JPH0356956A - 感光性材料、感光体および画像形成方法 - Google Patents
感光性材料、感光体および画像形成方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、像露光により潜像を形成すると同時あるいは
した後に加熱し、該潜像部で酸化還元反応を起こした後
、全面露光により像未露光部に重合画像を形成する感光
性材料、感光体および画像形戊方法に関し、また重合画
像を形成した後、受像体上に熱拡散性色素を転写させ色
画像を得る感光性材料、感光体および画像形成方法に関
する。
した後に加熱し、該潜像部で酸化還元反応を起こした後
、全面露光により像未露光部に重合画像を形成する感光
性材料、感光体および画像形戊方法に関し、また重合画
像を形成した後、受像体上に熱拡散性色素を転写させ色
画像を得る感光性材料、感光体および画像形成方法に関
する。
[従来の技術]
現在、感光性材料として、光照射により重合画像を形成
する材料があり、種々のものが知られている。例えば、
印刷インク、IC用材料、製版材料あるいは記録材科な
どに応用されているが、これらの感光性材料の多くは、
感光波長域が短波長であることと、感光感度に劣るとい
う欠点がある。感光波長域が短波長であるということは
、近年著しく進歩したレーザーを利用することが困難で
あり、デジタル処理に適合できないという問題がある。
する材料があり、種々のものが知られている。例えば、
印刷インク、IC用材料、製版材料あるいは記録材科な
どに応用されているが、これらの感光性材料の多くは、
感光波長域が短波長であることと、感光感度に劣るとい
う欠点がある。感光波長域が短波長であるということは
、近年著しく進歩したレーザーを利用することが困難で
あり、デジタル処理に適合できないという問題がある。
感光感度に劣るということは、その処理スピードが遅い
という問題であり、実用に適さない。
という問題であり、実用に適さない。
このような中で、銀塩を利用して重合反応を生起させる
試みがなされており、例えば米国特許3, 019,
104号明細書や、Photographic Sci
enceand Engineering 1962年
、Vol.6, 222頁などに報告されている。しか
し、これらは重合反応を溶液中で行なうものであり、処
理が煩雑となる問題があった。
試みがなされており、例えば米国特許3, 019,
104号明細書や、Photographic Sci
enceand Engineering 1962年
、Vol.6, 222頁などに報告されている。しか
し、これらは重合反応を溶液中で行なうものであり、処
理が煩雑となる問題があった。
これらの重合反応を乾式処理にて扱おうとする研究がな
されており、例えば、特開昭61−69062号公報等
により、ハロゲン化銀の感光反応なトリガーとして乾式
(熱)重合反応を生起させ、重合からなる潜像を形成す
る方法が知られている.この方法は煩雑な湿式処理が不
要であるという利点を有するが、重合の形成速度(重合
性化合物の重合速度)が遅く、重合潜像の形戊に時間が
かかるという欠点があった。なお、この欠点は、加熱処
理過程においてハロゲン化銀から画像露光により生じた
銀と還元剤との反応から生成する反応中間体(重合開始
剤として機能する)が極めて安定で重合開始剤としての
活性が低く、重合反応がすみやかに進みにくいためと考
えられる。
されており、例えば、特開昭61−69062号公報等
により、ハロゲン化銀の感光反応なトリガーとして乾式
(熱)重合反応を生起させ、重合からなる潜像を形成す
る方法が知られている.この方法は煩雑な湿式処理が不
要であるという利点を有するが、重合の形成速度(重合
性化合物の重合速度)が遅く、重合潜像の形戊に時間が
かかるという欠点があった。なお、この欠点は、加熱処
理過程においてハロゲン化銀から画像露光により生じた
銀と還元剤との反応から生成する反応中間体(重合開始
剤として機能する)が極めて安定で重合開始剤としての
活性が低く、重合反応がすみやかに進みにくいためと考
えられる。
一方、これに対して重合速度を早めるために、熱重合開
始剤を併用させた方法が特開昭62−70836号公報
に開示されている。
始剤を併用させた方法が特開昭62−70836号公報
に開示されている。
この方法は、画像露光によりハロゲン化銀から生じた銀
核により潜像を形成させ、この銀核の触媒作用を利用し
て、還元剤を加熱下で該還元剤と異なる重合禁止能を有
する酸化体に変換することにより、還元剤と生成した酸
化体との重合禁止能の差を生じさせるとともに、熱重合
開始剤を利用した熱重合反応を起させ、その結果形威さ
れた重合禁止能の差に応じた重合潜像を形成する方法で
ある。
核により潜像を形成させ、この銀核の触媒作用を利用し
て、還元剤を加熱下で該還元剤と異なる重合禁止能を有
する酸化体に変換することにより、還元剤と生成した酸
化体との重合禁止能の差を生じさせるとともに、熱重合
開始剤を利用した熱重合反応を起させ、その結果形威さ
れた重合禁止能の差に応じた重合潜像を形成する方法で
ある。
ところが、この方法においては、重合潜像に良好なコン
トラストが取れにくいという欠点が有った。
トラストが取れにくいという欠点が有った。
この欠点は、潜像部で起こる酸化体の生成のための酸化
還元反応と重合潜像形成のための重合反応を同一熱処理
工程中で起こさせるために、これらの反応が競争反応と
なり、それぞれの反応が効率よく進まないためと考えら
れる。
還元反応と重合潜像形成のための重合反応を同一熱処理
工程中で起こさせるために、これらの反応が競争反応と
なり、それぞれの反応が効率よく進まないためと考えら
れる。
また、この方法による画像形成は、例えば、還元剤の量
を少量変えるだけでボリマーが形成される場所が露光部
になったり未露光部になったりするという非常に不安定
なものであった。
を少量変えるだけでボリマーが形成される場所が露光部
になったり未露光部になったりするという非常に不安定
なものであった。
そこで本発明者等は、光により画像形成媒体中に重合反
応を生起し、重合画像を形成し、重合度の程度により内
部熱拡散性色素を受像体に熱転写し色画像を形成する記
録方法を提案した。
応を生起し、重合画像を形成し、重合度の程度により内
部熱拡散性色素を受像体に熱転写し色画像を形成する記
録方法を提案した。
〔発明が解決しようとする課題1
本発明の目的は、さらに良好なコントラストを有する重
合画像を形成し、銀像の色に影響されることなく、明度
および彩度が優れ、濃度階調性のよい画像を形成できる
感光性材料、該感光性材料からなる感光体、さらに該感
光体を用いた画像形成方法を提供することにある。
合画像を形成し、銀像の色に影響されることなく、明度
および彩度が優れ、濃度階調性のよい画像を形成できる
感光性材料、該感光性材料からなる感光体、さらに該感
光体を用いた画像形成方法を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
本発明者等は、上記課題を解決するために鋭意検討した
結果、感光性かつ熱現像性要素、および重合性要素を含
む感光性材料であって、下記一般式(I) [式中、Zは置換または未置換のチアゾール環、オキサ
ゾール環、イミダゾール環、セレナゾール環、トリアゾ
ール環、テトラゾール環およびチアジアゾール環を完成
するに必要な非金属原子群を表わす。]で表わされる化
合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする感光
性材料を用いることにより達成できることを見出した。
結果、感光性かつ熱現像性要素、および重合性要素を含
む感光性材料であって、下記一般式(I) [式中、Zは置換または未置換のチアゾール環、オキサ
ゾール環、イミダゾール環、セレナゾール環、トリアゾ
ール環、テトラゾール環およびチアジアゾール環を完成
するに必要な非金属原子群を表わす。]で表わされる化
合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする感光
性材料を用いることにより達成できることを見出した。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において感光性かつ熱現像性要素とは、感光性銀
塩、有機銀塩および還元剤を含むものであり、重合性要
素とは、重合性化合物および光重合開始剤を含むもので
ある。
塩、有機銀塩および還元剤を含むものであり、重合性要
素とは、重合性化合物および光重合開始剤を含むもので
ある。
一i式(1)で表わされる化合物について説明する。
