JPH0365243A - 反応促進剤 - Google Patents

反応促進剤

Info

Publication number
JPH0365243A
JPH0365243A JP1200310A JP20031089A JPH0365243A JP H0365243 A JPH0365243 A JP H0365243A JP 1200310 A JP1200310 A JP 1200310A JP 20031089 A JP20031089 A JP 20031089A JP H0365243 A JPH0365243 A JP H0365243A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
reaction
residue
alkyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1200310A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2720536B2 (ja
Inventor
Tadao Yoshida
祇生 吉田
Kaoru Kimura
馨 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toagosei Co Ltd
Original Assignee
Toagosei Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toagosei Co Ltd filed Critical Toagosei Co Ltd
Priority to JP1200310A priority Critical patent/JP2720536B2/ja
Publication of JPH0365243A publication Critical patent/JPH0365243A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2720536B2 publication Critical patent/JP2720536B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)発明の目的 〔産業上の利用分野] 本発明は、ジオルガノオキシオルガノチオホスフィン化
合物とアルコール類とを出発物質として、トリオルガノ
ホスファイト化合物を製造する、反応を促進させる化合
物に関するものである。
〔従来の技術〕
先に、本発明者らは、下記一般式(1)に従って、ジオ
ルガノオキシオルガノチオホスフィン化合物〔■〕とア
ルコール1cnnとを反応させることにより、トリオル
ガノホスファイト化合物(IV)を得ることを提案した
(特開昭63−39894)。
(R”0)(Rゝ0)PSR’ + HORS□−)(
n)      (III) (上式中、R1及びR3は同一でも異なっていてもよい
アルキル基又はアリール基であるか或いはR1又はR3
の一方が、5’−0,N−保護デオキシヌクレオシドの
3′に位置する水酸基を除いた残基を表す R4はアリ
ール基を表す、RSはアルキル基又はアリール基、或い
は3’−0,N−保護デオキシヌクレオシドの5′に位
置する水酸基を除いた残基又は3’−0,N−保護デオ
キシヌクレオチドの5°に位置する水酸基を除いた残基
を表す。
Xはアゾリル基を表す、) 上記反応(1)によってトリオルガノホスファイト化合
物(IV)を製造する場合の利点は、原料である化合物
[I[)が安定であること及び化合物(IV)の収率が
良好であること等である。
反応(1)において、R2及びR3がアルキル基或はア
リール基の場合には、1回の反応は比較的速やかに進行
し、化合物(IV)を好収率で得ることができる場合も
あるが、反応を繰り返し行う場合には、反応回数が多、
くなるにつれて、長い反応時間を必要とする傾向がある
また、−aに化合物(II)としてデオキシスフレオシ
ド−3°−〇−チオホスフアイト化合物(R”或はR3
が、デオキシヌクレオシドの3′に位置する水酸基を除
いた残基である場合)を用い、デオキシヌクレオシドホ
スファイト化合物を製造した後、酸化反応等を行い、オ
リゴデオキシヌクレオチドを製造する場合には、1回の
反応を行うのに比較的長い反応時間を必要とするうえ、
反応を繰り返し行う必要があるので、全工程を完結させ
るのに更に長時間を要するため、反応(1)の反応時間
を短縮化することが望まれている。
C本発明が解決しようとする!I!題〕本発明者らは、
上記反応(1)を促進させる化合物を提供することを!
