JPH0365884B2 - - Google Patents

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JPH0365884B2
JPH0365884B2 JP60224758A JP22475885A JPH0365884B2 JP H0365884 B2 JPH0365884 B2 JP H0365884B2 JP 60224758 A JP60224758 A JP 60224758A JP 22475885 A JP22475885 A JP 22475885A JP H0365884 B2 JPH0365884 B2 JP H0365884B2
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Description

【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕 本発明は、強磁性多層膜およびその製造法に係
り、特に磁気ヘツドのコアに用いるのに好適な高
磁気モーメントを有する強磁性多層膜とその製造
法に関する。 〔発明の背景〕 鉄の磁気モーメントは、約2.2μBである。 鉄(Fe)の磁気モーメントを上昇させるため
に、従来からFe中に窒素を強制固溶させる方法
或は鉄よりも原子間距離の大きい単体金属上に
Feを成長させて界面でFeの原子間距離を上昇さ
せる方法が知られている。例えばフイジカルレビ
ユー レターズ 第54巻、ナンバー25,2700〜
2703頁(PHYSICAL REVIEW LETTERS
Volume54,Number25,pp2700〜2703)には、
鉄よりも原子間距離の大きい銅(Cu),銀
(Ag),金(Au)などの上に鉄を成長させて、鉄
の磁気モーメントを上昇させる方法および理論的
磁気モーメント値について報告されている。 しかし、銅,銀或は金の基板上に鉄を成長させ
る方法は、鉄の磁気モーメントを若干増大させる
ことはできても、膜全体の磁気モーメントを高め
ることはできない。非磁性金属である銅,銀,金
を含むために膜全体の磁気モーメントはかえつて
減少してしまう。 〔発明の目的〕 本発明は、膜全体の磁気モーメントを減少させ
ることなく、鉄の磁気モーメントを高めることが
できる多層膜構造およびかかる多層膜の製法を提
供するにある。 〔発明の概要〕 本発明は、鉄層と、A3B型の鉄化合物(ここで
Aは鉄、Bは鉄以外の金属或は半金属を意味す
る。)層との積層構造とすることにある。 本発明は、銅,銀,金の代りに強磁性を有しr2
相に近い格子定数をもつA3B型の鉄化合物を選択
して実験を行つた結果、Feの磁気モーメントが
上昇し且つ膜全体の磁気モーメントも低下しない
ことを見出したことにある。 A3B型の鉄化合物としては、Fe3Al,Fe3Si,
Fe3Ge,Fe3Gaなどがあり、これらは第1表に示
すようにいずれも高い磁気モーメントを有する。
第1表は、OKにおける鉄1原子当りの磁気モー
メントを示している。この値は、ジヤーナル オ
ブ ザ フイジカル ソサエテイ オブ ジヤパ
ン,第33巻,No.5,1972年11月(Journal of the
Physical Society of Japan,Vol・33,No.5,
November,1972)の第1324頁の第2表から抜粋
した。
〔発明の実施例〕
FeとFe3Al,Fe3Si,Fe3Ge,Fe3Gaなどの強
磁性A3B型化合物を積層するためにスパツタ法を
用いSi単結晶下地基板上に強磁性A3B型化合物を
スパツタした後Feをスパツタして、第2表に示
すスパツタ条件でA3B型強磁性多層膜を作製し
た。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明は、FeとFe3Al,
Fe3Si,Fe3Ge,Fe3Gaなどの強磁性A3B型化合
物を積層して多層膜としたものであり、本発明に
よれば、鉄の磁気モーメントを高め且つ膜全体の
磁気モーメントも高めることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は多層膜の鉄1原子当りの磁気モーメン
トと層間隔との関係を示す特性図、第2図は多層
膜の鉄1原子当りの磁気モーメントと時効時間と
の関係を示す特性図、第3図はFeとFe3Gaとの
多層膜におけるGa量と磁気モーメントとの関係
を示す特性図、第4図はFeとFe3Gaとの多層膜
の時効時間と磁気モーメントの関係を示す特性
図、第5図はFeとFe3Gaとの多層膜における層
間隔と磁気モーメントの関係を示す特性図であ
る。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 鉄層と、A3B型の鉄化合物(ここでAは鉄、
    Bは鉄以外の金属又は半金属を意味する)層との
    積層構造よりなることを特徴とする強磁性多層
    膜。 2 特許請求の範囲第1項において、前記鉄化合
    物層の厚さが70Å以下よりなることを特徴とする
    強磁性多層膜。 3 特許請求の範囲第1項において、前記鉄以外
    の金属又は半金属がアルミニウム,シリコン,ゲ
    ルマニウムおよびガリウムの少なくとも1つより
    なることを特徴とする強磁性多層膜。 4 特許請求の範囲第1項において、前記鉄層の
    厚さが70Å以下よりなることを特徴とする強磁性
    多層膜。 5 特許請求の範囲第1項において、前記鉄層と
    前記鉄化合物層の合計の厚さが少なくとも1000Å
    よりなることを特徴とする強磁性多層膜。 6 鉄層と、A3B型の鉄化合物(ここでAは鉄、
    Bは鉄以外の金属又は半金属を意味する。)層と
    を順次積層し、次いで時効処理することを特徴と
    する強磁性多層膜の製造方法。 7 特許請求の範囲第6項において、前記時効処
    理の温度を500〜800℃とすることを特徴とする強
    磁性多層膜の製造法。 8 特許請求の範囲第6項において、前記鉄以外
    の金属又は半金属がアルミニウム,シリコン,ゲ
    ルマニウム及びカリウムの少なくとも1つよりな
    ることを特徴とする強磁性多層膜の製造法。 9 特許請求の範囲第6項において、前記鉄層を
    初期真空度が1.0×10-4Pa以下、アルゴンガス圧
    が0.5〜5mTorrの条件でスパツタすることによ
    り積層することを特徴とする強磁性多層膜の製造
    法。 10 特許請求の範囲第6項において、前記鉄化
    合物層を初期真空度が1.0×10-4Pa以下、アルゴ
    ンガス圧が0.5〜5mTorrの条件でスパツタする
    ことにより積層することを特徴とする強磁性多層
    膜の製造法。 11 特許請求の範囲第6項において、前記鉄層
    及び前記鉄化合物層をいずれも70Å以下の厚さで
    形成し且つ合計の厚さを少なくとも1000Å以上と
    することを特徴とする強磁性多層膜の製造法。
JP60224758A 1985-10-11 1985-10-11 強磁性多層膜及びその製造法 Granted JPS6285413A (ja)

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