開昭５６−１２６００号
に記載の塗布法を適用することができ、また蒸着などの
気相堆積法などを適用することができる。

気相堆積法で形成された輝尽層は、塗布法で形成された
輝尽層よりも蛍光体の充填密度が高くなり、放射線感度
が高くなる。

変換パネルの輝尽層の層厚は、目的とする変換パネルの
放射線に対する感度、輝尽性蛍光体の種類等によって異
なるが、結着剤を含有しない場合１０〜１００．０μｍ
の範囲、さらに好ましくは３０〜８００μｍの範囲から
選ばれるのが好ましく、結着剤を含有する場合で２０〜
１０００μｍの範囲、さらに好ましくは５０〜５００μ
ｍの範囲から選ばれるのが好ましい。

本発明において使用される支持体としては各種高分子材
料、結晶化ガラスなどのガラス、セラミックス、金属等
が挙げられる。

高分子材料としては例えばセルロースアセテート、ポリ
エステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、
ポリイミド、トリアセテート、ポリカーボネートなどの
フィルムが挙げられる。

金属としては、アルミニウム、鉄、銅、クロム等の金属
シートもしくは金属板または該金属酸化物の被覆層を有
する金属シートまたは金属板が挙けられる。ガラスとし
ては化学的強化ガラスおよび結晶化ガラスなどが挙げら
れる。またセラミックスとしてはアルミナおよびジルコ
ニアの焼結板などが挙げられる。気相堆積法で輝尽層を
形成する場合には結晶化ガラスが好ましい。

また、これら支持体の層厚は用いる支持体の材質等によ
って異なるが、一般的には８０μｍ〜５ｍｍであり、取
り扱いが容易であるという点から、好ましくは２００μ
ｍ〜３ｍｍである。

これら支持体の表面は滑面であってもよいし、上層との
接着性を向上させる目的でマット面としてもよい。また
、支持体の表面は凹凸面としてもよいし、個々に独立し
た微小タイル状板を密に配置した表面構造としてもよい
。

本発明の変換パネルにおいては、輝尽層を外部雰囲気か
らの化学的刺激、特に水分から保護するために、輝尽層
上にさらに少なくとも１以上の保護層を設けることがで
きる。

このような保護層を形成するものとしては、透光性がよ
く、シート状に成形できるものを用いることができる。

さらに、保護層は輝尽励起光および輝尽発光を効率よく
透過するために、広い波長範囲で高い透過率を示すもの
が好ましく、この透過率が８０％以上のものがさらに好
ましい。

このようなものとしては、例えば、石英、硼珪酸ガラス
、化学的強化ガラスなどの板ガラスや、ＰＥＴ、　ＯＰ
Ｐ、ポリ塩化ビニルなどの有機高分子化合物を挙げるこ
とができる。ここで例えば、硼珪酸ガラスは３３０ｎｍ
〜２．６μｍの波長範囲で８０％以上の透過率を示し、
石英ガラスではさらに短波長においても高い透過率を示
す。

保護層を形成するものとしては、透過率とともに防湿性
が優れていることから板ガラスが好ましル１゜ 保護層の厚さは、実用上は１０μｍ〜３ｍｍであり、良
好な防湿性を得るためには１００μｍ以上が好ましい。

この保護層の厚さが５００μｍ以上の場合には耐久性、
耐用性に優れた変換パネルを得ることができ好ましい。

本発明の変換パネルにおいて、輝尽層と保護層との間に
保護層よりも低屈折率の層を設けてもよい。また、輝尽
層と前記低屈折率の層との間に、さらに前記低屈折率の
層よりも高屈折率の層を設けてもよい。これらの保護層
構成によれば、画像の鮮鋭性を損なうことなく、耐用性
を向上させることができ好ましい。

また、保護層の表面に、ＭｇＦｚ等の反射防止層を設け
ると、輝尽励起光および輝尽発光を効率よく透過すると
ともに、鮮鋭性の低下を小さくする効果もあり好ましい
。

保護層の屈折率は特に制限されないが、実用上は１．４
〜２．０の範囲が一般的である。

保護層は、必要に応じて２層以上を設けることができる
。特に、特開昭６２−１５５００号に開示されている互
いに吸湿性の異なる２層以上を組み合せた構成は、防湿
性が高く好ましい。

本発明の変換パネルにおいては、保護層は支持体の役割
を兼ねることもできる。その場合は本発明でいう支持体
は実質的に輝尽層を支持する機能を発揮しなくてもよい
。

〔実施例〕

次に本発明に係る後方散乱放射線吸収板（以後吸収板と
略称する）をビルトインタイブ記録読取装置に装着１機
能させる態様を第３図に示す。

同図において、３は装置全体を示し、ｌは放射線発生源
、Ｍは被写体である。

４はパネルであり、被写体に近接し、放射線照射軸に直
角な撮影位置面に装着される。吸収板４０は放射線の照
射の向きに関しパネル裏側に近接。

平行に装着し放射線を照射し画像撮影を行う。

５０は移動板３１に機能発揮に好都合に配置固定された
第２図のような機能の励起・読取ユニット３０及び消去
ユニット（ランプ３３及び反射板３４）からなる処理セ
ットである。

本発明において第３図（ａ）のように、放射線照射方向
と励起光照射方向とがパネルに関して同じ側であれば、
吸収板４０は常時固定したままでもよいが、第３図（ｂ
Ｘｃ）のように放射線源と反対の側から励起光を照射す
る装置では雨傘撮影後、パネルの裏側に装着されていた
吸収板４０は引払われ、パネル４に対し処理セット５０
のパネル４に関る機能面が直接パネル４に接面させられ
る。

