JPH0368947A - 感光性材料、感光体および画像形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野〕 本発明は、光により重合画像を形成する感光体、該感光
体を製造するための感光性材料に関し、特に感光性ハロ
ゲン化銀塩を用いた感光性材料および感光体に関する。

［従来の技術］ 光により重合する化合物は種々知られているが、それら
は近紫外光あるいは可視光でも比較的短波長に感度を有
し、また、付与する露光量（エネルギー）も比較的大き
なエネルギーが必要である。

これらの問題を解決しようとしてハロゲン化銀を利用し
た重合画像形成方法が提案されている。

特開昭６１−６９０６２号公報には、ハロゲン化銀上に
露光により潜像を形威し、続いて加熱することにより該
潜像を触媒として酸化還元反応を起し還元剤から生じる
ラジカルにより重合反応を起す方法である。

この方法は重合速度が遅く、重合画像の形成に時間がか
かるという欠点があった。なお、この欠点は、加熱処理
過程においてハロゲン化銀から画像露光により生じた銀
と還元剤との反応から生成する反応中間体が極めて安定
で重合開始剤としての活性が低く、重合反応がすみやか
に進みにくいためと考えられる。

一方、これに対して重合速度を早めるために、熱重合開
始剤を併用させた方法が特開昭６２−７０８３６号公報
に開示されている。

この方法は、画像露光によりハロゲン化銀から生じた銀
核により潜像を形成させ、この銀核の触媒作用を利用し
て、還元剤を加熱下で該還元剤と異なる重合禁止能を有
する酸化体に変換することにより、還元剤と生成した酸
化体との重合禁止能の差を生じさせるとともに、熱重合
開始剤を利用した熱重合反応を起させ、その結果形成さ
れた重合禁止能の差に応じた重合潜像を形成する方法で
ある。

ところが、この方法においては、重合潜像に良好なコン
トラストが取れにくいという欠点が有った。

この欠点は、潜像部で起こる酸化体の生成のための酸化
還元反応と重合潜像形成のための重合反応を同一熱処理
工程中で起こさせるために、これらの反応が競争反応と
なり、それぞれの反応が効率よく進まないためと考えら
れる。

また、この方法による画像形成は、例えば、還元剤の量
を少量変えるだけでポリマーが形成される場所が露光部
になったり未露光部になったりするという非常に不安定
なものであった。

更に、特開昭６１−７５３４２号公報には、重合禁止能
を有する還元剤を、ハロゲン化銀の現像過程において画
像状（＠露光部）に消費して酸化体と成し、残りの還元
剤によって重合反応を画像状（像未露光部）に禁止した
うえで外部から均一に光エネルギーを注入（全面露光）
して、還元剤が消費された部位（像露光部）で光重合を
起し、重合画像を形成する方法が開示されている。

上記方法においては、ハロゲン化銀を利用したために潜
像書き込みにおける感度に優れ、画像形成の書き込みか
ら全面露光までの各過程が効率良く分離される等の利点
を有するものであるが、十分なコントラストの重合画像
を得ることは困難である。以下、その原因について述べ
る。

上記方法において用いられる還元剤は、元々重合禁止剤
としての作用をもち、かつハロゲン化銀を還元した後は
重合禁止剤としての作用を失う還元剤である。したがっ
て、像露光部の還元剤を十分に酸化体に変換しないと、
十分な重合が行なわれない。しかし、現像時の熱エネル
ギーを十分量付与して、像露光部の還元剤を十分に酸化
体へ変化させようとすると、像未露光部でも酸化還元反
応が起ってしまう。また逆に、現像時の熱エネルギー付
与量を少なくして、像未露光部での酸化還元反応が起き
ないようにすると、像露光部での酸化体への変換が十分
には進行しない。この場合の酸化還元像の像露光部は重
合しにくいので、全面露光における光エネルギー付与量
を多くしなければならず、その付与量の増大に伴ない像
未露光部での不必要な重合も起ってしまう。また重合さ
せようとする部位に金属銀が析出しているため、全面露
光による光が吸収され、像露光部と像未露光部での照射
エネルギーに差が生じ、像未露光部の重合がより進行し
やすくなり、結局、十分なコントラストの重合画像は得
られない。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明の目的は、良好なコントラストを有する重合画像
を形成し、重合画像の重合度を再現性良く制御すること
のできる感光性材料、および該感光性材料からなる感光
体を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明者等は、上記課題を解決するために鋭意検討した
結果、感光性ハロゲン化銀塩、有機銀塩、還元剤、重合
性ポリマー前駆体および光重合開始剤を含む感光性材料
において、前記還元剤が下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）お
よび（ＩＩＩ）換または未置換のアリール基、アルコキ
シル基、置換または未置換のシクロアルキル基を表わし
、Ｒ４は水素原子、ハロゲン原子、置換または未置換の
アルキル基、置換または未置換のアラルキル基、置換ま
たは未置換のアリール基、置換または未置換のシクロア
ルキル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基を表
わし、Ａは酸素原子または硫黄原子を表わし、Ｒは水素
原子、未置換アルキル基、置換または未置換のアラルキ
ル基を表わし、Ｚは２価の連結基であってアルキリデン
基、置換または未置換のアラルキリデン基または硫黄原
子を表わし、ｎはＯまたはｌを表わす。］で表わされる
化合物から選ばれる少なくとも一種と、下記一般式（Ｉ
Ｖ　）および（Ｖ） 【但し、上記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ　＞中、Ｒ１，Ｒ
２゜Ｒ３、Ｒ＋！　、　Ｒ６は各々独立して、水素原子
、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換または未置換の
アルキル基、置換または未置換のアラルキル基、置ＵＮ 〔但し、上記式（ＩＶ）、（Ｖ）中、ｒ　ｌ　、　ｒ　
２およびｒ２°は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原
子、置換または未置換のアルキル基、置換または未置換
のシクロアルキル基、置換または未置換のアラルキル基
を示し、ｒおよびｒｏは各々独立に、水素原子、ハロゲ
ン原子、置換または未置換のアルキル基、置換または未
置換のアリール基、置換または未置換のアラルキル基、
アルコキシル基を示し、ｍは１〜３の整数を示し、Ｙは
１価〜３価の連結基として、置換または未置換のアラル
キル基、置換アミノ基、アルキリデン基、置換または未
置換のアラルキリデン基、メチン基を示し、Ｚ。

はアルキリデン基、置換または未置換のアラルキリデン
基を示す。〕で表わされる化合物から選ばれる少なくと
も一種を含有することを特徴とする感光性材料を用いる
ことにより達成できることを見出した。さらに本発明は
、該感光性材料を支持体上あるいは支持体なしに層状に
形成した感光体であり、該感光体を用いた画像形成方法
を提供し得るものである。

以下、本発明の詳細な説明する。

本発明の画像形成方法を説明する。

本発明の感光体を用いて画像を形成する方法は以下の工
程を含むものである。

（ａ）画像状Ｇこ露光する過程と、 （ｂ）感光体を加熱する過程と、 （ｃ）前記感光体に対して全面露光を行なうことにより
、重合画像を形成する過程からなる。

本発明の感光性材料においては次の２つの形態により画
像形成するものである。

形態１としては、像露光、加熱により還元剤が重合禁止
剤として変化するものであり、元々重合禁止剤のないと
ころに部分的に重合禁止剤を発生できるものであり、重
合禁止剤が少量発生しただけでも充分なコントラストの
重合画像を形成できる。

形態２としては、光重合開始剤が感度を有する波長域の
光を吸収する化合物（以下光吸収性化合物と呼ぶ）を生
じさせることにより光によるラジカル開裂そのものを妨
げる感光性材料である。

画然様ともに像未露光部が重合するために、２種類の還
元剤を併用することは、機能の異なる還元剤を用いるこ
とになり、著しくコントラストの高い重合画像を形成で
きる。

また、還元剤の種類により、酸化還元反応の起る加熱条
件が異なるが、２種以上の還元剤を用いることにより、
より好適な加熱条件を選択することができる。より好適
な加熱条件とは、例えば、重合画像を更に色画像に変換
させる色画像形成方法により、あるいは装置形態により
決定されるものである。

装置形態により決定される場合としては、例えば、装置
スペックにより、加熱温度、加熱時間が制限される場合
があったが、本発明により許容性の高い感光体を提供す
ることができ、重合画像の重合度を再現性良く制御する
ことが可能となる。

本発明の感光性材料に用いられる還元剤としては、前述
した２つの形態により還元剤を選択して用いるのが好ま
しい。

形態ｌに対する還元剤としては、前記一般式（Ｉ）〜（
＋１）で表わされる還元剤が好ましい。

これらの還元剤は、酸化されると重合禁止能が生じ、感
光体の像未露光部が重合するという特性を付与するには
非常に好適な還元剤である。

前記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表わされる還元剤にお
ける置換基Ｒ１−Ｒ６について説明する。

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子などが挙げられる。

置換または未置換のアルキル基としては、炭素数１から
１８までの直鎖または分岐のアルキル基で、好ましくは
、例えば、メチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピル、
ブチル、ｔ−ブチル、アミル、ｉ−アミル、ヘキシル、
ヘプチル、オクチル、ノニル、ドデシル、ステアリル、
メトキシエチル、エトキシエチル、エトキシプロビル、
エトキシブチル、プロポキシブチル、ｉ−プロポキシブ
チル、ｔ−ブトキシエチル、ヘキシルオキシブチル、ヒ
ドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピ
ル、ヒドロキシブチル、ヒドロキシペンチル、アミノメ
チル、ジメチルアミノメチル、アミノエチル、ジメチル
アミノエチル、モルホリノエチル、ビオベリジノエチル
、アミノプロピル、ジエチルアミノプロピル、ジプロピ
ルアミノエチル、アミノブチル、モルホリノブチル等で
ある。

置換または未置換のアラルキル基としては、炭素数７か
ら１９のもので、好ましくは例えば、ベンジル、フェネ
チル、ベンズヒドリル、トリチル、フェニルプロピル、
ナフチルメチル、クロロベンジル、ジクロロベンジル、
メトキシベンジル、メチルベンジル等である。

置換または未置換のアリール基としては、炭素数６から
１６のもので、例えば、フェニル、ナフチル、アントリ
ル、フェナントリル、トリル、キシリル、クメニル、メ
シチル、クロロフェニル、メトキシフェニル、フルオロ
フェニル等である。

アルコキシル基としては、炭素数１から１８のもので、
好ましくは、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ｉ−プ
ロポキシ、ブトキシ、ヘキシロキシ基等である。

置換または未置換のシクロアルキル基としては、炭素数
４から１８のもので、好ましくは、シクロペンチル、シ
クロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、メチ
ルシクロヘキシル、ジメチルシクロヘキシル、エチルシ
クロヘキシル基等である。

カルボン酸エステル基としては、炭素数２からＩＯのも
ので、好ましくは、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プロポキシカルボニル基等である。

アルキリデン基としては、炭素数１から８のもので、好
ましくは、メチレン、エチリデン、ブチリデン、ヘキシ
リデン基等である。

アラルキリデン基としては、炭素数７から１８のもので
、好ましくは、ベンジリデン、ｐ−クロロベンジリデン
、ナフチルメチレン、ｐ−ジメチルアミノフェニルメチ
レン、ｐ−ヒドロキシフェニルメチレン、ｐ−トリルメ
チレン基等である。

以下に、前記一般式（１）〜（ｍ）で表わされる還元剤
のうち、特に好ましいものの具体例を挙げるが、本発明
に用いる還元剤はこれらに限定されるものではない。

一般式（１）で表わされる還元剤の具体例としては、例
えば、１．４−ジヒドロキシナフタレン、４−メトキシ
−１−ナフトール、４−エトキシ−１−ナフトール、５
−メチル−４−メトキシ−１−ナフトール、１５−ジヒ
ドロキシナフタレン、４−クロロ−１−ナフトール、５
−クロロ−１−ナフトール、４−メチルチオ−１−ナフ
トール、４−エチルチオ−１−ナフトール、６−フェニ
ル−４−メチル−１−ナフトール、６−フェニル−４−
メトキシ−１−ナフトール、６−ベンジル−１−ナフト
ール、６−ベンジル−４−メトキシ−１−ナフトール、
４−メチル−１，７−ジヒドロキシナフタレン、４−メ
トキシ−６−ベンジル−１−ナフトール、４−メトキシ
−６−シクロヘキシル−１−ナフトール、４−メチルチ
オ−６−シクロヘキシル−１−ナフトール、３．４−ジ
メチル−１−ナフトール、４−ベンジロキシ−１−ナフ
トール等が挙げられる。

一般式（ＩＩ）で表わされる還元剤の具体例としては、
例えば、８−ヒドロキシキノリン、４．８−ジヒドロキ
シキノリン−２−カルボン酸、４−ヒドロキシキノリン
−２−カルボン酸、４−メチル−８−ヒドロキシキノリ
ン、４−ベンジル−８−ヒドロキシキノリン、４，８−
ジヒドロキシ−５−メチルキノリン等が挙げられる。

一般式（ＩＩＩ　）で表わされる還元剤の具体例として
は、例えば、２．２°−メチレンビス（６−ｔ−ブチル
−１，４−ジヒドロキシベンゼン）、２，２°−メチレ
ンビス（４−メトキシフェノール）、２，２”−メチレ
ンビス（４，６−ジーｔ−ブチルフェノール）　、　２
．２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフ
ェノール）、２．２°−ブチリデンビス（４−メトキシ
フェノール）、２，２°−ブチリデンビス（６−ｔ−ブ
チル−１，４−ジヒドロキシベンゼン）　、２．２’−
チオビス（４−メトキシフェノール）　、　２．２’−
チオビス（６−メチル−１，４−ジヒドロキシベンゼン
）、２，２°−チオビス（４，６−ジーｔ−ブチルフェ
ノール）、ビス（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル
）フェニルメタン、（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２
−ヒドロキシフェニル）−（５−メトキシ−２−ヒドロ
キシフェニル）メタン等が挙げられる。

形態２に対する還元剤としては、前記−数式（ＩＶ）、
（Ｖ）で表わされる還元剤が好ましい。

未置換のアルキル基としては、炭素数１から１８までの
直鎖または分岐のアルキル基で、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、ｉ−プロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ア
ミル、ｉ−アミル、５ｅｃ−アミル、テキシル、ヘキシ
ル、ヘプチル、オクチル、ノニル、ドデシル、ステアリ
ル等である。

置換アルキル基としては炭素数２から１８のアルコキシ
アルキル基、炭素数１から１８のハロゲノアルキル基、
炭素数１から１８のヒドロキシアルキル基、炭素数１か
ら１８のアミノアルキル基などであり、例えばアルコキ
シアルキル基としては、メトキシエチル、エトキシメチ
ル、エトキシエチル、エトキシプロビル、エトキシブチ
ル、プロポキシメチル、プロポキシブチル、ｉ−プロポ
キシペンチル、ｔ−ブトキシエチル、ヘキシルオキシブ
チル等を挙げることができる。

ハロゲノアルキル基としては、クロロメチル、クロロエ
チル、ブロモエチル、クロロプロピル、クロロエチル、
クロロヘキシル、クロロオクチルなどを挙げることがで
きる。

ヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル、ヒ
ドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、ヒドロキシブチ
ル、ヒドロキシペンチル、ヒドロキシヘキシル、ヒドロ
キシへブチルなどを挙げることができる。

アミノアルキル基としては、アミノメチル、アセチルア
ミノメチル、ジメチルアミノメチル、アミノエチル、ア
セチルアミノエチル、ジメチルアミノエチル、ジエチル
アミノエチル、モルホリノエチル、ピペリジノエチル、
アミノプロピル、ジエチルアミノプロピル、ジプロピル
アミノエチル、アセチルアミノプロピル、アミノブチル
、モルホリノブチル等である。

シクロアルキル基としては、シクロペンチル、シクロヘ
キシル、シクロヘプチル等である。

アラルキル基としては、ベンジル、クロロベンジル、フ
ェネチル等である。

アリール基としては、炭素数６から１６のもので、好ま
しくは、例えば、フェニル、ナフチル、アントリル、フ
ェナントリル、トリル、キシリル、クメニル、メチシル
、クロロフェニル、メトキシフェニル、フルオロフェニ
ル等である。

アルコキシル基としては、炭素数１から１８のもので、
好ましくは、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ｌ−プ
ロポキシ、ブトキシ基等である。

このうち、ｒ２、ｒ２°として好ましい置換基は、塩素
原子、臭素原子、メチル、エチル、ｉ−プロピル、ｔ−
ブチル、５ｅｃ−アミル、テキシル、エトキシメチル、
エトキシエチル、クロロメチル、ヒドロキシメチル、ア
ミノメチル、ジメチルアミノメチル、ベンジルであり、
特に好ましい置換基は、塩素原子、ｔ−ブチル、テキシ
ルである。

ｒｌとして好ましい置換基は、塩素原子、メチル、エチ
ル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル、アミル、テキシル、ヒ
ドロキシル、クロロメチル、ヒドロキシメチル、ベンジ
ル、シクロヘキシルであり、特に好ましい置換基は、塩
素原子、メチル、ｔ−ブチル、テキシルである。

Ｙとして好ましい１価の連結基の置換または未置換のア
ラルキル基としては、例えば、ベンジル、ｐ−メトキシ
ベンジル、ｐ−Ｎ＋　Ｎ−ジメチルアミノベンジル、ｐ
−ピロリジノベンジル、ｐ−メチルベンジル、ｐ−ヒド
ロキシベンジル、ｐ−クロロベンジル、３．５−ジメチ
ル−４−ヒドロキシベンジル、３．５−ジエチル−４−
ヒドロキシベンジル、３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル、３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジ
ル、３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシベンジル、２．
４−ジメチルベンジル、２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチ
ル−５−メチルベンジル、ナフチルメチルなどを挙げる
ことができる。

１価の連結基の置換アミノ基としては、メチルアミノ、
ジメチルアミノ、ジエチルアミン、アセチルアミノ、フ
ェニルアミノ、ジフェニルアミノ、トリアジルアミノな
どを挙げることができる。

２価の連結基のアルキリデン基としては、例えば、メチ
レン、エチリデン、プロピリデン、ブチリデンなどを挙
げることができる。

２価の連結基のアラルキリデン基としては、例えば、ベ
ンジリデン、ｐ−メチルベンジリデン、ｐ−ジメチルア
ミノベンジリデンなどを挙げることができる。

一般式Ｈｖ）で表わされる好ましい還元剤としては、例
えば、２．６−ジーｔ−ブチル−４−（２−ヒドロキシ
−３−ｔ−ブチルベンジル）フェノール、２，６−ジー
七−ブチル−４−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシ
ベンジル）フェノール、２．６−ジーｔ−ブチル−４−
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノ
ール、２．６−ジーｔ−ブチル−４−（３−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）フェノール、２．６−ジー
ｔ−ブチル−４−（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキ
シベンジル）フェノール、２−ｔ−ブチル−４−（２−
ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル）−５−メチル
フェノール、４．４°−メチレンビス（２，６−ジーｔ
−ブチルフェノール）、４．４“メチレンビス（２−ｔ
−ブチル−５−メチルフェノール）、４，４°−メチレ
ンビス（２−ｔ−ブチル−６−ベンジルフェノール）、
４，４°−メチレンビス（２−ｔ−ブチル−６−メチル
フェノール）、４，４°−エチリデンビス（２，６−ジ
ーｔ−ブチルフェノール）、４．４°−エチリデンビス
（２−ｔ−ブチル−６−メチルフェノール）、４，４°
−プロピリデンビス（２，６−ジーｔ−ブチルフェノー
ル）、４，４°−ブチリデンビス（２，６−ジｔ−ブチ
ルフェノール）　、４．４’−ブチリデンビス（２−シ
クロヘキシル−６−メチルフェノール）、ビス（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）フェニル
メタン、ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）（４−メトキシフェニル）メタン、ビス（
３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）（
４−ジメチルアミノフェニル）メタン、トリス（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン等
である。

一般式（Ｖ）で表わされる好ましい還元剤としては、例
えば、４．４゛−メチレンビス（２−メチル−１−ナフ
トール）、４，４°−メチレンビス（２−ｔ−ブチル−
１−ナフトール）、４，４°−メチレンビス（２−ｔ−
ブチル−６−メチル−１−ナフトール）、４，４°−エ
チリデンビス（２−メチル−１−ナフトール）、４．４
°−エチリデンビス（２−ｔ−ブチル−ｌ−ナフトール
）、ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルナフチル）フェ
ニルメタン等である。

これら第２の態様による還元剤は、光重合開始剤を選択
することにより、コントラストのよい重合画像を形成す
ることができる。

例えば還元剤として、−数式（ＩＶ）で表わされる還元
剤を使用した場合は、３４０ｎｍ〜３９０ｎｍに感度を
有する光重合開始剤、例えば、２−クロロチオキサント
ン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジメチルチオ
キサントン、２．４−ジエチルチオキサントン、２．４
．６−　）リメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキ
サイド、ベンジルなどが好ましい。

また還元剤として一般式（Ｖ）で表わされる還元剤を使
用した場合は、４００〜５００ｎｍに感度を有する光重
合開始剤、例えば、２．４−ジクロロチオキサント、カ
ンファーキノン、３．３°−カルボニルビス（７−ジメ
チルアミノスチリル）などのクマリン類とトリス（トリ
クロロメチル）トリアジンとの組合せ、２−（ｐ−ジメ
チルアミノスチリル）−４，５−ジフェニルチアゾール
と３−フェニル−５−イソオキサシロンの組合せやメロ
シアニン色素と３−フェニル−５−イソオキサシロンと
の組合せなどが好ましい。

本発明の感光性材料に用いられる感光性ハロゲン化銀塩
としては、塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀、塩沃
臭化銀などを挙げることができ、これらは通常の写真乳
剤に対して行われるような化学増感、光学増感処理が施
されていても良い。

つまり、化学増感としては、硫黄増感、貴金属増感、還
元増感等を用いることが出来、光学増感としては従来良
く知られている増感色素を用いた方法などを適用できる
。また、粒子内のハロゲン組成が均一あるいは異なった
多重構造をとっていてもよい。ハロゲン組成、粒子サイ
ズ、粒子サイズ分布などが異なった２種以上のハロゲン
化銀塩を併用しても良い。

有機銀塩としては、有機酸銀やトリアゾール系銀塩等の
「写真光学の基礎、非銀塩編、ｐ、２４７　Ｊや特開昭
５９−５５４２９号公報等に記載された有機銀塩を用い
ることが出来、感光性の低い銀塩を用いるのが好ましい
。例えば、脂肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸、メル
カプト基またはａ−水素を有するチオカルボニル基化合
物、もしくはイミノ基含有化合物などとの銀塩である。

脂肪族カルボン酸としては、酢酸、醋酸、コハク酸、セ
バシン酸、アジピン酸、オレイン酸、リノール酸、リル
ン酸、酒石酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸
、樟脳酸などがあるが、−数的に炭素数が少ないはど銀
塩としては不安定であるので適度な炭素数を有するもの
が良い。

芳香族カルボン酸としては、安息香酸誘導体、キノリン
酸誘導体、ナフタレンカルボン酸誘導体、サリチル酸誘
導体、没食子酸、タンニン酸、フタル酸、フェニル酢酸
誘導体、ピロメリット酸等がある。

メルカプト基又はα−水素を有するチオカルボニル基化
合物としては、３−メルカプト−４−フェニル−！、　
２．４−トリアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾ
ール、２−メルカプト−５−アミノチアジアゾール、２
−メルカプトベンゾチアゾール、Ｓ−アルキルチオグリ
コール酸（アルキル基炭素数１２〜２３）、ジチオ酢酸
などジチオカルボン酸類、チオステアロアミドなどチオ
アミド類、５−カルボキシ−１−メチル−２−フェニル
−４−チオピリジン、メルカプトトリアジン、２−メル
カプトベンゾオキサゾール、メルカプトオキサジアゾー
ル又は３−アミノ−５−ベンジルチオ−１，２，４−ト
リアゾール等、米国特許第４．１２３．２７４号記載の
メルカプト化合物が挙げられる。

本発明の材料が含有する重合性ポリマー前駆体としては
、１分子中に反応性ビニル基を少なくとも１個持つ化合
物が利用できる。

これら化合物の反応性ビニル基としては、スチレン系ビ
ニル基、アクリル酸系ビニル基、メタクリル酸ビニル基
、アリル系ビニル基、ビニルニーチルなどの外に酢酸ビ
ニルなどのエステル系ビニル基など重合反応性を有する
置換もしくは非置換のビニル基が挙げられる。

このような条件を満たす重合性ポリマー前駆体の具体例
は次の通りである。

例えば、スチＬ、ン、メチルスチレン、クロルスチレン
、ブロモスチレン、メトキシスチレン、ジメチルアミノ
スチレン、シアノスチレン、ニトロスチレン、ヒドロキ
シスチレン、アミノスチレン、カルボキシスチレン、ア
クリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸シクロヘキシル、アクリルアミド、メタクリル酸
、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリ
ル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸フェ
ニル、メタクリル酸シクロヘキシル、ビニルピリジン、
Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルイミダゾール、２−
ビニルイミダゾール、Ｎ−メチル−２−ビニルイミダゾ
ール、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル
、イソブチルビニルエーテル、β−クロロエチルビニル
エーテル、フェニルビニルエーテル、ｐ−メチルフェニ
ルビニルエーテル、ｐ−クロルフェニルビニルエーテル
などの一価の単量体：例えばジビニルベンゼン、シュウ
酸ジスチリル、マロン酸ジスチリル、コハク酸ジスチリ
ル、グルタル酸ジスチリル、アジピン酸ジスチリル、マ
レイン酸ジスチリル、フマル酸ジスチリル、β、β゛−
ジメチルグルタル酸ジスチリル、２−ブロモグルタル酸
ジスチリル、α、α°−ジクロログルタル酸ジスチリル
、テレフタル酸ジスチリル、シュウ酸ジ（エチルアクリ
レート）、シュウ酸ジ（メチルエチルアクリレート）、
マロン酸ジ（エチルアクリレート）、マロン酸ジ（メチ
ルエチルアクリレート）、コハク酸ジ（エチルアクリレ
ート）、グルタル酸ジ（エチルアクリレート）、アジピ
ン酸ジ（エチルアクリレート）、マレイン酸ジ（ジエチ
ルアクリレート）、フマル酸ジ（エチルアクリレート）
、β、β゛−ジメチルグルタル酸ジ（エチルアクリレー
ト）、エチレンジアクリルアミド、プロピレンジアクリ
ルアミド、１．４−フ二二レンジアクリル７ミド、１．
４−フェニレンビス（オキシエチルアクリレート）　、
１．４−フェニレンビス（オキシメチルエチルアクリレ
ート）、１．４−ビス（アクリロイルオキシエトキシ）
シクロヘキサン、１．４−ビス（アクリロイルオキシメ
チルエトキシ）シクロヘキサン、１．４−ビス（アクリ
ロイルオキシエトキシカルバモイル）ベンゼン、１．４
−ビス（アクリロイルオキシメチルエトキシカルバモイ
ル）ベンゼン、１．４−ビス（アクリロイルオキシエト
キシカルバモイル）シクロヘキサン、ビス（アクリロイ
ルオキシエトキシカルバモイルシクロヘキシル）メタン
、シュウ酸ジ（エチルメタクリレート）、シュウ酸ジ（
メチルエチルメタクリレート）、マロン酸ジ（エチルメ
タクリレート）、マロン酸ジ（メチルエチルメタクリレ
ート）、コハク酸ジ（エチルメタクリレート）、コハク
酸ジ（メチルエチルメタクリレート）、グルタル酸ジ（
エチルメタクリレート）、アジピン酸ジ（エチルメタク
リレート）、マレイン酸ジ（エチルメタクリレート）、
フマル酸ジ（エチルメタクリレート）、フマル酸ジ（メ
チルエチルメタクリレート）、β、β°−ジメチルグル
タル酸ジ（エチルメタクリレート）　、　１．４−フェ
ニレンビス（オキシエチルメタクリレート）　、　１．
４−ビス（メタクリロイルオキシエトキシ）シクロヘキ
サンアクリロイルオキシエトキシエチルビニルエーテル
などの２価の単量体；例えばペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ（ヒドロキシスチレン）
、シアヌル酸トリアクリレート、シアヌル酸トリメタク
リレート、１、Ｌ、ｌｌ−リメチロールプロパントリア
クリレート、Ｉ、　Ｉ、　ｌ−トリメ、チロールプロパ
ントリメタクリレート、シアヌル酸トリ（エチルアクリ
レート）　、１，１．１−トリメチロールプロパントリ
（エチルアクリレート）、シアヌル酸トリ（エチルビニ
ルエーテル）、１．１．１−トリメチロールプロパント
リ（トルエンジイソシアネート）とヒドロキシエチルア
クリレートとの縮合物、１，１．１−トリメチロールプ
ロパントリ（ヘキサンジイソシアネート）とｐ−ヒドロ
キシスチレンとの縮合物などの３価の単量体；例えばエ
チレンテトラアクリルアミド、プロピレンテトラアクリ
ルアミドなどの４価の単量体などを挙げることができる
。なお、前述のようにこれらの重合性ポリマー前駆体を
二種以上用いてもよい。

そのほかに酸化還元反応の反応促進剤として、ウラシル
、Ｎ−ヒドロキシナフタルイミド、フタル酸イミドやコ
ハク酸イミドなどの環状イミド類、フタル酸ヒドラジド
やマレイン酸ヒドラジドなどの環状ヒドラジド類、フタ
ラジンジオン類、フタラジン類、フタラジノン類などを
添加することが好ましい。

本発明の感光性材料における上記成分の好ましい配合比
は次の通りである。

有機銀塩１モルに対して、感光性ハロゲン化銀塩を好ま
しくは０．００１モル〜２モル、より好ましくは０．０
５モル〜１．０モル含有させるのが望ましい。また、有
機銀塩１モルに対して還元剤を好ましくは０，０５モル
〜３モル、より好ましくは０．２モル〜！、３モル含有
させるのが望ましい。このうち第１の態様の還元剤と第
２の態様の還元剤の比は、第１の態様の還元剤１モルに
対して第２の態様の還元剤をＱ、１〜２０モル用いるの
が好ましい。

更に、重合性ポリマー前駆体１００重量部に対して光重
合開始剤を好ましくは０．１重量部〜３０重量部、より
好ましくは０．５重量部〜ｌＯ重量部用いるのが望まし
い。また、還元剤１モルに対して光重合開始剤を好まし
くは０．旧モル〜ｌＯモル、より好ましくは０．５モ、
ルー３モル含有させるのが望ましい。

また、本発明の感光性材料を、所望の層状に形成し、感
光体を成型する際には、上記必須成分を適宜用いられる
バインダーとともに溶剤に溶解して金属箔、プラスチッ
クフィルム、紙、バライタ紙、合成紙などの支持体上に
塗布乾燥して、あるいはバインダー自身で強度が保たれ
る場合は支持体を用いずにバインダーで形成されるフィ
ルムまたはシート状物中に上記必須成分を含有させて形
成することができる。

なお、本発明の感光体を所望の形状に成型する際のその
形状としては、平板、円筒状、ロール状など特に限定さ
れるものではない。層状に形成した場合の層厚としては
、０．１ｇｍ〜２ｍｍ、好ましくはＩＪＪＩＩ〜Ｏ，１
ｍｍ程度が良い。また、感光層は一層にしても良く、必
要に応じて多層にしてもよい。

本発明に使用可能なバインダーとしては、広範な樹脂か
ら選択することが出来るが、具体的には、例えばニトロ
セルロース、リン酸セルロース、硫酸セルロース、酢酸
セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース
、ミリスチン酸セルロース、パルミチン酸セルロース、
酢酸・プロピオン酸セルロース、酢酸・酪酸セルロース
などのセルロースエステル類；例えばメチルセルロース
、エチルセルロース、プロピルセルロース、ブチルセル
ロースなどのセルロースエーテル類：例えばポリスチレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチ
ラード、ポリビニルアセクール、ポリビニルアルコール
、ポリビニルピロリドンなどのビニル樹脂類；例えばス
チレン−ブタジェン−コポリマー、スチレン−アクリロ
ニトリル−コポリマー、スチレン−ブタジェン−アクリ
ロニトリル−コポリマー、塩化ビニル−酢酸ビニル−コ
ポリマーなどの共重合樹脂類；例えばポリメチルメタク
リレート、ポリメチルアクリレート、ポリブチルアクリ
レート、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアク
リル７ミド、ポリアクリロニトリルなどのアクリル樹脂
類：例えばポリエチレンテレフタレートなどのポリエス
テル類；例えば、ポリ（４，４−イソプロピリデン、ジ
フェニレン−ツー１．４−シクロヘキシレンジメチレン
カーボネート）、ポリ（エチレンジオキシ−３，３“−
フェニレンチオカーボネート）、ポリ（４，４°−イソ
ブロビリデンジフエニレンカーボネートーコーテレフタ
レート）、ポリ（４，４’−イソプロピリデンジフェニ
レンカーボネート）、ポリ（４，４°−５ｅｃ−ブチリ
デンジフェニレンカーボネート）、ポリ（４，４°−イ
ソプロピリデンジフェニレンカーボネート−ブロックオ
キシエチレン）などのポリアクリレート樹脂類；ポリア
ミド類；ポリイミド類；エポキシ樹脂類；フェノール樹
脂類；例えばポリエチレン、ポリプロピレン、塩素化ポ
リエチレンなどのポリオレフィン類；およびゼラチンな
どの天然高分子などが挙げられる。

尚、本発明においてバインダーは必須成分ではなく、材
料の皮膜性、感度などが十分に取れる場合には、特に含
有する必要はない。

この他に必要に応じて、熱カブリ防止剤、色素、帯電防
止剤などを添加することもできる。

重合画像の得られた感光体は、また、エタノール等を用
いてエツチング処理を施すことによりポジ画像を得るこ
とができる。

［実施例］ 次に本発明を実施例を挙げて説明する。

Ｘ思盟ユ ホモミキサーを用い、以下の組成よりなる分散液を暗室
内にて調整した。

ベヘン酸　　　　　　　　　　　　　２．５部ベヘン酸
銀　　　　　　　　　　　　４．５部臭化銀　　　　　
　　　　　　　　　０，７部ポリビニルブチラール　　
　　　　１０００部トリメチロールプロパン トリアクリレート　　　　　　　１０．０部４−ジメチ
ルアミノ安息香酸エチル　　０．６部フタラジノン　　
　　　　　　　　　１．０部２．４−ジエチルチオキサ
ントン　　　　０．４部４．４°−メチレンビス（２，
６−ジーｔ−ブチルフェノール）１．３部 ４−メトキシ−１−ナフトール　　　　　０．２部キシ
レン　　　　　　　　　　　　　６０　　部ｎ−ブタノ
ール　　　　　　　　　　　　６０　　部この分散液を
、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に
乾燥膜厚が５μｍとなるように塗布して感光層を設け、
さらにこの上に２μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ
）層を設け、感光体を得た。

この感光体上のＰＶＡ層にネガ画像を重ね、４００ｎｍ
以下の光をカットするカットフィルターを介して、消費
電力が５００Ｗの超高圧水銀灯を用い、１０ｓｅｃ露光
し、その後、　１２０℃に調節した熱増幅機に１０秒間
加熱した。

その後、カットフィルターを外し、像露光時と同じ超高
圧水銀灯を用いて５秒間全面露光した。

最後に、水洗によりＰＶＡ層を除去し、エタノールでエ
ツチング処理したところ、ポジ画像（像未露光部の重合
画像）がＰＥＴフィルム上に残った。なお、本実施例に
おいては、全面露光の照射時間が２秒から７０秒の範囲
内でエツチング処理により画像を得ることができた。

Ｘ塵盟ｌ ホモミキサーを用い、以下の組成よりなる分散液を暗室
内にて調整した。

ベヘン酸　　　　　　　　　　　　　２．５部ベヘン酸
銀　　　　　　　　　　　　４，５部臭化銀　　　　　
　　　　　　　　　０．７部ポリビニルブチラール　　
　　　　１０．０部トリメチロールプロパン トリアクリレート１０．０部 ４−ジメチルアミノ安息香酸エチル　　０．６部フタラ
ジノン　　　　　　　　　　　０．６部３．３°−カル
ボニルビス （７−ジニチルアミノクマリン）０．６部カンファーキ
ノン　　　　　　　　　０．６部４．４°−メチレンビ
ス （２−メチル−１−ナフトール）２．５部４−ベンジロ
キシ−１−ナフトール　　　０．４部８−ヒドロキシキ
ノリン ＝２−カルボン酸エチル　　　０．２部Ｎ−ブロモスク
シンイミド　　　　　　０．１部キシレン　　　　　　
　　　　　　　６０　　部ｎ−ブタノール　　　　　　
　　　　　　６０　　部この分散液を、ＰＥＴフィルム
上に乾燥膜厚が５μ瓜となるように塗布して感光層を設
け、さらにこの上に２μのＰＶＡ層を設け、感光体を得
た。

この感光体上のＰＶＡ層にネガ画像を重ね、３９０ｎｍ
の光を透過し、　４４０ｎｍ以上の光をカットするカッ
トフィルターを介して、消費電力が５００Ｗの超高圧水
銀灯を用い、　２秒間露光し、その後、１１０℃に調節
した熱増幅機に１６秒間加熱した。

この加熱により、像露光部における上記還元剤が酸化さ
れ、波長４３０〜４７０ｎｍの光を吸収する酸化体とな
った。

その後、カットフィルターを外し、像露光時と同じ超高
圧水銀灯を用いてｌＯ秒間全面露光した。

最後に、水洗によりＰＶＡ層を除去し、エタノールでエ
ツチング処理したところ、ポジ画像がＰＥＴフィルム上
に残った。なお、本実施例においては、全面露光の照射
時間が５秒から４０秒の範囲内でエツチング処理により
画像を得ることができた。

実１１生旦 実施例１で用いた４、４°−メチレンビス（２，６−ジ
ーｔ−ブチルフェノール）１．３部を、４．４゛−プロ
ピリデンビス（２，６−ジーｔ−ブチルフェノール）１
．９部に、４−メトキシ−１−ナフトール０．２部を８
−ヒドロキシキノリン−２−カルボン酸エチル０．３部
に替えた以外は、実施例１と同様にして感光体を作製し
た。

この感光体に実施例１と同様に像露光、熱増幅を行なっ
た。その後、実施例１と同様にしてｌＯ秒間全面露光し
た。ＰＶＡ層を水洗除去した後エタノールでエツチング
処理したところ、ポジの重合画像がＰＥＴフィルム上に
得られた。また熱増幅条件を１１５℃、１０秒間に変え
ても同様に重合画像が得られた。

Ｘ息班差 実施例２において４−ベンジロキシ−１−ナフトール０
．４部および８−ヒドロキシキノリン−２−カルボン酸
エチル０．２部を２，２゛−メチレンビス（４−メトキ
シフェノール）０．４部に替えた以外は実施例２と同様
にして感光体を作製した。実施例２と同様にした像露光
、熱増幅、全面露光を行なった後、エツチング処理を行
なったところ、ＰＥＴフィルム上にポジの重合画像が得
られた。

Ｘ息■亙 実施例１において熱拡散性色素ＭＳ−マゼンタＶＰ（三
井東圧染料製）２．０部を追加した以外は実施例１と同
様にして感光体を作製した。

この感光体に１６段からなるステップタブレットを重ね
、　４００ｎｍ以下の光をカットするカットフィルター
を介して、消費電力が５００Ｗの超高圧水銀灯を用いて
１０秒間像露光した。その後、　１２０℃に調節した熱
増幅機で１０秒間加熱し、カットフィルターをはずした
後、上記超高圧水銀灯を用いて３０秒間全面露光を行な
った。次いでＰＶＡ層を水洗除去した後、合成紙の上に
ポリエステル樹脂が被覆された受像紙と重ね合わせて１
２０℃に加熱されたヒートローラーに通した。これによ
り受像紙上に１６段の色パターンが形成された。

また、熱増幅の条件を１１５℃、１５秒に変えた場合も
同様に色パターンが形成された。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明感光性材料および感光体を
用いることによりコントラストの大きな重合画像を安定
して得ることができ、また、熱拡散性色素を用いて色画
像化した場合も、再現性よく濃度階調を表現することが
できるようになった。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、感光性ハロゲン化銀塩、有機銀塩、還元剤、重合性
   ポリマー前駆体および光重合開始剤を含む感光性材料に
   おいて、前記還元剤が下記一般式（ I ）、（II）およ
   び（III）で表わされる化合物から選ばれる少なくとも
   一種と、下記一般式（IV）および（Ｖ）で表わされる化
   合物から選ばれる少なくとも一種を含有することを特徴
   とする感光性材料。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） 〔但し、上記一般式（ I ）〜（III）中、Ｒ＾１、Ｒ＾
   ２、Ｒ＾３、Ｒ＾５、Ｒ＾６は各々独立して、水素原子
   、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換または未置換の
   アルキル基、置換または未置換のアラルキル基、置換ま
   たは未置換のアリール基、アルコキシル基、置換または
   未置換のシクロアルキル基を表わし、Ｒ＾４は水素原子
   、ハロゲン原子、置換または未置換のアルキル基、置換
   または未置換のアラルキル基、置換または未置換のアリ
   ール基、置換または未置換のシクロアルキル基、カルボ
   キシル基、カルボン酸エステル基を表わし、Ａは酸素原
   子または硫黄原子を表わし、Ｒは水素原子、未置換アル
   キル基、置換または未置換のアラルキル基を表わし、Ｚ
   は２価の連結基であってアルキリデン基、置換または未
   置換のアラルキリデン基または硫黄原子を表わし、ｎは
   ０または１を表わす。］▲数式、化学式、表等がありま
   す▼（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） ［但し、上記式（IV）、（Ｖ）中、ｒ＾１、ｒ＾２およ
   びｒ＾２’は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、
   置換または未置換のアルキル基、置換または未置換のシ
   クロアルキル基、置換または未置換のアラルキル基を示
   し、ｒおよびにｒ’は各々独立に、水素原子、ハロゲン
   原子、置換または未置換のアルキル基、置換または未置
   換のアリール基、置換または未置換のアラルキル基、ア
   ルコキシル基を示し、ｍは１〜３の整数を示し、Ｙは１
   価〜３価の連結基として、置換または未置換のアラルキ
   ル基、置換アミノ基、アルキリデン基、置換または未置
   換のアラルキリデン基、メチン基を示し、Ｚ’はアルキ
   リデン基、置換または未置換のアラルキリデン基を示す
   。］ ２、請求項１記載の感光性材料を支持体上あるいは支持
   体無しに層状に形成してなる感光体。 ３、請求項２記載の感光体に対し、 （ａ）画像状に露光する過程と、 （ｂ）感光体を加熱する過程と、 （ｃ）前記感光体に対して全面露光を行なうことにより
   、重合画像を形成する過程とを含むことを特徴とする画
   像形成方法。