JPH0369516A - 減圧脱泡装置の監視方法及びその装置 - Google Patents
減圧脱泡装置の監視方法及びその装置Info
- Publication number
- JPH0369516A JPH0369516A JP20443889A JP20443889A JPH0369516A JP H0369516 A JPH0369516 A JP H0369516A JP 20443889 A JP20443889 A JP 20443889A JP 20443889 A JP20443889 A JP 20443889A JP H0369516 A JPH0369516 A JP H0369516A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- level
- vacuum
- sensor
- liquid level
- vacuum degassing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 17
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 116
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims abstract description 22
- 239000012768 molten material Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 96
- 238000009849 vacuum degassing Methods 0.000 claims description 52
- 239000006260 foam Substances 0.000 claims description 21
- 238000012806 monitoring device Methods 0.000 claims description 19
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 16
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 abstract description 39
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 abstract description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 description 5
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/24—Automatically regulating the melting process
- C03B5/245—Regulating the melt or batch level, depth or thickness
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/225—Refining
- C03B5/2252—Refining under reduced pressure, e.g. with vacuum refiners
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
- Measurement Of Levels Of Liquids Or Fluent Solid Materials (AREA)
- Control Of Non-Electrical Variables (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、溶融ガラスや溶融金属等の導電性高温溶融
物の気泡を除去するために使用される減圧脱泡装置を対
象としたもので、この種の減圧脱泡装置内の高温溶融物
の状態レベルを所望のものに維持する上で有効な監視方
法及びその装置に関する。
物の気泡を除去するために使用される減圧脱泡装置を対
象としたもので、この種の減圧脱泡装置内の高温溶融物
の状態レベルを所望のものに維持する上で有効な監視方
法及びその装置に関する。
一般に、減圧脱泡装置としては例えば特公昭44−42
05号公報所載のものがある。
05号公報所載のものがある。
これは、溶解槽中の高温溶融物としての溶融ガラスを脱
泡処理して次の処理炉に連続的に供給するプロセスに用
いられるもので、真空吸引される真空ハウジング内に減
圧脱泡槽を収容配置し、この減圧脱泡槽には、脱泡処理
前の溶融ガラスを上昇管を介して導入すると共に、脱泡
処理後の溶融ガラスを下降管を介して次の処理炉に導出
するようにしたものである。
泡処理して次の処理炉に連続的に供給するプロセスに用
いられるもので、真空吸引される真空ハウジング内に減
圧脱泡槽を収容配置し、この減圧脱泡槽には、脱泡処理
前の溶融ガラスを上昇管を介して導入すると共に、脱泡
処理後の溶融ガラスを下降管を介して次の処理炉に導出
するようにしたものである。
このような減圧脱泡装置においては、均質なガラスを得
ること及び製品の重量等に影響するガラス流出量を一定
にするため、導入された溶融ガラスの液面を常に一定に
しながら運転することが必要である。
ること及び製品の重量等に影響するガラス流出量を一定
にするため、導入された溶融ガラスの液面を常に一定に
しながら運転することが必要である。
このような要請下においては、液面レベルを監視するた
めの液面計を設置し、液面計からの信号に基づいて溶融
ガラスの導入量を制御するというような手法が通常考え
られる。
めの液面計を設置し、液面計からの信号に基づいて溶融
ガラスの導入量を制御するというような手法が通常考え
られる。
この場合、上記液面計としては、溶融ガラスが導体であ
ることを利用し、ガラス液面とレベルセンサ用導体とが
非接触のとき開放し、接触したときに閉じる検出用回路
を設け、この検出用回路の開閉によって液面レベルを検
出するようにしたものを採用することが可能である(特
公昭57−59216号公報参照)。
ることを利用し、ガラス液面とレベルセンサ用導体とが
非接触のとき開放し、接触したときに閉じる検出用回路
を設け、この検出用回路の開閉によって液面レベルを検
出するようにしたものを採用することが可能である(特
公昭57−59216号公報参照)。
ところで、上述した減圧脱泡装置においては、脱泡処理
過程で気泡と共にイオンが生成され、このイオンが真空
ハウジング内に充満するという現象が起こる。
過程で気泡と共にイオンが生成され、このイオンが真空
ハウジング内に充満するという現象が起こる。
この場合において、上述したような液面計を採用すると
、上記ガラス液面にレベルセンサ用導体が接触しない状
態であっても、真空ノ\ウジング内のイオンを媒介とし
てガラス液面とレベルセンサ用導体とが短絡して検出用
回路が閉じるという事態を生じ、液面レベルを誤検出し
てしまう。
、上記ガラス液面にレベルセンサ用導体が接触しない状
態であっても、真空ノ\ウジング内のイオンを媒介とし
てガラス液面とレベルセンサ用導体とが短絡して検出用
回路が閉じるという事態を生じ、液面レベルを誤検出し
てしまう。
−
−
このため、液面レヘルを正確に検出することができず、
溶融ガラスの液面レベルを監視する上で不充分であった
。
溶融ガラスの液面レベルを監視する上で不充分であった
。
また、減圧脱泡装置においては、脱泡処理過程で多くの
気泡か発生するか、真空ハウジング内に気泡が充満し過
ぎると、脱泡処理過程に悪影響を及ぼずので、所定量の
気泡が発生した時点でその気泡を消滅させるというよう
な手段を施すことが必要になる。
気泡か発生するか、真空ハウジング内に気泡が充満し過
ぎると、脱泡処理過程に悪影響を及ぼずので、所定量の
気泡が発生した時点でその気泡を消滅させるというよう
な手段を施すことが必要になる。
この要請下においては、溶融ガラスの発生気泡量に対応
する泡面レベルの検出精度を高め、泡面レベルをいかに
正確に監視するかが技術的課題になる。
する泡面レベルの検出精度を高め、泡面レベルをいかに
正確に監視するかが技術的課題になる。
尚、このような技術的課題は、溶融ガラスばかりでなく
、導電性の溶融金属等を減圧脱泡する際においても同様
に生ずるものである。
、導電性の溶融金属等を減圧脱泡する際においても同様
に生ずるものである。
この発明は、以上の技術的課題に着目してなされたもの
であって、減圧脱泡装置内の高温溶融物の状態レベルを
正確に検出することができ、もって、状態レベルの監視
を確実なものにすることができる脱泡装置の監視方法及
びその装置を提供するものである。
であって、減圧脱泡装置内の高温溶融物の状態レベルを
