JPH0366684A - 置換された4―ヘテロアロイルピラゾール、その製法、これを含有する除草作用を有する薬剤及びこの薬剤の製法 - Google Patents

置換された4―ヘテロアロイルピラゾール、その製法、これを含有する除草作用を有する薬剤及びこの薬剤の製法

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JPH0366684A
JPH0366684A JP2202339A JP20233990A JPH0366684A JP H0366684 A JPH0366684 A JP H0366684A JP 2202339 A JP2202339 A JP 2202339A JP 20233990 A JP20233990 A JP 20233990A JP H0366684 A JPH0366684 A JP H0366684A
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alkyl
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alkoxy
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アルフレツド・アンガーマン
Helga Franke
ヘルガ・フランケ
Jens Dr Geissler
イエンス・ガイスラー
Gerhard Dr Johann
ゲルハルト・ヨハン
Richard Rees
リチヤード・リース
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規の置換された4−ヘテロアロイルピラゾ
ール、この化合物の製法及びこれを除草作用を有する薬
剤として使用することに関する0 〔従来の技術〕 峙定の4−ベンゾイル−及び4−ビリゾルカルボニル−
ビラゾール誘導体が除草作用を有することは、既に公知
である[特願昭51−106738号及び54−CO9
279号明細書]、L納置、これらの公知化合物の除草
作用は十分ではないか、又はx喪な農業栽培で選択性の
問題が生じる〇 〔本発明が解決しようとする課題〕 従って、本発明の陳題は、その生物学的特性K>いて従
来公知の化合物よシ優れている新規化合物を製造するこ
とである。
〔課題を解決するための手段〕
この課題は、−紋穴!= ■ 〔式中、Uは水素原子、01〜04−アルキル基又はハ
ロゲン−〇1−c4−アルキル基を表し、■は水素原子
、0l−04−アルキル基又は/%ロrンー01〜04
−アルキル基を表し、Wは一般式:の複累環弐基W−1
からW−7を表し、Xは酸素原子又は硫黄原子を表し、
2はハロゲン原子又は基−OR”−0−(OHB)n−
CO−R1−o−日02−R”−S(O)n−R”  
−OM又は−NR”R” t−表し、nは0゜1又は2
を表し、M#:l:リテクム、ナトリウム及びカリウム
の群から成る陽イオン、亜鉛、マンガン、カルシウム、
マグネシウム及ヒバリウムの群から成る等個物又は−紋
穴: %式% のアンモ品りムイオンを表し、R”は水素原子、OX”
−0111−アルキル基、1個又は数個の、肉−又は異
なるハロゲン、ヒドロキシ又ハシアノ□よシミ換された
か又は酸素又は硫黄にょう1個又は数個中断され九ox
−ozs−アルキル基、01−011−アルケニル基、
11i!又は数個の、同−又は異なるハロゲン、ヒドロ
キシ又はシアノによりt換されたか又は酸素又は硫黄に
ょ91個又は数個中断されfe−am−Oll−アルク
ニル基、02〜0111−アルキニル基、1個又は数個
の、同−又は異なるハロゲン、ヒドロキシ又はシアノに
よ多置換されたか又はII2累又は硫黄により1個又は
数個中断された02〜aXS−アルキニル基、フェニル
基、1@又は数個の、同−又は異なるハロゲン、ニトロ
、シアノ、01〜04−アルキル、ハロゲン−cl〜0
4−アルキル、01〜04−アルコキシ又はハロゲン−
01〜C4−アルコ中シによりt 換i5 しfc y
 zニル基、7エ二ルーCl〜o5−アルキル基又は1
個又は数個の、肉−又は異なるハロゲン、ニトロ、シア
ノ%  ol〜04−アルキル、ハロゲン−01〜04
〜アルキル、ol〜04−アルコキシ又はハロゲン−〇
1〜04−アルフキシによ多置換されたフェニル−01
〜03−アル中ル基t−表し、Hf1lは水素原子、a
x−axe−アルキル基、1個又は数個の、同−又は異
なるハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、 Cl−04−ア
ルコキシカルボニル、基−HH1!115又は基−IJ
+11211 !1R14によ多置換されたか又は#素
又Fi硫′iRによ少1個又は数個中断されたO1〜0
161−アルキル基s ’i〜Cl2ミルCl2−アル
ケニルは数個の、同−又は異なルー・ログン、ヒドロキ
シ又はシアノ□よ多置換されたか又はWt素又は@*に
よ91個又は数個中断され7’cCs〜0IJ−アルク
ニル基、a2〜c1m −アルキニル基、1@又は数個
の、同−又は異なるハロゲン、ヒドロキシ又はシアノに
よli換されたか又は1M!参叉は硫′R□よ91個又
は数個中断された01〜O1m−アルキニル基、0l−
Oa−アル:X*Vihsasc2ゲン” 01”−0
6−7k :f * シ基、フェニル基、1個又は数個
の、同−又は異ナルハロゲン、ニトロ、シアノ、01〜
04−アルキル、ハロゲン−01〜04−アルキル、c
1〜o、 −アルコキシ又はハロゲン−〇1〜04−ア
ルコキシによジ置換されたフェニル基、フェニル −a
l−o3−アルキル基又は1個又は数個の、同−又は異
ナルハロrン、ニトロ、シアノ、01〜04−アルキル
、ハロゲン−〇L〜04−アルキル、Ol〜o4−アル
コキシ又は/%E2グンー01〜O↓−アルコキシによ
シm:$されたンエニルーoz−o5−アルキル基を表
し、R3は水素原子、01〜018−アルキル基、1個
又は数個の、同−又は異なるハロゲン。
ヒドロキシ、シアノ、01〜04−アルコキシカルボニ
ル、基−NR1*R15又は基−Nへl禽R113R1
4によ多置換されたか又は酸素又は硫黄によ11個又は
数個中断された01〜axe−アルキル基、a□〜ol
−アルケニル基、1個又は数個の、同−又は異危るハロ
ゲン、ヒドロキシ又はシアノによりe換されたか又は酸
素又は硫黄によ11個又は数個中断された02〜C12
−アルケニル基、01〜011−アルキニル基、1個又
は数個の、同−又は異なるハロゲン、ヒドロキシ又はシ
アノによりfIk換されたか又はWR素又は硫黄により
1個又は数個中断された02〜022−アルキニル基、
7エ二ル基、1個又は数個の、同−又は異なるハロゲン
、ニトロ、シアノ、C1〜C4−アルキル、ハロゲン−
〇1−〇4−アルキル、 Ol〜o4−アルコキシ又a
ハロゲンー01〜04−アルコキシ匝よ多置換1’lフ
ェニル基、7エ二ルー01−03−アルキル基又は1個
又は数個の、同−又は異なるハロゲン、ニトロ、シアノ
、  Ol〜o4−アルキル、ハロゲン−C1〜C4−
アルキル、01〜0.−アルコキシ又はハロゲン−01
〜04−アルコキシによ多置換された7エエルーCl−
0i−アルキル基を表すか又はB、a及びR3が一緒に
隣接する窒素原子と共にモルフォリノ基、ビペリクノ基
又はビロリゾノ基を表し、R4は水素原子、ハロゲン原
子、01〜aSS−アルキル基、酸素又は硫黄によ11
個又は数個中断されたam””alm−アルキル基、ハ
ロゲン−01〜04−アルキル101〜c4−アルコキ
シ基、ハロゲン−Cl−04−アルコキシ基、01〜0
4−アルキルメルカプト基、01−04−アルコキシカ
ルボニル基、フェニル基、ハpJy″ン、ニトロ、シア
ノ、01−04−アルキル、ハロゲン−Cl−04−ア
ルキル、Cl−04−アルコキシ又はハr:1グンー0
1〜04−アルコキシによ多置換された7エエル基、シ
アノ基又はニトロ基を表し、R8は水素原子、ハロゲン
原子、OX””01m−アルキル基、酸素又は硫黄によ
11個又は数個中断された0a−011−アルキル基、
ハロゲン−〇1〜04−アルキル基、01〜04−アル
コキシ基、ハロゲン−C工〜o4−アルコキシ基、01
〜04−フルキルメルカプト基、C1〜04−アルコキ
シカルボニル基、7エエル基、ハロゲン、ニトロ、シア
ノ、C1〜04−アルキル、ハロゲン−〇1〜Q4−ア
ルキル%  al〜C4−アルコキシ又はハロゲン−0
1〜04−アルコキシによ多置換された7エエル基、シ
アノ基又はcトロ基を表し、R’は水素原子、ハロゲン
原子、01〜OIm−アルキル基、III又は硫黄によ
り1@又は数個中断され九〇1−011−アルキル基、
ハロゲン−〇1〜04−アルキル基、Cl〜a4−アル
:IIIFシ基、7%0ゲンー01−04−アルコキシ
基、0l−01−フルキルメルカプト基、C1−04−
アルコキシカルボニル基、7エ二ル基、ハロゲン、ニト
ロ、シアノ、01〜04−アルキル、ハロゲン−01〜
04−アルキル、Ol〜c4−アルコ今シ又ハハロrン
ー01〜04−アルコキシによ多置換された7エ二ル基
、シアノ基又はニトロ基を表し R7は水素原子、ハロ
ゲン原子、0l−CIJ−アルキル基、!2票又I/′
i硫黄によ11個又は数個中断されft−0r011−
アルキル基、ハロゲン−01=04−アルキル基、01
−04−アルコキシ基、ハロゲン−Qz−1#Qa−ア
ルコキシ基、OX””04−アルキルメルカプト基、0
l−C4−アルコキシカルボニル基、フェニル基、ハロ
ゲン、ニトロ、シアノ、0l−C4−アルキル、ハロゲ
ン−Cl−04−アルキル、alm04−アルコキシ又
は−ロダン−01−〇4−アルコキシによシを換された
7エ二ル基、シアノ基又はニトロ基を表し、R8は水素
原子、Ol〜O1m−アルキル基、酸素又は硫黄によ1
1個又は数個中断されたas−azs−アルキル基、フ
ェニル基又はペンクル基を表し、R9は水素原子、01
=011−アルキル基、酸素又は(j!黄により1個又
は数個中断された03〜01m−アルキル基、フェニル
基又はベンシル基を表し、110は水素原子、01〜0
12−アルキル基、酸素又は硫黄によ11個又は数個中
断されたOa〜0IJ−アルキル基、フェニル基又ハペ
ンンル基を表し、R11は水素原子、c1〜CZS−ア
ルキル基、&素又#:l:硫黄によ11個又は数個中断
された0rOIJ−アルキル基、フェニル基又はペンシ
ル基を表し、R13は水素原子又は01−01−アルキ
ル基を表し、R13は水素原子又は01〜01黛−アル
キル基を表し及びR14は水素原子又はO工〜Ch2−
アルキル基を表す〕の新規置換された4−へテロアロイ
ルピラゾールによって解決される〇 名称1ハロゲン°には、弗素、塩素、臭素及びヨウ素が
包含される01ハロゲン化アルキル1又は1ハロrンア
ルコキシ”とは、水素原子1個又は数個が弗素、塩素、
A素又はヨウ素によって置換されていることを表す0 概念1アルキルI′@アルケニル”及び1アルキニル′
とは、[a及び分枝鎖状炭化水素基を表す0 本発明による一紋穴IO化合物は、2がヒドロキシ基を
表す場合には、−紋穴I′及び■“:〔式中、U、V友
びWは一紋穴IK記載したものt−表す〕を有する互変
異性体として存在してもよい0 しかし、この種の構造は本発明により1簡易化するため
に、各々−紋穴IC)構造のみを記載する0 本発明による化合物の製造は、公知方法を模して〔例え
ば、アクタ ヒミカ スカンクナビカ(Acta Oh
amica 8oan41navioa )第13巻、
1668j[(1959年);ジャーナル オンメディ
カル ケミストリー (、Tournal ofy@改
1oal Chemistry )第24巻、982頁
(1981年);欧州特許#!0282944号明細書
〕、例えば、 納置  Zがヒドロキシ基を表す場合に、−紋穴H:■
′ N 〔式中、U及びVは一紋穴■に記載したものを表す〕の
化合物を、−紋穴璽: Y−0−v(厘) 謳 〔式中、Wは一紋穴Iに記載のものを表し、Yは−・ロ
ゲン、有利には塩素原子又は臭素原子又は0□〜04−
アルコキシ基を表す〕のカルボン酸誘導体と、好適な塩
基又はルイスの酸の存在で反応させるか、又は E)  Zがヒドロキシ基を表丁場合に、−数式I;H 〔式中、U及びVは一紋穴lに記載したものを表す〕の
化合物を、−数式■: H□−a−w        (ff)カルボン酸と、
脱水剤及び好適な塩基又はルイスの酸の存在で反応させ
るか、又は o)  zが基−OH”を表す場合に、−紋穴V:〔式
中、U%V及びWは一紋穴IK記載したものを表す〕の
化合物を、−紋穴vI: R1−Y          (VI)〔式中 R1は
一紋穴lに記載のものを表し及びYは一紋穴璽に記載の
ものを表す〕のアルキル化剤と反応させるか、又は D)  zが基−0−(CHI)n−Co−R1を表す
場合に、−数式■: 〔式中、Wは一紋穴■に記載のものを表す〕のOH0 〔式中、U、V及びWは一紋穴Iに記載したものを表す
〕の化合物を、−数式v1: ul−co−(can)n−x        (vH
)〔式中 R1及びnは一紋穴Iに記載のものを表し、
Yは一紋穴■に記載のものを表す〕のアルキル化剤又は
アシル化剤と反応させるか、又はm)  zが基−0−
802−R1を表す場合に、−紋穴V:OH0 〔式中、U%V及びWは一紋穴■に記載したものを表す
〕の化合物を、−紋穴■: R5o2−x         (■)〔式中、R1は
一紋穴■に記載したものを表し、Yは一般弐lに記載し
たものを表す〕のスルホニル化剤と反応させるか、又は F)  Zが基−0Mを表す場合に、−紋穴■:〔式中
、U、v及びWは一紋穴Iに記載したものを表す〕の化
合物を、−紋穴仄: M−Q        (仄) L式中、Mは一紋穴Iに記載のものを表し、Qはヒドロ
キシ基又はカルボネート等他物を表す〕の塩基と反応さ
せるか、又は G)  Zがハロゲン原子を表す場合に、−紋穴V:〔
式中、U、 V及びWは一紋穴IK記載したものを表す
〕の化合物を自体公知の方法でハロゲン化するか、又は II)  Zが基−NR”R3f表丁場合に、−紋穴x
:■ j0 〔式中、U%V及びWは一紋穴■に記載したものを表す
〕の化合物を、−数式XI: IR”R’         (XI)L式中 B2及
びR3は一紋穴Iに記載のものを表す〕のアミンと反応
させるか、又は 工)2が基−El(0)−P、”を表す場合に、−紋穴
: 〔式中、U%V及びWは一紋穴IK記載したものを表す
〕の化合物を、−紋穴Xl[:asRl       
   (XII)〔式中、R1は一紋穴■に記載のもの
を表す〕のチオアルコールと反応させ、反応生成物を引
き続き、所望の場合には、酸化することによって、実施
することができる〇 方法A)及びB)の塩基としては、ピリシン誘導体、例
えば4−(□、N−7アルキルア1))−ピリシン、有
利には、4−(IJ、N−ジメチルアミノ)−ピリシン
、N−アルキルイだダゾール、例えば、N−メチルイミ
ダゾール、金属シアン化物、例えば、シアン化銅(I)
、シアン化ナトリウム、シアン化カリウム及びシアン化
亜鉛、2−ヒドロキシイソブタン酸ニトリル、アルカリ
金属−及びアルカリ土類金属炭酸塩及び水酸化物、例え
ば、炭酸カリウム及び炭酸ナトリウム又は水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化マグネシウム及び水酸化
カルシウム、並びにアルコラード、例えばカリウム−ナ
トリクムー カルシウム−又はマグネシウムエチラート
及びメチラートが好適である。
ルイスの酸としては、方法A)及びB)では、特に、ハ
ロゲン化亜鉛、ハロゲン化アルくニウム及び−・ロデン
化硼素、例えば塩化及び臭化亜鉛又は塩化及び臭化アン
モニウム又は三弗化硼素を使用することができる。
方法B)で脱水剤としては、特にN、N−クシクロへキ
シルカルボンイミドが特に有利であると@明した0 方法G〕は、例えば、方法A)又はB)により得られた
ヒドロキシ化合物を不活性溶剤、有利には塩素化炭化水
素中に洛かし、過剰の塩化オキゾリル及び触媒量のクメ
チルホルムアきドで処理して実施することができる0 製造方法A)〜工)は有利には、好適な溶剤及び/又は
希釈剤の存在で実施される0 その際、各々の反応成分に対して不活性であるような全
ての溶剤又は希釈剤を使用することができる@この種の
溶剤及び/又は希釈剤の例は、各々場合によシ塩素化さ
れていてよい、脂肪族、脂環式及び芳香族炭化水素、例
えば、へΦサン、シクロヘキサン、石油エーテル、リグ
ロイン、ベンゼン、トルエン、キシレン、塩化メチレン
、クロロホルム、四塩化炭素、塩化エチレン%)リクロ
ルエチレン及ヒクロルベンゼン、エーテル、例えば、グ
エチルエーテル、メチルエチルエーテル、メチル−t−
ブチルエーテル、クイソプロビルエーテル、クプチルエ
ーテル、ジオキサン及びテトラヒドロフラン、ケトン、
例えば、アセトン、メチルエチルクトン、メチルイソプ
ロピルケトン及びメチルイソブチルケトン、ニトリル、
例えば、アセトニトリル及びプロピオニトリル、アルマ
ール、例えはメタノール、エタノール、インプロパノー
ル、ブタノール、t−ブタノール、t−アイルアルコー
ル及ヒエチレングリコール、ニー?/’、N、tば、酢
酸エチル及び酢酸アζル、酸アイド、例えばゾメテルホ
ルムアZド及びクメチルアセトアズド、スルホキシド、
例えばジメチルスルホキシド及びスルホン、例えば、ス
ルホラン、並びに塩基、例えばピリシン及びトリエチル
アミンである0 全ての反応は、高めた又は減した圧下で実施することも
できるとしても%周囲の圧下で実施するのが有利である
0反応は]!!に、広い温度範囲内で実施することがで
きる〇一般に、反応は、−20℃と反応混合物の沸点と
の間の温度で、有利には、0〜150℃で実施する0 付加的な反応触媒の存在は、有利で6bうる0この種の
触媒としては、ヨウ化カリウム及びオニウム化合物、例
えは、第四アンモニウム−ホスホニウム−、アルゾニウ
ム−及びスルホニウム化合物、が好適である0同様に、
ポリグリコールエーテル、特11CR式の、例えば18
−クラウン−6及び第三ア(ン、例えばトリエチルアミ
ンが好適である07ンモ二ウム化合物、例エハペンクル
トリエチルアンモエウムゾロ宅ド及びテトラブチルアン
モニウムプロ(ドカ有利である0 前記方法によシ製造した本発明による化合物は、常用の
方法□よシ、例えば使用した溶剤上常圧又は減圧で溜去
することによってか又は水を用いて沈澱させるか又は抽
出するととによって、反応混合物から単離することがで
きる0高い純度は一般に、カクムクロマトグラフイーに
よる和製によってか又は分別魚信又は結晶化によって得
ることができる0 本発明による化合物は、一般にほぼ無色及び無臭の液体
又は結晶であp、これは、水、脂肪族炭化水素、例えば
、石油エーテル、ヘキサン、ペンタン及びシクロヘキサ
ン甲□限定的にirJ溶性であう、ハロゲン化炭化水素
、例えばクロロホルム、塩化メチレン及び四塩化炭素、
芳香族炭化水素、例えば、ベンゼン、トルエン及ヒキシ
レン、エーテル、例えばンエチルエーテル、テトラヒド
ロ7ラン及びジオキサン、カルボン酸ニトリル、例えば
、アセトニトリル、アルコール、例えばメタノール及び
エタノール、カルボン酸アくド、例えばンメテルホルム
ア電ド、スルホキシド、例えばジメチルスルホキシド及
び−2がヒドロ卑シ基を表す場合K1C−塩基、例えば
水酸化アルカリ−1炭酸アルカリ−及び炭酸水素アルカ
リ溶液、トリエチルアミン又はビリシン中に易溶性であ
る0 製法A)及びB)でアシル化に必要な一般式口及び■の
化合物は、文献上公知であるか、又は文献上公知の方法
によう製造することができる0関係参考方法は、例えば
ジャーナル オシ クアメリカン りζカル ソサイア
テイー(、Tournal of the Ameri
can Ohemioal 8ocisty)第778
.53591(1955年)又はヒエきツシエ ペリヒ
テ(Ohemisch@Barichte )第99巻
、1618%(19664)K記載されている0 本発明による化合物は、広葉雑草及び草で良好な除草作
用を示す0不発明による作用物質の選択的な使用は、種
々の!2場で、例えばセイヨウナタネ、カプラ、大豆、
綿花、米、大麦、小麦及びその他の穀物種類で可能であ
る0その際、特定の作用物質が、カプラ、綿花、大豆及
び穀物で選択的除草剤として特に好適である0同徐にこ
れらの化合物を、多年性栽培、例えば、森林−1鑑賞樹
−1果実−1葡萄−レモン−堅呆−、バナナ−コーヒー
、茶−ゴムーアプラヤシー カカオ−1漿果−1及びホ
ップ栽培て雑草t−撲滅するために及び1年栽培で選択
的に雑草を撲滅するため□使用することができる0 本発明による化合物は、例えば次のね知名に使用するこ
とができる: 双子葉雑草、シナビス(Elinapis ) 、レビ
ゾウム(Lepiium )、ガリウム(Galium
 )、ハコベ(8t*11aria ) bカミルレ(
Matricaria )、スイカズラ(Anth@m
is )、ガリンンガ(Galinsoga )、アカ
ザ(Ohenopodium )、アブラナ(Bras
sioa )、イラクサ(Urtioa )、ハンゴン
ンウ(s@n@oio )、ヒエ(Amaranthu
a)、スペリヒs−(Portulaoa ) 、オナ
モミ(Xanthium)、ヒルガオ(0onvolv
ululI+ )、サツマイモ(工pomea )、タ
デ(POlygonum )、セスパ二ア(5sssb
ania )、ブタフサ(Ambrosia )、ノア
デミ(Olrsium )、アザミ(Car4ua )
、ノゲシ(8onahus )、ナス(solanum
 )、ロリクバ(Rorippa )、オドリコソウ(
Lamium ) sクワガタンウ(veronioa
 )、アプテロン(Abutilon )、チョウセン
アサガオ(Datura)、スミレ(’7101a )
、ガレオシシス(Galeopsig)、ケシ(Pap
aver )、ヤグルマソウ(0@ntaurea)及
びキク(Ohrysanthemum) 。
単子葉iA草、カラスムギ(Avena ) sスズメ
ノテツボウ(Alopecurus )、ヒエ(l1f
ahinoahola)、エンコロ(5etaria 
)、キビ(ranlcum ) sメヒシバ(Digi
taria )、イチゴツナギ(Poa )、オヒシバ
(Eleu5Iins )、デツキアリア(Braoh
iaria )、ドクムIIP(LoLium)、キツ
ネガヤ(Bromue )、カヤツリグサ(oyper
us)、カモゾグサ(AgrOpyron )、サギク
リア(Sagittaria )、モノコリア(Mon
ochoria )、テンツキ(IF’1m1riat
ylia )、ハリイ(lleocharis)sカモ
ノハシ(工sahasmum )及びアペラ(Aper
a)。
使用ikは、幼芽及び茎桑処理の使用方法によj) 0
.CO1〜5に9/ haO範囲で変動する〇本発明に
よる作用物質は枯葉剤、乾燥剤及び殺草剤としても使用
することができる〇本発明による化合物は、単独でか又
は相互に又はその他の作用物質と混合して使用すること
ができる0場合によシその他の植物保護剤又は害虫駆除
剤を所望される目的に応じて添加することができる0作
用スペクトルの拡大を意図する場合には、その他の除草
剤を添加することもできる〇 例えば、除草作用を有する混合成分としては、ウイード
 アデストラクッ(W5Si3(L A’bstrac
ts )第38巻、第6号(1989年)の標題°リス
ト オシ コモン ネイムズ アンド アプリフイエー
ションズ エンプロイド 7オ カレンドリー ユーズ
ド へルビサイドズ アンドプラント プロウス レギ
ュレーターズ インウイード アデストラクッ(Li5
t of oommonnames ana abbr
eviations employea for ou
rra”nt17 ua@a h@rbloiass 
ana pl&nt growthregulator
s in Weed A’bstraata ) ’に
記載されているような作用物質であるO 作用強度及び作用速度の促進は、例えば作用を高める添
刀口物、例えば百機洛剤、湿潤剤及び油によって達成す
ることができるO従って、この極の添加物は場合によシ
作用用量の減少をもたらす0 有利には、前記作用物質又はその混合物を、例えば液体
及び/又は固体の賦形剤又は希釈剤及び場合によシ吸着
剤、湿潤剤、乳化剤及び/又は分散助剤の添加下に、粉
末、散布剤、顆粒、溶液、乳濁液又は懸濁液のような調
剤の形で使用する0 好適な液体賦形剤は例えば、脂肪族及び芳香族炭化水素
、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキ
サノン、イソホロン、クメチルスルホキシド、ジメチル
ホルムアミド、更に鉱油フラクション友び植物油である
O固体賦形剤としては、鉱物、例えば、ベントナイト、
シリカゲル、滑石、カオリン、アタックレイ、石灰石及
び植物性生成物、例えば穀物が好適である0 界面活性物質としては、例えば、カルシウムリグニンス
ルホネート、ポリエチレンアルキルフェニルエーテル、
ナフタリンスルホン酸及ヒその塩、フェノールスルホン
酸及びその塩、ホルムアルデヒド縮合生成物、脂肪アル
コールスルホネート並びに置換されたベンゼンスルホン
酸及びその塩が挙げられる0 種々の調剤中の作用物質の含分は、広い範囲で変えるこ
とができる0例えば、薬剤は作用物質約10〜90重嚢
多、液体又は固体賦形剤約90〜10重′kqb及び場
合によシ界面活性物質20重量qb1でを含有する0 薬剤の施用は、常法で、例えば賦形剤として水を用いて
rIR霧液量約1CO〜1CO0 !Jントル/ ha
で行うことができる0いわゆる低容量及び超低容量法に
かける薬剤の使用は、いわゆる微顆粒の形での適用と同
じに可能である0これらの調剤の製造は、自体公知の方
法で、例えば粉砕−又は混合法で実施することができる
0所望の場合には、例えばいわゆるタンク混合法(Ta
nkmixverfahren )で実際に実施される
ように、個々の成分の調剤を使用のごく直前に混合する
こともできる。
〔実施例〕 種々の調剤を製造するために、例えば次の成分を使用す
る: A)噴霧粉末 1)作用物*             20重量多カ
オリン            68重f[噂リグニン
スルホン酸のカルシウム塩    10!JIOSシア
ルキルナフタリンスルホネート     2x童嘩2)
作用物質           40!量嘩カオリン 
           251ktsコロイド状珪1m
         25fr量多リグニンスルホノ酸の
カルシウム塩     8重量φN−メチルーN−オV
イル−タウリンのナトリウム塩 2′MJn%B)乳濁
液′rlk縮液 作用物質           2旧謹しイソホロン 
        75劃hエトキシル化ひまし油   
   2重量多トフシルフェニルスルホン酸のカルシウ
ム塩    5ins次に実施例に付き本発明による化
合物を詳説する: 例1.01 5−ヒドロキシ−1,317メチルー4−(4−メチル
−1,2,3−チアゾアゾール−5−イルカルボニル)
−ピラゾール 5−ヒドロキシ−1,3−’/メチルピラゾール2.2
411(20ミリモル)、4−メチル−1゜2.3−チ
