JPH0368118B2 - - Google Patents
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- JPH0368118B2 JPH0368118B2 JP60036046A JP3604685A JPH0368118B2 JP H0368118 B2 JPH0368118 B2 JP H0368118B2 JP 60036046 A JP60036046 A JP 60036046A JP 3604685 A JP3604685 A JP 3604685A JP H0368118 B2 JPH0368118 B2 JP H0368118B2
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- mask
- rubber
- plating
- rubber layer
- base material
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Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はICリードフレームなどの部分めつき
に用いるめつき用マスクの製造方法に関し、特に
加工精度の良い部分めつき用マスクの製造方法に
関する。
に用いるめつき用マスクの製造方法に関し、特に
加工精度の良い部分めつき用マスクの製造方法に
関する。
[従来の技術]
ICリードフレームでは、シリコンチツプを搭
載するタブと称する部分、およびワイヤボンデイ
ングを行うリードの先端部分にめつきを行つてい
る。めつき金属には金および銀が用いられるが、
これら金、銀の高騰に伴ない、めつき面積は増々
小さくなる傾向にある。従つてこれら部分めつき
を行なう際に使用されるマスクの形状も微細化、
複雑化しており、かつ高精密さを要求されるよう
になつて来た。
載するタブと称する部分、およびワイヤボンデイ
ングを行うリードの先端部分にめつきを行つてい
る。めつき金属には金および銀が用いられるが、
これら金、銀の高騰に伴ない、めつき面積は増々
小さくなる傾向にある。従つてこれら部分めつき
を行なう際に使用されるマスクの形状も微細化、
複雑化しており、かつ高精密さを要求されるよう
になつて来た。
従来のマスク構造も、液のシール状としてゴム
を用いるものが多い。そして部分めつきエリアに
相当するマスクの開孔を形成するのに、金型によ
るモールド法を採用している。このモールド法は
開孔形状が微細、複雑になるに従い、金型も複雑
になり高価となるばかりではなく、モールド時の
ゴムの熱による収縮等により精密さも損われる結
果となつている。
を用いるものが多い。そして部分めつきエリアに
相当するマスクの開孔を形成するのに、金型によ
るモールド法を採用している。このモールド法は
開孔形状が微細、複雑になるに従い、金型も複雑
になり高価となるばかりではなく、モールド時の
ゴムの熱による収縮等により精密さも損われる結
果となつている。
また、ゴムのみでは形状が保たれないため、ガ
ラスエポキシ積層材などがマスクの基材として用
いられるが、この基材にもマスク開孔と同一形状
に予め穴あけ加工を施しておいたのち、ゴム層を
モールド法で接着するとう煩雑な加工手順をとら
ねばならない。このため加工日数を要するという
問題点もあつた。
ラスエポキシ積層材などがマスクの基材として用
いられるが、この基材にもマスク開孔と同一形状
に予め穴あけ加工を施しておいたのち、ゴム層を
モールド法で接着するとう煩雑な加工手順をとら
ねばならない。このため加工日数を要するという
問題点もあつた。
[発明が解決しようとする問題点]
本発明の目的は、前述した従来技術の欠点を解
消し、めつき液シールド性が良好で、マスク開孔
を簡単にかつ高精度に形成することのできる部分
めつき用マスクの製造方法を提供することにあ
る。
消し、めつき液シールド性が良好で、マスク開孔
を簡単にかつ高精度に形成することのできる部分
めつき用マスクの製造方法を提供することにあ
る。
[問題点を解決するための手段]
本発明は、剛体基材上に軟質ゴム層を一体に形
成してなると共にこれにめつきエリアに対応する
開孔を形成してなる部分めつき用マスクの製造方
法において、前記軟質ゴムとしてJISK6301によ
るゴム軟質が40度〜70度のものを用い、前記開孔
を前記剛体基材上に前記軟質ゴム層を一体に形成
した後一括して切削加工により形成することを特
徴とする部分めつき用マスクの製造方法を提供す
るものである。
成してなると共にこれにめつきエリアに対応する
開孔を形成してなる部分めつき用マスクの製造方
法において、前記軟質ゴムとしてJISK6301によ
るゴム軟質が40度〜70度のものを用い、前記開孔
を前記剛体基材上に前記軟質ゴム層を一体に形成
した後一括して切削加工により形成することを特
徴とする部分めつき用マスクの製造方法を提供す
るものである。
ここで、前記軟質ゴム層が、前記剛体基材上に
順次形成されたJISK6301によるゴム硬度が60度
以上のゴム層と、JISK6301によるゴム硬度が60
度未満のゴム層とからなる(二層からなる)こと
が好ましい。
順次形成されたJISK6301によるゴム硬度が60度
以上のゴム層と、JISK6301によるゴム硬度が60
度未満のゴム層とからなる(二層からなる)こと
が好ましい。
以下に本発明の部分めつき用マスクの製造方法
について更に詳細に説明する。
について更に詳細に説明する。
本発明の部分めつき用マスクの製造方法におい
ては、まず、第2図に示すように、基材層4の上
にゴム層3を一体に設ける。
ては、まず、第2図に示すように、基材層4の上
にゴム層3を一体に設ける。
基材層4は部分めつき用マスクとしての形状を
保つために必要であり、めつき液に対して化学的
に安定な剛体であればいかなる材質を用いてもよ
いが、ガラスエポキシ積層材(ガラスFRP板)
等を用いるのがよい。基材質4の厚みは任意のも
のを用いることができるが、部分めつき用マスク
としては薄い方がめつき電流密度を大きくとるこ
とができ、形状を保つためには薄すぎると実際的
でないので、約1mm厚みを用いる。
保つために必要であり、めつき液に対して化学的
に安定な剛体であればいかなる材質を用いてもよ
いが、ガラスエポキシ積層材(ガラスFRP板)
等を用いるのがよい。基材質4の厚みは任意のも
のを用いることができるが、部分めつき用マスク
としては薄い方がめつき電流密度を大きくとるこ
とができ、形状を保つためには薄すぎると実際的
でないので、約1mm厚みを用いる。
基材層4上に設層されるゴム層3は硬度を
JISK6301で測定して40度〜70度の軟質ゴムを用
いる。特に50度〜70度の軟質ゴムを用いることが
好ましい。すなわち、硬度70度を越えると部分め
つき用マスクとしてのめつき液シール性が悪くな
る。硬度40度未満であると、開孔2を形成する際
の切削加工性が悪くなる。
JISK6301で測定して40度〜70度の軟質ゴムを用
いる。特に50度〜70度の軟質ゴムを用いることが
好ましい。すなわち、硬度70度を越えると部分め
つき用マスクとしてのめつき液シール性が悪くな
る。硬度40度未満であると、開孔2を形成する際
の切削加工性が悪くなる。
第4図は第2図の開孔断面形状を一部拡大して
示したものであり、特にゴム部分の切削加工時の
逃げ寸法δを誇張して示してある。このゴムの逃
げ寸法δはゴム硬度との関連性が強く、これらの
関係はゴム層の厚さが1mmの場合第5図の斜線で
示す範囲であつた。すなわちゴム硬度50度以上で
逃げ寸法は臨界的に小さくなり、切削加工により
マスク開孔2の形成を行うのに十分な加工精度が
得られることがわかつた。マスクの開孔2が長方
形等の単純な形状であり、かつ形状精度をそれ程
必要としない場合などでは、ゴム硬度40度以上の
軟質ゴムを使用することができる。
示したものであり、特にゴム部分の切削加工時の
逃げ寸法δを誇張して示してある。このゴムの逃
げ寸法δはゴム硬度との関連性が強く、これらの
関係はゴム層の厚さが1mmの場合第5図の斜線で
示す範囲であつた。すなわちゴム硬度50度以上で
逃げ寸法は臨界的に小さくなり、切削加工により
マスク開孔2の形成を行うのに十分な加工精度が
得られることがわかつた。マスクの開孔2が長方
形等の単純な形状であり、かつ形状精度をそれ程
必要としない場合などでは、ゴム硬度40度以上の
軟質ゴムを使用することができる。
ゴム層の厚みは、めつき液シール性とめつき電
流密度から約1mm厚みとすることが良い。
流密度から約1mm厚みとすることが良い。
さらに、第3図に示すように、加工精度の高い
硬度60度以上のゴム層3″の上にめつき液シール
性の良い硬度60度未満のゴム層3′を一体に形成
し、ゴム層2層により形成した部分めつき用マス
クは、めつきエリアに対応するマスクの開孔2を
切削加工により精度良く形成できる機械加工性
と、被めつき物が当接される側に充分なめつき液
シール性を有するので、加工精度およびめつき液
シール性の面でより優れた部分めつき用マスクが
得られる。
硬度60度以上のゴム層3″の上にめつき液シール
性の良い硬度60度未満のゴム層3′を一体に形成
し、ゴム層2層により形成した部分めつき用マス
クは、めつきエリアに対応するマスクの開孔2を
切削加工により精度良く形成できる機械加工性
と、被めつき物が当接される側に充分なめつき液
シール性を有するので、加工精度およびめつき液
シール性の面でより優れた部分めつき用マスクが
得られる。
ゴム材質は、上記の条件を満足するものであれ
ば良く、合成ゴム、天然ゴム等を用いることがで
きる。基材層とゴム層の接着はめついエリアに対
応するマスクの開孔を切削加工により行う場合重
要であり、接着が悪いと切削加工時ゴムの剥れを
生じる。このためゴム材質は自己接着性のあるシ
リコンゴムを用い、金型を用いたモールド法によ
り基材層上に一体に形成する。また公知の適切な
接着剤で接着してもよい。
ば良く、合成ゴム、天然ゴム等を用いることがで
きる。基材層とゴム層の接着はめついエリアに対
応するマスクの開孔を切削加工により行う場合重
要であり、接着が悪いと切削加工時ゴムの剥れを
生じる。このためゴム材質は自己接着性のあるシ
リコンゴムを用い、金型を用いたモールド法によ
り基材層上に一体に形成する。また公知の適切な
接着剤で接着してもよい。
次に、めつきエリアに対応するマスクの開孔2
を、NCフライス盤等を用いて切削加工により形
成する。この場合、当然のことながら、ゴム層と
基材層を一括して切削加工を行う。
を、NCフライス盤等を用いて切削加工により形
成する。この場合、当然のことながら、ゴム層と
基材層を一括して切削加工を行う。
[実施例]
実施例 1
1mm厚さのガラスFRP板を基材として、金型
を用いたモールド法により1mm厚さの単一のゴム
層を基材上に形成した。ゴムは自己接着性のシリ
コンゴムを用いた。JISK6301の硬度は50度であ
つた。
を用いたモールド法により1mm厚さの単一のゴム
層を基材上に形成した。ゴムは自己接着性のシリ
コンゴムを用いた。JISK6301の硬度は50度であ
つた。
モールドにより製作したガラスFRP板と、ゴ
ム層により成るマスク材をNCフライス盤で切削
加工し、第1図に示す部分めつき用マスクを作製
した。切削加工時のゴム層の逃げ寸法は約0.12mm
であり、高精度加工が可能であつた。この部分め
つき用マスクを使用して金めつきを行つたところ
めつき液シール性が良好でかつ高精度な金部分め
つきを行うことができた。
ム層により成るマスク材をNCフライス盤で切削
加工し、第1図に示す部分めつき用マスクを作製
した。切削加工時のゴム層の逃げ寸法は約0.12mm
であり、高精度加工が可能であつた。この部分め
つき用マスクを使用して金めつきを行つたところ
めつき液シール性が良好でかつ高精度な金部分め
つきを行うことができた。
実施例 2
1mm厚さのガラスFRP板を基材として金型を
用いたモールド法により、JISK6301硬度70度の
ゴム層(厚さ0.7mm)を基材層上に形成し、さら
にその上に硬度40度のゴム層(厚さ0.2mm)を一
体に形成した。ゴムはシリコンゴムを用いた。
用いたモールド法により、JISK6301硬度70度の
ゴム層(厚さ0.7mm)を基材層上に形成し、さら
にその上に硬度40度のゴム層(厚さ0.2mm)を一
体に形成した。ゴムはシリコンゴムを用いた。
実施例1と同様に切削加工し、部分めつき用マ
スクを作製した。切削加工時のゴム層の逃げ寸法
は約0.1mmであり、高精度加工が可能であつた。
この部分めつき用マスクを使用して金めつきを行
つたところ良好な金部分めつきを行うことができ
た。
スクを作製した。切削加工時のゴム層の逃げ寸法
は約0.1mmであり、高精度加工が可能であつた。
この部分めつき用マスクを使用して金めつきを行
つたところ良好な金部分めつきを行うことができ
た。
[発明の効果]
本発明は、基材層上にこの基材と共に切削可能
な特定の硬度を有するゴム層を一体に形成し、メ
ツキエリアに対応するマスクの開孔を、前記両層
を一括に切削加工することにより形成する、部分
めつき用マスクの製造方法であり、このようにし
て得られた部分めつき用マスクはめつき液シール
性が良好であり、しかも、本発明の方法によれ
ば、めつきエリアに対応するマスクの開孔を切削
加工により高精度に形成することができるので、
複雑なモールド金型が不要であり、安価で高精度
な部分めつき用マスクが容易に得られる。
な特定の硬度を有するゴム層を一体に形成し、メ
ツキエリアに対応するマスクの開孔を、前記両層
を一括に切削加工することにより形成する、部分
めつき用マスクの製造方法であり、このようにし
て得られた部分めつき用マスクはめつき液シール
性が良好であり、しかも、本発明の方法によれ
ば、めつきエリアに対応するマスクの開孔を切削
加工により高精度に形成することができるので、
複雑なモールド金型が不要であり、安価で高精度
な部分めつき用マスクが容易に得られる。
第1図は、本発明に係る部分めつき用マスクの
部分平面図である。第2図は、本発明に係る部分
めつき用マスクの一実施例の開孔部の断面図であ
る。第3図は、本発明に係る部分めつき用マスク
の他の実施例の開孔部の断面図である。第4図は
第2図の開孔部の一部拡大断面図である。第5図
はゴム硬度と切削時のゴム逃げ寸法の関係を示す
グラフである。 1:マスク面、2:開孔、3,3′,3″:ゴム
層、4:基材層、5:パイロツトホール、δ:切
削加工時のゴム逃げ寸法。
部分平面図である。第2図は、本発明に係る部分
めつき用マスクの一実施例の開孔部の断面図であ
る。第3図は、本発明に係る部分めつき用マスク
の他の実施例の開孔部の断面図である。第4図は
第2図の開孔部の一部拡大断面図である。第5図
はゴム硬度と切削時のゴム逃げ寸法の関係を示す
グラフである。 1:マスク面、2:開孔、3,3′,3″:ゴム
層、4:基材層、5:パイロツトホール、δ:切
削加工時のゴム逃げ寸法。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 剛体基材上に軟質ゴム層を一体に形成してな
ると共にこれにめつきエリアに対応する開孔を形
成してなる部分めつき用マスクの製造方法におい
て、前記軟質ゴムとしてJISK6301によるゴム硬
度が40度〜70度のものを用い、前記開孔を前記剛
体基材上に前記軟質ゴム層を一体に形成した後一
括して切削加工により形成することを特徴とする
部分めつき用マスクの製造方法。 2 前記軟質ゴム層が、前記剛体基材上に順次形
成されたJISK6301によるゴム硬度が60度以上の
ゴム層と、JISK6301によるゴム硬度が60度未満
のゴム層とからなることを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の部分めつき用マスクの製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3604685A JPS61195987A (ja) | 1985-02-25 | 1985-02-25 | 部分めつき用マスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3604685A JPS61195987A (ja) | 1985-02-25 | 1985-02-25 | 部分めつき用マスク |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61195987A JPS61195987A (ja) | 1986-08-30 |
JPH0368118B2 true JPH0368118B2 (ja) | 1991-10-25 |
Family
ID=12458767
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3604685A Granted JPS61195987A (ja) | 1985-02-25 | 1985-02-25 | 部分めつき用マスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61195987A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5589043A (en) * | 1995-10-31 | 1996-12-31 | Edwards; James P. | Mask for plating metals and method of construction thereof |
KR100691363B1 (ko) * | 2005-09-23 | 2007-03-12 | 삼성전기주식회사 | 수직구조 발광 다이오드의 제조 방법 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS576542U (ja) * | 1980-06-13 | 1982-01-13 |
-
1985
- 1985-02-25 JP JP3604685A patent/JPS61195987A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS576542U (ja) * | 1980-06-13 | 1982-01-13 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61195987A (ja) | 1986-08-30 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |