JPH0380243B2 - - Google Patents
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- JPH0380243B2 JPH0380243B2 JP13100185A JP13100185A JPH0380243B2 JP H0380243 B2 JPH0380243 B2 JP H0380243B2 JP 13100185 A JP13100185 A JP 13100185A JP 13100185 A JP13100185 A JP 13100185A JP H0380243 B2 JPH0380243 B2 JP H0380243B2
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- JP
- Japan
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- standard
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- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 26
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 9
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims description 5
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
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- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
パターンカツト巾の検査方法であつて、プリン
ト基板のパターンカツト部の濃度情報に基づいて
必要最小導体間隔を満足するか否かを判断するこ
とにより自動的に該パターンカツト部の良否判定
を可能とする。
ト基板のパターンカツト部の濃度情報に基づいて
必要最小導体間隔を満足するか否かを判断するこ
とにより自動的に該パターンカツト部の良否判定
を可能とする。
本発明はプリント基板のパターンカツト部にお
けるカツト巾の良否を判定し得る方法に関するも
ので、さらに詳しく言えば、パターンカツト作業
の自動化に伴いカツトが斜めである場合や切り屑
が残つている場合であつてもその作業結果の良否
を自動的に判断する検査方法に関するものであ
る。
けるカツト巾の良否を判定し得る方法に関するも
ので、さらに詳しく言えば、パターンカツト作業
の自動化に伴いカツトが斜めである場合や切り屑
が残つている場合であつてもその作業結果の良否
を自動的に判断する検査方法に関するものであ
る。
プリント基板が製造された後にパターンの設計
ミスが発見された場合や、一旦正規に製造された
プリント基板についてシステムを変更する等の必
要に応じてパターンの設計変更をする場合など
に、該プリント基板はパターンカツトを含む作業
により改造または修復して使用される事が多い。
ミスが発見された場合や、一旦正規に製造された
プリント基板についてシステムを変更する等の必
要に応じてパターンの設計変更をする場合など
に、該プリント基板はパターンカツトを含む作業
により改造または修復して使用される事が多い。
パターンカツト作業は、プリント基板のパター
ンの一部で内層につながつている部分を0.15mm程
度の範囲に渡つて切り離すことにより、旧回路を
切断分離するものである。そこで、プリント基板
についてパターンカツトを行つたときは、当該部
分における短絡事故を防止するために最小導体間
隔が保されているか否かを検査することが必要で
ある。
ンの一部で内層につながつている部分を0.15mm程
度の範囲に渡つて切り離すことにより、旧回路を
切断分離するものである。そこで、プリント基板
についてパターンカツトを行つたときは、当該部
分における短絡事故を防止するために最小導体間
隔が保されているか否かを検査することが必要で
ある。
昨今、作業能率や作業情報の向上を目的として
パターンカツト作業の自動化が試みられており、
従つて、パターンカツト巾の検査も自動化が要望
されている。
パターンカツト作業の自動化が試みられており、
従つて、パターンカツト巾の検査も自動化が要望
されている。
従来プリント基板のパターンカツト作業は、作
業者が顕微鏡を使用して目視しながら、手作業で
ナイフ等により当該部分を切り離していた。その
際巾0.1mm程度のワイヤ等の顕微鏡の視野内に置
いて比較測定しながら、カツト巾を検査してい
た。
業者が顕微鏡を使用して目視しながら、手作業で
ナイフ等により当該部分を切り離していた。その
際巾0.1mm程度のワイヤ等の顕微鏡の視野内に置
