JPH0373513A - ウエハステージ及びウエハ露光方法 - Google Patents

ウエハステージ及びウエハ露光方法

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JPH0373513A
JPH0373513A JP1209647A JP20964789A JPH0373513A JP H0373513 A JPH0373513 A JP H0373513A JP 1209647 A JP1209647 A JP 1209647A JP 20964789 A JP20964789 A JP 20964789A JP H0373513 A JPH0373513 A JP H0373513A
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JP
Japan
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gas
wafer
slide
wafer stage
pressure gas
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JP1209647A
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English (en)
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Juro Yasui
安井 十郎
Keisuke Koga
啓介 古賀
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/70866Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece

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  • Magnetic Bearings And Hydrostatic Bearings (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
  • Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体装置の製造装置に使用される露光装置
において、ウェハの位置決めをするウェハステージとウ
ェハ露光方法に関する。
(従来の技術) 半導体装置、特に大規模集積回路(LSI)の高密度化
、高速化のために素子の微細化が要求されているが、そ
の製造工程のうち、特に写真蝕刻工程は微細な素子を形
成する最も重要な工程の1つである。
前記写真蝕刻工程では、すでにウェハ表面に描かれたパ
ターンに合わせて、マスクに描かれたパターンを転写す
るために露光装置(アライナ)が用いられる。
前記アライナは、ウェハステージにウェハを載せ、この
ウェハを所定の位置に搬送し、かつ高精度に位置決めを
する性能を具えている必要がある。
特に、エアスライド(静圧気体軸受スライド)を用いる
エアステージは、上述の要求される高い性能を有するウ
ェハステージである。
第3図はx、y軸の2移動方向の軸受が静圧気体軸受ス
ライドよりなる従来のウェハステージの斜視図、第4図
はX軸移動方向における静圧気体軸受スライド部分の断
面図であって、21x、21yはスライド部、22 x
 * 22 yはガイドレール、23x。
23yは駆動ネジ、24x、24yは高圧気体の供給管
25はスライド部21xw21y内に設けられた気体吹
出部、26はガイドレールzzx、zzyと、スライド
部21xp21yとの間隙、27は転換空気からなる高
圧気体、28は粗動テーブルである。
第3図において、スライド部21 x + 21 Vは
ガイドレール22に#22)’をはさみ、また駆動ネジ
23x。
23yにより駆動される。さらにスライド部21x。
21yには高圧気体27、例えば5 kg/cdの転換
空気を供給する供給管24x、24yが接続されている
第4図において、前記スライド部21xの内部には供給
管24xにつながる気体吹出部25が多数設けられてい
る。スライド部21Xは、ガイドレール22xとの間の
狭い間隙26に気体吹出部25から高圧気体27を吹出
すことによってガイドレール22xから浮き上がり、両
者が接続しない状態で駆動ネジ23xによりガイドレー
ル22xに沿って滑らかに移動させられる。
上述の静圧気体軸受スライドはガイドレール22x、2
2yとスライド部21x、21yとが接触していないの
で、スライド部21x、21yを滑らかに、かつ高速に
移動させることができる。
写真蝕刻工程で用いるアライナはスライド部21x、2
1y上に載せた第3図の粗動テーブル28上に、さらに
微小な距離を精度よく移動させ精密に位置決めのできる
図示しない微動ステージや、ウェハを吸着したウェハチ
ャックを載置する。