正確に検出することができ、もって、状態レベルの監視
を確実なものにすることができる脱泡装置の監視方法及
びその装置を提供するものである。
すなわち、この発明に係る減圧脱泡装置の監視方法は、
真空吸引される真空ハウジング内に減圧脱泡槽を配設し
、この減圧脱泡槽内に導電性の高温溶融物を連続的に導
入して脱泡処理を行った後に外部に導出するようにした
減圧脱泡装置において、上記高温溶融物の状態レベルを
監視するに際し、真空ハウジング内に充満する外乱要因
発生物の影響を取り除いた条件下にて、上記高温溶融物
の状態レベルを検出するようにしたものである。
真空吸引される真空ハウジング内に減圧脱泡槽を配設し
、この減圧脱泡槽内に導電性の高温溶融物を連続的に導
入して脱泡処理を行った後に外部に導出するようにした
減圧脱泡装置において、上記高温溶融物の状態レベルを
監視するに際し、真空ハウジング内に充満する外乱要因
発生物の影響を取り除いた条件下にて、上記高温溶融物
の状態レベルを検出するようにしたものである。
このような方法発明において、上記外乱要因発生物とし
ては、検出対象状態レベルが高温溶融物の液面レベルで
あれば、真空ハウジング内に充満するイオン、気泡が対
象となり、一方、検出対象状態レベルが高温溶融物の泡
面レベルであれば、真空ハウジング内に充満するイオン
のみが対象となる。
ては、検出対象状態レベルが高温溶融物の液面レベルで
あれば、真空ハウジング内に充満するイオン、気泡が対
象となり、一方、検出対象状態レベルが高温溶融物の泡
面レベルであれば、真空ハウジング内に充満するイオン
のみが対象となる。
また、外乱要因発生物の影響を取り除くための条件設定
としては、外乱要因発生物の抵抗に着目するもののほか
、その抵抗に付随する電流、電圧等のパラメータに着目
したり、整流作用による直流電位変化に着目するもの(
真空ハウジング内にはイオンが充満している関係上、例
えば、真空ハウジング内にレベル検出用電極を一対配置
しておけば、両電極間には等価的にタイオードが付加さ
れたものになる。この場合、高温溶融物の検出対象レベ
ル面に一対の電極が接触すれば、電極間が短絡されて直
流分が消弧するため、この直流分の変化でレベル検出が
可能になる。)が挙げられる。
としては、外乱要因発生物の抵抗に着目するもののほか
、その抵抗に付随する電流、電圧等のパラメータに着目
したり、整流作用による直流電位変化に着目するもの(
真空ハウジング内にはイオンが充満している関係上、例
えば、真空ハウジング内にレベル検出用電極を一対配置
しておけば、両電極間には等価的にタイオードが付加さ
れたものになる。この場合、高温溶融物の検出対象レベ
ル面に一対の電極が接触すれば、電極間が短絡されて直
流分が消弧するため、この直流分の変化でレベル検出が
可能になる。)が挙げられる。
また、上記方法発明を実現する装置発明は、第1図(a
)に示すように、真空吸引される真空ハウジング■内に
減圧脱泡槽2を配設し、この減圧脱泡槽2内に導電性の
高?Mr m融物Gを連続的に導入して脱泡処理を行っ
た後に外部に導出するようにした減圧脱泡装置を前提と
し、上記真空ハウジングl内に配置されて高温溶融物G
の状態レベルを検出するレベルセンサ3と、このレベル
センサ3が高温溶融物Gの検出対象状態レベル面に接触
したことを判別し、状態レベル検出信号を出力するレベ
ル検出回路4とを備え、レベル検出回路4の出力に応じ
て上記高温溶融物Gの状態レベルを監視する監視装置で
あって、上記レベル検出回路4内には、真空ハウジング
l内での外乱要因発生物に基づく抵抗性が付加された条
件下ではレベルセンサ3の接触状態の判別動作が禁止さ
れるセンサ感度調整手段5を設けたことを特徴とするも
のである。
)に示すように、真空吸引される真空ハウジング■内に
減圧脱泡槽2を配設し、この減圧脱泡槽2内に導電性の
高?Mr m融物Gを連続的に導入して脱泡処理を行っ
た後に外部に導出するようにした減圧脱泡装置を前提と
し、上記真空ハウジングl内に配置されて高温溶融物G
の状態レベルを検出するレベルセンサ3と、このレベル
センサ3が高温溶融物Gの検出対象状態レベル面に接触
したことを判別し、状態レベル検出信号を出力するレベ
ル検出回路4とを備え、レベル検出回路4の出力に応じ
て上記高温溶融物Gの状態レベルを監視する監視装置で
あって、上記レベル検出回路4内には、真空ハウジング
l内での外乱要因発生物に基づく抵抗性が付加された条
件下ではレベルセンサ3の接触状態の判別動作が禁止さ
れるセンサ感度調整手段5を設けたことを特徴とするも
のである。
このような装置発明において、上記レベルセンサ3とし
ては、真空ハウジング゛1内に充満するイオンによる誤
動作を極力防止するという観点から、真空ハウジングl
内に露呈するセンサ電極の検出部以外を絶縁被覆するこ
とが好ましく、絶縁性をより確実に保つには、絶縁性の
段付き二重管にて絶縁被覆することが特に好ましい。
ては、真空ハウジング゛1内に充満するイオンによる誤
動作を極力防止するという観点から、真空ハウジングl
内に露呈するセンサ電極の検出部以外を絶縁被覆するこ
とが好ましく、絶縁性をより確実に保つには、絶縁性の
段付き二重管にて絶縁被覆することが特に好ましい。
また、レベルセンサ3及びレベル検出回路4としては、
目的に応じて高温溶融物Gの液面レベル検出系だけでも
よいし、あるいは、発生する気泡の泡面レベル検出系だ
けでもよいし、あるいは、 − 0 両者を同時に備えたものでもよいが、減圧脱泡装置を確
実に監視するという観点からすれば、両者を同時に備え
たものが好ましい。尚、発生する気泡を常時破壊するよ
うな手段を付設すれば、液面レベル検出系だけで、減圧
脱泡装置を確実に監視することが可能である。
目的に応じて高温溶融物Gの液面レベル検出系だけでも
よいし、あるいは、発生する気泡の泡面レベル検出系だ
けでもよいし、あるいは、 − 0 両者を同時に備えたものでもよいが、減圧脱泡装置を確
実に監視するという観点からすれば、両者を同時に備え
たものが好ましい。尚、発生する気泡を常時破壊するよ
うな手段を付設すれば、液面レベル検出系だけで、減圧
脱泡装置を確実に監視することが可能である。
更に、センサ感度調整手段5としては、レベルセンサ3
の電極と検出対象状態レベル面との接触時の抵抗を考慮
し、これより大きい抵抗の場合には両者を非接触状態に
すべく感度調整されるものであれば、適宜設計変更する
ことができる。
の電極と検出対象状態レベル面との接触時の抵抗を考慮
し、これより大きい抵抗の場合には両者を非接触状態に
すべく感度調整されるものであれば、適宜設計変更する
ことができる。
更にまた、上記レベル検出回路4からの状態レベル検出
信号に応じて高温溶融物の状態レベルを監視する態様と
しては、液面レベルや泡面レベルを自動制御したり、状
態レベルを確認できるようにしたり適宜設計変更するこ
とができる。
信号に応じて高温溶融物の状態レベルを監視する態様と
しては、液面レベルや泡面レベルを自動制御したり、状
態レベルを確認できるようにしたり適宜設計変更するこ
とができる。
更にまた、高温溶融物Gの液面レベルを検出対象とする
場合において最適化される装置発明は、第1図(b)に
示すように、上記真空ハウジング1内に配置されて高温
溶融物Gの液面レベルを検出する液面レベルセンサ3a
と、センサ感度調整手段5にて、真空ハウジング1内で
の外乱要因発生イオン及び気泡に基づく抵抗分が付加さ
れた条件下では液面レベルセンサ3aの接触状態の判別
動作を禁止設定する液面レベル検出回路4aと、この液
面レベル検出回路4aの出力に応じて真空ハウジング1
内に導入する高温溶融物Gの液面レベルが制御される液
面レベル制御手段6とを備えたことを特徴とするもので
ある。
場合において最適化される装置発明は、第1図(b)に
示すように、上記真空ハウジング1内に配置されて高温
溶融物Gの液面レベルを検出する液面レベルセンサ3a
と、センサ感度調整手段5にて、真空ハウジング1内で
の外乱要因発生イオン及び気泡に基づく抵抗分が付加さ
れた条件下では液面レベルセンサ3aの接触状態の判別
動作を禁止設定する液面レベル検出回路4aと、この液
面レベル検出回路4aの出力に応じて真空ハウジング1
内に導入する高温溶融物Gの液面レベルが制御される液
面レベル制御手段6とを備えたことを特徴とするもので
ある。
このタイプにおいて、上記液面レベル制御手段6として
は、導入される高温溶融物Gの温度を制御したり、真空
ハウジング1内の圧力を制御したり、高温溶融物Gの導
入量を制御したり、これらを適宜組み合わせる等適宜設
計変更することができる。
は、導入される高温溶融物Gの温度を制御したり、真空
ハウジング1内の圧力を制御したり、高温溶融物Gの導
入量を制御したり、これらを適宜組み合わせる等適宜設
計変更することができる。
また、高温溶融物Gの泡面レベルを検出対象とする場合
において最適化される装置発明は、第1図(c)に示す
