JPH0376033A - 半導体レーザ装置 - Google Patents
半導体レーザ装置Info
- Publication number
- JPH0376033A JPH0376033A JP1211724A JP21172489A JPH0376033A JP H0376033 A JPH0376033 A JP H0376033A JP 1211724 A JP1211724 A JP 1211724A JP 21172489 A JP21172489 A JP 21172489A JP H0376033 A JPH0376033 A JP H0376033A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- submount
- signal reproducing
- laser diode
- photodiode
- monitoring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 claims description 2
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 claims 2
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 claims 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 6
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 abstract description 6
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 235000013550 pizza Nutrition 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/023—Mount members, e.g. sub-mount members
- H01S5/02325—Mechanically integrated components on mount members or optical micro-benches
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/005—Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
- H01S5/0071—Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping for beam steering, e.g. using a mirror outside the cavity to change the beam direction
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
- H01S5/068—Stabilisation of laser output parameters
- H01S5/0683—Stabilisation of laser output parameters by monitoring the optical output parameters
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Head (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は信号再生用フォトダイオード（以下ＰＤと略す
）とモニター用ＰＤとを内蔵した面発光型半導体レーザ
装置Ｅこ関するものである。
）とモニター用ＰＤとを内蔵した面発光型半導体レーザ
装置Ｅこ関するものである。
従来の７アブペロー型レーザダイオード（以下ＬＤと略
す）を用いた例を第３図に示す。ＬＤチ・ツブ（１）は
熱応力緩和材としてのサブマウント（２）を介して放熱
プロ・ツク（３）に組立てられ、放熱プロ・ツク（３）
はモニター用ＰＤチ・ツブ（４）が組立まれたステム（
５）に組立てられている。ＬＤチ・ツブ（１）及びＰＤ
チ・ツブ（４）ハ金線（６）がボンディングされ、リー
ド線（７）へ電気的に導通されている。ステム（５）に
キャ゛ツブ（８）が取り付けられ、ＬＤ（１００）が構
成される。
す）を用いた例を第３図に示す。ＬＤチ・ツブ（１）は
熱応力緩和材としてのサブマウント（２）を介して放熱
プロ・ツク（３）に組立てられ、放熱プロ・ツク（３）
はモニター用ＰＤチ・ツブ（４）が組立まれたステム（
５）に組立てられている。ＬＤチ・ツブ（１）及びＰＤ
チ・ツブ（４）ハ金線（６）がボンディングされ、リー
ド線（７）へ電気的に導通されている。ステム（５）に
キャ゛ツブ（８）が取り付けられ、ＬＤ（１００）が構
成される。
ＬＤ（１００）はビソクア゛ツブに組込まれ、オーディ
オディスク、ビデオディスク等の光ディスクの読取り用
光源として使用される。
オディスク、ビデオディスク等の光ディスクの読取り用
光源として使用される。
ピックアップ（２００）の構成を第４図１こ示す。ＬＤ
（１００）の前面にコリメートレンズ（９）が設置され
。
（１００）の前面にコリメートレンズ（９）が設置され
。
偏光ビームスピリ・ツタα１．７波長板αＤ、対物レン
ズ（２）、集束レンズ０．信号再生用ＰＤα４および光
ディスク（２）によりピ・ソファ・ツブが構成される。
ズ（２）、集束レンズ０．信号再生用ＰＤα４および光
ディスク（２）によりピ・ソファ・ツブが構成される。
次に動作について説明する。
第３図に示すＬＤ（Ｉｏｎ）はリード線（７）に電圧を
印加されると、 ＬＤチップ（１）に電流が流れレーザ
発振が始まり、 ＬＤチ・ツブ（１）より２方向にレー
ザ光が図中、矢印で示す如く放射される。一方のレーザ
光は光デイスク読取り用光源として用いられ、他方のレ
ーザ光はモニター用ＰＤ（４１に入射し、ＬＤ光出力の
制御に用いられる。モニター用ＰＤ（４１はレーザ光に
対して傾斜しており、レーザ光の入射光がモニター用Ｐ
Ｄ １４）で反射され再びＬＤチ゛ツブ（１）へ入射す
る事のないように組立てられている。
印加されると、 ＬＤチップ（１）に電流が流れレーザ
発振が始まり、 ＬＤチ・ツブ（１）より２方向にレー
ザ光が図中、矢印で示す如く放射される。一方のレーザ
光は光デイスク読取り用光源として用いられ、他方のレ
ーザ光はモニター用ＰＤ（４１に入射し、ＬＤ光出力の
制御に用いられる。モニター用ＰＤ（４１はレーザ光に
対して傾斜しており、レーザ光の入射光がモニター用Ｐ
Ｄ １４）で反射され再びＬＤチ゛ツブ（１）へ入射す
る事のないように組立てられている。
第４図に示すピックアップ（２００）ではＬＤ（１００
）より放射されたレーザ光がコリメートレンズ（９）を
通り平行光線となり、偏光ビームスピリ・ソ々αＧで直
線偏光となり、さらに−波長板０を通って円偏光となる
。対物レンズ＠で光ディスク（２）上で光スポ・ソトに
絞られる。光スボ・ソトは光ディスク０のピットの部分
では弱められ、ランドの部分では弱められずに反射した
光は対物レンズ（２）を通過して平行光線となる。また
、−波長板０を通過すると。
）より放射されたレーザ光がコリメートレンズ（９）を
通り平行光線となり、偏光ビームスピリ・ソ々αＧで直
線偏光となり、さらに−波長板０を通って円偏光となる
。対物レンズ＠で光ディスク（２）上で光スポ・ソトに
絞られる。光スボ・ソトは光ディスク０のピットの部分
では弱められ、ランドの部分では弱められずに反射した
光は対物レンズ（２）を通過して平行光線となる。また
、−波長板０を通過すると。
往きとは９０°偏光方向が異なる直線偏光になるため、
偏光ビームスビリ・ツタＱＣＩで反射され、反射光は集
束レンズ０を通り信号再生用ＰＤＱ・に入射し信号再生
が行なわれる事となる。
偏光ビームスビリ・ツタＱＣＩで反射され、反射光は集
束レンズ０を通り信号再生用ＰＤＱ・に入射し信号再生
が行なわれる事となる。
ファプリーペロー形ＬＤを用いた従来の半導体レーザ装
置は以上のように構成されていたので、ＬＤチ・ツブ、
ＰＤチ・ツブのダイボンド面、ワイヤボンド面が平行
面上ではｆ（いため、組立工程が複雑になり、またピ・
ソファ・ツブにおいては部品数が多くなり小型化が困難
で、所望の性能を得るため部品の位置調整を必要とする
欠点があるとともに、又、面発光型ＬＤにおいてはモニ
タＰＤと良好に光結合する方法がないという問題点があ
った。
置は以上のように構成されていたので、ＬＤチ・ツブ、
ＰＤチ・ツブのダイボンド面、ワイヤボンド面が平行
面上ではｆ（いため、組立工程が複雑になり、またピ・
ソファ・ツブにおいては部品数が多くなり小型化が困難
で、所望の性能を得るため部品の位置調整を必要とする
欠点があるとともに、又、面発光型ＬＤにおいてはモニ
タＰＤと良好に光結合する方法がないという問題点があ
った。
本発明は上記のような問題点を解決するためになされた
もので、ＬＤ組立工程の簡略化、ピ・ソファ・ツブの小
型化及び位置調整を少なくした半導体レーザ装置を得る
事を目的としている。
もので、ＬＤ組立工程の簡略化、ピ・ソファ・ツブの小
型化及び位置調整を少なくした半導体レーザ装置を得る
事を目的としている。
本発明に係る半導体レーザ装置は、面発光型ＬＤヲＪｆ
ｌい、サブマウントの同一平面内にモニタ用ＰＤと信号
再生用ＰＤを形成し、サブマウント上に面発光型ＬＤを
組立て、モニタ用ＦＤと信号再生用ＰＤ上にミラーを設
置し、面発光型ＬＤ上にビームスプリ・フタを設置した
ものである。
ｌい、サブマウントの同一平面内にモニタ用ＰＤと信号
再生用ＰＤを形成し、サブマウント上に面発光型ＬＤを
組立て、モニタ用ＦＤと信号再生用ＰＤ上にミラーを設
置し、面発光型ＬＤ上にビームスプリ・フタを設置した
ものである。
本発明における半導体レーザ装置は、ＬＤ、モニタ用Ｐ
Ｄ、信号再生用ＰＤが平行面上にあるため、ダイボンド
、ワイヤボンドの簡略化ができ、モニタ用ＰＤ％徊号再
生用ＰＤがサブマウント内に写真製版技術を用いて形成
できるため高い位置精度を有し、ピ・ソファ・ツブ組立
時の調整を少なくでき、又、小型化できる。
Ｄ、信号再生用ＰＤが平行面上にあるため、ダイボンド
、ワイヤボンドの簡略化ができ、モニタ用ＰＤ％徊号再
生用ＰＤがサブマウント内に写真製版技術を用いて形成
できるため高い位置精度を有し、ピ・ソファ・ツブ組立
時の調整を少なくでき、又、小型化できる。
以下、本発明の一実施例を図について説明する。
第１図は本発明の一実施例を示す半導体レーザ装置の断
面図を示す。サブマウント（２）の同一平面内に写真製
版技術、拡散技術を用いてモニタ用ＰＤ （４）及び信
号再生用ＰＤＱ４１を形成し、モニタ用ＦＤ（４１，信
号再生用ＰＤＱ４１上にそれぞれミラー０を設置する。
面図を示す。サブマウント（２）の同一平面内に写真製
版技術、拡散技術を用いてモニタ用ＰＤ （４）及び信
号再生用ＰＤＱ４１を形成し、モニタ用ＦＤ（４１，信
号再生用ＰＤＱ４１上にそれぞれミラー０を設置する。
サブマウント（２）上に面発光型ＬＤαカチ・ツブを組
立て。
立て。
面発光型ＬＤＱηチ・ツブ上にビームスプリ・ツタαＯ
を設置して、本実施例の半導体レーザ装置が得られる。
を設置して、本実施例の半導体レーザ装置が得られる。
次に動作について説明する。
面発光型ＬＤ（ロ）よりの出射光はビームスプリ゛ツタ
α０により直進光と反射光に分けられる。反射光はミラ