ウェハが大口径化されると、前記微動ステージやウェハ
チャックも大型になり、重量が大きくなるが、上述のウ
ェハステージを用いると、大型でかつ大重量の微動ステ
ージなどが載置されても滑らかで、かつ高速に移動する
ことができる。
(発明が解決しようとする問題点) 上記従来のウェハステージを、閉じた容器内の特殊気体
雰囲気中で使用する場合には、ウェハステージのスライ
ド部21x、21yをガイドレール22x、22yから
浮き上らせるために供給した高圧気体27の転換空気が
前記容器内に放出されるここになる。
前記容器内を純度の高い特殊気体、例えばHeの雰囲気
に保つ必要がある場合には、静圧気体軸受スライドにも
雰囲気気体と同じHeを供給する必要があるが、高価な
Haを大量に消費することになる。
さらに容器内ではHSの圧力が変動し、またHa雰囲気
のゆらぎを生じるため、ウェハステージの精密な位置測
定に用いられるレーザ測長器が影響を受けて精密な位置
測定を困難にする。
本発明の目的は、静圧気体軸受スライドに供給される高
圧気体がウェハヘの位置決め、露光の駆動に影響を与え
ないようにしたウェハステージ及びウェハ露光方法を提
供することにある。
(課題を解決するための手段) 上記目的を達成するため、本発明は、ウェハステージに
おいて、スライド部がガイドレールをはさみ、さらにス
ライド部の少なくとも一軸が、前記ガイドレールヒスラ
イド部との間隙に高圧気体を吹出す気体吹出部と、この
気体吹出部に連通されて気体吹出部より吹出された前記
高圧気体を回収し排出する気体排出部とからなる静圧気
体軸受スライドにより構成されたことを特徴とし、また
ウェハ露光方決において、少なくとも一軸が前記静圧気
体軸受スライドにより構成されたウェハステージにウェ
ハを載置して第1の気体を充した容器に収納し、前記静
圧気体軸受スライドに第2の気体を供給し、この第2の
気体を前記第1の気体中に放出することなく前記静圧気
体軸受スライドを駆動することによって、前記ウェハヘ
の位置決めをし、かつ露光することを特徴とする。
(作 用) 上記手段を採用したため、スライド部をガイドレールか
ら浮き上らせるために供給された高圧気体が、スライド
部からウェハステージの周囲に放出されることなく回収
され、気体排出部によって所望の排出可能な場所に排出
され、ウェハステージllI[の圧力変動、雰囲気のゆ
らぎが生ぜず、ウェハステージにおける各種駆動に影響
を与えない。
(実施例) 以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図はx、y軸の2移動方向の軸受が静圧気体軸受ス
ライドよりなる本発明によるウェハステージの一実施例
の斜視図、第2図は第1図の実施例のX軸移動方向にお
ける静圧気体軸受スライド部分の断面図であって、lx
、lyはスライド部。
2x、2yはガイドレール、3x、3yは駆動ネジ、4
x、4yは高圧気体の供給管、5はスライド部1x、l
y内に設けられた気体吹出部、6はガイドレール2x、
2yとスライド部1x、lyとの間隙、7は転換空気か
らなる高圧気体、8は粗動テーブル、9x+ 9yは排
気管10x、10yを有する気体排出部、11はHal
l囲気の容器、12はマスク、13はウェハ、14は軟
X線である。
第1図において、駆動ネジ3x、3yにより駆動される
スライド部1x、lyは、ガイドレール2x、2yをは
さむ気体吹出部5と、気体吹出部5に連通する気体排出
部9x、9yにより構成されている。前記気体吹出部5
には高圧気体7の供給管4x、4yが接続されている。
第2図において、スライド部1x内部には多数の気体吹
出部5が設けられている。また気体排出部9xには、内
部に空洞が形成されてガイドレール2xと気体吹出部5
との間w16につながっており、さらに一対の排気管1
0xが連続されている。
そして前記供給管4xから供給された圧力5kg/−の
高圧気体7の転換空気は、スライド部1x内の気体吹出
部5より間隙6に吹出され、スライド部1xをガイドレ
ール2xから浮き上らせる。
間隙6に吹出された高圧気体7は間隙6を外方に流れ、
気体排出部9xの空洞で回収され、排気管10xを介し
てウェハステージの外へ排出される。
前記気体排出部9xとガイドレール2xとの間隙又は、
気体排出部9xの空洞の高圧気体7が駆動部の外にもれ
ないように小さく作られ、さらに排気管10xは図示し
ない排気装置につながれており、気体排出部9xの空洞
に放出された高圧気体7を速やかに排出する。
なお、第2図ではX軸移動方向における静電気体軸受ス
ライド部分を示して説明したが、y軸移動方向における
静圧気体軸受スライド部分も同様の構成をなしている。
上述したように1本実施例のウェハステージはスライド
部1:c、lyをガイドレール2x、2yより浮き上ら
せるため高圧気体7として転換空気を用いるが、この転
換空気がスライド部Lx。
1yの外に放出されることがないので、空気以外の気体
中で本実施例のウェハステージを用いることができる。
例えば、 0.25μ層以下の微細なパターンを形成す
るのに軟X線、特にSORによる波長1nm近傍の軟X
線を光源とする露光(SOR露光)においては。
軟X線が空気中では大きく減衰するためH6のような不
活性気体の中で露光することが望ましい。
従って、第1図の密閉した容器ll内に少なくとも粗動
を行うステージとして1本実施例のウェハステージを用
いたアライナを収納し、前記容gti内を第1の気体の
He雰囲気に置換した状態とし。
ウェハステージに載置したウェハ13とマスク12との
位置合せを行い、He中に導かれた軟X線14で露光す
ることができる。
上記のSOR露光においては、ウェハステージに用いる
第2の気体の転換空気が密閉され、容器11内に放出さ
れることがないため、軟X線が減衰することがない、さ
らに容器11内のHe雰囲気のゆらぎを生じることがな
いため、ステージ位置を測定するためのレーザ干渉計な
どを安定に動作させることができる。またウェハステー
ジに供給する転換空気は大気より収集するため、使用量
が制限されることがなく、ボンベの交換作業を不要とす
る。
このように1本実施例のウェハステージを用いるアライ
ナはウェハが大口径化してウェハステージ全体の重量が
増えても、またSOR露光のようにHs雰囲気で、しか
もウェハを垂直に保持する縦型のステージであっても、
高速に、かつ高精度のウェハの位置合せを行うことがで
きる。
なお、上記実施例では、x、y軸の2移動方向のスライ
ド部lx、lyが、静圧気体軸受スライドで支持される
ことで説明したが、本発明ではスライド部1x*1yの
少なくとも一軸(X又はy軸)が静圧気体軸受スライド
で支持されればよい。
(発明の効果) 本発明によれば、静圧気体軸受スライドに供給された高
圧気体がウェハステージの周囲に放出されることなく回
収できるため、ウェハステージの周囲の圧力変動、雰囲
気のゆらぎが生じないので。
ウェハステージにおける各種駆動が円滑に行われ、ウェ
ハヘの位置決め、露光が高速、かつ高精度に行われるウ
ェハステージ及びウェハ露光方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
第工図は本発明によるウェハステージの一実施例の斜視
図、第2図は第1図の実施例のX軸移動方向における静
圧気体軸受スライド部分の断面図。 第3図は従来例のウェハステージの斜視図、第4図は第
3図の従来例のX軸移動方向における静圧気体軸受スラ
イド部分の断面図である。 lx、ly・・・スライド部、 2x、2y・・・ガイ
ドレール、  3x、3y・・・駆動ネジ、4x、4y
・・・供給管、 5・・・気体吹出部、6・・・間隙、
 7・・・高圧気体、 8・・・粗動テーブル、  9
x、9y・・・気体排出部。 10x、10y・・・排気管、11・・・容器、 12
・・・マスク、 13・・・ウェハ、 14・・・軟X
線。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)スライド部がガイドレールをはさみ、さらにスラ
    イド部の少なくとも一軸が、前記ガイドレールとスライ
    ド部との間隙に高圧気体を吹出す気体吹出部と、この気
    体吹出部に連通されて気体吹出部より吹出された前記高
    圧気体を回収し排出する気体排出部とからなる静圧気体
    軸受スライドにより構成されたことを特徴とするウェハ
    ステージ。
  2. (2)少なくとも一軸が前記静圧気体軸受スライドによ
    り構成されたウェハステージにウェハを載置して第1の
    気体を充した容器に収納し、前記静圧気体軸受スライド
    に第2の気体を供給し、この第2の気体を前記第1の気
    体中に放出することなく前記静圧気体軸受スライドを駆
    動することによって、前記ウェハヘの位置決めをし、か
    つ露光することを特徴とするウェハ露光方法。
  3. (3)前記第2の気体が空気であることを特徴とする請
    求項(2)記載のウェハ露光方法。
JP1209647A 1989-08-15 1989-08-15 ウエハステージ及びウエハ露光方法 Pending JPH0373513A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001308161A (ja) * 2000-04-25 2001-11-02 Kyocera Corp 真空用ステ−ジ機構
US6510755B1 (en) 1999-07-28 2003-01-28 Kyocera Corporation Slide apparatus and its stage mechanism for use in vacuum
JP2009107092A (ja) * 2007-10-31 2009-05-21 Nsk Ltd 縦型位置決めテーブル

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