ように、真空ハウジング1内に配置されて高温溶融物G
の発生気泡面レベルを検出する泡面レベルセンサ3bと
、センサ感度調整手段5にて、真空ハウジング1内での
外乱要因発生イオンに基づく抵抗分が付加された条件下
では泡面レベルセンサ3bの接触状態の判別動作を禁止
設定する泡面レベル検出回路4bと、この泡面レベル検
出回路4bの出力に応じて真空ハウジング1内に導入す
る高温溶融物Gの発生気泡を破壊する破泡手段7とを備
えたことを特徴とするものである。
において最適化される装置発明は、第1図(c)に示す
ように、真空ハウジング1内に配置されて高温溶融物G
の発生気泡面レベルを検出する泡面レベルセンサ3bと
、センサ感度調整手段5にて、真空ハウジング1内での
外乱要因発生イオンに基づく抵抗分が付加された条件下
では泡面レベルセンサ3bの接触状態の判別動作を禁止
設定する泡面レベル検出回路4bと、この泡面レベル検
出回路4bの出力に応じて真空ハウジング1内に導入す
る高温溶融物Gの発生気泡を破壊する破泡手段7とを備
えたことを特徴とするものである。
このタイプにおいて、上記破泡手段7としては、発生気
泡に所定の気体を吹き付けて気泡を破壊する等適宜設計
変更して差し支えないが、少なくとも、脱泡処理動作を
損なうことなく、真空ハウジング1内の真空度を保持す
ることができるように設計することが必要である。
泡に所定の気体を吹き付けて気泡を破壊する等適宜設計
変更して差し支えないが、少なくとも、脱泡処理動作を
損なうことなく、真空ハウジング1内の真空度を保持す
ることができるように設計することが必要である。
この発明に係る減圧脱泡装置の監視方法においては、高
温溶融物の状態レベルは外乱要因発生物の影響のない条
件下で検出されるため、高温溶融物の状態レベルが外乱
要因発生物に基づき誤検出されることはない。
温溶融物の状態レベルは外乱要因発生物の影響のない条
件下で検出されるため、高温溶融物の状態レベルが外乱
要因発生物に基づき誤検出されることはない。
また、第1図(a)に示す減圧脱泡装置の監視装置の作
用について、検出対象を高温溶融物Gの液面レベルと仮
定して説明する。
用について、検出対象を高温溶融物Gの液面レベルと仮
定して説明する。
今、第2図(a)に示すように、レベルセンサ3の電極
と高温溶融物Gの液面との間の抵抗(以下作用欄では接
触抵抗という)をRとすれば、上記レベルセンサ3の電
極と高温溶融物Gの液面とが非接触であるが、両者が浮
遊イオンにて短絡した場合A(第2図(a)実線の状態
)と、上記レベルセンサ3の電極と高温溶融物Gの液面
とが接触した場合B(第2図(a)仮想線の状態)とで
は、上記レベルセンサ3の接触抵抗Rは、第2図(b)
に示すように、RH、RG (RH>RG )に変化
する。
と高温溶融物Gの液面との間の抵抗(以下作用欄では接
触抵抗という)をRとすれば、上記レベルセンサ3の電
極と高温溶融物Gの液面とが非接触であるが、両者が浮
遊イオンにて短絡した場合A(第2図(a)実線の状態
)と、上記レベルセンサ3の電極と高温溶融物Gの液面
とが接触した場合B(第2図(a)仮想線の状態)とで
は、上記レベルセンサ3の接触抵抗Rは、第2図(b)
に示すように、RH、RG (RH>RG )に変化
する。
このため、上記センサ感度調整手段5にて、上記レベル
センサ3の検出感度レベルMを上記接触抵抗R)(とR
Gとの中間の抵抗レベルに予め設定し、レベルセンサ3
の接触抵抗か検出感度レベルM以下で上記レベル検出回
路4の検出動作を行わせるようにしておけば、上記レベ
ル検出回路4は、3 4 レベルセンサ3の電極が高温溶融物Gの液面に接触した
ときのみ状態レベル検出信号(液面レベル検出信号)を
出力する。
センサ3の検出感度レベルMを上記接触抵抗R)(とR
Gとの中間の抵抗レベルに予め設定し、レベルセンサ3
の接触抵抗か検出感度レベルM以下で上記レベル検出回
路4の検出動作を行わせるようにしておけば、上記レベ
ル検出回路4は、3 4 レベルセンサ3の電極が高温溶融物Gの液面に接触した
ときのみ状態レベル検出信号(液面レベル検出信号)を
出力する。
尚、泡面レベルを検出する際には、レベルセンサ3の電
極が検出対象レベル面である泡面に接触した場合と非接
触状態で短絡した場合とのレベルセンサ3の接触抵抗を
夫々求め、その中間の抵抗レベルをレベルセンサ3の検
出感度レベルとして設定するようにすればよい。
極が検出対象レベル面である泡面に接触した場合と非接
触状態で短絡した場合とのレベルセンサ3の接触抵抗を
夫々求め、その中間の抵抗レベルをレベルセンサ3の検
出感度レベルとして設定するようにすればよい。
また、第1図(b)に示す減圧脱泡装置の監視装置にお
いては、液面レベルセンサ3aが高温溶融物Gの液面に
接触すると、センサ感度調整された液面レベル検出回路
4aが液面レベル検出信号を出力し、この液面レベル検
出信号に基づいて液面レベル制御手段6が液面レベルを
制御する。
いては、液面レベルセンサ3aが高温溶融物Gの液面に
接触すると、センサ感度調整された液面レベル検出回路
4aが液面レベル検出信号を出力し、この液面レベル検
出信号に基づいて液面レベル制御手段6が液面レベルを
制御する。
更にまた、第1図(c)に示す減圧脱泡装置の監視装置
においては、泡面レベルセンサ3bが高温溶融物Gの泡
面に接触すると、センサ感度調整された泡面レベル検出
回路4bが泡面レベル検出信号を出力し、この泡面レベ
ル検出信号に基づいて破泡手段7が作動し、所定レベル
を越えた発生気泡を破壊する。
においては、泡面レベルセンサ3bが高温溶融物Gの泡
面に接触すると、センサ感度調整された泡面レベル検出
回路4bが泡面レベル検出信号を出力し、この泡面レベ
ル検出信号に基づいて破泡手段7が作動し、所定レベル
を越えた発生気泡を破壊する。
以下、添付図面に示す実施例に基づいてこの発明の詳細
な説明する。
な説明する。
◎全体プロセスの概要
第3図は、溶融ガラスを脱泡処理して次の処理炉に連続
的に供給するプロセス例を示す。
的に供給するプロセス例を示す。
同図において、符号10は溶融ガラスGを板状電極10
aにて加熱する溶解槽、11は溶解槽10の側壁下部に
連通接続されて溶解槽10からの溶融ガラスGを図示外
のヒータにて加熱しながら導く案内ダクト、12は案内
ダクト11に接続されて溶融ガラスGを一時的に貯溜す
る貯溜タンク、13は貯溜タンク12に貯溜した溶融ガ
ラスGを減圧条件下において脱泡処理する減圧脱泡装置
、14は上記貯溜タンク12に連通接続されて上記減圧
脱泡装置13にて脱泡処理された溶融ガラスGが導入さ
れる案内ダクト、15は上記貯溜タンク12と案内デク
l−14との連通状態を通常時において塞ぐ仕切板、1
6は上記案内ダクト14の出口側に配設されて脱泡処理
後の溶融ガラスGを成形処理する成形処理炉である。尚
、案内ダクト14中にも溶融ガラスGを加熱するヒータ
(図示せず)が配設されている。
aにて加熱する溶解槽、11は溶解槽10の側壁下部に
連通接続されて溶解槽10からの溶融ガラスGを図示外
のヒータにて加熱しながら導く案内ダクト、12は案内
ダクト11に接続されて溶融ガラスGを一時的に貯溜す
る貯溜タンク、13は貯溜タンク12に貯溜した溶融ガ
ラスGを減圧条件下において脱泡処理する減圧脱泡装置
、14は上記貯溜タンク12に連通接続されて上記減圧
脱泡装置13にて脱泡処理された溶融ガラスGが導入さ
れる案内ダクト、15は上記貯溜タンク12と案内デク
l−14との連通状態を通常時において塞ぐ仕切板、1
6は上記案内ダクト14の出口側に配設されて脱泡処理
後の溶融ガラスGを成形処理する成形処理炉である。尚
、案内ダクト14中にも溶融ガラスGを加熱するヒータ
(図示せず)が配設されている。
この実施例において、上記減圧脱泡装置13は、真空ポ
ンプ20によって真空吸引されるステンレス製の真空ハ
ウジング゛21を有し、この真空ハウジング21内に減
圧脱泡槽22を配設したものである。そして、上記減圧
脱泡槽22の底部−側には白金からなる上昇管23が連
通接続されており、減圧脱泡槽22の底部他側には同じ
く白金からなる下降管24か連通接続されており、上記
上昇管23及び下降管24の下端部は夫々貯溜タンク1
2、案内デク1−14内の溶融ガラスGに浸漬するよう
になっている。 また、この実
施例においては、上記減圧脱泡槽22は、発生した気泡
が追従移動しないように、順次連通接続された三つの槽
22a、 22b、 22cに分離配置されている。
ンプ20によって真空吸引されるステンレス製の真空ハ
ウジング゛21を有し、この真空ハウジング21内に減
圧脱泡槽22を配設したものである。そして、上記減圧
脱泡槽22の底部−側には白金からなる上昇管23が連
通接続されており、減圧脱泡槽22の底部他側には同じ
く白金からなる下降管24か連通接続されており、上記
上昇管23及び下降管24の下端部は夫々貯溜タンク1