いて比較測定しながら、カツト巾を検査してい
た。
しかしこのような目視検査では、次のような問
題が発生しており、自動化が強く望まれている。
題が発生しており、自動化が強く望まれている。
目視であるので、カツト巾を正確に判定でき
ない。
ない。
疲労や単調感からの不良の見逃しが発生す
る。
る。
従来の目視によるパターンカツト巾の検査では
プリント基板の改造または修復作業の効率及び精
度が不十分であつた。
プリント基板の改造または修復作業の効率及び精
度が不十分であつた。
本発明は、このような点に鑑みて創作されたも
ので、極めて簡単な作業手順によつて斜めにカツ
トされていたり切り屑が残つていても正確に且つ
自動的にパターンカツト巾の検査をする方法を提
供することを目的としている。
ので、極めて簡単な作業手順によつて斜めにカツ
トされていたり切り屑が残つていても正確に且つ
自動的にパターンカツト巾の検査をする方法を提
供することを目的としている。
第1図は本発明パターンカツト巾の検査方法を
示すフローチヤートである。手順1において、検
査試料であるプリント基板のパターンカツト部に
ついて画像機器により濃度情報をとる。
示すフローチヤートである。手順1において、検
査試料であるプリント基板のパターンカツト部に
ついて画像機器により濃度情報をとる。
手順2において、該濃度情報からパターンカツ
ト部の中心座標を求め、この中心座標を中心とす
る初期ウインドウより狭い検出ウインドウを設定
する。
ト部の中心座標を求め、この中心座標を中心とす
る初期ウインドウより狭い検出ウインドウを設定
する。
手順3において、このように絞つた検出ウイン
ドウ内での濃度分布から2値化を行い、2値化情
報の周辺分布と横断方向及び対角線方向の走査に
より、短絡事故を防止するために必要な最小導体
間隔即ち必要最小導体間隔が満たされているか否
かを判断する。この判断の結果必要最小導体間隔
が満たされている場合は当該試料は良であり、満
たされていない場合は当該試料は否と判定され
る。
ドウ内での濃度分布から2値化を行い、2値化情
報の周辺分布と横断方向及び対角線方向の走査に
より、短絡事故を防止するために必要な最小導体
間隔即ち必要最小導体間隔が満たされているか否
かを判断する。この判断の結果必要最小導体間隔
が満たされている場合は当該試料は良であり、満
たされていない場合は当該試料は否と判定され
る。
本発明の3つの手順はいずれも自動化が可能で
あり、パターンカツト巾の検査を自動化すること
ができる。従つて、パターンカツトを含むプリン
ト基板の改造または修復等の作業全体の自動化に
貢献することができる。その結果作業能率及び精
度の向上を図るとともに、作業者の疲労防止に役
立つ。しかも濃度情報に基づいて判断を行うから
検出結果の信頼性が高い。
あり、パターンカツト巾の検査を自動化すること
ができる。従つて、パターンカツトを含むプリン
ト基板の改造または修復等の作業全体の自動化に
貢献することができる。その結果作業能率及び精
度の向上を図るとともに、作業者の疲労防止に役
立つ。しかも濃度情報に基づいて判断を行うから
検出結果の信頼性が高い。
本発明は手順3の判断に先立ち手順2において
検出ウインドウを絞るから、手順3を迅速に且つ
高精度に行うことができる。
検出ウインドウを絞るから、手順3を迅速に且つ
高精度に行うことができる。
手順3において2値化情報の周辺分布だけでな
く横断方向及び各対角線方向の走査により判断を
するから、カツトが斜めであつたり切り屑が残つ
ている場合でも、必要最小導体間隔を満たしてい
るか否かを正確に判断し得る。
く横断方向及び各対角線方向の走査により判断を
するから、カツトが斜めであつたり切り屑が残つ
ている場合でも、必要最小導体間隔を満たしてい
るか否かを正確に判断し得る。
第2図から第12図までは本発明の実施例であ
る。第2図はプリント基板4の部分を示してあ
り、接合用パターン5とスルーホール6とを連結
しているカツト対象パターン7についてパターン
カツトが行われると、以下の手順によつて検査を
する。
る。第2図はプリント基板4の部分を示してあ
り、接合用パターン5とスルーホール6とを連結
しているカツト対象パターン7についてパターン
カツトが行われると、以下の手順によつて検査を
する。
まず試料となるプリント基板4についてテレビ
カメラから取り込んだ画像情報をA/D変換し、
これを画像メモリに格納する。これが手順1であ
る。
カメラから取り込んだ画像情報をA/D変換し、
これを画像メモリに格納する。これが手順1であ
る。
次ぎに検査対象となるパターンカツト部8のま
わりに予想される位置ずれ量を加味して、第3図
に示すように初期ウインドウ9を設定する。該初
期ウインドウ9内において、横断方向即ちカツト
対象パターン7の向きに平行な方向をx方向とし
て、x方向の各位置に対する濃度の総和を求め、
そのグラフの凹部の中心の座標をXとする。又y
方向の各位置に対する濃度の総和を求め、そのグ
ラフの凸部の中心の座標をYとする。プリント基
板の画像処理においてパターンの反射率は高くパ
ターン以外の部分の反射率は低いので、その結果
画像情報に濃度差が現れるから、カツト対象パタ
ーン7の設計形状及びパターンカツトの平均的形
状に照らして座標(X、Y)はパターンカツト部
8の中心位置を近似するものと推定される。そこ
で、このようにして粗調を行つた結果に基づい
て、座標(X、Y)を中心として、第4図に示す
ように初期ウインドウ9よりも小さく絞つた検出
ウインドウ10を設定する。これが手順2であ
る。
わりに予想される位置ずれ量を加味して、第3図
に示すように初期ウインドウ9を設定する。該初
期ウインドウ9内において、横断方向即ちカツト
対象パターン7の向きに平行な方向をx方向とし
て、x方向の各位置に対する濃度の総和を求め、
そのグラフの凹部の中心の座標をXとする。又y
方向の各位置に対する濃度の総和を求め、そのグ
ラフの凸部の中心の座標をYとする。プリント基
板の画像処理においてパターンの反射率は高くパ
ターン以外の部分の反射率は低いので、その結果
画像情報に濃度差が現れるから、カツト対象パタ
ーン7の設計形状及びパターンカツトの平均的形
状に照らして座標(X、Y)はパターンカツト部
8の中心位置を近似するものと推定される。そこ
で、このようにして粗調を行つた結果に基づい
て、座標(X、Y)を中心として、第4図に示す
ように初期ウインドウ9よりも小さく絞つた検出
ウインドウ10を設定する。これが手順2であ
る。
次に手順3は、この実施例では4段階からなつ
ている。第1段階では上記検出ウインドウ10内
の濃度分布をとり、第5図のように分布の谷a,
b,cを見付けてその濃度をスライスレベルの候
補点とする。各スライスレベルの候補点で検出ウ
インドウ10内の濃度を基板に対応する0とパタ
ーンに対応する1とに2値化した場合のパターン
面積即ち“1”の画素数がパターン設計値に最も
近似する候補点をスライスレベルに決定し、該ス
ライスレベルで検出ウインドウ10内の濃度情報
について2値化を行う。
ている。第1段階では上記検出ウインドウ10内
の濃度分布をとり、第5図のように分布の谷a,
b,cを見付けてその濃度をスライスレベルの候
補点とする。各スライスレベルの候補点で検出ウ
インドウ10内の濃度を基板に対応する0とパタ
ーンに対応する1とに2値化した場合のパターン
面積即ち“1”の画素数がパターン設計値に最も
近似する候補点をスライスレベルに決定し、該ス
ライスレベルで検出ウインドウ10内の濃度情報
について2値化を行う。
第2段階では第6図のように検出ウインドウ1
0内の2値化後の周辺分布をとる。この周辺分布
において“1”の画素数が0であるときは、当該
x座標でパターンカツトの結果導体が全く存在し
ないと推定されるので、“1”の画素数が連続し
て0である部分の長さ1を、パターンカツト部に
設けられるべき最小導体間隔の規格(通常0.1mm
であつて画素数10個に相当する。)即ち必要最小
導体間隔Lと比較して、1≧Lである場合には、
当該規格が満たされている事が明らかであるか
ら、当該パターンカツト部8のパターンカツトは
良品と判定して、以下の第3段階及び第4段階を
経ることなく、次の検査ポイントに進む。
0内の2値化後の周辺分布をとる。この周辺分布
において“1”の画素数が0であるときは、当該
x座標でパターンカツトの結果導体が全く存在し
ないと推定されるので、“1”の画素数が連続し
て0である部分の長さ1を、パターンカツト部に
設けられるべき最小導体間隔の規格(通常0.1mm
であつて画素数10個に相当する。)即ち必要最小
導体間隔Lと比較して、1≧Lである場合には、
当該規格が満たされている事が明らかであるか
ら、当該パターンカツト部8のパターンカツトは
良品と判定して、以下の第3段階及び第4段階を
経ることなく、次の検査ポイントに進む。
上記の比較により1<Lである場合には、第3
段階として第7図に示すように検出ウインドウ1
0内の左のパターンの境界線11または右のパタ
ーンの境界線12のいずれか一方を検出し、次に
第8図に示すように、検出された該境界線11か
ら他方の境界線12に近付く向きでx方向に上記
必要最小導体間隔Lに等しい巾の走査範囲13を
走査して、画素が“1”の部分即ち他の導体にぶ
つからないことを確認する。ぶつからない場合は
第3段階について合格であるから、後に述べる第
4段階に進む。両境界線11,12の中間でパタ
ーンカツト作業時の切り屑14が第8図に示すよ
うに走査の基準となる境界線11から上記必要最
小導体間隔Lよりも長い距離Dだけ離れた位置に
ある場合には、2値化情報の周辺分布において
“1”の画素数が連続して0である部分の長さ1
が上記のごとく必要最小導体間隔Lより短い場合
であつても、走査範囲13内で該切り屑14にぶ
つからないので第3段階は合格となる。
段階として第7図に示すように検出ウインドウ1
0内の左のパターンの境界線11または右のパタ
ーンの境界線12のいずれか一方を検出し、次に
第8図に示すように、検出された該境界線11か
ら他方の境界線12に近付く向きでx方向に上記
必要最小導体間隔Lに等しい巾の走査範囲13を
走査して、画素が“1”の部分即ち他の導体にぶ
つからないことを確認する。ぶつからない場合は
第3段階について合格であるから、後に述べる第
4段階に進む。両境界線11,12の中間でパタ
ーンカツト作業時の切り屑14が第8図に示すよ
うに走査の基準となる境界線11から上記必要最
小導体間隔Lよりも長い距離Dだけ離れた位置に
ある場合には、2値化情報の周辺分布において
“1”の画素数が連続して0である部分の長さ1
が上記のごとく必要最小導体間隔Lより短い場合
であつても、走査範囲13内で該切り屑14にぶ
つからないので第3段階は合格となる。
第9図及び第10図に示すように走査範囲13
内で他の導体例えば切り屑14にぶつかつた場合
には、当該するy座標のみについて、当該他の導
体即ち画素が“1”の部分が終了した位置を基準
位置にして、再び必要最小導体間隔Lに等しい巾
の走査範囲15を走査して、画素が“1”の部分
にぶつからないことを確認する。このような再度
の走査でぶつからない場合も第3段階について合
格であるから、後に述べる第4段階に進む。その
例を第9図に示す。ぶつかつた場合には最小導体
間隔の上記規格が満たされていないもの即ちカツ
ト巾不良と判定して、以下の第4段階を経ること
なく、当該試料を排出する。その例を第10図に
示す。
内で他の導体例えば切り屑14にぶつかつた場合
には、当該するy座標のみについて、当該他の導
体即ち画素が“1”の部分が終了した位置を基準
位置にして、再び必要最小導体間隔Lに等しい巾
の走査範囲15を走査して、画素が“1”の部分
にぶつからないことを確認する。このような再度
の走査でぶつからない場合も第3段階について合
格であるから、後に述べる第4段階に進む。その
例を第9図に示す。ぶつかつた場合には最小導体
間隔の上記規格が満たされていないもの即ちカツ
ト巾不良と判定して、以下の第4段階を経ること
なく、当該試料を排出する。その例を第10図に
示す。
第4段階では対角線方向の走査が行われる。パ
ターンカツトがたとえば第11図に示すように
45゜に傾斜している場合には、両境界線11,1
2のx方向の距離がL以上ある時は、第3段階に
合格するが、両境界線11,12の間隔E=
0.71Lは、上記最小導体間隔の規格を満たさない。
パターンカツトが逆に傾斜している場合でも同様
である。そこで第11図に示すように、スルーホ
ール6とカツト対象パターン7の境界及び接合
用パターン5とカツト対象パターン7の境界を
求める。
ターンカツトがたとえば第11図に示すように
45゜に傾斜している場合には、両境界線11,1
2のx方向の距離がL以上ある時は、第3段階に
合格するが、両境界線11,12の間隔E=
0.71Lは、上記最小導体間隔の規格を満たさない。
パターンカツトが逆に傾斜している場合でも同様
である。そこで第11図に示すように、スルーホ
ール6とカツト対象パターン7の境界及び接合
用パターン5とカツト対象パターン7の境界を
求める。
次ぎに第12図と第13図に示すように境界
と境界を対角線方向の走査範囲として両対角線
方向の走査を行う。
と境界を対角線方向の走査範囲として両対角線
方向の走査を行う。
この走査もx方向の走査と同様に、画素が
“1”の部分にぶつからないことを確認する。ぶ
つからない場合は当該パターンカツト部8のパタ
ーンカツトは良品と判定して、次の検査ポイント
に進む。ぶつかつた場合にはカツト巾不良と判定
して、当該試料を排出する。
“1”の部分にぶつからないことを確認する。ぶ
つからない場合は当該パターンカツト部8のパタ
ーンカツトは良品と判定して、次の検査ポイント
に進む。ぶつかつた場合にはカツト巾不良と判定
して、当該試料を排出する。
以上のようにして本発明の実施例においてテレ
ビカメラからの画像情報によりパターンカツト巾
を自動で検査することができる。
ビカメラからの画像情報によりパターンカツト巾
を自動で検査することができる。
以上述べてきたように、本発明によれば、簡単
な手順で正確にパターンカツト巾の自動検査が可
能であり、パターンカツト作業又はプリント基板
の改造作業の自動化に対応することができる。
な手順で正確にパターンカツト巾の自動検査が可
能であり、パターンカツト作業又はプリント基板
の改造作業の自動化に対応することができる。
第1図は本発明のフローチヤート、第2図はパ
ターンカツトの対象を示す平面図、第3図は粗調
の手順を示す説明図、第4図は絞つた検出ウイン
ドウを示す説明図、第5図はスライスレベルの候
補点を示すグラフ、第6図は2値化情報の周辺分
布を示すグラフ、第7図はパターンの境界線の検
出を示す説明図、第8図は横断方向の走査範囲を
示す説明図、第9図は走査範囲の延長を示す説明
図、第10図は不合格例を示す説明図、第11図
は斜めのパターンカツトを示す説明図、第12図
及び第13図は対角線方向の走査範囲を示す説明
図である。 第1図から第13図までにおいて、1,2,3
はそれぞれ手順、4はプリント基板、8はパター
ンカツト部、10は検出ウインドウ、Lは必要最
小導体間隔である。
ターンカツトの対象を示す平面図、第3図は粗調
の手順を示す説明図、第4図は絞つた検出ウイン
ドウを示す説明図、第5図はスライスレベルの候
補点を示すグラフ、第6図は2値化情報の周辺分
布を示すグラフ、第7図はパターンの境界線の検
出を示す説明図、第8図は横断方向の走査範囲を
示す説明図、第9図は走査範囲の延長を示す説明
図、第10図は不合格例を示す説明図、第11図
は斜めのパターンカツトを示す説明図、第12図
及び第13図は対角線方向の走査範囲を示す説明
図である。 第1図から第13図までにおいて、1,2,3
はそれぞれ手順、4はプリント基板、8はパター
ンカツト部、10は検出ウインドウ、Lは必要最
小導体間隔である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 画像機器により初期ウインドウ9を設定し
て、プリント基板4のパターンカツト部8を含む
パターンカツト部周辺の濃度情報をとる第1の手
順1と、 得られた濃度情報から、該パターンカツト部8
の中心座標を求め、この中心座標を中心とする、
該初期ウインドウ9より狭い検出ウインドウ10
を設定する第2の手順と、 該検出ウインドウ10内の濃度情報について、
所定のスライスレベルにてスライスして2値化を
行い、検出ウインドウ10内の何れか一方の値の
分布を観測することにより、カツトされた部分の
該パターンカツト部8の長手方向の間隔が最小導
体間隔の規格Lを満足するか否かを判定し、満足
しない場合は、検出ウインドウ10内の一方のパ
ターンの境界から、該最小導体間隔の規格の巾だ
け走査を行い、この範囲内に導体が存在するか否
かを2値情報から判定し、存在する場合は、該導
体の該一方のパターンの境界とは反対側の端部か
ら該検出ウインドウ10内の他方のパターンの境
界までの距離が最小導体間隔の規格の巾以上であ
るか否かを判定し、該規格を満足していない場合
には、不良と判定するとともに、 該パターンの境界から斜め方向に該最小導体間
隔の範囲で走査を行い、両パターンの境界の間隔
が該最小導体間隔の規格を満足するか否かを判定
し、満足しない場合には不良と判定する第3の手
順3とからなるパターンカツト巾の検査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13100185A JPS61288106A (ja) | 1985-06-17 | 1985-06-17 | パタ−ンカツト巾の検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13100185A JPS61288106A (ja) | 1985-06-17 | 1985-06-17 | パタ−ンカツト巾の検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61288106A JPS61288106A (ja) | 1986-12-18 |
JPH0380243B2 true JPH0380243B2 (ja) | 1991-12-24 |
Family
ID=15047627
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13100185A Granted JPS61288106A (ja) | 1985-06-17 | 1985-06-17 | パタ−ンカツト巾の検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61288106A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2536745B2 (ja) * | 1987-01-20 | 1996-09-18 | 富士通株式会社 | 基板のカツト状態検査方法 |
JP4051568B2 (ja) | 2004-02-09 | 2008-02-27 | ソニー株式会社 | 部品実装基板検査装置 |
-
1985
- 1985-06-17 JP JP13100185A patent/JPS61288106A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61288106A (ja) | 1986-12-18 |
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