JPH0382786A - イリジウムの精製方法 - Google Patents
イリジウムの精製方法Info
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- JPH0382786A JPH0382786A JP21887589A JP21887589A JPH0382786A JP H0382786 A JPH0382786 A JP H0382786A JP 21887589 A JP21887589 A JP 21887589A JP 21887589 A JP21887589 A JP 21887589A JP H0382786 A JPH0382786 A JP H0382786A
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Landscapes
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、電解によるイリジウムの精製方法、特に微量
の他の貴金属不純物を含有するイリジウム溶液から該貴
金属不純物を除去してイリジウムを精製する方法に関す
る。
の他の貴金属不純物を含有するイリジウム溶液から該貴
金属不純物を除去してイリジウムを精製する方法に関す
る。
(従来技術とその問題点)
イリジウムには通常、金、銀、白金、パラジウム、ロジ
ウム及びルテニウム等の貴金属が不純物として混入して
いる。これらの貴金属とイリジウムとの分離は化学的沈
澱法や溶媒抽出法により行われているが、いずれの方法
でも操作が複雑多岐に渡り、多くの労力と多くの時間が
必要とされてきた。
ウム及びルテニウム等の貴金属が不純物として混入して
いる。これらの貴金属とイリジウムとの分離は化学的沈
澱法や溶媒抽出法により行われているが、いずれの方法
でも操作が複雑多岐に渡り、多くの労力と多くの時間が
必要とされてきた。
一方塩化物系においてイリジウム溶液を隔膜電解するこ
とにより不純物を陰極上に電析させてイリジウムを精製
できることが見出された。しかし該方法では陰極上に電
析した貴金属が陽極側からの塩素ガスや酸素ガスにより
再溶解して特に微量不純物除去(イリジウム溶液中の不
純物数ppm以下)の効率が悪くなってイリジウム純度
が低下したり精製時間が長くなるといった欠点を有して
いる。
とにより不純物を陰極上に電析させてイリジウムを精製
できることが見出された。しかし該方法では陰極上に電
析した貴金属が陽極側からの塩素ガスや酸素ガスにより
再溶解して特に微量不純物除去(イリジウム溶液中の不
純物数ppm以下)の効率が悪くなってイリジウム純度
が低下したり精製時間が長くなるといった欠点を有して
いる。
(発明の目的)
本発明は、上記欠点を解消し、貴金属不純物を有するイ
リジウムを電解精製して不純物の少ないイリジウムを得
るための方法を提供することを目的とする。
リジウムを電解精製して不純物の少ないイリジウムを得
るための方法を提供することを目的とする。
(問題点を解決するための手段)
本発明は、イリジウム溶液を隔膜電解により精製する方
法において、陰極室側のイリジウム溶液を循環させなが
ら電解を行い、循環させる前記イリジウム溶液を連続的
又は間歇的に濾過することを特徴とするイリジウムの精
製方法である。
法において、陰極室側のイリジウム溶液を循環させなが
ら電解を行い、循環させる前記イリジウム溶液を連続的
又は間歇的に濾過することを特徴とするイリジウムの精
製方法である。
以下本発明の詳細な説明する。
不純物として前記した他の貴金属を含む塩化物系のイリ
ジウムの電解精製では、イリジウム以外の貴金属イオン
が全て金属の状態(原子価零)まで還元されて(例えば
Pt’°−Pt0)金属として陰極上に析出するのに対
し、イリジウムは4価から3価に還元されるのみで陰極
上に析出しないため、電解の進行に伴って不純物を含有
する前記イリジウム溶液のイリジウムの純度が向上して
精製が行われるのである。しかし前述した通り、陰極上
に電析した不純物貴金属が陽極室から発生し混入するこ
とのある微量の塩素ガスや酸素ガス等により酸化されて
対応するイオンとして陰極液つまり精製すべきイリジウ
ム溶液中に溶解することがある。
ジウムの電解精製では、イリジウム以外の貴金属イオン
が全て金属の状態(原子価零)まで還元されて(例えば
Pt’°−Pt0)金属として陰極上に析出するのに対
し、イリジウムは4価から3価に還元されるのみで陰極
上に析出しないため、電解の進行に伴って不純物を含有
する前記イリジウム溶液のイリジウムの純度が向上して
精製が行われるのである。しかし前述した通り、陰極上
に電析した不純物貴金属が陽極室から発生し混入するこ
とのある微量の塩素ガスや酸素ガス等により酸化されて
対応するイオンとして陰極液つまり精製すべきイリジウ
ム溶液中に溶解することがある。
電析した他の貴金属とイリジウム溶液間の接触を防止す
れば前記貴金属の再溶解を防止することができるが、本
発明では、電析した貴金属を含む陰極液を循環させて連
続的又は間歇的に濾過を行って電析した貴金属を前記イ
リジウム溶液から分離することにより電析貴金属とイリ
ジウム溶液との接触を防止し従って貴金属の再溶解を確
実に防止してイリジウム溶液の精製を行うようにしてい
る。
れば前記貴金属の再溶解を防止することができるが、本
発明では、電析した貴金属を含む陰極液を循環させて連
続的又は間歇的に濾過を行って電析した貴金属を前記イ
リジウム溶液から分離することにより電析貴金属とイリ
ジウム溶液との接触を防止し従って貴金属の再溶解を確
実に防止してイリジウム溶液の精製を行うようにしてい
る。
陰極上に電析した貴金属不純物の一部は該陰極上から脱
落して陰極室内に浮遊したり陰極室の底板上に堆積した
りするが、本発明では、陰極液を電析した貴金属不純物
とともに循環させ循環経路の途中で前記循環する陰極液
中の貴金属不純物を濾過して系外へ除去し陰極液中への
再溶解を防止するようにする。
落して陰極室内に浮遊したり陰極室の底板上に堆積した
りするが、本発明では、陰極液を電析した貴金属不純物
とともに循環させ循環経路の途中で前記循環する陰極液
中の貴金属不純物を濾過して系外へ除去し陰極液中への
再溶解を防止するようにする。
本発明で使用する精製用電解槽の陰極室に微量の貴金属
不純物を含む精製すべきイリジウム溶液を加え、陽極室
に塩酸、硫酸あるいはリン酸等の酸又は塩化ナトリウム
、塩化カリウム及び硫酸ナトリウム等のその塩等の電解
質溶液を加える。電極は特に限定されず、使用する電解
液に対する耐性を有する任意の材料で形成された電極を
使用すればよく、例えば陽極としては不溶性の白金−チ
タン電極やカーボン電極を、又陰極としては該白金−チ
タン電極、ステンレス板又はチタン板等を使用すること
ができる。
不純物を含む精製すべきイリジウム溶液を加え、陽極室
に塩酸、硫酸あるいはリン酸等の酸又は塩化ナトリウム
、塩化カリウム及び硫酸ナトリウム等のその塩等の電解
質溶液を加える。電極は特に限定されず、使用する電解
液に対する耐性を有する任意の材料で形成された電極を
使用すればよく、例えば陽極としては不溶性の白金−チ
タン電極やカーボン電極を、又陰極としては該白金−チ
タン電極、ステンレス板又はチタン板等を使用すること
ができる。
両極室を区画する隔膜としては耐酸性の隔膜特に陽イオ
ン交換膜を使用することが好ましく、該陽イオン交換膜
としてはセレミオン(旭硝子株式会社製)、ナフィオン
(デュポン社製)、ネオセブタ(徳山曹達株式会社製)
等がある。
ン交換膜を使用することが好ましく、該陽イオン交換膜
としてはセレミオン(旭硝子株式会社製)、ナフィオン
(デュポン社製)、ネオセブタ(徳山曹達株式会社製)
等がある。
前記イリジウム溶液の濃度は塩酸濃度で0.O1〜6N
、(他の酸や塩化物塩が加わってもよい)イリジウム濃
度として1100ppから150 g / Aの範囲と
することが好ましい。
、(他の酸や塩化物塩が加わってもよい)イリジウム濃
度として1100ppから150 g / Aの範囲と
することが好ましい。
陰極液の循環経路の一部を濾過フィルタを通る枝路と通
らない枝路に分割し、バルブ操作等により前記循環する
イリジウム溶液を間歇的に濾過フィルタを通して濾過を
行うようにすることが望ましい。これにより連続濾過の
場合よりイリジウム溶液との接触が少なくなり、酸化に
よる再溶解をより効果的に防止することができる。濾過
フィルタはどのようなタイプのものでもよく、カートリ
ッジタイプのものは交換が容易でありかつ濾過された貴
金属の回収も容易であるため本発明の濾過に適している
が、メンブランフィルタも少量の濾過には使用し易く微
細な粒子を保持できるため用途によっては適宜使用す・
ることかできる。
らない枝路に分割し、バルブ操作等により前記循環する
イリジウム溶液を間歇的に濾過フィルタを通して濾過を
行うようにすることが望ましい。これにより連続濾過の
場合よりイリジウム溶液との接触が少なくなり、酸化に
よる再溶解をより効果的に防止することができる。濾過
フィルタはどのようなタイプのものでもよく、カートリ
ッジタイプのものは交換が容易でありかつ濾過された貴
金属の回収も容易であるため本発明の濾過に適している
が、メンブランフィルタも少量の濾過には使用し易く微
細な粒子を保持できるため用途によっては適宜使用す・
ることかできる。
この濾過操作では、循環する陰極液により陰極室中に流
れが生じて電析して陰極上に付着している貴金属不純物
の剥離が促進されて濾過効率が向上する。イリジウムや
貴金属不純物の初期濃度、及びたの電解条件にも影響さ
れるが、本発明の精製方法によると、殆どの貴金属不純
物が約95%以上の除去率で除去され、不純物の少ない
高純度のイリジウム溶液を得ることができる。
れが生じて電析して陰極上に付着している貴金属不純物
の剥離が促進されて濾過効率が向上する。イリジウムや
貴金属不純物の初期濃度、及びたの電解条件にも影響さ
れるが、本発明の精製方法によると、殆どの貴金属不純
物が約95%以上の除去率で除去され、不純物の少ない
高純度のイリジウム溶液を得ることができる。
(実施例)
次に本発明の実施例を記載するが該実施例は本発明を限
定するものではない。
定するものではない。
実施例1
第1図の概略図に示した電解槽を用いてイリジラム溶液
の電解精製を行った。
の電解精製を行った。
隔膜■として強酸性陽イオン交換膜であるセレミオンC
MV (旭硝子株式会社製)を用い、陽桶2としてチタ
ン基材上に白金をメツキした不溶性電極を、陰極3とし
てステンレス板をそれぞれ使用した。陽極室には陽極液
4としてO,lNの塩酸溶液を加え、陰極室には陰極液
5として第1表に示した貴金属不純物を含有する0、5
NHC1のイリジウム溶液51を加えた。電解電圧3V
、電流3A、電流密度3A/dm”の電解条件でイリジ
ウムの電解精製を行った。
MV (旭硝子株式会社製)を用い、陽桶2としてチタ
ン基材上に白金をメツキした不溶性電極を、陰極3とし
てステンレス板をそれぞれ使用した。陽極室には陽極液
4としてO,lNの塩酸溶液を加え、陰極室には陰極液
5として第1表に示した貴金属不純物を含有する0、5
NHC1のイリジウム溶液51を加えた。電解電圧3V
、電流3A、電流密度3A/dm”の電解条件でイリジ
ウムの電解精製を行った。
電解を行いながら、電解槽の陰極室の槽底から毎分10
0m1ずつ前記イリジウム溶液を抜き出しポンプにより
循環経路7を通して前記イリジウム溶液を循環させ、陰
極室の上部から電解槽へ戻した前記循環路7の先端部は
バルブ8の部分から部分されて、アトパンチツク製の孔
径0.2μmのメンブランフィルタである濾過フィルタ
9を有する濾過パイプ10と濾過フィルタを有しない循
環パイプ11が装着され、前記バルブ8を操作して前記
循環路7中のイリジウム溶液を25分間は循環パイプI
fを通し、その後の5分間を前記濾過パイプ1oを通す
ようにした。
0m1ずつ前記イリジウム溶液を抜き出しポンプにより
循環経路7を通して前記イリジウム溶液を循環させ、陰
極室の上部から電解槽へ戻した前記循環路7の先端部は
バルブ8の部分から部分されて、アトパンチツク製の孔
径0.2μmのメンブランフィルタである濾過フィルタ
9を有する濾過パイプ10と濾過フィルタを有しない循
環パイプ11が装着され、前記バルブ8を操作して前記
循環路7中のイリジウム溶液を25分間は循環パイプI
fを通し、その後の5分間を前記濾過パイプ1oを通す
ようにした。
電解前の前記イリジウム溶液中のイリジウム、金、銀、
白金、パラジウム、ロジウム及びルテニウムの濃度、及
び電解開始後3時間及び4.5時間経過時の前記各金属
の濃度を第1表に示した。更にその場合の各貴金属不純
物の除去率を第2表に示した。
白金、パラジウム、ロジウム及びルテニウムの濃度、及
び電解開始後3時間及び4.5時間経過時の前記各金属
の濃度を第1表に示した。更にその場合の各貴金属不純
物の除去率を第2表に示した。
実施例2
バルブ8を操作して循環路7を通るイリジウム溶液が全
て濾過パイプ10を通るようにしたこと以外は実施例1
と同様にしてイリジウム溶液の電解精製を行った。その
結果を第1表に示した。更にその場合の各貴金属不純物
の除去率を第2表に示した。実施例1の4,5時間経過
時と比較すると各貴金属不純物の濃度がやや上昇してい
ることが分かる。
て濾過パイプ10を通るようにしたこと以外は実施例1
と同様にしてイリジウム溶液の電解精製を行った。その
結果を第1表に示した。更にその場合の各貴金属不純物
の除去率を第2表に示した。実施例1の4,5時間経過
時と比較すると各貴金属不純物の濃度がやや上昇してい
ることが分かる。
比較例
バルブ8を操作して循環路7を通るイリジウム溶液が全
て循環パイプ11を通るようにしたこと以第 表 D は検出なし 第 表 D は検出なし 外は実施例Iと同様にしてイリジウム溶液の電解精製を
行った。その結果を第1表に示した。更にその場合の各
貴金属不純物の除去率を第2表に示した。実施例1及び
2と比較すると各貴金属不純物量がかなり増加している
ことが分かる。
て循環パイプ11を通るようにしたこと以第 表 D は検出なし 第 表 D は検出なし 外は実施例Iと同様にしてイリジウム溶液の電解精製を
行った。その結果を第1表に示した。更にその場合の各
貴金属不純物の除去率を第2表に示した。実施例1及び
2と比較すると各貴金属不純物量がかなり増加している
ことが分かる。
(発明の効果)
本発明は、塩化物イオンを含むイリジウム溶液を隔膜電
解により精製する際に、陰極室側のイリジウム溶液を循
環させて陰極上に電析して陰極室内に存在する貴金属不
純物を循環経路中で好ましくは間歇的に濾過して、除去
されるべき前記貴金属不純物が塩素ガス等により再度酸
化されて陰極液中に溶解して精製すべきイリジウム溶液
の純度が低下しないようにしている。
解により精製する際に、陰極室側のイリジウム溶液を循
環させて陰極上に電析して陰極室内に存在する貴金属不
純物を循環経路中で好ましくは間歇的に濾過して、除去
されるべき前記貴金属不純物が塩素ガス等により再度酸
化されて陰極液中に溶解して精製すべきイリジウム溶液
の純度が低下しないようにしている。
従って本発明は、電解中に陰極液の一部を循環してその
中に含まれる貴金属不純物を濾過するという比較的簡単
で大掛かりな装置も必要としない操作により電解精製の
主反応に悪影響を及ぼすことなく、純度低下の主原因を
除去して純度の不純物濃度の低いイリジウム溶液を得る
ことが可能になる。特に濾過を間歇的に行うと除去効率
は上昇する。
中に含まれる貴金属不純物を濾過するという比較的簡単
で大掛かりな装置も必要としない操作により電解精製の
主反応に悪影響を及ぼすことなく、純度低下の主原因を
除去して純度の不純物濃度の低いイリジウム溶液を得る
ことが可能になる。特に濾過を間歇的に行うと除去効率
は上昇する。
4、
第1図は、
本発明の実施例で使用した電解槽の
概略図である。
Claims (1)
- (1)塩化物イオンを含むイリジウム溶液を隔膜電解に
より精製する方法において、陰極室側のイリジウム溶液
を循環させながら電解を行い、循環させる前記イリジウ
ム溶液を連続的又は間歇的に濾過することを特徴とする
イリジウムの精製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21887589A JPH0382786A (ja) | 1989-08-25 | 1989-08-25 | イリジウムの精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21887589A JPH0382786A (ja) | 1989-08-25 | 1989-08-25 | イリジウムの精製方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0382786A true JPH0382786A (ja) | 1991-04-08 |
Family
ID=16726677
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21887589A Pending JPH0382786A (ja) | 1989-08-25 | 1989-08-25 | イリジウムの精製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0382786A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016038593A1 (en) | 2014-09-11 | 2016-03-17 | Omrix Biopharmaceuticals Ltd. | Addition to a medical applicator |
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1989
- 1989-08-25 JP JP21887589A patent/JPH0382786A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016038593A1 (en) | 2014-09-11 | 2016-03-17 | Omrix Biopharmaceuticals Ltd. | Addition to a medical applicator |
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