IBとする。
(ロ)発明の構成 〔課題を解決するための手段〕 本発明者らは上記の!iBを解決すべく鋭意研究した結
果、化合物(T)が有効であることを見出し、本発明を
完成するに至った。
即ち、本発明は、下記−形式〔I〕で示されるトリオリ
ガノホスファイト化合物の製造反応を促進する下記−形
式〔I〕で示される反応促進剤である。
Z −NHCR’         (1)〔式中Zは
アルキル基又はアルコキシ基の置換基を有することがあ
り、ヘテロ原子として1〜3個の窒素原子、酸素原子又
はイオウ原子を有する単環又は二環式の複素環式基を表
す、R1はアルキル基、アリール基、フリル基、フルフ
リル基、ピリジル基又はチエニル基を表す、〕 〔■〕 (上式中、R8及びR3は同一でも異なっていてもよい
アルキル基又はアリール基であるか或いはR2又はR3
の一方が、5’−0,N−保護デオキシヌクレオシドの
3′に位置する水酸基を除いた残基を表す、R4はアリ
ール基を表す、R5はアルキル基又はアリール基、或い
は3’−0,N−保護デオキシヌクレオシドの5′に位
置する水酸基を除いた残基又は3’−0,N−保護デオ
キシヌクレオチドの5°に位置する水酸基を除いた残基
を表す。
Xはアゾリル基を表す、) 以下、本発明の詳細な説明する。
本発明の反応促進剤は前記−形式〔I〕で示される化合
物であり、複素環式基であるZとしては、ピリジル基、
2−メチルピリジル基、3−メチルピリジル基、4−メ
チルピリジル基、キノリル基、ピリミジル基、ピラゾリ
ル基及びピラジニル基等の含窒素複素環式基、フリル基
等の含酸素複素環式基、チアゾリル基等の含イオウ複素
環式基等を挙げることができ、これらのうちで、との複
素環式基を用いるかについて特に限定はないが、化合物
〔■〕の製造原料として用いることができる一般式〔V
〕で示されるアミノ化合物が、容易に入手できるものか
否かにより判断すると、ピリジル基、2−メチルビリジ
ル基、3−メチルビリジル基、4−メチルビリジル基、
キノリル基及びフリル基等が好ましい。
z −NH,(V ) (式中、Zは前記と同し意味を表す、)又、R1として
は、メチル基、エチル基等のアルキル基、フェニル基、
トリル基等のアリール基或はピリジル基、フリル基、チ
エニル基等の複素環式基を挙げることができる。これら
のうちで、とのR1を用いるかについて特に限定はない
が、化合物(1)の単離及び精製の容易さから判断する
と、メチル基、フェニル基、フリル基及びチエニル基等
が好ましい、化合物(1)の具体例として、例えば2−
アセチルアミノピリジン、2−ベンゾイルアミノピリジ
ン、2−プロピオニルアミノピリジン、N−2−ピリジ
ニル−2−フランカルボキサミド、N−(3−メチル−
2−ピリジニル)−2−フランカルボキシアミド、N−
(4メチル−2−ピリジニル)−2−フランカルボキサ
ミド、N〜(5−メチル−2−ピリジニル)−2−フラ
ンカルボキサミド、N−2−ピリジニル−2−チオフェ
ンカルボキサミド、rl−2−ピリジニル−2−ピリジ
ンカルボキサミド、8−アセチルアミノキノリン、2−
アセチルアミノフラン、2−アセチルア逅ノー1.3−
デアゾール及び2−アセチルアミノビラジン等がある。
本発明の反応促進剤は、例えば反応(2)に示すように
、アミン類(化合物〔■〕)と酸クロリド(化合物〔■
〕)とをベンゼン等の溶媒中で反応させることにより、
容易に製造することができる〔イズベスト 7カド ナ
ウク アルミアン ニスニスエル セル キム ナウク
(Izvest、Akad。
Nauk Armyan、S、S、R,+Ser Kh
i+m、Nauk) [,143(1957)、CA 
52.4641(1958)参照)、この際に、ピリジ
ン等の塩基を存在させてもよい。
(式中Z及びR′は、前記と同じ意味を表す、)次に化
合物(1)を、反応(1)の反応促進剤として使用する
方法について説明する。
反応(1)におけるRt、Rs、R4及びRSについて
は、特開昭63−39894において記載されたトリオ
ルガノホスファイト化合物の製造反応の場合と同様であ
り、具体的には以下に示す通りである。
R2及びR3,同一でも異なっていてもよいアルキル基