ーαＧにより反射されモニタ用ＰＤ（４）に入射し、Ｌ
Ｄ光の制御に用いられる。直進光はディスク（図示せず
）に照射され、信号光となった反射光はビームスプリ・
ツタαＯに入射し、ビームスプリ・ソ々αＯで反射され
、反射光はミラーαＱにより反射され、信号再生用ＰＤ
α４に入射し信号が再生されることとなる。
α０により直進光と反射光に分けられる。反射光はミラ
ーαＧにより反射されモニタ用ＰＤ（４）に入射し、Ｌ
Ｄ光の制御に用いられる。直進光はディスク（図示せず
）に照射され、信号光となった反射光はビームスプリ・
ツタαＯに入射し、ビームスプリ・ソ々αＯで反射され
、反射光はミラーαＱにより反射され、信号再生用ＰＤ
α４に入射し信号が再生されることとなる。
サブマウント（２）としては安価さとＰＤ影形成容易性
からシリコンが適している。
からシリコンが適している。
なお、上記実施例ではモニタ用ＰＤ １４）、信号再生
用ＰＤα４の上にミラーα０を設置した場合を説明した
が、第２図の如くモニタ用ＰＤ（４１、信号再生用ＰＤ
（１４１上にビームスプリ・ツタＱＯを設置してＰＤ
ｔ４）α場へ光が入射するようにすれば上記実施例と同
様の効果が得られる。
用ＰＤα４の上にミラーα０を設置した場合を説明した
が、第２図の如くモニタ用ＰＤ（４１、信号再生用ＰＤ
（１４１上にビームスプリ・ツタＱＯを設置してＰＤ
ｔ４）α場へ光が入射するようにすれば上記実施例と同
様の効果が得られる。
以上のように本発明によれば、面発光型ＬＤを用い、廿
ブマウントの同一平面内にモニタ用ＰＤ、ｉ号再生用Ｐ
Ｄを形成したので、ＬＤ 、 ＰＤが平行面上にあり組
立工程の簡略化がで五、又、モニタＰＤ、信号再生用Ｐ
Ｄが廿ブマウント内に写真製版技術を用いて形成できる
ため、高い位置精度を有し、ピ・ソクア゛ツブ組立時、
調整が少なくて良く、又、小型化できるなどの効果を有
する。
ブマウントの同一平面内にモニタ用ＰＤ、ｉ号再生用Ｐ
Ｄを形成したので、ＬＤ 、 ＰＤが平行面上にあり組
立工程の簡略化がで五、又、モニタＰＤ、信号再生用Ｐ
Ｄが廿ブマウント内に写真製版技術を用いて形成できる
ため、高い位置精度を有し、ピ・ソクア゛ツブ組立時、
調整が少なくて良く、又、小型化できるなどの効果を有
する。
第１図は本発明の一実施例を示す半導体レーザ装置の断
面図、第２図は本発明の他の実施例を示す半導体レーザ
装置の断面図、第３図は従来の半導体レーザ装置を説明
するための断面図、第４図は従来のピ・ソファ・ツブを
説明するための説明図である。 図中、（２）は廿ブマウント、（４）はモニタ用ＰＤ、
（１（＄はビームスプリ・ツタ、α４は信号再生用Ｐ
Ｄ、（ｌｆ９はミラー、（ロ）は面発光ＬＤチ゛ツブを
示す。 なお１図中、同一符号は同一 または相当部分を示オ。 第１図 第２図 第３図
面図、第２図は本発明の他の実施例を示す半導体レーザ
装置の断面図、第３図は従来の半導体レーザ装置を説明
するための断面図、第４図は従来のピ・ソファ・ツブを
説明するための説明図である。 図中、（２）は廿ブマウント、（４）はモニタ用ＰＤ、
（１（＄はビームスプリ・ツタ、α４は信号再生用Ｐ
Ｄ、（ｌｆ９はミラー、（ロ）は面発光ＬＤチ゛ツブを
示す。 なお１図中、同一符号は同一 または相当部分を示オ。 第１図 第２図 第３図
Claims (1)
- レーザダイオードチップが熱応力緩和材としてのサブマ
ウントを介して放熱体に組立てられている半導体レーザ
装置において、前記レーザダイオードが面発光型レーザ
ダイオードで構成され、前記サブマウントの同一平面内
にモニタ用フォトダイオードと信号再生用フォトダイオ
ードが形成され、前記モニタ用フォトダイオードと信号
再生用フォトダイオード上にミラーが設置され、前記サ
ブマウント上に前記面発光型レーザダイオードが組立て
られ、前記面発光型レーザダイオード上にビームスプリ
ッタが設置されている事を特徴とする半導体レーザ装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1211724A JPH0376033A (ja) | 1989-08-17 | 1989-08-17 | 半導体レーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1211724A JPH0376033A (ja) | 1989-08-17 | 1989-08-17 | 半導体レーザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0376033A true JPH0376033A (ja) | 1991-04-02 |
Family
ID=16610553
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1211724A Pending JPH0376033A (ja) | 1989-08-17 | 1989-08-17 | 半導体レーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0376033A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0786837A2 (en) * | 1996-01-25 | 1997-07-30 | Hewlett-Packard Company | Integrated laser-based light source |
| EP0786838A2 (en) * | 1996-01-25 | 1997-07-30 | Hewlett-Packard Company | Laser based light source using diffraction, scattering or transmission |
| EP0869590A1 (en) * | 1997-04-02 | 1998-10-07 | Motorola, Inc. | Semiconductor laser package with power monitoring system |
-
1989
- 1989-08-17 JP JP1211724A patent/JPH0376033A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0786837A2 (en) * | 1996-01-25 | 1997-07-30 | Hewlett-Packard Company | Integrated laser-based light source |
| EP0786838A2 (en) * | 1996-01-25 | 1997-07-30 | Hewlett-Packard Company | Laser based light source using diffraction, scattering or transmission |
| EP0786838A3 (en) * | 1996-01-25 | 1997-10-08 | Hewlett Packard Co | Laser light source with a diffractive, scattering or transmissive element |
| EP0786837A3 (en) * | 1996-01-25 | 1997-10-15 | Hewlett Packard Co | Integrated laser light source |
| US5771254A (en) * | 1996-01-25 | 1998-06-23 | Hewlett-Packard Company | Integrated controlled intensity laser-based light source |
| US5809050A (en) * | 1996-01-25 | 1998-09-15 | Hewlett-Packard Company | Integrated controlled intensity laser-based light source using diffraction, scattering and transmission |
| EP0869590A1 (en) * | 1997-04-02 | 1998-10-07 | Motorola, Inc. | Semiconductor laser package with power monitoring system |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6587481B1 (en) | Light emitting module and compatible optical pickup device adopting the same | |
| US5727009A (en) | Semiconductor laser apparatus and optical pickup apparatus using the same | |
| JP3614746B2 (ja) | 半導体レーザ装置および光ピックアップ装置 | |
| US6456635B1 (en) | Semiconductor laser device | |
| JP2533871B2 (ja) | 半導体レ−ザ装置 | |
| JPH08235663A (ja) | 光学素子 | |
| JPH04199890A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
| JPH07244881A (ja) | 光学装置 | |
| JPH0376033A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
| JP2006324409A (ja) | 半導体レーザ装置およびそれを備えた光ピックアップ装置 | |
| JP2001345507A (ja) | 半導体レーザおよび光ピックアップ | |
| JP2000151006A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
| JPH02213189A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
| JP3814127B2 (ja) | 複合光学ユニット | |
| JPH05335355A (ja) | 半導体レーザ素子の製造方法 | |
| JP2002076492A (ja) | レーザ装置 | |
| JPH02253687A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
| JP3482747B2 (ja) | 光ピックアップ | |
| JP3696496B2 (ja) | 複合光学部品及びそれを用いた複合光学ユニット | |
| JP3520621B2 (ja) | 光ピックアップ及び相変化型光ディスク用の光ピックアップ | |
| JPH01281787A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
| JPS59195341A (ja) | 光学ヘツド | |
| JPH06204615A (ja) | 光半導体装置 | |
| JPH08321066A (ja) | 光ピックアップ | |
| JP2004047096A (ja) | 光学的記録再生装置用光学ヘッド |