JPH0369396A - 凹版印刷用基板及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は凹版印刷用基板に関する。

（従来の技術） 従来、凹版印刷方式、グラビア印刷方式、グラビアオフ
セット印刷方式などでは、印刷板としての基板上に銅メ
ツキを施し、耐摩耗性を向上させるように銅メツキ上に
クロムメツキを施したものが知られている。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら、このような印刷法の場合、印刷板の製版
費用が高くかかり、厚み精度を得るために鋼メツキ表面
の研磨等が求められるとともに、銅、クロムのエツチン
グ液のコントロールが難しいという課題があった。

又、基板上に樹脂層や感光層を設けた＃Ｍ脂凹版の場合
、柔軟軽量という長所を有するが、熱収縮や曲げ強度と
いった面から精度上欠ける面があった０例えば、折れに
対して強い基板を使えば重くなり、塗膜を均一に塗るこ
とが困難であった。

（課題を解決するための手段） 上記課題を解決するために、本発明にかかる凹版印刷用
基板及びその製造方法は請求範囲のように構成したこと
を特徴とする。

（作　用） 本発明の請求項１及び２にかかる凹版印刷用基板及びそ
の製造方法によれば、ガラスによって凹版印刷板の基板
を形成し、このガラス基板上に直接印刷パターンを形成
するので、銅を基板の材料に用いた時に較べて基板の製
版製作コスト、製作時間を低下出来る。又、ガラスは熱
的な膨張も小さく、版の変形がなく、反り、曲がり、熱
伸縮等の問題がないので、精密なパターンを再現する場
合、製版時において高い寸法精度が得られ、印刷時にお
いても設計通りの一定の寸法精度を得ることが出来る。

（実施例） 以下、本発明の実施例にかかる凹版印刷用基板及びその
製造方法を図面を参照にしつつ説明する。

第１図〜第５図は本発明にかかる凹版印刷用基板の製造
方法を示したもので、凹版印刷基板としてのガラス基板
１を形成するには、厚さ５皿のソーダ石英ガラス板を炭
酸カルシウムで磨き、ｏ、ｏｉ％の希塩酸で中和させ、
純水で洗浄した後、エアーガンで水滴を切り、デシケー
タ中にほぼ４〜６時間保管して乾燥させる。

ガラス基板上の乾燥後、ガラス基板１にレジスト膜を形
成するための感光剤２を塗布する。この感光剤２の種類
にはガラス基板１の腐食の際に、ガラスの腐食液に対し
て充分な耐性を有し、サイドエッチの少ないものを選択
する０本実施例では、この感光剤２にＡＺ１３５０　（
ヘキストジャバン株式会社製）を用いており、ガラス基
板１を水平回転させるスピンナーにより感光剤２の膜厚
を一様に形成する。

この感光剤２の膜形成後、第２図に示すように、感光剤
２の上にパターン原板としてポジ型のクロムマスク３を
密着させる。感光剤２に形成する印刷パターン４（非露
光部）として、本実施例では、セグメントパターンを選
択している。セグメントパターンのライン幅は最小で５
０μｍ程度に設定されている。

クロムマスク３を密着させて感光剤２を露光させた後、
現像液５中にガラス基板１を浸漬して印刷パターン４（
非露光部）の感光剤２を除去する（第３図参照）、この
ときの現像液５の種類、現像時の温度、時間などは感光
剤２の種類にあわせて適宜選択する。

本実施例では、この現像液５としては、水酸化テトラメ
チルアンモニウムハイドライド２．４重量％水溶液を用
いている。ガラス基板１を現像液中に浸漬することによ
り印刷パターン４（非露光部）の感光剤が溶解、流出し
、第３図に示すようにガラス基板１の表面に耐酸性のレ
ジストパターン６が形成される。

レジストパターン６の形成後、腐食液７にガラス基板上
を浸漬して印刷パターン４（非露光部）のガラスを腐食
することにより、印刷用インクを保持する凹部８を形成
する（第４図参照）、腐食液７の種類は、ガラス基板１
を腐食し且つレジストパターン６を腐食しないものを選
択する。凹部８の深さ（版深）は、印刷物に塗布する印
刷用インクの濃度及びインク層の所望膜厚に基づいて設
定するが、通常印刷の場合には２０〜３０Ｉｔｍ程度の
深さで良い。

腐食時間、腐食温度は、腐食液７の種類、所望版深によ
り適宜設定される１本実施例では、ガラス基板１の腐食
液として１５％Ｈト１５％Ｈ２ＳＯ４の水溶液にフッ化
アンモニウムを加えたものを用い、３５〜４０度Ｃに保
って攪拌を行い腐食させた。

腐食液７により所望の版深の凹部８を形成出来たら、腐
食液７からガラス基板１を取り出し、第５図に示すよう
に、ガラス基板１からレジストパターン６を剥離させる
と、凹版印刷板９が形成される。

本実施例では、凹部８の版深の深いところでは３０μｍ
１　　原板のクロムマスクに対する線幅誤差が２μｍ程
度のパターン再現精度の良い凹版印刷板９が得られた。

食刻された凹部８は、腐食の際にケイフッ化アンモニウ
ムの微結晶がガラス表面に接触し、ガラス面に微細な凹
凸が生じて艶消し面となるため、インクの着肉が腐食さ
れない面よりも良くなる。

本発明にかかる凹版印刷用基板及びその製造方法によれ
ば、凹版印刷の基板としてガラス基板上を用い、このガ
ラス基板１に直接エツチングを行なうため、従来技術の
ようにレジストパターン６を形成する前の例えばメツキ
工程等が必要なく製版にかかる時間、費用を短縮できる
。又、ガラス基板１は固く、熱的膨張も小さいため、版
の変形が無く、従来の樹脂凹版で問題となっていた保管
の際の傷、反り、曲げ、熱伸縮などの問題が解消される
。又、印刷時における版の歪みが無いので、精細なパタ
ーンの製版を行なう場合でも高い寸法精度が獲られると
ともに、印刷時においても設計通りの歪みのない一定の
寸法精度を得ることが出来る。

尚、ガラス表面からでるアルカリがインクに混入するこ
とを嫌うため、印刷パターンとしての凹部８が形成され
たガラス基板１を回転装置に載せ、ガラス表面をＳｉＯ
２で濡らした後、ガラス基板１を水平回転させて凹部８
内の余分な嚢を飛ばし、乾燥炉内で１２０７ｔ　Ｃで工
５分間乾燥させてガラスの表面処理を行なうと、印刷用
インクを凹部８によく馴染ませることが出来る。

（発明の効果） 本発明にかかる凹版印刷用基板及びその製造方法によれ
ば、凹版印刷用の基材としてガラス基板を用い、このガ
ラス基板表面にガラス腐食液に対して耐性を有する感光
剤を塗布し、この感光剤を印刷用原画のマスクを介して
露光させることにより印刷パターンを形成し、現像液に
より印刷パターンの感光剤を除去した後、前記腐食液に
より前記ガラス基剤に印刷パターンの凹部を形成するの
で、従来技術のようにレジストパターンを形成する前の
例えばメツキ工程等が必要なく製版にかかる時間、費用
を短縮できる。又、ガラス基板は固く、熱的膨張も小さ
いため、版の変形が無く、従来の樹脂凹版で問題となっ
ていた保管の際の傷、反り、曲げ、熱伸縮などの問題が
解消される。更に、印刷時における版の歪みが無いので
、精細なパターンの製版を行なう場合でも高い寸法精度
が獲られるとともに、印刷時においても設計通りの歪み
のない一定の寸法精度を得ることが出来る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明にかかる凹版印刷用基板に用いるガラス
板の断面図、 第２図は第１図のガラス板に感光剤を塗布して印刷パタ
ーン用のマスクを密着させた状態の断面図、ｆＪｓ図は
第２図の感光剤を露光してレジストパターンを形成した
後のガラス基板の断面図、１４図は第３ｒＩ！Ｊの現像
後のガラス基板を腐食液に浸漬して凹部を形成した状態
の断面図、 第５図は本実施例のガラス製凹版印刷用基板の断面図で
ある。 １・・・ガラス基板 ２・・・感光剤 ３・・・現像液 ４・・・印刷パターン ５・・・腐食液 ８・・・凹部（印刷パターン） 第１図 ／　／　ａ　＋　／　７　／　／　＋　／　＋　／　＋
　＋　　＋　　　１第２　函 第３図 第４図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）凹版印刷用の基材にガラスを用いたことを特徴と
   する凹版印刷用基板。
2. （２）凹版印刷用の基材としてガラス基板を用い、この
   ガラス基板表面にガラス腐食液に対して耐性を有する感
   光剤を塗布し、この感光剤を印刷用原画のマスクを介し
   て露光させることにより印刷パターンを形成し、現像液
   により印刷パターンの感光剤を除去した後、前記腐食液
   により前記ガラス基材に印刷パターンの凹部を形成する
   ことを特徴とする凹版印刷用基板の製造方法。