又はアリール基であるか或いはRz又はR3の一方が、
5°−0,N−保護デオキシヌクレオシドの3′に位置
する水酸基を除いた残基を表す、更に具体的に示せば、
メチル基、エチル基;フェニル基、2−クロロフェニル
i 、 N 4−ベンゾイル−5°−0−ジメトキシト
リチルデオキシシチジン残基、6−0−ジフェニルカル
バモイル−2−N−プロピオニル−5′−〇−ジメトキ
シトリチルー2′−デオキシグアノシン残基及び6−N
、N−ジベンゾイル−50−ジメトキシトリチル−2′
−デオキシアデノシン残基等を表す。
R4,アリール基を表し、更に具体的に示せば、2.5
−ジメチルフェニル基、フェニルL2゜4.6−)ジメ
チルフェニル基、2−クロロフェニル5.4−ニトロフ
ェニル基及びα−ナフチル基等を表す。
Rs、アルキル基又はアリール基、或いは3’−0゜N
−保護デオキシヌクレオシドの5゛に位置する水酸基を
除いた残基又は3°−0,N−保護デオキシヌクレオチ
ドの5°に位置する水酸基を除いた残基を表す、更に具
体的に示せば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、
i−プロピル基、n−ブチル基等;フェニル基、4−メ
チルフェニル基等1N4−ベンゾイル−3’−0−レゾ
リニル−2°−デオキシシチジン残基、6−N、N−ジ
ベンゾイル−3’−0−t−ブチルジメチルシリル−2
°−デオキシアデノシン残基及びp−2−クロロフェニ
ル−(3゛→5°)−3゛−〇−ベンゾイルチミジンの
5′に位置する水酸基を除いた残基等を表す。
化合物(1)と化合物(■)のモル比は、50〜1:1
の範囲が好ましいが、経済面を考慮すると、化合物(N
を大過剰に用いるより、IO〜・1:1の範囲とするの
がより好ましい。
反応(1)は前掲の特開昭63−39894号公報に記
載されているように、トリアルキルスクンニルアゾール
化合物〔■〕及び塩基〔■〕の存在下で、行わせること
が望ましく、この反応は、有機溶媒中で速やかに進行す
る。かかる溶媒としてはクロロホルム、塩化メチレン、
1.2−ジクロロエタン、ベンゼン及びピリジン等を挙
げることができる。これら有機溶媒は、その中に水が混
在すると、それがアルコール[(III)と親筆的に反
応し、化合物(IV)の収率を低下させるので、使用前
に適当な乾燥剤で十分に乾燥後、蒸留精製したものを用
いた方がよい。
上記のトリアルキルスクンニルアゾール化合物〔■〕は
下式〔■〕で、また塩基〔■〕は下式〔■〕で表される
R’3Snχ 〔■)  、  R’NR”s  (■
〕上式におけるR’、R’及びR8は各々以下の基を表
す。
R6:アルキル基を表し、更に具体的に示せば、メチル
基、エチル基、n−プロピル基及びn−ブチル基等の第
一級アルキル基;i−プロピル基及びS−ブチル基等の
第二級アルキル1ift−ブチル基等の第三級アルキル
基等を表す。
R7:水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、更
に具体的には、メチル基、エチル基、n −プロピル基
、i−プロピル基、n−ブチル基;フェニル基、4−メ
チルフェニル基等を表す。
Rs:アルキル基又は2個のR11が隣接する窒素原子
とともにヘテロ原子として、1乃至2個の窒素原子、酸
素原子又はイオウ原子を含有してもよい複素環式基の残
基を表すか、或いはR7と2個のR8が隣接する窒素原
子とともにヘテロ原子として、l乃至2個の窒素原子、
酸素原子又はイオウ原子を含有してもよい複素環の残基
を表す、更に具体的に示せば、アルキル基として、メチ
ル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n
−ブチル基等を表し;2個のRsが隣接する窒素原子と
ともにヘテロ原子として、1乃至2個の窒素原子、酸素
原子又はイオウ原子を含有してもよい複素環式基として
、ピペリジノ基、2.6−シメチルビベリジノ基、ピロ
リル基、モルホリノ基、チオモルホリノ基、イミダゾリ
ル基、2−メチルイミダゾリル基、ベンズイミダゾリル
基、1.2.4−1−リアゾリル基、3−メチル−1,
2,4−+−リアゾリル基等を表し、R?と2個のR1
が隣接する窒素原子とともにヘテロ原子として、l乃至
2個の窒素原子、酸素原子又はイオウ原子を含有しても
よい複素環として、ピリジン、2.6−シメチルピリジ
ン、4−ジメチルアミノピリジン、オキサゾール、チア
ゾール、ピリミジン、ピラジン、キノリン及びs−トリ
アジン等を表す。
反応(1)は、0℃〜35℃の範囲で行わせることが望
ましい。
反応系(1)に化合物(1)を添加する方法については
、特に限定はなく、例えば、予め化合物[11)に加え
ておく、化合物〔■〕と化合物〔■〕に加えておく、或
は化合物(■)、化合物〔■〕及び化合物〔■〕の混合
液中に加える等、何れの方法により行ってもよい。
以上の条件に従って反応を行えば、化合物(1)と化合
物(II)のモル比或は化合物(II)及び化合物(I
II)の有機基Rz、Rs及びRsにより異なるが、反
応は概して1時間以内で終結する。しかし、実際に反応
を行う場合には、H’NMR等により反応の終結を確認
した方がよい。
本発明の反応促進剤(1)を反応系(1)に加え、トリ
オルガノホスファイト化合物〔■〕を製造した後、これ
の単離及び精製を行う場合には、反応の終結をH’NM
R,ガスクロマトグラフィー或いは薄層クロマトグラフ
ィー等により確認した後、反応溶液を飽和食塩水等で洗
浄し、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、分別蒸留或はク
ロマトグラフィー等を用いて行うとよい。
又、反応系(1)に反応促進剤(1)を添加し、トリオ
ルガノホスファイト化合物(IV)を製造した後、これ
を単離及び精製せずに、次の反応等を行うことができる
。例えば、化合物(II)でR2或はR3の一方がアル
キル基或はアリール基で、その他方が5“−○、N−保
護デオキシヌクレオシドの3°に位置する水酸基を除い
た残基で、更に化合物(IV)のR5が、3’−0,N
−保護デオキシヌクレオシドの5゛に位置する水酸基を
除いた残基の場合には、反応系(1)に化合物(1)を
添加し、化合物(IV)とした後、単離せずに、ヨウ素
水を加え、酸化反応を行わせることができる。
〔実施例〕
以下、実施例によって、本発明を更に具体的に説明する
。なお、本明細書において使用する略号の意味は以下の
通りである。
Me;メチル基、Et;エチル基、n−Bu;n−ブチ
ル基、5−Bu;S−ブチル基、D M T r i 
4.4 ’−ジメトキシトリチル基、T;チミン残基、
C;シトシン残基、Cb″;N4−ベンゾイルシトシン
残基、CPG;コンドロールド・ボア・グラス。
実施例1 5ミリモルのN−(2−ピリジル)−2”−フランカル
ボキサミド(化合物(1)におけるZが2−ピリジル基
、R1が2−フリル基である)と5ミリモルの2−クロ
ロフェニルオキシ−エチルオキシ−2,5−ジメチルフ
ェニルチオホスフィン(化合物(II)におけるR2が
2−クロロフェニル基、R3がエチル基 R4が2.5
−ジメチルフェニル基である)の重クロロホルム溶液を
まず調製した。
この溶液に、5ミリモルのトリーn−ブチルスタンニル
ベンゾトリアゾール(化合物〔■〕におけるR6が、n
−ブチル基及びXがベンゾトリアゾリル基である)と5
ミリモルの4−ジメチルアミノピリジン(化合物〔■〕
におけるR7が2−ピリジル基及びR1がメチル基であ
る)の重クロロホルム溶液を室温で加え、その後この混
合液に5ミリモルのメタノール(化合物(III)にお
けるR5がメチル基である)を室温で添加した。
この混合液のH’NMRスペクトルを測定すると、反応
は30分で終了することが認められた。
一方、N−(2−ピリジル)−2゛−フランカルボキサ
ミドを添加しない系で、同様の実験を行うと反応終結時
間は3時間であることが認められた。
実施例2 トリーn−ブチルスタンニルベンゾトリアゾール(化合
物(■) 、2.04g、 5ミリモル)と4−ジメチ
ルアミノピリジン(化合物〔■) 、0.61g。
5ミリモル)を重クロロホルム(5ml)に溶解し、こ
れにエチル−2−クロロフェニル−2,5−ジメチルフ
チエルチオホスファイト(化合物(II)、1.70.
5 ミリモル)と2−アセチルアミノピリジン(化合物
(1)におけるZは2−ピリジル基、R1はメチル基で
ある、0.68g、5 ミリモル)の重クロロホルム(
5ml)溶液を室温で加えた。
その後、メタノール(化合物(II) 、0.2 ml
5果すモル)を室温で添加し、攪拌した[反応(3)]
反応開始より30分後、反応溶液のH’NMRスペクト
ルはエチルメチル−2−クロロフェニルホスファイト(
化合物(IV) )が85%収率で生成していることを
示した。
その後、反応液を30m1の飽和食塩水に加え、有ii
を30m1のジエチルエーテルで2回抽出した。
有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去
した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、メ
タノール−クロロホルム(1: 10)の溶媒で展開し
た後、化合物(IV)を含むフラクシジンをとり、溶媒
を減圧留去し、エチルメチル−2−クロロフェニルホス
ファイト(IV)  (0,2m5HHにおける沸点が
73−74℃である)を0.82g (70%)得た。
以上のようにして得た化合物(rV)のH’NMRスペ
クトルは、以下のようであった(但し、標準物質HCD
C11TMS)。
δ: 1.32ppm  (t、3H,J=7.5Hz
、(CHsCHgO)P−) 。
3.68ppm  Cd、30.J−10−0)Iz+
(CHsO)P−3。
3.85 4.35ppm  (m、2H,(CHxC
H,20)P−) 。
6.80−7.55ppm  (情、4)1. (0−
CIC赳40) P−)実施例3〜6 化合物[I[)として、エチル−2−クロロフェニル−
2,5−ジメチルフェこルチオホスファイト、化合物〔
■〕として、トリーn−ブチルスタンニルベンゾトリア
ゾール、化合物〔■]として4−ジメチルアミノピリジ
ン、化合物(II[)として、メタノール及び化合物(
1)として下記の表1に示す構造式の化合物を用いて、
実施例2と同様の実験を行い、表1に示す結果を得た。
表1 $1=重合化(1)の化合物〔■〕に対するモル比。
*2 :H’NMRスペクトルにより算出した化合物(
VDの収率。
実施例7 CPGに担持された5′−0−ジメトキシトリチルチミ
ジン(担持量5マイクロモル/g、市販品)に塩化メチ
レン中3%トリクロロ酢酸を反応させて得たチミジンC
PGサポート(化合物〔■〕におけるR%は、CPGに
担持されたチミジン残基である。 5Qmg、 0.2
5マイクロモル)にジ−nブチル−3−ブチルスタンニ
ルベンゾトリアゾール(化合物(■) 、15.hg、
 37.5マイクロモル)と4−ジメチルアミノピリジ
ン(化合物〔■〕、4.6+*g 、 37.5マイク
ロモル)の1,2−ジクロロエタン(0,05m1)溶
液を加え、直ちにR4−ベンゾイル−5”−〇−ジメト
キシトリチルデオキシシチジン−3°−0−(2−クロ
ロフェニルオキシ−2,5−ジメチルフェニルチオ)ホ
スフィン(化合物[1]におけるRtがR4−ベンゾイ
ル−5“−〇−ジメトキシトリチルデオキシシチジン残
基、R3が2−クロロフェニル基及びR4が2゜5−ジ
メチルフェニル基である。 7.hg 、 7.5マイ
クロモル)と2−アセチルアもノビリジン(化合物(1
) 、1.0 mg、 7.5マイクロモル)の1,2
−ジクロロエタン(0,05m1) 溶液を添加した〔
反応(4))。
室温で1分間振蕩反応させた後、反応液をG−4グラス
フイルターを通して炉別し、残留したCPGサポートを
3mlのピリジンで3回洗浄した。
その後ピリジン/水(0,95創10.05m1)混合
物中のヨウ素(25,4s+g、 100マイクロモル
)を加え、室温で2分間振蕩反応させた0反応液はG−
4グラスフイルタ・−を通して濾別され、残ったCPG
サポートを3mlのピリジンで4回及び3−1の塩化メ
チレンで3回洗浄した。
そのサポートの一部のトリチルカチオンテストは98%
の収率で上記反応が進行していることを示した。この収
率は生成物の脱保護により生成した脱保護体のHPLC
分析により6!認された。
即ち、上記のCPGサポートに5yn−4−ニトロベン
ズアルドキシム(33,2mg、 200マイクロモル
)をp−ジオキサン(0,2m1)と水(0,2m1)
に溶解した溶液を加え室温で10時間反応させた。
この混合物を濾過し、濾液をfi縮し、残渣に80%酢
酸(1!u+1 )を加え、室温で30分間反応させた
酢酸及び水を減圧留去し、残渣に水(1+ml)とエー
テル(5ml)を加え、脱保護体を水で抽出した。
更に水層を5耐のエーテルで2回洗浄した後、その水層
のHPLC分析を行った結果、それはデオキシシチジン
とチミジンのダイマー(d(CpT)。
(IV’) )とチミジン(dT)が約98:2の割合
で生成していることを示した(第1図)。
実施例8〜11 化合物〔■〕として、R4−ベンゾイル−5゛0−ジメ
トキシトリチルデオキシシチジン−3゜0−(2−クロ
ロフェニルオキシ−2,5−ジメチルフェニルチオ)ホ
スフィン(R”がR4−ベンゾイル−5°−O−ジメト
キシトリチルデオキシシチジン残基、R3が2−クロロ
フェニル基及びR4が2.5−ジメチルフェニル基であ
る)、化合物〔■]としてジ−n−ブチル−5−ブチル
スタンニルベンゾトリアゾール、化合物〔■〕として4
−ジメチルアミノピリジン、化合物(II)として、チ
ミジンCPGサポート(5マイクロモル/g、市販品)
を用いて、実施例7と同様の実験を行い、表2に示す結
果を得た。
[発明の効果] 本発明は、ジオルガノオキシオルガノチオホスフィン化
合物とアルコール類とを反応させることにより、トリオ
ルガノホスファイト化合物を得る反応を促進する効果を
有する。
特に、デオキシヌクレオシド−3’ −0−チオホスフ
ァイト化合物を出発原料として、反応(1)によりデオ
キシヌクレオシドホスファイト化合物を製造し、その後
酸化反応等を行った後、オリゴデオキシヌクレオチドを
製造する場合には、反応を促進する効果が顕著である。
【図面の簡単な説明】
第1図は、実施例7で製造されたオリゴデオキシヌクレ
オチド〔■゛〕の脱保護生成物の高速液体クロマトグラ
フィーの溶離曲線を示し、dTはチミジンを、d (C
p T)はデオキシシチジンとチミジンのダイマーをそ
れぞれ意味する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、下記一般式(1)で示されるトリオリガノホスファ
    イト化合物の製造反応を促進する下記一般式〔 I 〕で
    示される反応促進剤。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Zはアルキル基又はアルコキシ基の置換基を有す
    ることがあり、ヘテロ原子として1〜3個の窒素原子、
    酸素原子又はイオウ原子を有する単環又は二環式の複素
    環式基を表す。R^1はアルキル基、アリール基、フリ
    ル基、フルフリル基、ピリジル基又はチエニル基を表す
    。〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ (上式中、R^2及びR^3は同一でも異なっていても
    よいアルキル基又はアリール基であるか或いはR^2又
    はR^3の一方は、5′−O,N−保護デオキシヌクレ
    オシドの3′に位置する水酸基を除いた残基を表す。R
    ^4はアリール基を表す。R^5はアルキル基又はアリ
    ール基、或いは3′−O,N−保護デオキシヌクレオシ
    ドの5′に位置する水酸基を除いた残基又は3′−O,
    N−保護デオキシヌクレオチドの5′に位置する水酸基
    を除いた残基を表す。 Xはアゾリル基を表す。)
JP1200310A 1989-08-03 1989-08-03 反応促進剤 Expired - Lifetime JP2720536B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1200310A JP2720536B2 (ja) 1989-08-03 1989-08-03 反応促進剤

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1200310A JP2720536B2 (ja) 1989-08-03 1989-08-03 反応促進剤

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0365243A true JPH0365243A (ja) 1991-03-20
JP2720536B2 JP2720536B2 (ja) 1998-03-04

Family

ID=16422190

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1200310A Expired - Lifetime JP2720536B2 (ja) 1989-08-03 1989-08-03 反応促進剤

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2720536B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001139550A (ja) * 1999-11-17 2001-05-22 Shionogi & Co Ltd アミド化合物の新規用途
US8106051B2 (en) 2001-09-14 2012-01-31 Shionogi & Co., Ltd. Utilities of amide compounds
US9694318B2 (en) 2012-11-13 2017-07-04 Mitsubishi Hitachi Power Systems, Ltd. Catalyst structure for exhaust gas cleaning

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001139550A (ja) * 1999-11-17 2001-05-22 Shionogi & Co Ltd アミド化合物の新規用途
US8106051B2 (en) 2001-09-14 2012-01-31 Shionogi & Co., Ltd. Utilities of amide compounds
US9694318B2 (en) 2012-11-13 2017-07-04 Mitsubishi Hitachi Power Systems, Ltd. Catalyst structure for exhaust gas cleaning

Also Published As

Publication number Publication date
JP2720536B2 (ja) 1998-03-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20230089442A1 (en) Technologies useful for oligonucleotide preparation
EP3517535B1 (en) Alkynyl-substituted heterocyclic compound, preparation method therefor and medical use thereof
Goldmann et al. Determination of the absolute configuration of the active amlodipine enantiomer as (-)-S: a correction
JPH01301691A (ja) 新規ヌクレオチド誘導体
KR102073181B1 (ko) 광학적으로 순수하고 임의로 치환된 2-(1-히드록시-알킬)-크로멘-4-온 유도체의 제조방법 및 약제 제조에 있어서의 그의 용도
JP2003238586A (ja) 立体規則性の高いジヌクレオシドホスホロチオエートの製造法
JPH0327375A (ja) ピラニルシアノグアニジン誘導体
CN105367427A (zh) 手性1,2-二胺类化合物及其制备方法和应用
CN1256688A (zh) 核苷酸还原酶抑制剂3-ap和3amp的合成方法
JPH0365243A (ja) 反応促進剤
CN115298199A (zh) 环孢菌素衍生物的制备
KR20050009293A (ko) 캄프토테신 유도체의 제조에 유용한 화합물
Lago et al. Solid phase synthesis of a 1, 3, 5-trisubstituted pyridinium salt library
JPH0291088A (ja) ホスファイトおよびヌクレオシド‐3’‐ホスファイト誘導体およびこれを用いるオリゴヌクレオチドの合成法
CN112225729B (zh) 嘧啶类衍生物、其制备方法和应用以及药物组合物
CN114478388A (zh) 一种多官能团化的吡唑酮类化合物及制备方法
JPH061776A (ja) 置換ピラジンカルボニトリルの製造方法
CN1984881A (zh) 制备对映体形式2,3-二氨基丙酸衍生物的方法
JP4257414B2 (ja) ホスフィンの遊離方法
CN117886766A (zh) 可见光驱动合成2-芳基-2h-苯并三唑化合物的方法及其应用
JP2024510934A (ja) キラルホスホロチオエートの合成のためのキラルシントン
CN117924343A (zh) 一种含硅手性中心的新骨架硅杂苯并六元杂环化合物及其制备方法与应用
JP2021059518A (ja) ヌクレオチド修飾固相担体、dna鎖及びrna鎖修飾担体の製造方法、並びにdna及びrnaの製造方法
JPH04164090A (ja) リン酸化剤およびそれを用いたホスホジエステル結合形成法
JPS6284097A (ja) 保護されたオリゴヌクレオチドの製造法