一般式(I)はより具体的には次の一般式(A)、(B
) . (C)および(D)で示される化合物群を挙げ
ることができる。
) . (C)および(D)で示される化合物群を挙げ
ることができる。
一般式(A)
(式中、R′およびR2は水素原子、置換または未置換
のアルキル基(例えば、メチル、エチル、ブロビル、n
−ブチル、t−ブチル、ベンチル等の炭素数1〜5のア
ルキル基、置換アルキル基としては、2−クロロエチル
、2−アセチルエチル、2−メトキシエチル、メチルス
ルホニルメチル、エチルスルホニルメチル、メトキシカ
ルボニルメチル、ヒドロキシメチル、3−ヒドロキシブ
口ビル等)、置換または未置換のアリール基(例えば、
フエニル、ナフチル、クロロフエニル、プロモフエニル
、ニトロフェニル、トリル、メトキシフエニル、ジクロ
ロフェニル、トリクロロフエニル等)、置換または未置
換のアルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、プロボキシカルボニル、2
−エチルへキシルオキシ力ルボニル等の炭素数1〜8の
アルコキシカルボニル基、置換アルコキシカルボニル基
としては、ペンジル才キシカルボニル、クロロメトキシ
カルボニル等)、置換または未置換のアリールオキシカ
ルボニル基(例えば、フエノキシカルボニル、クロロフ
エノキシ力ルボニル、ニトロフエノキシカルボニル、ジ
クロロフエノキシカルボニル、メトキシフェニルカルボ
ニル等)、置換または未置換のアシル基(例えば、アセ
チル、ベンゾイル、クロロベンゾイル、ポロモベンゾイ
ル、メチルベンゾイル、ニトロベンゾイル、メトキシベ
ンゾイル、エトキシベンゾイル、ジクロロベンゾイル、
ブタノイル、2−エチルヘキサノイル、ナフトイル、フ
ロイル等)、またはカルボキシル基を表わし、またR1
とR2置換または未置換の縮合環を形成してもよい。
のアルキル基(例えば、メチル、エチル、ブロビル、n
−ブチル、t−ブチル、ベンチル等の炭素数1〜5のア
ルキル基、置換アルキル基としては、2−クロロエチル
、2−アセチルエチル、2−メトキシエチル、メチルス
ルホニルメチル、エチルスルホニルメチル、メトキシカ
ルボニルメチル、ヒドロキシメチル、3−ヒドロキシブ
口ビル等)、置換または未置換のアリール基(例えば、
フエニル、ナフチル、クロロフエニル、プロモフエニル
、ニトロフェニル、トリル、メトキシフエニル、ジクロ
ロフェニル、トリクロロフエニル等)、置換または未置
換のアルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、プロボキシカルボニル、2
−エチルへキシルオキシ力ルボニル等の炭素数1〜8の
アルコキシカルボニル基、置換アルコキシカルボニル基
としては、ペンジル才キシカルボニル、クロロメトキシ
カルボニル等)、置換または未置換のアリールオキシカ
ルボニル基(例えば、フエノキシカルボニル、クロロフ
エノキシ力ルボニル、ニトロフエノキシカルボニル、ジ
クロロフエノキシカルボニル、メトキシフェニルカルボ
ニル等)、置換または未置換のアシル基(例えば、アセ
チル、ベンゾイル、クロロベンゾイル、ポロモベンゾイ
ル、メチルベンゾイル、ニトロベンゾイル、メトキシベ
ンゾイル、エトキシベンゾイル、ジクロロベンゾイル、
ブタノイル、2−エチルヘキサノイル、ナフトイル、フ
ロイル等)、またはカルボキシル基を表わし、またR1
とR2置換または未置換の縮合環を形成してもよい。
Xは硫黄原子、酸素原子、セレン原子または> N−R
’ (但し、R7は低級アルキル基を表わす.)を表わ
す。〕 一般式(B) 〔式中、R3はアルキル基(例えばメチル、エチル、プ
ロビル等の炭素数1〜5の7ルキル基)、置換または未
置換のアリール基(例えば、フェニル基、または塩素原
子、臭素原子、メチル、メトキシ、ニトロ基、シアノ基
等で置換されたフェニル基)を表わす。
’ (但し、R7は低級アルキル基を表わす.)を表わ
す。〕 一般式(B) 〔式中、R3はアルキル基(例えばメチル、エチル、プ
ロビル等の炭素数1〜5の7ルキル基)、置換または未
置換のアリール基(例えば、フェニル基、または塩素原
子、臭素原子、メチル、メトキシ、ニトロ基、シアノ基
等で置換されたフェニル基)を表わす。
一般式(C)
〔式中、R4およびR5はアルキル基(例えば、メチル
、エチル、プロビル、n−ブチル、t−ブチル、ペンチ
ル,ヘキシル等)、置換または未置換のアリール基(例
えば、フエニル基、または塩素原子、臭素原子、メチル
、メトキシ、ニトロ基、シアノ基等で置換されたフェニ
ル基)を表わす。
、エチル、プロビル、n−ブチル、t−ブチル、ペンチ
ル,ヘキシル等)、置換または未置換のアリール基(例
えば、フエニル基、または塩素原子、臭素原子、メチル
、メトキシ、ニトロ基、シアノ基等で置換されたフェニ
ル基)を表わす。
一般式(D)
〔式中、R6はアルキル基(例えば、メチル、エチル、
プロビル、n−ブチル、t−ブチル、ベンチルヘキシル
等)、置換または未置換のアリール基(例えば、フエニ
ル基、または塩素原子、臭素原子、メチル、メトキシ、
ニトロ基、シアノ基、ヒトロキシル基等で置換されたフ
ェニル基)を表わす。
プロビル、n−ブチル、t−ブチル、ベンチルヘキシル
等)、置換または未置換のアリール基(例えば、フエニ
ル基、または塩素原子、臭素原子、メチル、メトキシ、
ニトロ基、シアノ基、ヒトロキシル基等で置換されたフ
ェニル基)を表わす。
上述した本発明に好適に用いられるジスルフィド系化合
物を以下に具体的に示す。
物を以下に具体的に示す。
化合物
No.
+{3C
\
H.C
C}+3
これらの化合物は、加熱時に未露光部での意図しない有
機銀塩と還元剤との酸化還元反応を防止するとともに、
重合反応時に、連鎖移動剤として働き、架橋密度の高い
重合画像を得ることができる。特に、熱拡散性色素を重
合度に応じて拡散転写させる画像形成方法においてはハ
イライト部の色かぶりの少ない良好な画像を与えること
ができる。
機銀塩と還元剤との酸化還元反応を防止するとともに、
重合反応時に、連鎖移動剤として働き、架橋密度の高い
重合画像を得ることができる。特に、熱拡散性色素を重
合度に応じて拡散転写させる画像形成方法においてはハ
イライト部の色かぶりの少ない良好な画像を与えること
ができる。
本発明の感光性材科においては次の2つの形態により画
像形成するものである。
像形成するものである。
形態lとしては、像露光、加熱により還元剤が重合禁止
剤として変化するものであり、元々重合禁止剤のないと
ころに部分的に重合禁止剤を発生できるものであり、重
合禁止剤が少量発生しただけでも充分なコントラストの
重合画像を形成てきる。
剤として変化するものであり、元々重合禁止剤のないと
ころに部分的に重合禁止剤を発生できるものであり、重
合禁止剤が少量発生しただけでも充分なコントラストの
重合画像を形成てきる。
形態2としては、光重合開始剤が感度を有する波長域の
光を吸収する化合物(以下光吸収性化合物と呼ぶ)を生
じさせることにより光によるラジカル開裂そのものを妨
げる感光性材料である。
光を吸収する化合物(以下光吸収性化合物と呼ぶ)を生
じさせることにより光によるラジカル開裂そのものを妨
げる感光性材料である。
本発明の感光性材科に用いられる感光性ハロゲン化銀と
しては、塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭
化銀などを挙げることができ、これらは通常の写真乳剤
に対して行われるような化学増感、光学増感処理が施さ
れていても良い。つまり、化学増感としては、硫黄増感
、貴金属増感、還元増感等を用いることが出来、光学増
感としては従来良く知られている増感色素を用いた方法
などを適用できる。
しては、塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭
化銀などを挙げることができ、これらは通常の写真乳剤
に対して行われるような化学増感、光学増感処理が施さ
れていても良い。つまり、化学増感としては、硫黄増感
、貴金属増感、還元増感等を用いることが出来、光学増
感としては従来良く知られている増感色素を用いた方法
などを適用できる。
有機銀塩としては、有機酸銀やトリアゾール系銀塩等の
「写真光学の基礎、非銀塩編、p.247 Jや特開昭
59−55429号公報等に記載された有機銀塩を用い
ることが出来、感光性の低い銀塩を用いるのが好ましい
。
「写真光学の基礎、非銀塩編、p.247 Jや特開昭
59−55429号公報等に記載された有機銀塩を用い
ることが出来、感光性の低い銀塩を用いるのが好ましい
。
本発明の感光性材科に用いられる還元剤としては、前述
した2つの形態により還元剤を選択して用いるのが好ま
しい。
した2つの形態により還元剤を選択して用いるのが好ま
しい。
形態1に対する還元剤としては、下記一般式(II)、
( III )、( IV )で表わされる還元剤が好
ましい。
( III )、( IV )で表わされる還元剤が好
ましい。
〔但し、上記一般式(TI)〜(IV)中、Y1、
Y2,Y3 , Y5 , Y8は各々独立して、水素
原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換または未置
換のアルキル基、置換または未置換のアラルキル基、置
換または未置換のアリール基、アルコキシル基、置換ま
たは未置換のシクロアルキル基を表わし、Y4は水素原
子、ハロゲン原子、置換または未置換のアルキル基、置
換または未置換のアラルキル基、置換または未置換の7
リール基、置換または未置換のシクロアルキル基、カル
ボキシル基、カルボン酸エステル基を表わし、Aは酸素
原子または硫黄原子を表わし、Kは水素原子、未置換ア
ルキル基、置換または未置換のアラルキル基を表わし、
Zは2価の連結基であってアルキリデン基または硫黄原
子を表わし、nはOまたは1を表わす。〕 上記一般式( II )、(III)、( IV )で
表わされる還元剤は、酸化されると重合禁止能が生じ、
感光体の像未露光部が重合するという特性を付与するに
は非常に好適な化合物である。以下にこれらの還元剤の
うち特に好ましいものの具体例を挙げるが本発明に用い
る還元剤はこれらに限定されるものではない。
Y2,Y3 , Y5 , Y8は各々独立して、水素
原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換または未置
換のアルキル基、置換または未置換のアラルキル基、置
換または未置換のアリール基、アルコキシル基、置換ま
たは未置換のシクロアルキル基を表わし、Y4は水素原
子、ハロゲン原子、置換または未置換のアルキル基、置
換または未置換のアラルキル基、置換または未置換の7
リール基、置換または未置換のシクロアルキル基、カル
ボキシル基、カルボン酸エステル基を表わし、Aは酸素
原子または硫黄原子を表わし、Kは水素原子、未置換ア
ルキル基、置換または未置換のアラルキル基を表わし、
Zは2価の連結基であってアルキリデン基または硫黄原
子を表わし、nはOまたは1を表わす。〕 上記一般式( II )、(III)、( IV )で
表わされる還元剤は、酸化されると重合禁止能が生じ、
感光体の像未露光部が重合するという特性を付与するに
は非常に好適な化合物である。以下にこれらの還元剤の
うち特に好ましいものの具体例を挙げるが本発明に用い
る還元剤はこれらに限定されるものではない。
一般式(II)で表わされる還元剤の具体例としては、
例えば、1.4−ジヒドロキシナフタレン、4ーメトキ
シ−1−ナフトール、4−エトキシーl−ナフトール、
5−メチル−4−メトキシ−1−ナフトール、1.5−
ジヒドロキシナフタレン、4−クロロー1−ナフトール
、5−クロロ−1−ナフトール、4−メチルチオ−1−
ナフトール、4−エチルチオーl−ナフトール、6−フ
ェニル−4−メチルーl−ナフトール、6−フェニルー
4−メトキシーl−ナフトール、6−ベンジルー1−ナ
フトール、6−ベンジルー4−メトキシーl−ナフトー
ル、4−メトキシ−1.7−ジヒドロキシナフタレン、
4−メトキシ−6−ベンジルー1−ナフトール、4−メ
トキシ−6−シクロヘキシル−1−ナフトール、34−
ジメチル−1−ナフトール、4−ペンジロキシ−I−ナ
フトール等が挙げられる。
例えば、1.4−ジヒドロキシナフタレン、4ーメトキ
シ−1−ナフトール、4−エトキシーl−ナフトール、
5−メチル−4−メトキシ−1−ナフトール、1.5−
ジヒドロキシナフタレン、4−クロロー1−ナフトール
、5−クロロ−1−ナフトール、4−メチルチオ−1−
ナフトール、4−エチルチオーl−ナフトール、6−フ
ェニル−4−メチルーl−ナフトール、6−フェニルー
4−メトキシーl−ナフトール、6−ベンジルー1−ナ
フトール、6−ベンジルー4−メトキシーl−ナフトー
ル、4−メトキシ−1.7−ジヒドロキシナフタレン、
4−メトキシ−6−ベンジルー1−ナフトール、4−メ
トキシ−6−シクロヘキシル−1−ナフトール、34−
ジメチル−1−ナフトール、4−ペンジロキシ−I−ナ
フトール等が挙げられる。
一般式(m)で表わされる還元剤の具体例としては、例
えば、8−ヒドロキシキノリン、4.8−ジヒドロキシ
キノリンー2−カルボン酸、4−ヒドロキシキノリン−
2−カルボン酸、4−メチル−8−ヒドロキシキノリン
、4−ベンジルー8−ヒドロキシキノリン、4.8−ジ
ヒドロキシ−5−メチルキノリン。
えば、8−ヒドロキシキノリン、4.8−ジヒドロキシ
キノリンー2−カルボン酸、4−ヒドロキシキノリン−
2−カルボン酸、4−メチル−8−ヒドロキシキノリン
、4−ベンジルー8−ヒドロキシキノリン、4.8−ジ
ヒドロキシ−5−メチルキノリン。
一般式(TV)で表わされる還元剤の具体例としては、
例えば、2,2゛−メチレンビス(6−t−ブチルー1
.4−ジヒドロキシベンゼン).2.2“−メチレンビ
ス(4−メトキシフェノール) , 2.2”−メチレ
ンビス(4.6−ジーt−プチルフェノール) 、2.
2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−プチルフェ
ノール) ; 2,2“−ブチリデンビス(4−メトキ
シフェノール) 2,2゛−ブチリデンビス(6−t−
ブチルー1.4−ジヒドロキシベンゼン)、2,2゜−
チオビス(6−メチル−1.4−ジヒドロキシベンゼン
)、2.2゜−チオビス(4.6−ジーt−プチルフェ
ノール)、ビス(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル
)フェニルメタン、(3−t−ブチルー5−メチル−2
−ヒドロキシフェニル)メタン等が挙げられる。
例えば、2,2゛−メチレンビス(6−t−ブチルー1
.4−ジヒドロキシベンゼン).2.2“−メチレンビ
ス(4−メトキシフェノール) , 2.2”−メチレ
ンビス(4.6−ジーt−プチルフェノール) 、2.
2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−プチルフェ
ノール) ; 2,2“−ブチリデンビス(4−メトキ
シフェノール) 2,2゛−ブチリデンビス(6−t−
ブチルー1.4−ジヒドロキシベンゼン)、2,2゜−
チオビス(6−メチル−1.4−ジヒドロキシベンゼン
)、2.2゜−チオビス(4.6−ジーt−プチルフェ
ノール)、ビス(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル
)フェニルメタン、(3−t−ブチルー5−メチル−2
−ヒドロキシフェニル)メタン等が挙げられる。
なお上記還元剤は、2種以上を併用してもよいし、これ
らと従来公知の還元剤とを本発明の目的を妨げない程度
において併用することも可能である。
らと従来公知の還元剤とを本発明の目的を妨げない程度
において併用することも可能である。
形態2に対する還元剤としては、下記一般式(V)、(
Vl)で表わされる還元剤が好ましい。
Vl)で表わされる還元剤が好ましい。
[式(V)中、Y7およびY8は、各々独立に、水素原
子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、置換または未置換
のアルキル基、置換または未置換のアルケニル基、置換
または未置換のアルキニル基、置換または未置換のシク
ロアルキル基、置換または未置換のアラルキル基を示し
、mは1〜3の整数を示し、A2は1価〜3価の連結基
として、置換または未置換のアラルキル、置換または未
置換のアルキル、置換アミン基、2価のアルキリデン基
、アラルキリデン基、3価のメチン基を示す。]OH 0H [式 (V1) 中、 R R は各々同じであっても異なつ ていでも良く、水素原子、アルキル基、シクロアルキル
基を表わし、r,r”は各々同じであっても異なってい
ても良く、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アミ
ン基、アリール基、アラルキル基、アルコキシル基を表
わし、R”は水素原子、アルキル基、アリール基を表わ
す。1 一般式(V)で表わされる好ましい還元剤としては、例
えば、2.6−ジーt−ブチルー4−(2−ヒドロキシ
−3−t−プチルベンジル)フェノール、2.6−ジー
t一ブチルー4− (3. 5−ジクロロ−4−ヒドロ
キシベンジル)フェノール、2−t−ブチルー4−(2
−ヒドロキシ−3.5−ジメチルベンジル)−5−メチ
ルフェノール、4.4“−メチレンビス(2−t−ブチ
ルー5−メチルフェノール) 、4.4’−メチレンビ
ス(2−t−ブチルー6ーメチルフェノール)、4.4
゜−メチレンビス(2.6−ジーt−プチルフェノール
)、4.4’−ブチリデンビス(2.6−ジーt−プチ
ルフェノール)、4,4゜−メチレンビス(2−シクロ
へキシル−6−t−プチルフェノール)、ビス(3.5
−ジーt−ブチルー4−ヒドロキシフエニル)フェニル
メタン、ビス(3.5−ジーt−ブチルー4−ヒドロキ
シフェニル)(4−メトキシフエニル)メタン、ビス(
3.5−ジーt−ブチルー4−ヒドロキシフェニル)(
4−ジメチルアミノフェニル)メタン、トリス(3.5
−ジーt−ブチルー4−ヒドロキシフェニル)メタン等
である。
子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、置換または未置換
のアルキル基、置換または未置換のアルケニル基、置換
または未置換のアルキニル基、置換または未置換のシク
ロアルキル基、置換または未置換のアラルキル基を示し
、mは1〜3の整数を示し、A2は1価〜3価の連結基
として、置換または未置換のアラルキル、置換または未
置換のアルキル、置換アミン基、2価のアルキリデン基
、アラルキリデン基、3価のメチン基を示す。]OH 0H [式 (V1) 中、 R R は各々同じであっても異なつ ていでも良く、水素原子、アルキル基、シクロアルキル
基を表わし、r,r”は各々同じであっても異なってい
ても良く、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アミ
ン基、アリール基、アラルキル基、アルコキシル基を表
わし、R”は水素原子、アルキル基、アリール基を表わ
す。1 一般式(V)で表わされる好ましい還元剤としては、例
えば、2.6−ジーt−ブチルー4−(2−ヒドロキシ
−3−t−プチルベンジル)フェノール、2.6−ジー
t一ブチルー4− (3. 5−ジクロロ−4−ヒドロ
キシベンジル)フェノール、2−t−ブチルー4−(2
−ヒドロキシ−3.5−ジメチルベンジル)−5−メチ
ルフェノール、4.4“−メチレンビス(2−t−ブチ
ルー5−メチルフェノール) 、4.4’−メチレンビ
ス(2−t−ブチルー6ーメチルフェノール)、4.4
゜−メチレンビス(2.6−ジーt−プチルフェノール
)、4.4’−ブチリデンビス(2.6−ジーt−プチ
ルフェノール)、4,4゜−メチレンビス(2−シクロ
へキシル−6−t−プチルフェノール)、ビス(3.5
−ジーt−ブチルー4−ヒドロキシフエニル)フェニル
メタン、ビス(3.5−ジーt−ブチルー4−ヒドロキ
シフェニル)(4−メトキシフエニル)メタン、ビス(
3.5−ジーt−ブチルー4−ヒドロキシフェニル)(
4−ジメチルアミノフェニル)メタン、トリス(3.5
−ジーt−ブチルー4−ヒドロキシフェニル)メタン等
である。
一般式(VI)で表わされる好ましい還元剤としては、
例えば、4,4゛−メチレンビス(2−メチル−1−ナ
フトール) , 4.4’−メチレンビス(2−エチル
−1−ナフトール) , 4.4’−メチレンビス(2
−t−ブチルー1−ナフトール),4.4゜−メチレン
ビス(2一シクロへキシルーl−ナフトール)、4,4
゛−メチレンビス(2−t−ブチルー6−メチル−1−
ナフトール)、4,4゜−メチレンビス(2,6−ジエ
チル−1−ナフトール) 、4.4’−メチレンビス(
2−ベンジルー1−ナフトール) 、4.4’−メチレ
ンビス(2−t−ブチルー8−メチル−1−ナフトール
).4.4’−メチレンビス(2−メチル−8−ジメチ
ルアミノー1−ナフトール) 、4−(3”−t−ブチ
ルー4゜−ヒドロキシナフチル)メチル−2−メチル−
1−ナフトール、4−(3’−シクロヘキシル−4゛−
ヒドロキシナフチル)メチル−2−メチルー1−ナフト
ール、4.4゜−ベンジリデンビス(2−メチル−1−
ナフトール) . 4.4”−ベンジリデンビス(2−
t−ブチルー1−ナフトール) 、4.4”一エチリデ
ンビス(2−メチル−1−ナフトール)、4.4゜一エ
チリデンビス(2−t−ブチルーl−ナフトール)、ビ
ス(4−ヒドロキシ−3−メチルナフチル)トリルメタ
ン等である。
例えば、4,4゛−メチレンビス(2−メチル−1−ナ
フトール) , 4.4’−メチレンビス(2−エチル
−1−ナフトール) , 4.4’−メチレンビス(2
−t−ブチルー1−ナフトール),4.4゜−メチレン
ビス(2一シクロへキシルーl−ナフトール)、4,4
゛−メチレンビス(2−t−ブチルー6−メチル−1−
ナフトール)、4,4゜−メチレンビス(2,6−ジエ
チル−1−ナフトール) 、4.4’−メチレンビス(
2−ベンジルー1−ナフトール) 、4.4’−メチレ
ンビス(2−t−ブチルー8−メチル−1−ナフトール
).4.4’−メチレンビス(2−メチル−8−ジメチ
ルアミノー1−ナフトール) 、4−(3”−t−ブチ
ルー4゜−ヒドロキシナフチル)メチル−2−メチル−
1−ナフトール、4−(3’−シクロヘキシル−4゛−
ヒドロキシナフチル)メチル−2−メチルー1−ナフト
ール、4.4゜−ベンジリデンビス(2−メチル−1−
ナフトール) . 4.4”−ベンジリデンビス(2−
t−ブチルー1−ナフトール) 、4.4”一エチリデ
ンビス(2−メチル−1−ナフトール)、4.4゜一エ
チリデンビス(2−t−ブチルーl−ナフトール)、ビ
ス(4−ヒドロキシ−3−メチルナフチル)トリルメタ
ン等である。
本発明の材料が含有する重合性化合物としては、1分子
中に反応性ビニル基を少なくとも1個持つ化合物が利用
できる。
中に反応性ビニル基を少なくとも1個持つ化合物が利用
できる。
これら化合物の反応性ビニル基としては、スチレン系ビ
ニル基、アクリル酸系ビニル基、メタクリル酸ビニル基
、アリル系ビニル基、ビニルエーテルなどの外に酢酸ビ
ニルなどのエステル系ビニル基など重合反応性を有する
置換もしくは非置換のビニル基が挙げられる。かかる条
件を満たす重合性モノマーの具体例は次の通りである。
ニル基、アクリル酸系ビニル基、メタクリル酸ビニル基
、アリル系ビニル基、ビニルエーテルなどの外に酢酸ビ
ニルなどのエステル系ビニル基など重合反応性を有する
置換もしくは非置換のビニル基が挙げられる。かかる条
件を満たす重合性モノマーの具体例は次の通りである。
例えば、スチレン、メチルスチレン、クロルスチレン、
プロモスチレン、メトキシスチレン、ジメチルアミノス
チレン、シアノスチレン、ニトロスチレン、ヒト口キシ
スチレン、アミノスチレン、カルホキシスチレン、アク
リル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸シクロヘキシル、アクリルアミト、メタクリル酸、
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル
酸プロビル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸フェニ
ル、メタクリル酸シクロヘキシル、ビニルビリジン、N
−ビニルビロリトン、N−ビニルイミダゾール、2−ビ
ニルイミダゾール、N−メチル−2−ビニルイミダゾー
ル、プロビルビニルエーテル、プチルビニルエーテル、
イソブチルビニ゜ルエーテル、β−クロロエチルビニル
エーテル、フェニルビニルエーテル、p−メチルフェニ
ルビニルエーテル、p−クロルフェニルビニルエーテル
などの一価の単量体;例えばジビニルベンゼン、シュウ
酸ジスチリル、マロン酸ジスチリル、コハク酸ジスチリ
ル、グルタル酸ジスチリル、アジビン酸ジスチリル、マ
レイン酸ジスチリル、フマル酸ジスチリル、β,β゛−
ジメチルグルタル酸ジスチリル、2ープロモグルタル酸
ジスチリル、a.α゛−ジクロ口グルタル酸ジスチリル
、テレフクル酸シスチリル、シュウ酸ジ(エチルアクリ
レート)、シュウ酸ジ(メチルエチルアクッレート)、
マロン酸ジ(エチルアクリレート)、マロン酸ジ(メチ
ルエチルアクリレート)、コハク酸ジ(エチルアクリレ
ート)、グルタル酸ジ(エチルアクリレート)、アジビ
ン酸ジ(エチルアクリレート)、マレイン酸ジ(ジェチ
ルアクリレート)、フマル酸ジ(エチルアクリレート)
、β,β゜−ジメチルグルタル酸ジ(エチルアクリレー
エ)、エチレンジアクリルアミド、ブロビレンジアクリ
ルアミト、1.4−フ二二レンジアクリルアミド、1.
4−フェニレンビス(才キシエチルアクリレート).1
.4−フェニレンビス(才キシメチルエチルアクリレー
ト).1.4−ビス(アクリロイル才キシェトキシ)シ
クロヘキサン、1.4−ビス(アクリロイル才キシメチ
ルエトキシ)シクロヘキサン、1.4−ビス(アクリロ
イル才キシエトキシカルバモイル)ベンゼン、1.4−
ビス(アクリロイル才キシメチルエトキシカルバモイル
)ベンゼン、1.4−ビス(アクリロイル才キシエトキ
シ力ルバモイル)シクロヘキサン、ビス(アクリロイル
才キシェトキシカルバモイルシク口ヘキシル)メタン、
シュウ酸ジ(エチルメタクリレート)、シュウ酸ジ(メ
チルエチルメタクリレート)、マロン酸ジ(エチルメタ
クリレート)、マロン酸ジ(メチルエチルメタクリレー
ト)、コハク酸ジ(エチルメタクリレート)、コハク酸
ジ(メチルエチルメタクリレート)、グルタル酸ジ(エ
チルメタクリレート)、アジビン酸ジ(エチルメタクリ
レート)、マレイン酸ジ(エチルメタクリレート)、フ
マル酸ジ(エチルメタクリレート)、フマル酸ジ(メチ
ルエチルメタクリレート)、β.β゛−ジメチルグルタ
ル酸ジ(エチルメタクリレート).1.4−フェニレン
ビス(オキシエチルメタクリレート) . 1.4−ビ
ス(メタクリ口イルオキシエトキシ)シクロヘキサンア
クリ口イル才キシエトキシエチルビニルエーテルなどの
2価の単量体:例えばベンタエリスリトールトリアクリ
レート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペ
ンタエリスリト−ルトリ(ヒト口キシスチレン)、シア
ヌル酸トリアクリレート、シアヌル酸トリメタクリレー
ト、1, 1, l−トリメチロールブロバントリアク
リレート、1,1.1−トリメチロールプロパントリメ
タクリレート、シアヌル酸トリ (エチルアクリレート
) . 1.1.1−トリメチロールプロパントリ(エ
チルアクリレート)、シアヌル酸トリ(エチルビニルエ
ーテル) 、1,1,lトリメチロールプロパントリ(
トルエンジイソシアネート)とと8ロキシエチルアクリ
レートとの縮合物、1、 1.1 トリメチロールブロ
バントリ (ヘキサンジイソシアネート)とp−ヒドロ
キシスチレンとの縮合物などの3価の単量体;例えばエ
チレンテトラアクリルアミド、ブロビレンテトラアクリ
ルアミドなどの4価の単量体などを挙げることができる
。なお、前述のようにこれらの重合性化合物を二種以上
用いてもよい。
プロモスチレン、メトキシスチレン、ジメチルアミノス
チレン、シアノスチレン、ニトロスチレン、ヒト口キシ
スチレン、アミノスチレン、カルホキシスチレン、アク
リル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸シクロヘキシル、アクリルアミト、メタクリル酸、
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル
酸プロビル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸フェニ
ル、メタクリル酸シクロヘキシル、ビニルビリジン、N
−ビニルビロリトン、N−ビニルイミダゾール、2−ビ
ニルイミダゾール、N−メチル−2−ビニルイミダゾー
ル、プロビルビニルエーテル、プチルビニルエーテル、
イソブチルビニ゜ルエーテル、β−クロロエチルビニル
エーテル、フェニルビニルエーテル、p−メチルフェニ
ルビニルエーテル、p−クロルフェニルビニルエーテル
などの一価の単量体;例えばジビニルベンゼン、シュウ
酸ジスチリル、マロン酸ジスチリル、コハク酸ジスチリ
ル、グルタル酸ジスチリル、アジビン酸ジスチリル、マ
レイン酸ジスチリル、フマル酸ジスチリル、β,β゛−
ジメチルグルタル酸ジスチリル、2ープロモグルタル酸
ジスチリル、a.α゛−ジクロ口グルタル酸ジスチリル
、テレフクル酸シスチリル、シュウ酸ジ(エチルアクリ
レート)、シュウ酸ジ(メチルエチルアクッレート)、
マロン酸ジ(エチルアクリレート)、マロン酸ジ(メチ
ルエチルアクリレート)、コハク酸ジ(エチルアクリレ
ート)、グルタル酸ジ(エチルアクリレート)、アジビ
ン酸ジ(エチルアクリレート)、マレイン酸ジ(ジェチ
ルアクリレート)、フマル酸ジ(エチルアクリレート)
、β,β゜−ジメチルグルタル酸ジ(エチルアクリレー
エ)、エチレンジアクリルアミド、ブロビレンジアクリ
ルアミト、1.4−フ二二レンジアクリルアミド、1.
4−フェニレンビス(才キシエチルアクリレート).1
.4−フェニレンビス(才キシメチルエチルアクリレー
ト).1.4−ビス(アクリロイル才キシェトキシ)シ
クロヘキサン、1.4−ビス(アクリロイル才キシメチ
ルエトキシ)シクロヘキサン、1.4−ビス(アクリロ
イル才キシエトキシカルバモイル)ベンゼン、1.4−
ビス(アクリロイル才キシメチルエトキシカルバモイル
)ベンゼン、1.4−ビス(アクリロイル才キシエトキ
シ力ルバモイル)シクロヘキサン、ビス(アクリロイル
才キシェトキシカルバモイルシク口ヘキシル)メタン、
シュウ酸ジ(エチルメタクリレート)、シュウ酸ジ(メ
チルエチルメタクリレート)、マロン酸ジ(エチルメタ
クリレート)、マロン酸ジ(メチルエチルメタクリレー
ト)、コハク酸ジ(エチルメタクリレート)、コハク酸
ジ(メチルエチルメタクリレート)、グルタル酸ジ(エ
チルメタクリレート)、アジビン酸ジ(エチルメタクリ
レート)、マレイン酸ジ(エチルメタクリレート)、フ
マル酸ジ(エチルメタクリレート)、フマル酸ジ(メチ
ルエチルメタクリレート)、β.β゛−ジメチルグルタ
ル酸ジ(エチルメタクリレート).1.4−フェニレン
ビス(オキシエチルメタクリレート) . 1.4−ビ
ス(メタクリ口イルオキシエトキシ)シクロヘキサンア
クリ口イル才キシエトキシエチルビニルエーテルなどの
2価の単量体:例えばベンタエリスリトールトリアクリ
レート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペ
ンタエリスリト−ルトリ(ヒト口キシスチレン)、シア
ヌル酸トリアクリレート、シアヌル酸トリメタクリレー
ト、1, 1, l−トリメチロールブロバントリアク
リレート、1,1.1−トリメチロールプロパントリメ
タクリレート、シアヌル酸トリ (エチルアクリレート
) . 1.1.1−トリメチロールプロパントリ(エ
チルアクリレート)、シアヌル酸トリ(エチルビニルエ
ーテル) 、1,1,lトリメチロールプロパントリ(
トルエンジイソシアネート)とと8ロキシエチルアクリ
レートとの縮合物、1、 1.1 トリメチロールブロ
バントリ (ヘキサンジイソシアネート)とp−ヒドロ
キシスチレンとの縮合物などの3価の単量体;例えばエ
チレンテトラアクリルアミド、ブロビレンテトラアクリ
ルアミドなどの4価の単量体などを挙げることができる
。なお、前述のようにこれらの重合性化合物を二種以上
用いてもよい。
光重合開始剤としては、カルホニル化合物、イ才ウ化合
物、ハロゲン化合物、レドックス系光重合開始剤等を挙
げることができる。
物、ハロゲン化合物、レドックス系光重合開始剤等を挙
げることができる。
具体的には、カルボニル化合物としては、例えばベンジ
ル、4,4゜−ジメトキシベンジル、ジアセチル、カン
ファーキノンなどのジケトン類;例えば4.4゜−ビス
(ジエチルアミン)ペンゾフェノン、44゛−ジメトキ
シベンゾフェノンなどのペンゾフェノン類;例えばアセ
トフェノン、4−メトキシアセトフェノンなどの7セト
フェノン類;ベンゾインアルキルエーテル類;例えば2
−シクロ口チ才キサントン、2.5−ジエチルチオキサ
ントン、チ才キサントン−3−カルボン酸−β−メトキ
シエチルエステルなどのチオキサントン類;ジアルキル
アミノ基を有するカルコン類およびスチリルケトンl
. 3.3”一カルポニルビス(7−メトキシクマリン
) 、3.3’一カルボニルビス(7−ジエチルアミノ
クマリン)などのクマリン類等が挙げられる。
ル、4,4゜−ジメトキシベンジル、ジアセチル、カン
ファーキノンなどのジケトン類;例えば4.4゜−ビス
(ジエチルアミン)ペンゾフェノン、44゛−ジメトキ
シベンゾフェノンなどのペンゾフェノン類;例えばアセ
トフェノン、4−メトキシアセトフェノンなどの7セト
フェノン類;ベンゾインアルキルエーテル類;例えば2
−シクロ口チ才キサントン、2.5−ジエチルチオキサ
ントン、チ才キサントン−3−カルボン酸−β−メトキ
シエチルエステルなどのチオキサントン類;ジアルキル
アミノ基を有するカルコン類およびスチリルケトンl
. 3.3”一カルポニルビス(7−メトキシクマリン
) 、3.3’一カルボニルビス(7−ジエチルアミノ
クマリン)などのクマリン類等が挙げられる。
イ才ウ化合物としては、例えばジベンゾチアゾリルスル
フィド、デシルフエニルスルフィド、ジスルフィド類な
どが挙げられる。
フィド、デシルフエニルスルフィド、ジスルフィド類な
どが挙げられる。
ハロゲン化合物としては、例えば四臭化炭素、キノリン
スルホニルクロライド、トリハロメチル基を有するs−
トリアジン類などが挙げられる。
スルホニルクロライド、トリハロメチル基を有するs−
トリアジン類などが挙げられる。
レトツクス系の光重合開始剤としては、3価の鉄イオン
化合物(例えばクエン酸第二鉄アンモニウム)と過酸化
物などを組み合せて用いるものや、リボフラビン、メチ
レンブルーなどの光還元性色素とトリエタノールアミン
、アスコルビン酸などの還元剤を組み合せて用いるもの
などが挙げられる。
化合物(例えばクエン酸第二鉄アンモニウム)と過酸化
物などを組み合せて用いるものや、リボフラビン、メチ
レンブルーなどの光還元性色素とトリエタノールアミン
、アスコルビン酸などの還元剤を組み合せて用いるもの
などが挙げられる。
また以上に述べた光重合開始剤において、2種以上を組
み合せてより効率の良い光重台を行なうこともできる。
み合せてより効率の良い光重台を行なうこともできる。
この様な光重台開始剤の組み合せとしては、ジアルキル
アミノ基を有するカルコンおよびスチリルケトン類やク
マリン類と、トリ八ロメチル基を有するS一トリアジン
類やカンファーキノンとの組み合せなどが挙げられる。
アミノ基を有するカルコンおよびスチリルケトン類やク
マリン類と、トリ八ロメチル基を有するS一トリアジン
類やカンファーキノンとの組み合せなどが挙げられる。
本発明の感光性重合層における上記成分の好ましい配合
比は次の通りである。
比は次の通りである。
有機銀塩1モルに対して、感光性ハロゲン化銀を好まし
くは0. 001モル〜2モル、より好ましくは0.0
5モル〜0.4モル含有させるのが望ましい。
くは0. 001モル〜2モル、より好ましくは0.0
5モル〜0.4モル含有させるのが望ましい。
また、有機銀塩lモルに対して還元剤を好ましくは0.
2モル〜3モル、より好ましくは0.4モル〜1.3モ
ル含有させるのが望ましい。更に、重合性化合物100
重量部に対して光重合開始剤を好ましくは01重量部〜
50重量部、より好ましくは0.5重量部〜30重量部
用いるのが望ましい。また、還元剤1モルに対して光重
合開始剤を好ましくは001モル〜lOモル、より好ま
しくは0.1モル〜3モル含有させるのが望ましい。
2モル〜3モル、より好ましくは0.4モル〜1.3モ
ル含有させるのが望ましい。更に、重合性化合物100
重量部に対して光重合開始剤を好ましくは01重量部〜
50重量部、より好ましくは0.5重量部〜30重量部
用いるのが望ましい。また、還元剤1モルに対して光重
合開始剤を好ましくは001モル〜lOモル、より好ま
しくは0.1モル〜3モル含有させるのが望ましい。
また、一般式(1)で表わされる化合物の配合比は、有
機銀塩1モルに対して0. 0001〜0.1モルであ
り、好ましくはo. oos〜0,04モルである。
機銀塩1モルに対して0. 0001〜0.1モルであ
り、好ましくはo. oos〜0,04モルである。
また、本発明の感光性材料を、所望の層状に形成し、感
光体を成型する際には、上記必須成分を適宜用いられる
バインダーとともに溶剤に溶解して金属箔、プラスチッ
クフィルム、紙、パライタ紙、合成紙などの支持体上に
塗布乾燥して形成することができる。
光体を成型する際には、上記必須成分を適宜用いられる
バインダーとともに溶剤に溶解して金属箔、プラスチッ
クフィルム、紙、パライタ紙、合成紙などの支持体上に
塗布乾燥して形成することができる。
なお、本発明の感光体を所望の形状に成型する際のその
形状としては、平板、円筒状、ロール状など特に限定さ
れるものではない。層状に形成した場合の層厚としては
、Q,lIJm〜2mm,好ましくは 1μm〜0.1
mm程度が良い。また、感光層は一層にしても良く、必
要に応じて多層にしてもよい。
形状としては、平板、円筒状、ロール状など特に限定さ
れるものではない。層状に形成した場合の層厚としては
、Q,lIJm〜2mm,好ましくは 1μm〜0.1
mm程度が良い。また、感光層は一層にしても良く、必
要に応じて多層にしてもよい。
本発明に使用可能なバインダーとしては、広範な樹脂か
ら選択することが出来るが、具体的には、例えばニトロ
セルロース、リン酸セルロース、硫酸セルロース、酢酸
セルロース、ブロビ才ン酸セルロース、酪酸セルロース
、ミリスチン酸セルロース、パルミチン酸セルロース、
酢酸・ブロビ才ン酸セルロース、酢酸・酪酸セルロース
などのセルロースエステル類;例えばメチルセルロース
、エチルセルロース、プロビルセルロース、ブチルセル
ロースなどのセルロースエーテル類:例えばボリスチレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチ
ラート、ポリビニルアセクール、ポリビニルアルコール
、ポリビニルビロリドンなどのビニル樹脂類;例えばス
チレンーブタジエンーコボリマー、スチレンーアクリロ
ニトリルーコボリマー、スチレンーブタジエンーアクリ
口ニトリルーコボリマー、塩化ビニルー酢酸ビニルーコ
ボリマーなとの共重合樹脂類;例えばポリメチルメタク
リレート、ポリメチルアクリレート、ポリブチルアクリ
レート、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリアクリロニトリルなどのアクリル樹脂
類;例えばポリエチレンテレフタレートなどのポリエス
テル類;例えば、ポリ(4.4−イソブロビリデン、ジ
フェニレンーコ−1.4−シクロヘキシレンジメチレン
カーボネート)、ポリ(エチレンジオキシ−3.3゛−
フェニレンチオカーボネート)、ポリ(4.4’−イソ
ブロビリデンジフェニレンカーボネートーコーテレフタ
レート)、ポリ (4.4゜−イソブロビリデンジフェ
ニレンカーボネート)、ポリ(4,4゜−sec−プチ
リデンジフェニレンカーボネート)、ポリ(4.4’−
イソブロビリデンジフェニレンカーボネートーブロック
オキシエチレン)などのポリアクリレート樹脂類;ボリ
アミド類:ポリイミド類;エボキシ樹脂類;フェノール
樹脂類:例えばポリエチレン、ボリブロビレン、塩素化
ポリエチレンなどのポリオレフィン類;およびゼラチン
などの天然高分子などが挙げられる。
ら選択することが出来るが、具体的には、例えばニトロ
セルロース、リン酸セルロース、硫酸セルロース、酢酸
セルロース、ブロビ才ン酸セルロース、酪酸セルロース
、ミリスチン酸セルロース、パルミチン酸セルロース、
酢酸・ブロビ才ン酸セルロース、酢酸・酪酸セルロース
などのセルロースエステル類;例えばメチルセルロース
、エチルセルロース、プロビルセルロース、ブチルセル
ロースなどのセルロースエーテル類:例えばボリスチレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチ
ラート、ポリビニルアセクール、ポリビニルアルコール
、ポリビニルビロリドンなどのビニル樹脂類;例えばス
チレンーブタジエンーコボリマー、スチレンーアクリロ
ニトリルーコボリマー、スチレンーブタジエンーアクリ
口ニトリルーコボリマー、塩化ビニルー酢酸ビニルーコ
ボリマーなとの共重合樹脂類;例えばポリメチルメタク
リレート、ポリメチルアクリレート、ポリブチルアクリ
レート、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリアクリロニトリルなどのアクリル樹脂
類;例えばポリエチレンテレフタレートなどのポリエス
テル類;例えば、ポリ(4.4−イソブロビリデン、ジ
フェニレンーコ−1.4−シクロヘキシレンジメチレン
カーボネート)、ポリ(エチレンジオキシ−3.3゛−
フェニレンチオカーボネート)、ポリ(4.4’−イソ
ブロビリデンジフェニレンカーボネートーコーテレフタ
レート)、ポリ (4.4゜−イソブロビリデンジフェ
ニレンカーボネート)、ポリ(4,4゜−sec−プチ
リデンジフェニレンカーボネート)、ポリ(4.4’−
イソブロビリデンジフェニレンカーボネートーブロック
オキシエチレン)などのポリアクリレート樹脂類;ボリ
アミド類:ポリイミド類;エボキシ樹脂類;フェノール
樹脂類:例えばポリエチレン、ボリブロビレン、塩素化
ポリエチレンなどのポリオレフィン類;およびゼラチン
などの天然高分子などが挙げられる。
尚、本発明においてバインダーは必須成分ではなく、材
料の皮膜性、感度などが十分に取れる場合には、特に含
有する必要はない。
料の皮膜性、感度などが十分に取れる場合には、特に含
有する必要はない。
この他に必要に応じて、光変色防止剤、固体溶媒、界面
活性剤、帯電防止剤などを添加することもできる。
活性剤、帯電防止剤などを添加することもできる。
上記感光性材科を用いて、感光体を作製するに際して、
感光体の層構成は単層、多層の何れでも良い。単層の場
合は、感光性かつ熱現像性要素および重合性要素を、あ
るいは感光性かつ熱現像性要素、重合性要素および熱拡
散性色素を同一層に含有させる。多層構成としては、感
光性かつ熱現像性要素からなる感光層と、重合性要素か
らなる重合層を別個に形成させ、重合層中に熱拡散性色
素を含有させてもよく、あるいは、感光層、重合層と別
個に熱拡散性色素を含む色素層を設けた三層構戊として
もよい。また感光性かつ熱現像性要素および重合性要素
を含む感光性重合層と、別に色素層を設けた構成でも良
い。
感光体の層構成は単層、多層の何れでも良い。単層の場
合は、感光性かつ熱現像性要素および重合性要素を、あ
るいは感光性かつ熱現像性要素、重合性要素および熱拡
散性色素を同一層に含有させる。多層構成としては、感
光性かつ熱現像性要素からなる感光層と、重合性要素か
らなる重合層を別個に形成させ、重合層中に熱拡散性色
素を含有させてもよく、あるいは、感光層、重合層と別
個に熱拡散性色素を含む色素層を設けた三層構戊として
もよい。また感光性かつ熱現像性要素および重合性要素
を含む感光性重合層と、別に色素層を設けた構成でも良
い。
上記各層を支持体上に設け、該層を保護、あるいは重合
反応を効率よく進めるために、該層′の上に保護層を設
けることが好ましい。
反応を効率よく進めるために、該層′の上に保護層を設
けることが好ましい。
保護層としてはポリエチレンテレフタレートなどのフィ
ルム類でラミネートする、あるいは、ポリビニルアルコ
ール、セルロース類などのバインダーを溶剤にとかして
塗布しても良い。
ルム類でラミネートする、あるいは、ポリビニルアルコ
ール、セルロース類などのバインダーを溶剤にとかして
塗布しても良い。
次に本発明の画像形成方法について述べる。
本発明の感光体に対し、像露光(a)シ、加熱(b)シ
て光吸収性化合物を生成させ、前記光重合開始剤が感度
を有する波長の光により全面露光(c)を行なうことに
より、前記重合性ボリマー前駆体を重合させ、重合画像
を形成する画像形成方法である。
て光吸収性化合物を生成させ、前記光重合開始剤が感度
を有する波長の光により全面露光(c)を行なうことに
より、前記重合性ボリマー前駆体を重合させ、重合画像
を形成する画像形成方法である。
以下、上記各過程(a)〜(C)について、図面を参照
しつつ詳細に説明する。
しつつ詳細に説明する。
まず、単層からなる感光体を用いる場合について説明す
る。
る。
上記の方法における(a)の過程は、光による画像の書
込みを行なう過程であり、第1図に示すように支持体2
上の感光性重合i1に対し、マスク等によるアナログ露
光、外部電気信号または光信号等の画像信号をレーザー
等により露光するデジタル露光によって所望の部分を露
光する。その結果、像露光部1−a内の感光性銀塩から
銀核3が生成し、これが潜像を形成する。
込みを行なう過程であり、第1図に示すように支持体2
上の感光性重合i1に対し、マスク等によるアナログ露
光、外部電気信号または光信号等の画像信号をレーザー
等により露光するデジタル露光によって所望の部分を露
光する。その結果、像露光部1−a内の感光性銀塩から
銀核3が生成し、これが潜像を形成する。
なお、この潜像の書込みにおける露光の条件には、得ら
れた重合画像に十分なコントラスト等の所望の特性を得
ることのできる条件を感光性重合層に含有させた感光性
銀塩の濃度、種類等に応じて適宜選択して用いれば良い
。
れた重合画像に十分なコントラスト等の所望の特性を得
ることのできる条件を感光性重合層に含有させた感光性
銀塩の濃度、種類等に応じて適宜選択して用いれば良い
。
この過程において感光性銀塩を使用するので、高感度な
書込みが可能となる。
書込みが可能となる。
次に上記の方法の過程(b)において、潜像が形成され
た感光性重合層1を加熱すると、第2図に示すように像
露光部1−aにおいて選択的に銀核3が触媒として作用
し、有機銀塩と還元剤とが反応し、有機銀塩は銀原子(
金属銀)に還元されると同時に、還元剤4は酸化されて
酸化体5となる。
た感光性重合層1を加熱すると、第2図に示すように像
露光部1−aにおいて選択的に銀核3が触媒として作用
し、有機銀塩と還元剤とが反応し、有機銀塩は銀原子(
金属銀)に還元されると同時に、還元剤4は酸化されて
酸化体5となる。
この過程(b)における加熱は、酸化還元反応の進行お
よび光吸収性化合物の生成に必要な条件を適宜選択して
行なう。感光体の組成等に応じて一概には言えないが、
60℃から200℃、より好ましくは100℃から15
0℃に、1秒から5分、より好ましくは3秒から60秒
間加熱処理すれば良い。
よび光吸収性化合物の生成に必要な条件を適宜選択して
行なう。感光体の組成等に応じて一概には言えないが、
60℃から200℃、より好ましくは100℃から15
0℃に、1秒から5分、より好ましくは3秒から60秒
間加熱処理すれば良い。
般的に高温で行なうと短時間で済み、低温では長時間加
熱が必要となる。加熱手段としては、ホットプレート、
ヒートロール、サーマルヘッドなどを使用する方法の他
に、支持体の発熱素子上に、通電して加熱する方法や、
レーザー光照射による加熱方法もある。
熱が必要となる。加熱手段としては、ホットプレート、
ヒートロール、サーマルヘッドなどを使用する方法の他
に、支持体の発熱素子上に、通電して加熱する方法や、
レーザー光照射による加熱方法もある。
続いて、(c)の過程において、感光性重合層1を全面
露光する。その露光に用いる光は、形態2の還元剤を用
いた場合は先に述べた有効波長光(光重合開始剤が感度
を有しかつ光吸収性化合物が吸収を有する波長の光)で
ある。ただし、所望の重合画像を得られる範囲内におい
て、有効波長光以外の波長光を併用しても良い。また、
波長域を制限する必要がある場合には、例えば、カット
フィルター等を用いて露光を行なえば良い。形熊1の還
元剤を用いた場合は、光重合開始剤が感度を有する波長
の光を全面露光する。
露光する。その露光に用いる光は、形態2の還元剤を用
いた場合は先に述べた有効波長光(光重合開始剤が感度
を有しかつ光吸収性化合物が吸収を有する波長の光)で
ある。ただし、所望の重合画像を得られる範囲内におい
て、有効波長光以外の波長光を併用しても良い。また、
波長域を制限する必要がある場合には、例えば、カット
フィルター等を用いて露光を行なえば良い。形熊1の還
元剤を用いた場合は、光重合開始剤が感度を有する波長
の光を全面露光する。
この全面露光を行なうと、像未露光部1−bにおいては
、光重合開始剤の作用により重合性化合物が重合する。
、光重合開始剤の作用により重合性化合物が重合する。
一方、像露光部1−aにおいては、酸化体が存在するの
で、全面露光の有効波長光がそれに吸収され、あるいは
、ラジカルが酸化体によりクエンチされ、重合が進行し
ない。従って、像露光部1−aと像未露光部1−bとで
、ボリマーの形戊状態に差が生じ、第3図に示すような
重合部分6が選択的に形成される。つまり、重合画像が
形成されるのである。
で、全面露光の有効波長光がそれに吸収され、あるいは
、ラジカルが酸化体によりクエンチされ、重合が進行し
ない。従って、像露光部1−aと像未露光部1−bとで
、ボリマーの形戊状態に差が生じ、第3図に示すような
重合部分6が選択的に形成される。つまり、重合画像が
形成されるのである。
次に多層構成の感光体を用いる場合を説舅する。第4図
に示すように、この感光体は支持体2上に重合性要素か
らなる重合N8を形成し、さらにその上に感光性かつ熱
現像性要素からなる感光層7を積層したものである。
に示すように、この感光体は支持体2上に重合性要素か
らなる重合N8を形成し、さらにその上に感光性かつ熱
現像性要素からなる感光層7を積層したものである。
この感光体についても前記した単層構成の感光体と同様
に画像形成を行なうことができるが、さらに感光層のみ
の感光要素と重合層のみの重合要素を別々に形成し、は
じめに感光要素を露光・熱現像を行ない光吸収性物質を
生成させた後、重合要素と重ねあわせて全面露光するこ
とにより、重合画像を形成することも可能である。この
場合、感光要素は未露光の重合要素と積層することによ
り、複数回使用することができ、経済的C″−も有利で
ある。
に画像形成を行なうことができるが、さらに感光層のみ
の感光要素と重合層のみの重合要素を別々に形成し、は
じめに感光要素を露光・熱現像を行ない光吸収性物質を
生成させた後、重合要素と重ねあわせて全面露光するこ
とにより、重合画像を形成することも可能である。この
場合、感光要素は未露光の重合要素と積層することによ
り、複数回使用することができ、経済的C″−も有利で
ある。
こうして重合画像を形成させた後に、予め感光体中に含
有させておいた熱拡散性色素を受像体上に熱拡散させる
ことにより、画像を得ることができ、イエロー、マゼン
タ、シアンの3色の熱拡散性色素を用い、各色毎に転写
を行なえば、フルカラー画像を得ることができる。
有させておいた熱拡散性色素を受像体上に熱拡散させる
ことにより、画像を得ることができ、イエロー、マゼン
タ、シアンの3色の熱拡散性色素を用い、各色毎に転写
を行なえば、フルカラー画像を得ることができる。
[実施例]
次に本発明を実施例を挙げて説明する。
X△班ユ
ポリビニルブチラール0.8部をイソブロパノール10
部中に溶解し、さらにこの溶解液のなかに臭化銀0.1
部およびべヘン酸銀0.6部を分散させた。つづいて、
この分散液中に4−メトキシーi−ナフトール0.29
部および化合物No.15の例示化合物を0. 005
部を溶解させて、A液を得た。
部中に溶解し、さらにこの溶解液のなかに臭化銀0.1
部およびべヘン酸銀0.6部を分散させた。つづいて、
この分散液中に4−メトキシーi−ナフトール0.29
部および化合物No.15の例示化合物を0. 005
部を溶解させて、A液を得た。
これとは別に、メチルエチルケトン15部に、2−クロ
ロチ才キサントン0,15部、p−ジメチルアミノ安息
香酸エチル0.18部、ポリメチルメタクリレート0.
6部、ベンタエリスリトールトリアクリレート1.B部
を溶解させ、B液を得た。
ロチ才キサントン0,15部、p−ジメチルアミノ安息
香酸エチル0.18部、ポリメチルメタクリレート0.
6部、ベンタエリスリトールトリアクリレート1.B部
を溶解させ、B液を得た。
次に、A液にB液をよく混合し、ポリエチレンテレフタ
レート(PET)フィルム上に乾燥膜厚が4μmとなる
ように塗布して感光層を設け、さらにこの上に2μmの
ポリビニルアルコール(P■A)層を設け、感光体を得
た。
レート(PET)フィルム上に乾燥膜厚が4μmとなる
ように塗布して感光層を設け、さらにこの上に2μmの
ポリビニルアルコール(P■A)層を設け、感光体を得
た。
この感光体上のPVAiにマスクフィルムを重ね、像露
光による潜像形成を行なった。この像露光は、光源とし
て420nmに蛍光ピークをもつ発光出力5mWの蛍光
灯を用い、感光体から光源を5cm離し10msec露
光することにより行なった。
光による潜像形成を行なった。この像露光は、光源とし
て420nmに蛍光ピークをもつ発光出力5mWの蛍光
灯を用い、感光体から光源を5cm離し10msec露
光することにより行なった。
その後、マスクフィルムを外し、 105℃に調節した
熱現像機に20秒間で感光体を通過させ、さらに感光体
を60゜Cに加熱したホットプレート上にのせ、これに
390nm,発光出力10mWの蛍光灯の光を5cm離
して10秒間照射した。
熱現像機に20秒間で感光体を通過させ、さらに感光体
を60゜Cに加熱したホットプレート上にのせ、これに
390nm,発光出力10mWの蛍光灯の光を5cm離
して10秒間照射した。
最後に水洗によりPVA層を除去し、その後エタノール
中で感光体をすすいだところ、像露光部がPETフィル
ム上から除去され、PETフィルム上に鮮明な重合部分
からなるボジ画像が得られた。
中で感光体をすすいだところ、像露光部がPETフィル
ム上から除去され、PETフィルム上に鮮明な重合部分
からなるボジ画像が得られた。
また、全面露光時間が5secでも、エッチング処理に
より重合画像が得られたが、No.l5の化合物を用い
ない場合には、5secの全面露光時間では重合画像が
形成されなかった。
より重合画像が得られたが、No.l5の化合物を用い
ない場合には、5secの全面露光時間では重合画像が
形成されなかった。
加熱温度を105℃から110℃に上昇させた場合に、
No. 15の化合物を用いた場合は未露光部は熱カブ
リは生じなかったが、NO.7の化合物を用いない場合
には熱カブリが発生した。
No. 15の化合物を用いた場合は未露光部は熱カブ
リは生じなかったが、NO.7の化合物を用いない場合
には熱カブリが発生した。
X生旦ユ
p−ジメチルアミノベンゾニトリル 0.4部4
,4゜−ビス(ジエチルアミノ) ペンゾフエノン 1.2部 MSマゼンタVP 2.0部ジ
ペンタエリスリトール ヘキサアクリレート 8.0部ポリブチル
メタクリレート10 部 メチルエチルケトン 60 部上記
溶液をPETフィルム上に乾燥膜厚3μmになるように
塗布した。さらにその上に下記分散液にNo. 1の化
合物0.05部を加え、乾燥膜厚5I1mとなるように
塗布した。これにPETフィルムをラミネートして感光
体を得た。
,4゜−ビス(ジエチルアミノ) ペンゾフエノン 1.2部 MSマゼンタVP 2.0部ジ
ペンタエリスリトール ヘキサアクリレート 8.0部ポリブチル
メタクリレート10 部 メチルエチルケトン 60 部上記
溶液をPETフィルム上に乾燥膜厚3μmになるように
塗布した。さらにその上に下記分散液にNo. 1の化
合物0.05部を加え、乾燥膜厚5I1mとなるように
塗布した。これにPETフィルムをラミネートして感光
体を得た。
ポリビニルブチラール 1a 部べヘ
ン酸 2.2部べヘン酸銀
4.5部臭化銀
07部フタラジノン
0.6部4,4゜−メチレンビス (2−t−ブチルー6−メチルフェノール)2.6部下
記構造式の増感色素の1部% ジメチルホルムアミド溶液 0,1部C}I2CO
OH n−ブタノール 80 部
トルエン 20 部この
感光体にHe−Neレーザーを用いて像露光した後、
120℃に調節した熱現像機でl6秒間加熱した。続い
て380nmの蛍光灯を用い、40秒間全面露光した。
ン酸 2.2部べヘン酸銀
4.5部臭化銀
07部フタラジノン
0.6部4,4゜−メチレンビス (2−t−ブチルー6−メチルフェノール)2.6部下
記構造式の増感色素の1部% ジメチルホルムアミド溶液 0,1部C}I2CO
OH n−ブタノール 80 部
トルエン 20 部この
感光体にHe−Neレーザーを用いて像露光した後、
120℃に調節した熱現像機でl6秒間加熱した。続い
て380nmの蛍光灯を用い、40秒間全面露光した。
ラミネート用PETフィルムを剥離した後、受像体と重
ねあわせ130℃に加熱されたヒートローラーに3mm
/secの速度で通したところ、受像体側に像露光部に
対応した画像が転写された。
ねあわせ130℃に加熱されたヒートローラーに3mm
/secの速度で通したところ、受像体側に像露光部に
対応した画像が転写された。
No. Iの化合物を用いない場合と、用いた場合の受
像体の画像でのカブリの差は、マゼンタで平均0.12
であり、用いない場合が劣っていた。
像体の画像でのカブリの差は、マゼンタで平均0.12
であり、用いない場合が劣っていた。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明では一般式(I)で示され
る化合物を用いることにより、全面露光における感度に
優れ、かつ、熱安定性のある感光性材料および感光体を
得ることができるようになり、該感光体を用いて得られ
る画像はカブリが発生しない優れた画像を得ることがで
きるようになった。
る化合物を用いることにより、全面露光における感度に
優れ、かつ、熱安定性のある感光性材料および感光体を
得ることができるようになり、該感光体を用いて得られ
る画像はカブリが発生しない優れた画像を得ることがで
きるようになった。
第1図〜第3図は本発明の画像形成方法の一例を示す概
略断面図であり、第4図は本発明の感光体の一例を示す
概略断面図である。 1・・・感光性重合層 3・・・銀核 5・・・酸化体 7・・・感光層
略断面図であり、第4図は本発明の感光体の一例を示す
概略断面図である。 1・・・感光性重合層 3・・・銀核 5・・・酸化体 7・・・感光層
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、感光性かつ熱現像性要素、および重合性要素を含む
感光性材料であって、下記一般式( I )で表わされる
化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする感
光性材料。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、Zは置換または未置換のチアゾール環、オキサ
ゾール環、イミダゾール環、セレナゾール環、トリアゾ
ール環、テトラゾール環およびチアジアゾール環を完成
するに必要な非金属原子群を表わす。] 2、請求項1記載の感光性材料を支持体上に層状に形成
してなる感光体。 3、感光性かつ熱現像性要素からなる感光層と、重合性
要素を含む重合層とを支持体上に層状に形成してなる感
光体であって、一般式( I )で表わされる化合物の少
なくとも一種を含有することを特徴とする感光体。 4、請求項2または3記載の感光体に像露光を行なう過
程、加熱過程、全面露光を行なう過程により像未露光部
を重合させることを特徴とする画像形成方法。 5、感光性かつ熱現像性要素、重合性要素および熱拡散
性色素を含む感光性材料であって、一般式( I )で表
わされる化合物の少なくとも一種を含有することを特徴
とする感光性材料。 6、請求項5記載の感光性材料を支持体上に層状に形成
してなる感光体。 7、感光性かつ熱現像性要素および重合性要素を含む感
光性重合層と、熱拡散性色素を含む層とを支持体上に形
成してなる感光体であって、一般式( I )で表わされ
る化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする
感光体。 8、感光性かつ熱現像性要素および重合性要素を含む感
光性重合層と、熱拡散性色素を含む層とを支持体上に形
成してなる感光体であって、感光性重合層に一般式(
I )で表わされる化合物の少なくとも一種を含有するこ
とを特徴とする感光体。 9、請求項6、7または8記載の感光体に像露光を行な
う過程、加熱過程、全面露光を行なう過程を経た後、受
像体と重ねあわせ、受像体上に像露光に応じて熱拡散性
色素を転写させ、受像体上に画像を得ることを特徴とす
る画像形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19133189A JPH0356956A (ja) | 1989-07-26 | 1989-07-26 | 感光性材料、感光体および画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19133189A JPH0356956A (ja) | 1989-07-26 | 1989-07-26 | 感光性材料、感光体および画像形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0356956A true JPH0356956A (ja) | 1991-03-12 |
Family
ID=16272780
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19133189A Pending JPH0356956A (ja) | 1989-07-26 | 1989-07-26 | 感光性材料、感光体および画像形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0356956A (ja) |
-
1989
- 1989-07-26 JP JP19133189A patent/JPH0356956A/ja active Pending
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