2、案内デク1−14内の溶融ガラスGに浸漬するよう
になっている。 また、この実
施例においては、上記減圧脱泡槽22は、発生した気泡
が追従移動しないように、順次連通接続された三つの槽
22a、 22b、 22cに分離配置されている。
◎監視装置の基本構成
第4図は減圧脱泡装置の監視装置の基本構成を示す。
同図において、符号31は上記減圧脱泡槽22の第三槽
22cに対応した箇所に配設される液面レベルセンサ、
符号32は上記減圧脱泡槽22の第一槽22aに対応し
た箇所に配設される泡面レベルセンサ、51は上記液面
レベルセンサ31と溶融ガラスGの液面との接触状態を
検出する液面レベル検出系、52は上記泡面レベルセン
サ32と溶融ガラスGの泡面との接触状態を検出する泡
面レベル検出系、80は液面レベル検出系51からの液
面レベル検出信号に基づいて溶融カラスGの温度を制御
する温度コントロール系、]00は液面レベル検出系5
■からの液面レベル検出信号に基づいて真空ハウジング
21内の圧力を制御する圧力コントロール系、120は
液面レベル検出系51からの異常レベル検出信号に基づ
いて減圧脱泡装置13の運転を即座に停止させる異常時
コントロール系、130は上記泡面レベル検出系57− 1 只 2からの泡面レベル検出信号に基づいて発生気泡を破壊
する破泡コントロール系である。
22cに対応した箇所に配設される液面レベルセンサ、
符号32は上記減圧脱泡槽22の第一槽22aに対応し
た箇所に配設される泡面レベルセンサ、51は上記液面
レベルセンサ31と溶融ガラスGの液面との接触状態を
検出する液面レベル検出系、52は上記泡面レベルセン
サ32と溶融ガラスGの泡面との接触状態を検出する泡
面レベル検出系、80は液面レベル検出系51からの液
面レベル検出信号に基づいて溶融カラスGの温度を制御
する温度コントロール系、]00は液面レベル検出系5
■からの液面レベル検出信号に基づいて真空ハウジング
21内の圧力を制御する圧力コントロール系、120は
液面レベル検出系51からの異常レベル検出信号に基づ
いて減圧脱泡装置13の運転を即座に停止させる異常時
コントロール系、130は上記泡面レベル検出系57− 1 只 2からの泡面レベル検出信号に基づいて発生気泡を破壊
する破泡コントロール系である。
◎レベルセンサ
第5図は液面レベルセンサ31及び泡面レベルセンサ3
2の詳細を示す。
2の詳細を示す。
上記液面レベルセンサ31は、真空ハウジング21の外
に配置されるセンサ基板33に白金線からなる三つの電
極34(具体的には34a、34b。
に配置されるセンサ基板33に白金線からなる三つの電
極34(具体的には34a、34b。
34c)を取り付け、夫々の電極の先端側を真空ハウジ
ング21内に露呈配置したものであり、第一の電極34
aは先端が常時溶融ガラスG内に浸漬配置される共通電
極として機能し、第二の電極34bは先端が溶融ガラス
Gの基準となる液面レベル位置L1に対応して配置され
る液面レベル検出用電極として機能し、第三の電極34
cは先端が溶融ガラスGの液面異常レベル位置L2に対
応して配置される異常検出用電極として機能するように
なっている。
ング21内に露呈配置したものであり、第一の電極34
aは先端が常時溶融ガラスG内に浸漬配置される共通電
極として機能し、第二の電極34bは先端が溶融ガラス
Gの基準となる液面レベル位置L1に対応して配置され
る液面レベル検出用電極として機能し、第三の電極34
cは先端が溶融ガラスGの液面異常レベル位置L2に対
応して配置される異常検出用電極として機能するように
なっている。
また、上記泡面レベルセンサ32は、真空ハウジング2
1の外に配置されるセンサ基板35に白金線からなる二
つの電極36(具体的には36a。
1の外に配置されるセンサ基板35に白金線からなる二
つの電極36(具体的には36a。
36b)を取り付け、夫々の電極の先端側を真空/”t
ウジフグ21内に露呈配置したものであり、第一の電極
36aは先端が常時溶融ガラスG内に1m配置される共
通電極として機能し、第二の電極36bは先端が溶融ガ
ラスGからの発生気泡ARの規制すべき泡面レベル位置
L3に対応して配置される泡面レベル検出用電極として
機能するようになっている。
ウジフグ21内に露呈配置したものであり、第一の電極
36aは先端が常時溶融ガラスG内に1m配置される共
通電極として機能し、第二の電極36bは先端が溶融ガ
ラスGからの発生気泡ARの規制すべき泡面レベル位置
L3に対応して配置される泡面レベル検出用電極として
機能するようになっている。
更に、この実施例において、各電極34.36は、第6
図に示すように、先端の検出部40を残して絶縁管41
で被覆されており、この絶縁管41を介して真空ハウジ
ング21の土壁の取付孔46に嵌挿固定されている。そ
して、上記絶縁管41は、ポーセレン製の内管42及び
外管43からなる二重管構造になっており、上記外管4
3の検出部40側端は内管42の検出部40側端より上
方に位置し、内管42と外管43との間に段付き部44
が形成されている。この段付き部44は、外管43の周
面に付着した気散イオンが電極34゜36部分へ回り込
んで短絡する事態を効果的に阻止する働きをするもので
あり、絶縁効果をより確実なものにしている。
図に示すように、先端の検出部40を残して絶縁管41
で被覆されており、この絶縁管41を介して真空ハウジ
ング21の土壁の取付孔46に嵌挿固定されている。そ
して、上記絶縁管41は、ポーセレン製の内管42及び
外管43からなる二重管構造になっており、上記外管4
3の検出部40側端は内管42の検出部40側端より上
方に位置し、内管42と外管43との間に段付き部44
が形成されている。この段付き部44は、外管43の周
面に付着した気散イオンが電極34゜36部分へ回り込
んで短絡する事態を効果的に阻止する働きをするもので
あり、絶縁効果をより確実なものにしている。
◎レベル検出系
第7図は液面レベル検出系51及び泡面レベル検出系5
2の具体的な回路を示す。
2の具体的な回路を示す。
上記液面レベル検出系51は基準液面レベル検出系51
a及び異常液面レベル検出系51bからなり、夫々の液
面レベル検出系51a、51b及び泡面レベル検出系5
2は略同様な回路構成になっている。
a及び異常液面レベル検出系51bからなり、夫々の液
面レベル検出系51a、51b及び泡面レベル検出系5
2は略同様な回路構成になっている。
同図において、符号53は外部の交流電源、54は交流
電源53の電圧を適宜レベルの交流電圧に降圧させる第
一トランスであり、この第一トランス54の二次側コイ
ル54a、54b、54cのうち54a、54bから誘
起される電圧が第ニドランス55.第三トランス56の
一次側電圧として供給され、一方、54a、54cから
誘起される電圧が後述するトランジスタからなるスイッ
チング素子57のコレクタ端子に供給されるようになっ
ている。
電源53の電圧を適宜レベルの交流電圧に降圧させる第
一トランスであり、この第一トランス54の二次側コイ
ル54a、54b、54cのうち54a、54bから誘
起される電圧が第ニドランス55.第三トランス56の
一次側電圧として供給され、一方、54a、54cから
誘起される電圧が後述するトランジスタからなるスイッ
チング素子57のコレクタ端子に供給されるようになっ
ている。
また、第ニドランス55の二次側コイル55aは所定範
囲で可変する感度調整抵抗58(抵抗値をRfで示す)
に接続されて閉回路を構成しており、第三トランス56
の二次側コイル56aは電解泡発生防止のための直流成
分カット用コンデンサ59と直列接続され、レベルセン
サ31若しくは32の対象電極端子E l 11 E
1□あるいはEE 13あるいはE2.、E22に接続
されている。
囲で可変する感度調整抵抗58(抵抗値をRfで示す)
に接続されて閉回路を構成しており、第三トランス56
の二次側コイル56aは電解泡発生防止のための直流成
分カット用コンデンサ59と直列接続され、レベルセン
サ31若しくは32の対象電極端子E l 11 E
1□あるいはEE 13あるいはE2.、E22に接続
されている。
更に、上記第ニドランス55及び第三トランス56の一
次側コイルの接続端から取り出される検出出力が抵抗6
0.61の案分比率に基づき上記スイッチング素子57
のベース端子に人力されるようになっている。また、符
号62はスイッチング素子57のコレクタ電流調整用抵
抗、63.64はスイッチング素子57のエミッタ電圧
を所定レベルの検出電圧に変換するための抵抗、65は
上記検出電圧を平滑化する電界コンデンサ、66は上記
検出電圧が入力されたときに開閉する書間接点a(具体
的にはa 1. a 2. a 3)、常閉接点b1 2 (具体的にはb l+ b 2. b 3)及び共通接
点C(具体的にはC+、 C2,C3)を有し、a接点
が閉じた際に所定のレベル検出信号(具体的にはa1接
点が閉じた際には液面レベル検出信号、a2接点が閉じ
た際には異常レベル検出信号、a3接点が閉じた際には
泡面レベル検出信号)を出力するボルテージセンサであ
る。
次側コイルの接続端から取り出される検出出力が抵抗6
0.61の案分比率に基づき上記スイッチング素子57
のベース端子に人力されるようになっている。また、符
号62はスイッチング素子57のコレクタ電流調整用抵
抗、63.64はスイッチング素子57のエミッタ電圧
を所定レベルの検出電圧に変換するための抵抗、65は
上記検出電圧を平滑化する電界コンデンサ、66は上記
検出電圧が入力されたときに開閉する書間接点a(具体
的にはa 1. a 2. a 3)、常閉接点b1 2 (具体的にはb l+ b 2. b 3)及び共通接
点C(具体的にはC+、 C2,C3)を有し、a接点
が閉じた際に所定のレベル検出信号(具体的にはa1接
点が閉じた際には液面レベル検出信号、a2接点が閉じ
た際には異常レベル検出信号、a3接点が閉じた際には
泡面レベル検出信号)を出力するボルテージセンサであ
る。
また、上記液面レベル検出系51の感度調整抵抗58は
レベルセンサ31と溶融ガラスGの液面との接触抵抗の
大きさにより最適感度を得るための調整抵抗であり、こ
の感度調整抵抗58の抵抗値Rfは、例えば第8図(a
)に示すように、レベルセンサ31と溶融ガラスGの液
面との接触抵抗をRG(ガラス素性により7〜140Ω
程度の範囲で変化)とし、第ニドランス55及び第三ト
ランス56の二次側電圧を夫々E/2.スイッチング素
子57のベース端子へ印加される検出出力をeとすれば
、 e =E/ 2− (RG −E) / (Rf +R
G )(1) を満足する範囲で設定される。
レベルセンサ31と溶融ガラスGの液面との接触抵抗の
大きさにより最適感度を得るための調整抵抗であり、こ
の感度調整抵抗58の抵抗値Rfは、例えば第8図(a
)に示すように、レベルセンサ31と溶融ガラスGの液
面との接触抵抗をRG(ガラス素性により7〜140Ω
程度の範囲で変化)とし、第ニドランス55及び第三ト
ランス56の二次側電圧を夫々E/2.スイッチング素
子57のベース端子へ印加される検出出力をeとすれば
、 e =E/ 2− (RG −E) / (Rf +R
G )(1) を満足する範囲で設定される。
例えば、RG=140Ω、 E = 24 m、 e
= 5(V)とすれば、Rf#340Ω程度に設定さ
れることになる。
= 5(V)とすれば、Rf#340Ω程度に設定さ
れることになる。
一方、上記泡面レベル検出系52の感度調整抵抗58の
抵抗値Rfは、例えば第8図(b)に示すように、レベ
ルセンサ31と溶融ガラスGの泡面との接触抵抗をRA
(140〜200Ω程度)とし、第ニドランス55及び
第三トランス56の二次側電圧を夫々E/2.スイッチ
ング素子57のベース端子へ印加される検出出力をeと
すれば、e=E/2−(RA −E)/ (Rf +R
A )・・・(2) を満足する範囲で設定される。
抵抗値Rfは、例えば第8図(b)に示すように、レベ
ルセンサ31と溶融ガラスGの泡面との接触抵抗をRA
(140〜200Ω程度)とし、第ニドランス55及び
第三トランス56の二次側電圧を夫々E/2.スイッチ
ング素子57のベース端子へ印加される検出出力をeと
すれば、e=E/2−(RA −E)/ (Rf +R
A )・・・(2) を満足する範囲で設定される。
次に、基準液面レベル検出系51aを例に挙げて、その
作動を第9図及び第10図に示すタイミングチャートに
従って説明する。
作動を第9図及び第10図に示すタイミングチャートに
従って説明する。
今、上記液面レベルセンサ31の液面レベル検出用電極
である第二電極34bが溶融ガラスGの液面に接触して
いない場合には、上記(1)式において、RG→■Ω側
(実際にはイオン充満大気であるため、RG#600Ω
程度)にあるため、検出出力eはe=−E/2になり、
入力電圧と位相が反転する。このため、第9図に示すよ
うに、上記スイッチング素子57のベース電圧とコレク
タ電圧とは位相が180°ずれた状態で入力される。こ
の結果、スイッチング素子57のエミッタ電圧はゼロに
なってしまい、ボルテージセンサ66へは検出電圧が入
力されず、ボルテージセンサ66からは液面レベル検出
信号は出力されない。
である第二電極34bが溶融ガラスGの液面に接触して
いない場合には、上記(1)式において、RG→■Ω側
(実際にはイオン充満大気であるため、RG#600Ω
程度)にあるため、検出出力eはe=−E/2になり、
入力電圧と位相が反転する。このため、第9図に示すよ
うに、上記スイッチング素子57のベース電圧とコレク
タ電圧とは位相が180°ずれた状態で入力される。こ
の結果、スイッチング素子57のエミッタ電圧はゼロに
なってしまい、ボルテージセンサ66へは検出電圧が入
力されず、ボルテージセンサ66からは液面レベル検出
信号は出力されない。
一方、上記液面レベルセンサ31の液面レベル検出用電
極である第二電極34bが溶融ガラスGの液面に接触し
た場合には、上記(1)式において、RG→0Ω側に近
づくため、検出出力e=E/2となる。このため、第1
O図に示すように、上記スイッチング素子57のベース
電圧は整流されると共に、コレクタ電圧はベース電圧と
同位相で入力される。この結果、スイッチング素子57
は上記ベース電圧とコレクタ電圧とが同位相で同時に入
力されたときだけオン動作し、エミッタ電圧を出力する
。このとき、上記エミッタ電圧は電界コンデンサ65に
て平滑化され、ボルテージセンサ66へ検出電圧として
入力されることになり、ボルテージセンサ66からは液
面レベル検出信号が出力される。
極である第二電極34bが溶融ガラスGの液面に接触し
た場合には、上記(1)式において、RG→0Ω側に近
づくため、検出出力e=E/2となる。このため、第1
O図に示すように、上記スイッチング素子57のベース
電圧は整流されると共に、コレクタ電圧はベース電圧と
同位相で入力される。この結果、スイッチング素子57
は上記ベース電圧とコレクタ電圧とが同位相で同時に入
力されたときだけオン動作し、エミッタ電圧を出力する
。このとき、上記エミッタ電圧は電界コンデンサ65に
て平滑化され、ボルテージセンサ66へ検出電圧として
入力されることになり、ボルテージセンサ66からは液
面レベル検出信号が出力される。
尚、異常液面レベル検出系51bや泡面レベル検出系5
2についても、上述したのと略同様に、対象となるレベ
ルセンサ電極が溶融ガラスGの液面若しくは泡面に接触
したときのみ、ボルテージセンサ66から異常レベル検
出信号、泡面レベル検出信号が出力される。
2についても、上述したのと略同様に、対象となるレベ
ルセンサ電極が溶融ガラスGの液面若しくは泡面に接触
したときのみ、ボルテージセンサ66から異常レベル検
出信号、泡面レベル検出信号が出力される。
◎液面レベルコントロール
第11図は溶融ガラスGの液面レベルをコントロールす
る温度コントロール系80及び圧力コントロール系10
0の詳細を示す。
る温度コントロール系80及び圧力コントロール系10
0の詳細を示す。
温度コントロール系80は、減圧脱泡装置13の上昇管
23.下降管24の下端側に夫々挾みヒータ81,82
を配設し、各挟みヒータ81,82のパワーをヒータコ
ントローラ83で制御するものである。この場合におい
て、上記ヒータコン5 6 トローラ83は、第12図に示すように、ベースパワー
及びコントロールパワーを予め設定しておき、基準液面
レベル検出系51aからの液面レベル検出信号に基づい
てパワーを増減し、溶融ガラスGの粘度を変化させて溶
融ガラスGの液面を一定に保つように動作する。
23.下降管24の下端側に夫々挾みヒータ81,82
を配設し、各挟みヒータ81,82のパワーをヒータコ
ントローラ83で制御するものである。この場合におい
て、上記ヒータコン5 6 トローラ83は、第12図に示すように、ベースパワー
及びコントロールパワーを予め設定しておき、基準液面
レベル検出系51aからの液面レベル検出信号に基づい
てパワーを増減し、溶融ガラスGの粘度を変化させて溶
融ガラスGの液面を一定に保つように動作する。
また、圧力コントロール系100は、真空ハウジング2
1に配管101を介して連通接続される真空ポンプ10
2と、真空圧を調整する真空圧調整弁103と、真空ハ
ウジング21の真空度を検出する差圧発振器104と、
基準液面レベル検出系51aからの液面レベル検出信号
及び差圧発振器104からの圧力信号に基づいて真空圧
調整弁103を制御する圧力コントローラ105とを備
えている。この場合において、上記圧ツノコントローラ
105は、第12図に示すように、ベース圧力及びコン
トロール圧力を夫々の設定器105a。
1に配管101を介して連通接続される真空ポンプ10
2と、真空圧を調整する真空圧調整弁103と、真空ハ