アゾアゾール−5−カルボン酸2.88IC20ミリモ
ル)、N、N−クシクロヘキシルカルボシイ?ド4.1
3.!1l(20ミリモル)及び炭酸カリウム1.38
FC10ミリモル)を2−メチルブタン−2−オール6
0m中で3時間80℃に加熱した0溶剤を溜去後、水中
に入れ、吸引濾過し、極液をクロロホルムで2回洗浄し
た0氷相を濃塩酸を用いて−2まで酸性にし、クロロホ
ルムで抽出することによシ、乾燥さぜ(硫酸マグネシウ
ム)、回転蒸発させ、再結晶させた後、目的化合物が帯
黄色の針状物の形で得られ九〇 収11 : 2.91 、?−理論値の61多〇融点=
191〜193℃G 例1.01と同様にして、次の本発明による化合物を製
造した: 例2.01 5−ベンゾイルオキシ−1,3−ジメチル−4−(4−
メチ/l’−1t2t3−チアジアゾール−5−イルカ
ルボニル)−ヒラゾール 5−ヒドロキシ−1,3−ジメチル−4−(4−メチル
−1,2,3−チアジアゾール−5−イル−カルボニル
)−ピラゾール2.38 #(10ξリモル)、炭酸ナ
トリウム1.59g及び塩化ベンシイ/I/1.4ac
6it−ブタノール60社中で1.5R間還流加熱し7
’l:、溶剤を溜去後、ジクa/L−メタン中に入れ、
吸引濾過し、濾液管mat、た。粗生成物から、シリカ
r/I/を用いるカラムクロマドグ2フイー(酢酸エス
テル/へ中サンノによシ、標題化合物が黄色の針状物の
形で得られた。
収量: 2.90 、f−埋鍮僅の84−0融点=12
8℃。
例2.01と同様にして、次の本発明による化合物を製
造しfI−: p 謳 謳 謳 謳 謳 例3.01 5−クロル−1,5−ジメチル−4−(4−メチル−1
,2,3−チアジアゾール−5−イルカルボニ/L/)
−ピラゾール ジクロルメタン5ON11中の5−ヒドロキシ−1,3
−ジメチル−4−(4−メチル−1,2゜3−チアジア
ゾール−5−イルカルボニル)−ビラr−/l−3,8
9g(16,3ミリモA/)及び塩化オキゾリル21r
ILtに、泡立ちがもはや観察されなくなるまでジメチ
ルホルムアミドを滴加した。25°Cで4時間攪拌した
後、水/ジクロルメタン中に入れ、有機相を分蟻し、乾
燥させ(硫酸マグネシウムノ、回転蒸発させた。残分を
ヘキサンから再結晶した後、黄色結晶が得られた。
収量: 3.30 P−理論値の70優。
融点:105〜108℃。
例4.01 L−2−(1,3−ジメチル−4−(4−メチル−1,
2,3−チアジアゾール−5−イルカルボニル〕−ピラ
ゾールー5−イルアミノコ−プロパン酸メチルエステル ジクロルメタン80d中の5−クロル−13−ジメチル
−4−(4−メチル−1,2,5−チアジアゾ−/I/
−5−イルカルボニル)−ピラゾール3.89 、!i
’ (15(リモルノ及びトリエチルアミン10dに、
0℃でL−7ラニンメチルエステルーヒドロクロリド2
.09 、li’ (15ミリモル)を滴加し、引き続
きな釦3時間室温で攪拌した1反応混合物金水で洗浄し
、乾燥させ(硫酸マグネシウムノ、回転蒸発させた。シ
リカゲルを用いて濾過(酢酸エステル/ヘキサン)する
ことによって、標題化合物が結晶の形で得られた。
収量:1.801!−理論値の37%。
融点:122℃。
例4.01と同様にして次の本発明による化合物音製造
した: 次の例で本発明による化合物の使用方法を詳説する。
例  A 温室で、記載した植物種全発芽後、記載の化合物で作用
物質0.5kg/haの使用量で処理した。化合物をこ
の目的のため□、水5COリットル/ ha t−有す
る乳濁液又は懸濁液として植物に均一に噴霧した。その
際、処理後2週間後に本発明による化合物は、雑草に対
する卓越した作用時にアブラナ(Brassica s
p、 )にかける高い栽培植物選択性を示しfc。
下記表中、用語の意味は下記の通りである:〇−損傷 1−1〜24多の損傷 2−25〜7t%の損傷 3−75〜89肇の損傷 4−90〜1CO多の損傷 B10 S B−アブラナ(Brassica ape
 )ALOMY−スズメノテツポウ (Alopecurus myosuroidea )
sE’rv’r−エンコo (5etaria vir
idia )80I’1EA−モロコシ(8orghu
mhalepsnss )ABUTH−アプチロン・チ
オ7ラスチ(Abutilon theophrast
i ’)GALAP−ガリウム・アパリネ (Galium aparine ) POL8B−タデ(Polygonum sp、 )v
ross −スミv (Viola ap、 )A L   O 本発明による化合物   8M   Y TAG OBA RtJL HTA AHP 例1.08 未処理 ooooo。
比較薬剤 5−ヒドロキシ−1,6 一シメチルー4−(2゜ 4−ジクロル−ベンゾイ ル)−ピラゾール 例  B 温室で表に記載の化合物を、同じく記載使用量で適用し
た。このために、作用物質を水15Q[]dt−有する
容器中に氷表面に調剤の形でピペットで入れた。試験植
物種は2〜5葉期で使用した。適用後6週間後に、植物
の損傷を評価した0本発明による化合物は重Jj!な稲
雑阜に対して強力な作用及び同時に水稲にかける選択性
を示した。比較薬剤の作用はこれより弱かった。
下記表中、用語の意味は下記の通りである二〇−損傷な
し 1−弱い損傷 2−中度の損傷 3−強力な損傷 4−全撲滅 ORYSA−イネ(0ryza 5ativa )EC
I(C()−ヒエ(Echinochloa crus
−galli )8 A()PY−サギタリア・ピグマ
ニア(8agittaria pygmaea )SC
PJU−スシルプス・シュンコイトス(5cirpus
 juncoides  )MOOVA−モノコリア・
ヴアギナリス(Monochoria vaginal
is )CYPSE−カヤツリグサ(Cyperus 
5erotinus )本発明による 化合物 例1.08 比較薬剤 2ゾール E C 水通用   YH 作用物質  SC kg/ha   AG 1.0 例  C 温室で表に記載の化合物を、同じく記載の使用量で適用
した。このため匝、作用物質を水15CO−を有する容
器中に氷表面に調剤の形でピペットで入れた。試験植物
種は、幼芽及び1から5葉期で使用した。適用後3週間
後に、植物の損傷を評価した0本発明による化合物は重
要な稲雑草に対して強力な作用及び同時に水稲における
選択性を示した。比較薬剤は、同じ強度の作用を示さな
かった。
下記表中、用語の意味は下記の通シである:〇−損傷な
し 1−弱い損傷 2−中程度の損傷 3−強力な損傷 4−全撲滅 ORYBA−イネ(0ryza aativa )EC
HC()−ヒエ(Kchinochloa crull
−galli )8A()PY−サギタリア・ビグマニ
ア(8agittaria p7gmaea )SCP
JU−スシルプス・シュンコイトス(8cirpus 
juncoides )MOOVA−モノロリア・ヴア
ギナリス(Monochoria vaginalis
 )CYPBB−−カヤツリグ? (Cyperus 
5erotinus )PASD8−スズメノヒエ(P
aspalum diatichum )C%4INc
%4 (イ)(イ)〜 〜 N へ N 〜 −例〜 
(イ)CS4  哨 (イ)N 哨 CNCN  哨 
哨 1 6〜〜 哨 (イ)哨 哨 哨 哨 唖 〜 
哨 哨 哨 哨 唖N(イ)N’)IN哨哨哨寸(イ)
哨哨哨哨哨哨 哨 (イ)c′I11  (イ)囚 哨
 哨 (イ)(イ)(イ)N 例 NCOCOCOCO
0口。0口。
例  D 温室で記載植物種を、発芽前に記載の化合物で作用物質
3.0kg/ヘクタールで処理した。この目的のために
、化合物を水5COリットル/ヘクタールを有する乳濁
液又は懸濁液として地面に均一に噴霧した。その際、処
理後6週間後に、本発明による化合物は雑草に対する卓
越した作用時に大豆及び小麦における高い栽培植物選択
性を示した。
下記表中、用語の意味は下記の通りである二〇−損傷 1−1〜24多の損傷 2−25〜74%の損傷 3−75〜89嘩の損傷 4−90〜1CO%の損傷 GLXMA−グリシ7・”erキシマ(Glycine
maxima ) TRZAX−コムギ(Triticum aeativ
um )BEAVX−ベータ・ブルガリス・アルチシマ
(Beta vulgaris altissima 
)HELAN−へリアントス・アヌウス (He1ianthus annuus )ALOMY
−スズメノテツポウ(Alopecuruamyosu
roidas ) AVEFA−カラスムギ(Avena fatua )
8!!1TVI−エンコa (8etaria vir
idig+ )PAN8 B−キビ(Panicum 
maximum)CYP13:8−カヤツリグサ(Cy
perus esculentua)ABUTH−アプ
チロン・テオフラスチ(Abutilon theop
hrasti )GALAP−−ガリウム・アボリネ(
Galiumaparine) MATCH−カミルレ(Matricaria cha
momilla )POL8B−タデ(Polygon
um ap、 )SEBEX −−1=スパニア・エク
ナルタータ(8eabania exaltata )
80L8B−ソ2ナムap、 (8o1anum ap
、 )’/Il[1RP11C−クワガタソウ(Ver
onica peraica )VIO8B−スミレ(
’Viola Hp、)例  E 温室で記載植物[1−1発芽後□記載の化合物で作用物
質3.0kg/haで処理した。この目的のために、化
合物を水5COリットル/ヘクタールを有する乳濁液又
は懸濁液として植物に均一に噴霧した。その際、処理後
3週間後に、本発明による化合物は雑草に対する卓越し
た作用時(トウモロコシ及び小麦KThける高い栽培植
物選択性を示した。
下記表中、用語の意味は下記の通りでめる:〇−損傷 1−1〜24%の損傷 225〜74%の損傷 3−75〜89%の損傷 4−90〜1oosの損傷 ZEAMX = トウモロコシ(Zea maya]T
RZAX−コムギ(Triticum aestivu
m )BBAvX−ベータ・ブルガリス・アルチシマ(
Beta vulgaria altisaima )
GLXM入−グリシン・マキシ¥ (Glycinem
axima  ) ALOMY−スズメノテツボウ(Alopecurus
myosuroides  ) SETVI−エンコロ(5etaria viridi
s )PAMSB−キビ(Panicum maxim
um )SORT(A−ソルグム・ハレペンセ(8(+
rghumhalepense ) CYPgS−カヤツリグサ(Cyperus eacu
lentug)ABUTH−アブチロン・テオフラスチ
(Abutilon theophrasti )GA
LAP−ガリウム・アバリネ(Ga11皿aparin
e )

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、Uは水素原子、C_1〜C_4−アルキル基又
    はハロゲン−C_1〜C_4アルキル基を表し、Vは水
    素原子、−C_1〜C_4アルキル基又はハロゲン−C
    _1〜C_4−アルキル基を表し、Wは一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼ W−1W−2W−3 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼ W−4W−5W−6 又は ▲数式、化学式、表等があります▼ W−7 の複素環式基W−1からW−7を表し、Xは酸素原子又
    は硫黄原子を表し、Zはハロゲン原子又は基−OR^1
    、−O−(CH_2)_n−CO−R^1、−O−SO
    _2−R^1、−S(O)_n−R^1、−OM又は−
    NR^2R^5を表し、nは0、1又は2を表し、Mは
    リチウム、ナトリウム及びカリウムの群から成る陽イオ
    ン、亜鉛、マンガン、カルシウム、マグネシウム及びバ
    リウムの群から成る等価物又は一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ のアンモニウムイオンを表し、R^1は水素原子、C_
    1〜C_1_8−アルキル基、1個又は数個の、同一又
    は異なるハロゲン、ヒドロキシ又はシアノにより置換さ
    れたか又は酸素又は硫黄により1個又は数個中断された
    C_1〜C_1_8−アルキル基、C_2〜C_1_2
    −アルケニル基、1個又は数個の、同一又は異なるハロ
    ゲン、ヒドロキシ又はシアノにより置換されたか又は酸
    素又は硫黄により4個又は数個中断されたC_2〜C_
    1_2−アルケニル基、C_2〜C_1_2−アルキニ
    ル基、1個又は数個の、同一又は異なるハロゲン、ヒド
    ロキシ又はシアノにより置換されたか又は酸素又は硫黄
    により1個又は数個中断されたC_2〜C_1_2−ア
    ルキニル基、フェニル基、1個又は数個の、同一又は異
    なるハロゲン、ニトロ、シアノ、C_1〜C_4−アル
    キル、ハロゲン−C_1〜C_4−アルキル、C_1〜
    C_4−アルコキシ又はハロゲン−C_1〜C_4−ア
    ルコキシにより置換されたフェニル基、フェニル−C_
    1〜C_3−アルキル基又は1個又は数個の、同一又は
    異なるハロゲン、ニトロ、シアノ、C_1〜C_4−ア
    ルキル、ハロゲン−C_1〜C_4−アルキル、C_1
    〜C_4−アルコキシ又はハロゲン−C_1〜C_4−
    アルコキシにより置換されたフェニル−C_1〜C_3
    −アルキル基を表し、R^2は水素原子、C_1〜C_
    1_8−アルキル基、1個又は数個の、同一又は異なる
    ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、C_1〜C_4−アル
    コキシカルボニル、基−NR^1^2R^1^3又は基
    −N^■R^1^2R^1^3R^1^4により置換さ
    れたか又は酸素又は硫黄により1個又は数個中断された C_1〜C_1_8−アルキル基、C_2〜C_1_2
    −アルケニル基、1個又は数個の、同一又は異なるハロ
    ゲン、ヒドロキシ又はシアノにより置換されたか又は酸
    素又は硫黄により1個又は数個中断されたC_2〜C_
    1_2−アルケニル基、C_2〜C_1_2−アルキニ
    ル基、1個又は数個の、同一又は異なる、ハロゲン、ヒ
    ドロキシ又はシアノにより置換されたか又は酸素又は硫
    黄により1個又は数個中断されたC_2〜C_1_2−
    アルキニル基、C_1〜C_6−アルコキシ基、ハロゲ
    ン−C_1〜C_6−アルコキシ基、フェニル基、1個
    又は数個の、同一又は異なるハロゲン、ニトロ、シアノ
    、C_1〜C_4−アルキル、ハロゲン−C_1〜C_
    4−アルキル、C_1〜C_4−アルコキシ又はハロゲ
    ン−C_1〜C_4−アルコキシにより置換されたフェ
    ニル基、フェニル−C_1〜C_3−アルキル基又は1
    個又は数個の、同一又は異なるハロゲン、ニトロ、シア
    ノ、C_1〜C_4−アルキル、ハロゲン−C_1〜C
    _4−アルキル、C_1〜C_4−アルコキシ又はハロ
    ゲン−C_1〜C_4−アルコキシにより置換されたフ
    ェニル−C_1〜C_3−アルキル基を表し、R^3は
    水素原子、C_1〜C_1_8−アルキル基、1個又は
    数個の、同一又は異なるハロゲン、ヒドロキシ、シアノ
    、C_1〜C_4−アルコキシカルボニル、基−NR^
    1^2R^1^3又は基−N^■R^1^2R^1^3
    R^1^4により置換されたか又は酸素又は硫黄により
    1個又は数個中断されたC_1〜C_1_8−アルキル
    基、C_2〜C_1_2−アルケニル基、1個又は数個
    の、同一又は異なるハロゲン、ヒドロキシ又はシアノに
    より置換されたか又は酸素又は硫黄により1個又は数個
    中断されたC_2〜C_1_2−アルケニル基、C_2
    〜C_1_2−アルキニル基、1個又は数個の、同一又
    は異なるハロゲン、ヒドロキシ又はシアノにより置換さ
    れたか又は酸素又は硫黄により1個又は数個中断された
    C_2〜C_1_2−アルキニル基、フェニル基、1個
    又は数個の、同一又は異なるハロゲン、ニトロ、シアノ
    、C_1〜C_4−アルキル、ハロゲン−C_1〜C_
    4−アルキル、C_1〜C_4−アルコキシ又はハロゲ
    ン−C_1〜C_4−アルコキシにより置換されたフェ
    ニル基、フェニル−C_1〜C_3−アルキル基又は1
    個又は数個の、同一又は異なるハロゲン、ニトロ、シア
    ノ、C_1〜C_4−アルキル、ハロゲン−C_1〜C
    _4−アルキル、C_1〜C_4−アルコキシ又はハロ
    ゲン−C_1〜C_4−アルコキシにより置換されたフ
    ェニル−C_1〜C_3−アルキル基を表すか又はR^
    2及びR^3が一緒に隣接する窒素原子と共にモルフォ
    リノ基、ピペリジノ基又はピロリジノ基を表し、R^4
    は水素原子、ハロゲン原子、C_1〜C_1_2−アル
    キル基、酸素又は硫黄により1個又は数個中断されたC
    _2〜C_1_2−アルキル基、ハロゲン−C_1〜C
    _4アルキル基、−C_1〜C_4−アルコキシ基、ハ
    ロゲン−C_1〜C_4−アルコキシ基、C_1〜C_
    4−アルキルメルカプト基、C_1〜C_4−アルコキ
    シカルボニル基、フェニル基、ハロゲン、ニトロ、シア
    ノ、C_1〜C_4−アルキル、ハロゲン−C_1〜C
    _4−アルキル、C_1〜C_4−アルコキシ又はハロ
    ゲン−C_1〜C_4−アルコキシにより置換されたフ
    ェニル基、シアノ基又はニトロ基を表し、R^5は水素
    原子、ハロゲン原子、C_1〜C_1_2−アルキル基
    、酸素又は硫黄により1個又は数個中断された C_2〜C_1_2−アルキル基、ハロゲン−C_1〜
    C_4−アルキル基、C_1〜C_4−アルコキシ基、
    ハロゲン−C_1〜C_4−アルコキシ基、C_1〜C
    _4−アルキルメルカプト基、C_1〜C_4−アルコ
    キシカルボニル基、フェニル基、ハロゲン、ニトロ、シ
    アノ、C_1〜C_4−アルキル、ハロゲン−C_1〜
    C_4−アルキル、C_1〜C_4−アルコキシ又はハ
    ロゲン−C_1〜C_4−アルコキシにより置換された
    フェニル基、シアノ基又はニトロ基を表し、R^6は水
    素原子、ハロゲン原子、C_1〜C_1_2−アルキル
    基、酸素又は硫黄により1個又は数個中断されたC_2
    〜C_1_2−アルキル基、ハロゲン−C_1〜C_4
    −アルキル基、C_1〜C_4−アルコキシ基、ハロゲ
    ン−C_1〜C_4−アルコキシ基、C_1〜C_4−
    アルキルメルカプト基、C_1〜C_4−アルコキシカ
    ルボニル基、フェニル基、ハロゲン、ニトロ、シアノ、
    C_1〜C_4−アルキル、ハロゲン−C_1〜C_4
    −アルキル、C_1〜C_4−アルコキシ又はハロゲン
    −C_1〜C_4−アルコキシにより置換されたフェニ
    ル基、シアノ基又はニトロ基を表し、R^7は水素原子
    、ハロゲン原子、C_1〜C_1_2−アルキル基、酸
    素又は硫黄により1個又は数個中断されたC_2〜C_
    1_2−アルキル基、ハロゲン−C_1〜C_4−アル
    キル基、C_1〜C_4−アルコキシ基、ハロゲン−C
    _1〜C_4−アルコキシ基、C_1〜C_4−アルキ
    ルメルカプト基、C_1〜C_4−アルコキシカルボニ
    ル基、フェニル基、ハロゲン、ニトロ、シアノ、C_1
    〜C_4−アルキル、ハロゲン−C_1〜C_4−アル
    キル、C_1〜C_4−アルコキシ又はハロゲン−C_
    1〜C_4−アルコキシにより置換されたフェニル基、
    シアノ基又はニトロ基を表し、R^8は水素原子、C_
    1〜C_1_2−アルキル基、酸素又は硫黄により1個
    又は数個中断されたC_2〜C_1_2−アルキル基、
    フェニル基又はベンジル基を表し、R^9は水素原子、
    C_1〜C_1_2−アルキル基、酸素又は硫黄により
    1個又は数個中断されたC_2〜C_1_2−アルキル
    基、フェニル基又はベンジル基を表し、R^1^0は水
    素原子、C_1〜C_1_2−アルキル基、酸素又は硫
    黄により1個又は数個中断されたC_2〜C_1_2−
    アルキル基、フェニル基又はベンジル基を表し、R^1
    ^1は水素原子、C_1〜C_1_2−アルキル基、酸
    素又は硫黄により1個又は数個中断された C_2〜C_1_2−アルキル基、フェニル基又はベン
    ジル基を表し、R^1^2は水素原子又はC_1〜C_
    1_2−アルキル基を表し、R^1^3は水素原子又は
    C_1〜C_1_2−アルキル基を表し及びR^1^4
    は水素原子又はC_1〜C_1_2−アルキル基を表す
    〕の置換された4−ヘテロアロイルピラゾール。 2、請求項1によるZがヒドロキシ基を表す場合の一般
    式 I の化合物を製造するに当り、一般式II: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、U及びVは一般式 I に記載したものを表す〕
    の化合物を、一般式II: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、Wは一般式 I に記載のものを表し、Yはハロ
    ゲン、有利には塩素原子又は臭素原子又はC_1〜C_
    4−アルコキシ基を表す〕のカルボン酸誘導体と、好適
    な塩基又はルイスの酸の存在で反応させることを特徴と
    する、置換された4−ヘテロアロイルピラゾールの製法
    。 3、請求項1による、Zがヒドロキシ基を表す場合の一
    般式 I の化合物を製造するに当り、一般式II: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、U及びVは一般式 I に記載したものを表す〕
    の化合物を、一般式IV: ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) 〔式中、Wは一般式 I に記載のものを表す〕のカルボ
    ン酸と、脱水剤及び好適な塩基又はルイスの酸の存在で
    反応させることを特徴とする、置換された4−ヘテロア
    ロイルピラゾールの製法。 4、請求項1によるZが基−OR^1を表す場合の一般
    式 I の化合物を製造するに当り、一般式V: ▲数式、化学式、表等があります▼(V) 〔式中、U、V及びWは一般式 I に記載したものを表
    す〕の化合物を、一般式VI: R^1−Y(VI) 〔式中、R^1は一般式 I に記載のものを表し及びY
    は一般式IIに記載のものを表す〕のアルキル化剤と反応
    させることを特徴とする、置換された4−ヘテロアロイ
    ルピラゾールの製法。 5、請求項1による、Zが基−O−(CH_2)_n−
    CO−R^1を表す場合の一般式 I の化合物を製造す
    るに当り、一般式V: ▲数式、化学式、表等があります▼(V) 〔式中、U、V及びWは一般式 I に記載したものを表
    す〕の化合物を、一般式VIII: R^1−CO−(CH_2)_n−Y(VIII)〔式中、
    R^1及びnは一般式 I に記載のものを表し、Yは一
    般式IIIに記載のものを表す〕のアルキル化剤又はアシ
    ル化剤と反応させることを特徴とする、置換された4−
    ヘテロアロイルピラゾールの製法。 6、請求項1によるZが基−O−SO_2−R^1を表
    す場合の、一般式 I の化合物を製造するに当り、一般
    式V: ▲数式、化学式、表等があります▼(V) 〔式中、U、V及びWは一般式 I に記載したものを表
    す〕の化合物を、一般式VIII: R^1−SO_2−Y(VIII) 〔式中、R^1は一般式 I に記載したものを表し、Y
    は一般式IIIに記載したものを表す〕のスルホニル化剤
    と反応させることを特徴とする、置換された4−ヘテロ
    アロイルピラゾールの製法。 7、請求項1によるZが基−OMを表す場合の、一般式
    I の化合物を製造するに当り、一般式V: ▲数式、化学式、表等があります▼(V) 〔式中、U、V及びWは一般式 I に記載したものを表
    す〕の化合物を、一般式IX: M−Q(IX) 〔式中、Mは一般式 I に記載のものを表し、Qはヒド
    ロキシ基又はカルボネート等価物を表す〕の塩基と反応
    させることを特徴とする、置換された4−ヘテロアロイ
    ルピラゾールの製法。 8、請求項1による、Zがハロゲン原子を表す場合の、
    一般式 I の化合物を製造するに当り、一般式V: ▲数式、化学式、表等があります▼(V) 〔式中、U、V及びWは一般式 I に記載したものを表
    す〕の化合物を自体公知の方法でハロゲン化することを
    特徴とする、置換された4−ヘテロアロイルピラゾール
    の製法。 9、請求項1によるZが基−NR^2R^3を表す場合
    の、一般式 I の化合物を製造するに当り、一般式X: ▲数式、化学式、表等があります▼(X) 〔式中、U、V及びWは一般式 I に記載したものを表
    す〕の化合物を、一般式X I : HNR^2R^3(X I ) 〔式中、R^2及びR^3は一般式 I に記載のものを
    表す〕のアミンと反応させることを特徴とする、置換さ
    れた4−ヘテロアロイルピラゾールの製法。 10、請求項1によるZが基−S(O)_n−R^1を
    表す場合の、一般式 I の化合物を製造するに当り、一
    般式X: ▲数式、化学式、表等があります▼(X) 〔式中、U、V及びWは一般式 I に記載したものを表
    す〕の化合物を、一般式XII: HRS^1(XII) 〔式中、R^1は一般式 I に記載のものを表す〕のチ
    オアルコールと反応させ、反応生成物を引き続き酸化し
    てもよいことを特徴とする、置換された4−ヘテロアロ
    イルピラゾールの製法。 11、請求項1に記載の化合物少なくとも1種類を含有
    することを特徴とする、除草作用を有する薬剤。 12、請求項1による化合物を賦形剤及び/又は助剤と
    混合することを特徴とする、除草作用を有する薬剤の製
    法。
JP2202339A 1989-07-28 1990-07-30 置換された4―ヘテロアロイルピラゾール、その製法、これを含有する除草作用を有する薬剤及びこの薬剤の製法 Pending JPH0366684A (ja)

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