この間のパネル４、吸収板４０及び処理セット５０の移
動、配置位置は、画像を蓄積したパネル４に対し、支障
なく励起・読取り及び残像消去が行われる限り何ら制限
はない。第３図（ａ　）、（ｂ　）及び（ｃ）にその実
施態様例を挙げた。

また吸収板の引払いの態様によっては、吸収板の引払い
につれて露呈するパネル４を逐次励起・読取りを行うこ
ともできる。

本発明に係る吸収板の形状、機動は、剛直板−枚の一方
向直線移動に限定されることはなく、第４図に実施態様
の例を挙げた。

同図（ａ）は前記板状の直線一方移動、（ｂ）は二枚二
方向移動、（Ｃ）はジグザク折畳み、（ｄ）は観音開き
（ｅ）は片開き、更に（ｌは可撓性膜捲込みである。（
ａ　）、（Ｃ）、（ｆ　）は吸収板の一端を励起・読取
・消去ユニットに連結し、該ユニットの往復移動と連動
して吸収板の引払い及び復帰が行われるようにしてもよ
い。

即ち輝尽画像読取りのプロセスに支障なく、後方散乱放
射線からパネルを防護できれば自由に形状、機動を選び
うる。

尚大きさはパネルより多少大きめのパネルを充分に掩う
大きさであることが好ましい。

次に吸収板に要求される性質としては、（１）放射線吸
収が大で、まづは、パネルを透過して装置部品等に到達
する線量を低減でき、また装置部品等より発生した後方
散乱放射線がパネルに入射するのを防止できること。

（２）それ自体の後方散乱放射線発生率が小であること
が挙げられる。

具体的に吸収板の材質としては、鉛、銅、鋼、アルミニ
ウムなどの金属、或は金属、木、プラスチック等からな
る薄板に後方散乱放射線低減塗料（ＪＩＳＺ４８１６）
などの塗料を塗布したもの、または、ＪＩＳＺ４８１８
の散乱Ｘ線低減レーザクロス、散乱Ｘ線低減シートなど
の後方散乱Ｘ線低減材料が挙げられ、特に鉛板が好まし
い。

また吸収板の厚さは材質及び形状によって異なるが、０
．１ｍｍ−１ｃｍが好ましい。

次に第２図のような機構をもつビルトインタイブ記録読
取装置に吸収板として厚さ０．５■の鉛板を装着した時
の効果を調べた。

被写体として０．１ｍ　ｍ厚の鉛チャートを用い、管電
圧８０ｋＶｐで１１ｍＲのＸ線を照射した直後に画像を
読取り、画像データをコンピュータに転送して解析した
。

吸収板なしの場合及び吸収板ありの場合、それぞれの画
像データからチャート像のコントラストを求め、吸収板
なしの場合のコントラスト値を１として吸収板ありの場
合のコントラスト値を相対値で表すと１．０８であった
。一方、被写体のない部分の出力信号値から単位照射Ｘ
線量あたりの輝尽発光量を計算すると、吸収板のない場
合ｌに対して吸収板のある場合は０．９３であった。

以上の結果から、吸収板を設けることにより、第２図の
装置内部の部品等からの後方散乱線がパネルに入射して
ノイズとして働くのを防ぎ、コントラストを向上させて
いることが確められた。

〔発明の効果〕

ビルトインタイブ記録読取装置の機能を低下させること
なく、パネルを通過する放射線に基因する散乱放射線の
障害を殆ど完全に払拭することができた。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の放射線画像情報記録読取装
置の構成のブロク図、第２図は同装置の内部の機構を示
す側面図、第３図はパネル及び吸収板装着機構を示す説
明図である。 また第４図は吸収板の形態例を示す説明図である。 ｌ・・・放射線発生源、　　　２・・・放射線制御装置
、３・・・読取装置、 ４・・・放射線画像変換パネル、 ５・・・光ビーム発生部、　　６・・・走査器、７・・
・反射鏡、 ９・・・フィルタ、 １１・・・電流／電圧変換器、 １３・・・Ａ／Ｄ変換器、 １５・・・ＣＰＵ。 １７・・・インターフェース、 １９・・・高圧電源、 ２５・・・モータ、 ２７・・・ガイド棒、 ３０・・・励起・読取ユニット、 ３２・・・集光レンズ、 ３４・・・反射板、 ８０・・・走査線、 ４０・・・放射線吸収板、 ８・・・集光体、 ｌＯ・・・フォトマル、 １２・・・増幅器、 １４・・・画像メモリ、 １６・・・表示器、 １８・・・ゲイン調整回路、 ２１・・・フレーム、 ２６・・・雄螺子、 ３１・・・移動板、 ３３・・・消去ランプ、 ７１〜７３・・・反射鏡、 ８１・・・励起光、 ５０・・・処理セット。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 放射線源から照射された放射線を、輝尽性蛍光体層を有
   する放射線画像変換パネルに照射して放射線画像情報を
   蓄積記録した後、該パネルを励起光で走査して、発生す
   る輝尽光を光電的に読み取る放射線画像情報記録読取装
   置において、放射線照射中は、前記パネルの照射を受け
   る面とは反対側の面に近接、平行して、後方散乱放射線
   吸収板を位置させる機構を有する放射線画像情報記録読
   取装置。