ウジング21の真空度を検出する差圧発振器104と、
基準液面レベル検出系51aからの液面レベル検出信号
及び差圧発振器104からの圧力信号に基づいて真空圧
調整弁103を制御する圧力コントローラ105とを備
えている。この場合において、上記圧ツノコントローラ
105は、第12図に示すように、ベース圧力及びコン
トロール圧力を夫々の設定器105a。
105bにて予め設定しておき、液面レベル検出信号に
基づいて真空ハウジング21内の真空圧を増減し、溶融
ガラスGの液面を一定に保つように動作する。
基づいて真空ハウジング21内の真空圧を増減し、溶融
ガラスGの液面を一定に保つように動作する。
尚、第11図において、符号106は差圧発振器104
からの圧力変動をモニタするためのペンレコーダ、10
7は緊急時において真空ポンプ102との連通状態を遮
断する緊急遮断弁、108は配管101の各所に設けら
れる開閉弁である。
からの圧力変動をモニタするためのペンレコーダ、10
7は緊急時において真空ポンプ102との連通状態を遮
断する緊急遮断弁、108は配管101の各所に設けら
れる開閉弁である。
◎破泡コントロール
第13図は破泡コントロール系130の詳細を示す。
同図において、符号131は窒素等の破泡気体が貯溜さ
れる破泡用タンク、132は減圧脱泡槽22の第一槽2
2aの溶融ガラスGM面近傍に向けて配設される噴射ノ
ズル、133は破泡用タンク131と噴射ノズル132
との間を連通接続する配管、134は上記配管133の
途中に介装される電磁開閉弁である。
れる破泡用タンク、132は減圧脱泡槽22の第一槽2
2aの溶融ガラスGM面近傍に向けて配設される噴射ノ
ズル、133は破泡用タンク131と噴射ノズル132
との間を連通接続する配管、134は上記配管133の
途中に介装される電磁開閉弁である。
そして、上記泡面レベル検出系52から泡面レベル検出
信号が出力された段階で、上記電磁開閉弁134を所定
時間開放するようにすれば、破泡用タンク131からの
破泡気体が噴射ノズル132を介して第一槽22a上方
の発生気泡ARに吹き付けられ、発生気泡ARが破壊さ
れる。
信号が出力された段階で、上記電磁開閉弁134を所定
時間開放するようにすれば、破泡用タンク131からの
破泡気体が噴射ノズル132を介して第一槽22a上方
の発生気泡ARに吹き付けられ、発生気泡ARが破壊さ
れる。
それゆえ、真空ハウジング21内に発生気泡ARが不必
要に充満することはなく、減圧脱泡装置13内での脱泡
処理は常時安定して行われる。
要に充満することはなく、減圧脱泡装置13内での脱泡
処理は常時安定して行われる。
◎応用例
上記実施例において用いられたレベル検出装置は、減圧
脱泡装置で生ずる発生イオン等の外乱要因に対して有効
であるか、検出物が高電位であっても誤動作することか
ないため、通常の電気溶融炉の素地面レベル計としても
使用することができる。この場合、感度調整抵抗58を
適宜レベルに調整しておけば、レベルセンサが溶融ガラ
ス等の液面に完全に接触した状態と、糸引き状態でレベ
ルセンサが溶融ガラス等の液面に接触した状態とを区別
することが可能になり、糸引き現象によるレベルセンサ
の誤検出を有効に回避することができる。
脱泡装置で生ずる発生イオン等の外乱要因に対して有効
であるか、検出物が高電位であっても誤動作することか
ないため、通常の電気溶融炉の素地面レベル計としても
使用することができる。この場合、感度調整抵抗58を
適宜レベルに調整しておけば、レベルセンサが溶融ガラ
ス等の液面に完全に接触した状態と、糸引き状態でレベ
ルセンサが溶融ガラス等の液面に接触した状態とを区別
することが可能になり、糸引き現象によるレベルセンサ
の誤検出を有効に回避することができる。
以上説明してきたように、請、水環1記載の減圧脱泡装
置の監視方法によれば、減圧脱泡装置内の高温溶融物の
状態レベルを検出する上で、外乱要因発生物の影響を取
り除くようにしたので、高温溶融物の状態レベルを正確
に検出することができ、その分、高温溶融物の状態レベ
ルを確実に監視することができる。
置の監視方法によれば、減圧脱泡装置内の高温溶融物の
状態レベルを検出する上で、外乱要因発生物の影響を取
り除くようにしたので、高温溶融物の状態レベルを正確
に検出することができ、その分、高温溶融物の状態レベ
ルを確実に監視することができる。
また、請求項2記載の減圧脱泡装置の監視装置によれば
、外乱要因発生物の抵抗分を考慮してレベルセンサの感
度調整を検出回路側で行い、外乱要因発生物の影響を取
り除くようにしたので、装置構成を複雑にすることなく
、高温溶融物の状態レベルを正確に検出することができ
、その分、装置の簡略化を図りながら、高温溶融物の状
態レベルを確実に監視することができる。
、外乱要因発生物の抵抗分を考慮してレベルセンサの感
度調整を検出回路側で行い、外乱要因発生物の影響を取
り除くようにしたので、装置構成を複雑にすることなく
、高温溶融物の状態レベルを正確に検出することができ
、その分、装置の簡略化を図りながら、高温溶融物の状
態レベルを確実に監視することができる。
特に、請求項3記載の減圧脱泡装置の監視装置によれば
、真空ハウジング内に露呈するレベルセンサの電極のう
ち検出部以外は絶縁性の段付き二重管にて被覆されてい
るので、レベルセンサの電極部分での不必要な短絡現象
を回避することができることは勿論、イオン等の外乱抵
抗の影響を極 9− 0 カ少なくすることかでき、しかも、検出感度調整抵抗の
調整範囲を少なくすることかできる。
、真空ハウジング内に露呈するレベルセンサの電極のう
ち検出部以外は絶縁性の段付き二重管にて被覆されてい
るので、レベルセンサの電極部分での不必要な短絡現象
を回避することができることは勿論、イオン等の外乱抵
抗の影響を極 9− 0 カ少なくすることかでき、しかも、検出感度調整抵抗の
調整範囲を少なくすることかできる。
そしてまた、請求項4記載の減圧脱泡装置の監視装置に
よれは、高温溶融物の液面レベル及び泡面レベルを正確
に検出することができるので、夫々の検出信号に基づい
て高温溶融物の液面レベル及び泡面レベルを監視するこ
とが可能になり、その分、減圧脱泡装置の運転状態を極
めて安定させることができる。
よれは、高温溶融物の液面レベル及び泡面レベルを正確
に検出することができるので、夫々の検出信号に基づい
て高温溶融物の液面レベル及び泡面レベルを監視するこ
とが可能になり、その分、減圧脱泡装置の運転状態を極
めて安定させることができる。
更に、請求項5記載の減圧脱泡装置の監視装置によれば
、高温溶融物の液面レベルを正確に検出し、この検出信
号に基づいて液面レベルを制御するようにしたので、高
温溶融物の液面レベルを極めて精度良く一定に保持する
ことができ、その分、高温溶融物の流出条件を極めて均
一にすることが可能になり、高温溶融物の液面レベルの
監視装置としての最適化を図ることができる。
、高温溶融物の液面レベルを正確に検出し、この検出信
号に基づいて液面レベルを制御するようにしたので、高
温溶融物の液面レベルを極めて精度良く一定に保持する
ことができ、その分、高温溶融物の流出条件を極めて均
一にすることが可能になり、高温溶融物の液面レベルの
監視装置としての最適化を図ることができる。
更にまた、請求項6記載の減圧脱泡装置の監視装置によ
れば、高温溶融物の泡面レベルを正確に検出し、この検
出信号に基ついて発生気泡を効率的に破壊するようにし
たので、真空ハウジング内に発生気泡が不必要に充満す
る事態を確実に回避することができ、その分、脱泡処理
能力を安定的に維持することが可能になり、高温溶融物
の泡面レベルの監視装置としての最適化を図ることかで
きる。
れば、高温溶融物の泡面レベルを正確に検出し、この検
出信号に基ついて発生気泡を効率的に破壊するようにし
たので、真空ハウジング内に発生気泡が不必要に充満す
る事態を確実に回避することができ、その分、脱泡処理
能力を安定的に維持することが可能になり、高温溶融物
の泡面レベルの監視装置としての最適化を図ることかで
きる。
第1図(a)ないしくc)はこの発明に係る減圧脱泡装
置の監視装置の概略構成を示す説明図、第2図(a)(
b)は第1図(a)に係る装置の基本的作用を示す説明
図、第3図はこの発明が適用された減圧脱泡装置の一実
施例を組み込んだプロセス例を示す斜視図、第4図は実
施例に係る減圧脱泡装置の監視装置の概略構成を示す説
明図、第5図は実施例に係るレベルセンサの詳細を示す
説明図、第6図は実施例に係るレベルセンサの電極周り
の詳細を示す説明図、第7図は実施例で用いられるレベ
ル検出回路の詳細を示す回路図、第8図(a)(b)は
実施例で用いられるレベル検出回路の感度調整抵抗値の
設定の仕方を示す説明図、第9図及び第1O図は実施例
で用いられるレベルセンサの検出動作過程を示すタイミ
ングチャート、第11図は実施例で用いられる温度コン
トロール系及び圧力コントロール系の詳細を示す説明図
、第12図は第11図の温度コントロール系及び圧力コ
ントロール系の動作過程を示すタイミングチャート、第
13図は実施例で用いられる破泡コントロール系の詳細
を示す説明図である。 〔符号の説明〕 G・・・導電性高温溶融物 1・・・真空ハウジング 2・・・減圧脱泡槽 3・・・レベルセンサ 3a・・・液面レベルセンサ 3b・・・泡面レベルセンサ 4・・・レベル検出回路 4a・・・液面レベル検出回路 4b・・・泡面レベル検出回路 5・・・センサ感度調整手段 6・・・液面レベル制御手段 7・・・破泡手段
置の監視装置の概略構成を示す説明図、第2図(a)(
b)は第1図(a)に係る装置の基本的作用を示す説明
図、第3図はこの発明が適用された減圧脱泡装置の一実
施例を組み込んだプロセス例を示す斜視図、第4図は実
施例に係る減圧脱泡装置の監視装置の概略構成を示す説
明図、第5図は実施例に係るレベルセンサの詳細を示す
説明図、第6図は実施例に係るレベルセンサの電極周り
の詳細を示す説明図、第7図は実施例で用いられるレベ
ル検出回路の詳細を示す回路図、第8図(a)(b)は
実施例で用いられるレベル検出回路の感度調整抵抗値の
設定の仕方を示す説明図、第9図及び第1O図は実施例
で用いられるレベルセンサの検出動作過程を示すタイミ
ングチャート、第11図は実施例で用いられる温度コン
トロール系及び圧力コントロール系の詳細を示す説明図
、第12図は第11図の温度コントロール系及び圧力コ
ントロール系の動作過程を示すタイミングチャート、第
13図は実施例で用いられる破泡コントロール系の詳細
を示す説明図である。 〔符号の説明〕 G・・・導電性高温溶融物 1・・・真空ハウジング 2・・・減圧脱泡槽 3・・・レベルセンサ 3a・・・液面レベルセンサ 3b・・・泡面レベルセンサ 4・・・レベル検出回路 4a・・・液面レベル検出回路 4b・・・泡面レベル検出回路 5・・・センサ感度調整手段 6・・・液面レベル制御手段 7・・・破泡手段
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)真空吸引される真空ハウジング(1)内に減圧脱泡
槽(2)を配設し、この減圧脱泡槽(2)内に導電性の
高温溶融物(G)を連続的に導入して脱泡処理を行った
後に外部に導出するようにした減圧脱泡装置において、 上記高温溶融物(G)の状態レベルを監視するに際し、 真空ハウジング(1)内に充満する外乱要因発生物の影
響を取り除いた条件下にて、上記高温溶融物(G)の状
態レベルを検出するようにしたことを特徴とする減圧脱
泡装置の監視方法。 2)真空吸引される真空ハウジング(1)内に減圧脱泡
槽(2)を配設し、この減圧脱泡槽(2)内に導電性の
高温溶融物(G)を連続的に導入して脱泡処理を行った
後に外部に導出するようにした減圧脱泡装置において、 上記真空ハウジング(1)内に配置されて高温溶融物(
G)の状態レベルを検出するレベルセンサ(3)と、こ
のレベルセンサ(3)が高温溶融物(G)の検出対象状
態レベル面に接触したことを判別し、状態レベル検出信
号を出力するレベル検出回路(4)とを備え、レベル検
出回路(4)の出力に応じて上記高温溶融物(G)の状
態レベルを監視する監視装置であって、 上記レベル検出回路(4)内には、真空ハウジング(1
)内での外乱要因発生物に基づく抵抗分が付加された条
件下ではレベルセンサ(3)の接触状態の判別動作が禁
止されるセンサ感度調整手段(5)を設けたことを特徴
とする減圧脱泡装置の監視装置。 3)請求項2記載のものにおいて、 レベルセンサ(3)は、真空ハウジング(1)内に露呈
するセンサ電極の検出部以外を絶縁性の段付き二重管に
て被覆したものであることを特徴とする減圧脱泡装置の
監視装置。 4)請求項2又は3いずれかに記載のものにおいて、 上記レベルセンサ(3)及びレベル検出回路(4)は、
高温溶融物(G)の液面レベル検出系と、高温溶融物(
G)の発生泡レベル検出系とを備えていることを特徴と
する減圧脱泡装置の監視装置。 5)請求項2ないし4いずれかに記載のものにおいて、 上記真空ハウジング(1)内に配置されて高温溶融物(
G)の液面レベルを検出する液面レベルセンサ(3a)
と、 センサ感度調整手段(5)にて、真空ハウジング(1)
内での外乱要因発生イオン及び気泡に基づく抵抗分が付
加された条件下では液面レベルセンサ(3a)の接触状
態の判別動作を禁止設定する液面レベル検出回路(4a
)と、 この液面レベル検出回路(4a)の出力に応じて真空ハ
ウジング(1)内に導入する高温溶融物(G)の液面レ
ベルが制御される液面レベル制御手段(6)とを備えた
ことを特徴とする減圧脱泡装置の監視装置。 6)請求項2ないし4いずれかに記載のものにおいて、 上記真空ハウジング(1)内に配置されて高温溶融物(
G)の発生気泡面レベルを検出する泡面レベルセンサ(
3b)と、 センサ感度調整手段(5)にて、真空ハウジング(1)
内での外乱要因発生イオンに基づく抵抗分が付加された
条件下では泡面レベルセンサ(3b)の接触状態の判別
動作を禁止設定する泡面レベル検出回路(4b)と、 この泡面レベル検出回路(4b)の出力に応じて真空ハ
ウジング(1)内に導入する高温溶融物(G)の発生気
泡を破壊する破泡手段(7)とを備えたことを特徴とす
る減圧脱泡装置の監視装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1204438A JP2841512B2 (ja) | 1989-08-07 | 1989-08-07 | 減圧脱泡装置の監視方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1204438A JP2841512B2 (ja) | 1989-08-07 | 1989-08-07 | 減圧脱泡装置の監視方法及びその装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0369516A true JPH0369516A (ja) | 1991-03-25 |
JP2841512B2 JP2841512B2 (ja) | 1998-12-24 |
Family
ID=16490533
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1204438A Expired - Fee Related JP2841512B2 (ja) | 1989-08-07 | 1989-08-07 | 減圧脱泡装置の監視方法及びその装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2841512B2 (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6317697A (ja) * | 1986-05-06 | 1988-01-25 | ユニリ−バ− ナ−ムロ−ゼ ベンノ−トシヤ−プ | 食用脂肪の製造法 |
EP0759524A1 (en) | 1995-08-21 | 1997-02-26 | Asahi Glass Company Ltd. | Pipe with external insulation for feeding a molten substance at high temperature |
EP0775671A1 (en) | 1995-11-21 | 1997-05-28 | Asahi Glass Company Ltd. | Method and apparatus for refining molten glass under reduced pressure |
US6119484A (en) * | 1997-10-06 | 2000-09-19 | Asahi Glass Company Ltd. | Vacuum degassing apparatus for molten glass |
US6202445B1 (en) | 1998-02-27 | 2001-03-20 | Asahi Glass Company Ltd. | Vacuum degassing apparatus for molten glass and method to rise vacuum degassing apparatus temperature |
US6308534B1 (en) | 1998-06-19 | 2001-10-30 | Asahi Glass Company Ltd. | Vacuum degassing apparatus for molten glass |
US6318126B1 (en) | 1998-06-26 | 2001-11-20 | Asahi Glass Company Ltd. | Vacuum degassing method for molten glass |
US6321572B1 (en) | 1998-06-10 | 2001-11-27 | Asahi Glass Company, Ltd. | Vacuum degassing apparatus for molten glass |
US6334336B1 (en) | 1998-06-24 | 2002-01-01 | Asahi Glass Company Ltd. | Vacuum degassing apparatus for molten glass and method for building it |
JP2008290944A (ja) * | 2001-07-18 | 2008-12-04 | Corning Inc | 減圧清澄において発生した泡沫を調節する方法 |
US8496986B2 (en) | 2009-03-25 | 2013-07-30 | Fuji Oil Company Limited | Method for producing hard butter composition |
-
1989
- 1989-08-07 JP JP1204438A patent/JP2841512B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6317697A (ja) * | 1986-05-06 | 1988-01-25 | ユニリ−バ− ナ−ムロ−ゼ ベンノ−トシヤ−プ | 食用脂肪の製造法 |
JPH0430836B2 (ja) * | 1986-05-06 | 1992-05-22 | ||
EP0759524A1 (en) | 1995-08-21 | 1997-02-26 | Asahi Glass Company Ltd. | Pipe with external insulation for feeding a molten substance at high temperature |
US5851258A (en) * | 1995-08-21 | 1998-12-22 | Asahi Glass Company Ltd. | Backup structure for a pipe for feeding a molten substance of high temperature |
EP0775671A1 (en) | 1995-11-21 | 1997-05-28 | Asahi Glass Company Ltd. | Method and apparatus for refining molten glass under reduced pressure |
US5849058A (en) * | 1995-11-21 | 1998-12-15 | Asahi Glass Company Ltd. | Refining method for molten glass and an apparatus for refining molten glass |
US6119484A (en) * | 1997-10-06 | 2000-09-19 | Asahi Glass Company Ltd. | Vacuum degassing apparatus for molten glass |
US6202445B1 (en) | 1998-02-27 | 2001-03-20 | Asahi Glass Company Ltd. | Vacuum degassing apparatus for molten glass and method to rise vacuum degassing apparatus temperature |
US6321572B1 (en) | 1998-06-10 | 2001-11-27 | Asahi Glass Company, Ltd. | Vacuum degassing apparatus for molten glass |
US6308534B1 (en) | 1998-06-19 | 2001-10-30 | Asahi Glass Company Ltd. | Vacuum degassing apparatus for molten glass |
US6334336B1 (en) | 1998-06-24 | 2002-01-01 | Asahi Glass Company Ltd. | Vacuum degassing apparatus for molten glass and method for building it |
US6318126B1 (en) | 1998-06-26 | 2001-11-20 | Asahi Glass Company Ltd. | Vacuum degassing method for molten glass |
JP2008290944A (ja) * | 2001-07-18 | 2008-12-04 | Corning Inc | 減圧清澄において発生した泡沫を調節する方法 |
JP2015091754A (ja) * | 2001-07-18 | 2015-05-14 | コーニング インコーポレイテッド | 減圧清澄において発生した泡沫を調節する方法 |
US8496986B2 (en) | 2009-03-25 | 2013-07-30 | Fuji Oil Company Limited | Method for producing hard butter composition |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2841512B2 (ja) | 1998-12-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0369516A (ja) | 減圧脱泡装置の監視方法及びその装置 | |
KR101279815B1 (ko) | 귀금속 부품에 생기는 기포 방지를 위한 방법 | |
US7256372B2 (en) | Fluid-heating apparatus, circuit for heating a fluid, and method of operating the same | |
KR20190051802A (ko) | 기화 시스템 및 기화 시스템용 프로그램 | |
US4841122A (en) | Humidifier having a heating chamber with a continuously open drain and flushing outlet | |
US5539768A (en) | Electric arc furnace electrode consumption analyzer | |
KR20200020642A (ko) | 가열 디바이스 및 가열 디바이스의 동작 방법 | |
JP3155355B2 (ja) | プラズマトーチの電極消耗の検知方法 | |
JPH1022095A (ja) | 移行型プラズマ加熱装置におけるトーチ着火制御装置 | |
US3495018A (en) | Arc voltage control for consumable electrode furnaces | |
JPH0642810A (ja) | 電気温水器 | |
EP4053516A1 (en) | Material supply system, program for a material supply system and material supply method | |
JP2000088632A (ja) | プラズマ式灰溶融炉の溶融スラグ深さ測定方法 | |
JPH051854A (ja) | 電気温水器 | |
CN116253497A (zh) | 玻璃熔炉底部出料方法及装置 | |
JPH0741818A (ja) | 炉外精錬装置における攪拌ガス検出方法 | |
JP3665890B2 (ja) | 静電容量形検出装置 | |
JPH0985005A (ja) | 液面制御機構を備えた濃縮・蒸留装置 | |
JP2503775Y2 (ja) | タンディッシュのプラズマ加熱装置 | |
JPS5927768A (ja) | 自動注湯炉の制御装置 | |
SU862121A1 (ru) | Регул тор уровн жидкости в емкости | |
KR200153588Y1 (ko) | 가스보일러의 수위감지회로 | |
JPS59169650A (ja) | 加圧注湯炉の受湯検出装置 | |
JPH0395448A (ja) | 熱分析装置のガス供給装置 | |
JPH09147262A (ja) | 異常警報装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |