JPH0365243A - 反応促進剤 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(イ)発明の目的
〔産業上の利用分野]
本発明は、ジオルガノオキシオルガノチオホスフィン化
合物とアルコール類とを出発物質として、トリオルガノ
ホスファイト化合物を製造する、反応を促進させる化合
物に関するものである。
合物とアルコール類とを出発物質として、トリオルガノ
ホスファイト化合物を製造する、反応を促進させる化合
物に関するものである。
先に、本発明者らは、下記一般式(1)に従って、ジオ
ルガノオキシオルガノチオホスフィン化合物〔■〕とア
ルコール1cnnとを反応させることにより、トリオル
ガノホスファイト化合物(IV)を得ることを提案した
(特開昭63−39894)。
ルガノオキシオルガノチオホスフィン化合物〔■〕とア
ルコール1cnnとを反応させることにより、トリオル
ガノホスファイト化合物(IV)を得ることを提案した
(特開昭63−39894)。
(R”0)(Rゝ0)PSR’ + HORS□−)(
n) (III) (上式中、R1及びR3は同一でも異なっていてもよい
アルキル基又はアリール基であるか或いはR1又はR3
の一方が、5’−0,N−保護デオキシヌクレオシドの
3′に位置する水酸基を除いた残基を表す R4はアリ
ール基を表す、RSはアルキル基又はアリール基、或い
は3’−0,N−保護デオキシヌクレオシドの5′に位
置する水酸基を除いた残基又は3’−0,N−保護デオ
キシヌクレオチドの5°に位置する水酸基を除いた残基
を表す。
n) (III) (上式中、R1及びR3は同一でも異なっていてもよい
アルキル基又はアリール基であるか或いはR1又はR3
の一方が、5’−0,N−保護デオキシヌクレオシドの
3′に位置する水酸基を除いた残基を表す R4はアリ
ール基を表す、RSはアルキル基又はアリール基、或い
は3’−0,N−保護デオキシヌクレオシドの5′に位
置する水酸基を除いた残基又は3’−0,N−保護デオ
キシヌクレオチドの5°に位置する水酸基を除いた残基
を表す。
Xはアゾリル基を表す、)
上記反応(1)によってトリオルガノホスファイト化合
物(IV)を製造する場合の利点は、原料である化合物
[I[)が安定であること及び化合物(IV)の収率が
良好であること等である。
物(IV)を製造する場合の利点は、原料である化合物
[I[)が安定であること及び化合物(IV)の収率が
良好であること等である。
反応(1)において、R2及びR3がアルキル基或はア
リール基の場合には、1回の反応は比較的速やかに進行
し、化合物(IV)を好収率で得ることができる場合も
あるが、反応を繰り返し行う場合には、反応回数が多、
くなるにつれて、長い反応時間を必要とする傾向がある
。
リール基の場合には、1回の反応は比較的速やかに進行
し、化合物(IV)を好収率で得ることができる場合も
あるが、反応を繰り返し行う場合には、反応回数が多、
くなるにつれて、長い反応時間を必要とする傾向がある
。
また、−aに化合物(II)としてデオキシスフレオシ
ド−3°−〇−チオホスフアイト化合物(R”或はR3
が、デオキシヌクレオシドの3′に位置する水酸基を除
いた残基である場合)を用い、デオキシヌクレオシドホ
スファイト化合物を製造した後、酸化反応等を行い、オ
リゴデオキシヌクレオチドを製造する場合には、1回の
反応を行うのに比較的長い反応時間を必要とするうえ、
反応を繰り返し行う必要があるので、全工程を完結させ
るのに更に長時間を要するため、反応(1)の反応時間
を短縮化することが望まれている。
ド−3°−〇−チオホスフアイト化合物(R”或はR3
が、デオキシヌクレオシドの3′に位置する水酸基を除
いた残基である場合)を用い、デオキシヌクレオシドホ
スファイト化合物を製造した後、酸化反応等を行い、オ
リゴデオキシヌクレオチドを製造する場合には、1回の
反応を行うのに比較的長い反応時間を必要とするうえ、
反応を繰り返し行う必要があるので、全工程を完結させ
るのに更に長時間を要するため、反応(1)の反応時間
を短縮化することが望まれている。
C本発明が解決しようとする!I!題〕本発明者らは、
上記反応(1)を促進させる化合物を提供することを!
IBとする。
上記反応(1)を促進させる化合物を提供することを!
IBとする。
(ロ)発明の構成
〔課題を解決するための手段〕
本発明者らは上記の!iBを解決すべく鋭意研究した結
果、化合物(T)が有効であることを見出し、本発明を
完成するに至った。
果、化合物(T)が有効であることを見出し、本発明を
完成するに至った。
即ち、本発明は、下記−形式〔I〕で示されるトリオリ
ガノホスファイト化合物の製造反応を促進する下記−形
式〔I〕で示される反応促進剤である。
ガノホスファイト化合物の製造反応を促進する下記−形
式〔I〕で示される反応促進剤である。
Z −NHCR’ (1)〔式中Zは
アルキル基又はアルコキシ基の置換基を有することがあ
り、ヘテロ原子として1〜3個の窒素原子、酸素原子又
はイオウ原子を有する単環又は二環式の複素環式基を表
す、R1はアルキル基、アリール基、フリル基、フルフ
リル基、ピリジル基又はチエニル基を表す、〕 〔■〕 (上式中、R8及びR3は同一でも異なっていてもよい
アルキル基又はアリール基であるか或いはR2又はR3
の一方が、5’−0,N−保護デオキシヌクレオシドの
3′に位置する水酸基を除いた残基を表す、R4はアリ
ール基を表す、R5はアルキル基又はアリール基、或い
は3’−0,N−保護デオキシヌクレオシドの5′に位
置する水酸基を除いた残基又は3’−0,N−保護デオ
キシヌクレオチドの5°に位置する水酸基を除いた残基
を表す。
アルキル基又はアルコキシ基の置換基を有することがあ
り、ヘテロ原子として1〜3個の窒素原子、酸素原子又
はイオウ原子を有する単環又は二環式の複素環式基を表
す、R1はアルキル基、アリール基、フリル基、フルフ
リル基、ピリジル基又はチエニル基を表す、〕 〔■〕 (上式中、R8及びR3は同一でも異なっていてもよい
アルキル基又はアリール基であるか或いはR2又はR3
の一方が、5’−0,N−保護デオキシヌクレオシドの
3′に位置する水酸基を除いた残基を表す、R4はアリ
ール基を表す、R5はアルキル基又はアリール基、或い
は3’−0,N−保護デオキシヌクレオシドの5′に位
置する水酸基を除いた残基又は3’−0,N−保護デオ
キシヌクレオチドの5°に位置する水酸基を除いた残基
を表す。
Xはアゾリル基を表す、)
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明の反応促進剤は前記−形式〔I〕で示される化合
物であり、複素環式基であるZとしては、ピリジル基、
2−メチルピリジル基、3−メチルピリジル基、4−メ
チルピリジル基、キノリル基、ピリミジル基、ピラゾリ
ル基及びピラジニル基等の含窒素複素環式基、フリル基
等の含酸素複素環式基、チアゾリル基等の含イオウ複素
環式基等を挙げることができ、これらのうちで、との複
素環式基を用いるかについて特に限定はないが、化合物
〔■〕の製造原料として用いることができる一般式〔V
〕で示されるアミノ化合物が、容易に入手できるものか
否かにより判断すると、ピリジル基、2−メチルビリジ
ル基、3−メチルビリジル基、4−メチルビリジル基、
キノリル基及びフリル基等が好ましい。
物であり、複素環式基であるZとしては、ピリジル基、
2−メチルピリジル基、3−メチルピリジル基、4−メ
チルピリジル基、キノリル基、ピリミジル基、ピラゾリ
ル基及びピラジニル基等の含窒素複素環式基、フリル基
等の含酸素複素環式基、チアゾリル基等の含イオウ複素
環式基等を挙げることができ、これらのうちで、との複
素環式基を用いるかについて特に限定はないが、化合物
〔■〕の製造原料として用いることができる一般式〔V
〕で示されるアミノ化合物が、容易に入手できるものか
否かにより判断すると、ピリジル基、2−メチルビリジ
ル基、3−メチルビリジル基、4−メチルビリジル基、
キノリル基及びフリル基等が好ましい。
z −NH,(V )
(式中、Zは前記と同し意味を表す、)又、R1として
は、メチル基、エチル基等のアルキル基、フェニル基、
トリル基等のアリール基或はピリジル基、フリル基、チ
エニル基等の複素環式基を挙げることができる。これら
のうちで、とのR1を用いるかについて特に限定はない
が、化合物(1)の単離及び精製の容易さから判断する
と、メチル基、フェニル基、フリル基及びチエニル基等
が好ましい、化合物(1)の具体例として、例えば2−
アセチルアミノピリジン、2−ベンゾイルアミノピリジ
ン、2−プロピオニルアミノピリジン、N−2−ピリジ
ニル−2−フランカルボキサミド、N−(3−メチル−
2−ピリジニル)−2−フランカルボキシアミド、N−
(4メチル−2−ピリジニル)−2−フランカルボキサ
ミド、N〜(5−メチル−2−ピリジニル)−2−フラ
ンカルボキサミド、N−2−ピリジニル−2−チオフェ
ンカルボキサミド、rl−2−ピリジニル−2−ピリジ
ンカルボキサミド、8−アセチルアミノキノリン、2−
アセチルアミノフラン、2−アセチルア逅ノー1.3−
デアゾール及び2−アセチルアミノビラジン等がある。
は、メチル基、エチル基等のアルキル基、フェニル基、
トリル基等のアリール基或はピリジル基、フリル基、チ
エニル基等の複素環式基を挙げることができる。これら
のうちで、とのR1を用いるかについて特に限定はない
が、化合物(1)の単離及び精製の容易さから判断する
と、メチル基、フェニル基、フリル基及びチエニル基等
が好ましい、化合物(1)の具体例として、例えば2−
アセチルアミノピリジン、2−ベンゾイルアミノピリジ
ン、2−プロピオニルアミノピリジン、N−2−ピリジ
ニル−2−フランカルボキサミド、N−(3−メチル−
2−ピリジニル)−2−フランカルボキシアミド、N−
(4メチル−2−ピリジニル)−2−フランカルボキサ
ミド、N〜(5−メチル−2−ピリジニル)−2−フラ
ンカルボキサミド、N−2−ピリジニル−2−チオフェ
ンカルボキサミド、rl−2−ピリジニル−2−ピリジ
ンカルボキサミド、8−アセチルアミノキノリン、2−
アセチルアミノフラン、2−アセチルア逅ノー1.3−
デアゾール及び2−アセチルアミノビラジン等がある。
本発明の反応促進剤は、例えば反応(2)に示すように
、アミン類(化合物〔■〕)と酸クロリド(化合物〔■
〕)とをベンゼン等の溶媒中で反応させることにより、
容易に製造することができる〔イズベスト 7カド ナ
ウク アルミアン ニスニスエル セル キム ナウク
(Izvest、Akad。
、アミン類(化合物〔■〕)と酸クロリド(化合物〔■
〕)とをベンゼン等の溶媒中で反応させることにより、
容易に製造することができる〔イズベスト 7カド ナ
ウク アルミアン ニスニスエル セル キム ナウク
(Izvest、Akad。
Nauk Armyan、S、S、R,+Ser Kh
i+m、Nauk) [,143(1957)、CA
52.4641(1958)参照)、この際に、ピリジ
ン等の塩基を存在させてもよい。
i+m、Nauk) [,143(1957)、CA
52.4641(1958)参照)、この際に、ピリジ
ン等の塩基を存在させてもよい。
(式中Z及びR′は、前記と同じ意味を表す、)次に化
合物(1)を、反応(1)の反応促進剤として使用する
方法について説明する。
合物(1)を、反応(1)の反応促進剤として使用する
方法について説明する。
反応(1)におけるRt、Rs、R4及びRSについて
は、特開昭63−39894において記載されたトリオ
ルガノホスファイト化合物の製造反応の場合と同様であ
り、具体的には以下に示す通りである。
は、特開昭63−39894において記載されたトリオ
ルガノホスファイト化合物の製造反応の場合と同様であ
り、具体的には以下に示す通りである。
R2及びR3,同一でも異なっていてもよいアルキル基
又はアリール基であるか或いはRz又はR3の一方が、
5°−0,N−保護デオキシヌクレオシドの3′に位置
する水酸基を除いた残基を表す、更に具体的に示せば、
メチル基、エチル基;フェニル基、2−クロロフェニル
i 、 N 4−ベンゾイル−5°−0−ジメトキシト
リチルデオキシシチジン残基、6−0−ジフェニルカル
バモイル−2−N−プロピオニル−5′−〇−ジメトキ
シトリチルー2′−デオキシグアノシン残基及び6−N
、N−ジベンゾイル−50−ジメトキシトリチル−2′
−デオキシアデノシン残基等を表す。
又はアリール基であるか或いはRz又はR3の一方が、
5°−0,N−保護デオキシヌクレオシドの3′に位置
する水酸基を除いた残基を表す、更に具体的に示せば、
メチル基、エチル基;フェニル基、2−クロロフェニル
i 、 N 4−ベンゾイル−5°−0−ジメトキシト
リチルデオキシシチジン残基、6−0−ジフェニルカル
バモイル−2−N−プロピオニル−5′−〇−ジメトキ
シトリチルー2′−デオキシグアノシン残基及び6−N
、N−ジベンゾイル−50−ジメトキシトリチル−2′
−デオキシアデノシン残基等を表す。
R4,アリール基を表し、更に具体的に示せば、2.5
−ジメチルフェニル基、フェニルL2゜4.6−)ジメ
チルフェニル基、2−クロロフェニル5.4−ニトロフ
ェニル基及びα−ナフチル基等を表す。
−ジメチルフェニル基、フェニルL2゜4.6−)ジメ
チルフェニル基、2−クロロフェニル5.4−ニトロフ
ェニル基及びα−ナフチル基等を表す。
Rs、アルキル基又はアリール基、或いは3’−0゜N
−保護デオキシヌクレオシドの5゛に位置する水酸基を
除いた残基又は3°−0,N−保護デオキシヌクレオチ
ドの5°に位置する水酸基を除いた残基を表す、更に具
体的に示せば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、
i−プロピル基、n−ブチル基等;フェニル基、4−メ
チルフェニル基等1N4−ベンゾイル−3’−0−レゾ
リニル−2°−デオキシシチジン残基、6−N、N−ジ
ベンゾイル−3’−0−t−ブチルジメチルシリル−2
°−デオキシアデノシン残基及びp−2−クロロフェニ
ル−(3゛→5°)−3゛−〇−ベンゾイルチミジンの
5′に位置する水酸基を除いた残基等を表す。
−保護デオキシヌクレオシドの5゛に位置する水酸基を
除いた残基又は3°−0,N−保護デオキシヌクレオチ
ドの5°に位置する水酸基を除いた残基を表す、更に具
体的に示せば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、
i−プロピル基、n−ブチル基等;フェニル基、4−メ
チルフェニル基等1N4−ベンゾイル−3’−0−レゾ
リニル−2°−デオキシシチジン残基、6−N、N−ジ
ベンゾイル−3’−0−t−ブチルジメチルシリル−2
°−デオキシアデノシン残基及びp−2−クロロフェニ
ル−(3゛→5°)−3゛−〇−ベンゾイルチミジンの
5′に位置する水酸基を除いた残基等を表す。
化合物(1)と化合物(■)のモル比は、50〜1:1
の範囲が好ましいが、経済面を考慮すると、化合物(N
を大過剰に用いるより、IO〜・1:1の範囲とするの
がより好ましい。
の範囲が好ましいが、経済面を考慮すると、化合物(N
を大過剰に用いるより、IO〜・1:1の範囲とするの
がより好ましい。
反応(1)は前掲の特開昭63−39894号公報に記
載されているように、トリアルキルスクンニルアゾール
化合物〔■〕及び塩基〔■〕の存在下で、行わせること
が望ましく、この反応は、有機溶媒中で速やかに進行す
る。かかる溶媒としてはクロロホルム、塩化メチレン、
1.2−ジクロロエタン、ベンゼン及びピリジン等を挙
げることができる。これら有機溶媒は、その中に水が混
在すると、それがアルコール[(III)と親筆的に反
応し、化合物(IV)の収率を低下させるので、使用前
に適当な乾燥剤で十分に乾燥後、蒸留精製したものを用
いた方がよい。
載されているように、トリアルキルスクンニルアゾール
化合物〔■〕及び塩基〔■〕の存在下で、行わせること
が望ましく、この反応は、有機溶媒中で速やかに進行す
る。かかる溶媒としてはクロロホルム、塩化メチレン、
1.2−ジクロロエタン、ベンゼン及びピリジン等を挙
げることができる。これら有機溶媒は、その中に水が混
在すると、それがアルコール[(III)と親筆的に反
応し、化合物(IV)の収率を低下させるので、使用前
に適当な乾燥剤で十分に乾燥後、蒸留精製したものを用
いた方がよい。
上記のトリアルキルスクンニルアゾール化合物〔■〕は
下式〔■〕で、また塩基〔■〕は下式〔■〕で表される
。
下式〔■〕で、また塩基〔■〕は下式〔■〕で表される
。
R’3Snχ 〔■) 、 R’NR”s (■
〕上式におけるR’、R’及びR8は各々以下の基を表
す。
〕上式におけるR’、R’及びR8は各々以下の基を表
す。
R6:アルキル基を表し、更に具体的に示せば、メチル
基、エチル基、n−プロピル基及びn−ブチル基等の第
一級アルキル基;i−プロピル基及びS−ブチル基等の
第二級アルキル1ift−ブチル基等の第三級アルキル
基等を表す。
基、エチル基、n−プロピル基及びn−ブチル基等の第
一級アルキル基;i−プロピル基及びS−ブチル基等の
第二級アルキル1ift−ブチル基等の第三級アルキル
基等を表す。
R7:水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、更
に具体的には、メチル基、エチル基、n −プロピル基
、i−プロピル基、n−ブチル基;フェニル基、4−メ
チルフェニル基等を表す。
に具体的には、メチル基、エチル基、n −プロピル基
、i−プロピル基、n−ブチル基;フェニル基、4−メ
チルフェニル基等を表す。
Rs:アルキル基又は2個のR11が隣接する窒素原子
とともにヘテロ原子として、1乃至2個の窒素原子、酸
素原子又はイオウ原子を含有してもよい複素環式基の残
基を表すか、或いはR7と2個のR8が隣接する窒素原
子とともにヘテロ原子として、l乃至2個の窒素原子、
酸素原子又はイオウ原子を含有してもよい複素環の残基
を表す、更に具体的に示せば、アルキル基として、メチ
ル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n
−ブチル基等を表し;2個のRsが隣接する窒素原子と
ともにヘテロ原子として、1乃至2個の窒素原子、酸素
原子又はイオウ原子を含有してもよい複素環式基として
、ピペリジノ基、2.6−シメチルビベリジノ基、ピロ
リル基、モルホリノ基、チオモルホリノ基、イミダゾリ
ル基、2−メチルイミダゾリル基、ベンズイミダゾリル
基、1.2.4−1−リアゾリル基、3−メチル−1,
2,4−+−リアゾリル基等を表し、R?と2個のR1
が隣接する窒素原子とともにヘテロ原子として、l乃至
2個の窒素原子、酸素原子又はイオウ原子を含有しても
よい複素環として、ピリジン、2.6−シメチルピリジ
ン、4−ジメチルアミノピリジン、オキサゾール、チア
ゾール、ピリミジン、ピラジン、キノリン及びs−トリ
アジン等を表す。
とともにヘテロ原子として、1乃至2個の窒素原子、酸
素原子又はイオウ原子を含有してもよい複素環式基の残
基を表すか、或いはR7と2個のR8が隣接する窒素原
子とともにヘテロ原子として、l乃至2個の窒素原子、
酸素原子又はイオウ原子を含有してもよい複素環の残基
を表す、更に具体的に示せば、アルキル基として、メチ
ル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n
−ブチル基等を表し;2個のRsが隣接する窒素原子と
ともにヘテロ原子として、1乃至2個の窒素原子、酸素
原子又はイオウ原子を含有してもよい複素環式基として
、ピペリジノ基、2.6−シメチルビベリジノ基、ピロ
リル基、モルホリノ基、チオモルホリノ基、イミダゾリ
ル基、2−メチルイミダゾリル基、ベンズイミダゾリル
基、1.2.4−1−リアゾリル基、3−メチル−1,
2,4−+−リアゾリル基等を表し、R?と2個のR1
が隣接する窒素原子とともにヘテロ原子として、l乃至
2個の窒素原子、酸素原子又はイオウ原子を含有しても
よい複素環として、ピリジン、2.6−シメチルピリジ
ン、4−ジメチルアミノピリジン、オキサゾール、チア
ゾール、ピリミジン、ピラジン、キノリン及びs−トリ
アジン等を表す。
反応(1)は、0℃〜35℃の範囲で行わせることが望
ましい。
ましい。
反応系(1)に化合物(1)を添加する方法については
、特に限定はなく、例えば、予め化合物[11)に加え
ておく、化合物〔■〕と化合物〔■〕に加えておく、或
は化合物(■)、化合物〔■〕及び化合物〔■〕の混合
液中に加える等、何れの方法により行ってもよい。
、特に限定はなく、例えば、予め化合物[11)に加え
ておく、化合物〔■〕と化合物〔■〕に加えておく、或
は化合物(■)、化合物〔■〕及び化合物〔■〕の混合
液中に加える等、何れの方法により行ってもよい。
以上の条件に従って反応を行えば、化合物(1)と化合
物(II)のモル比或は化合物(II)及び化合物(I
II)の有機基Rz、Rs及びRsにより異なるが、反
応は概して1時間以内で終結する。しかし、実際に反応
を行う場合には、H’NMR等により反応の終結を確認
した方がよい。
物(II)のモル比或は化合物(II)及び化合物(I
II)の有機基Rz、Rs及びRsにより異なるが、反
応は概して1時間以内で終結する。しかし、実際に反応
を行う場合には、H’NMR等により反応の終結を確認
した方がよい。
本発明の反応促進剤(1)を反応系(1)に加え、トリ
オルガノホスファイト化合物〔■〕を製造した後、これ
の単離及び精製を行う場合には、反応の終結をH’NM
R,ガスクロマトグラフィー或いは薄層クロマトグラフ
ィー等により確認した後、反応溶液を飽和食塩水等で洗
浄し、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、分別蒸留或はク
ロマトグラフィー等を用いて行うとよい。
オルガノホスファイト化合物〔■〕を製造した後、これ
の単離及び精製を行う場合には、反応の終結をH’NM
R,ガスクロマトグラフィー或いは薄層クロマトグラフ
ィー等により確認した後、反応溶液を飽和食塩水等で洗
浄し、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、分別蒸留或はク
ロマトグラフィー等を用いて行うとよい。
又、反応系(1)に反応促進剤(1)を添加し、トリオ
ルガノホスファイト化合物(IV)を製造した後、これ
を単離及び精製せずに、次の反応等を行うことができる
。例えば、化合物(II)でR2或はR3の一方がアル
キル基或はアリール基で、その他方が5“−○、N−保
護デオキシヌクレオシドの3°に位置する水酸基を除い
た残基で、更に化合物(IV)のR5が、3’−0,N
−保護デオキシヌクレオシドの5゛に位置する水酸基を
除いた残基の場合には、反応系(1)に化合物(1)を
添加し、化合物(IV)とした後、単離せずに、ヨウ素
水を加え、酸化反応を行わせることができる。
ルガノホスファイト化合物(IV)を製造した後、これ
を単離及び精製せずに、次の反応等を行うことができる
。例えば、化合物(II)でR2或はR3の一方がアル
キル基或はアリール基で、その他方が5“−○、N−保
護デオキシヌクレオシドの3°に位置する水酸基を除い
た残基で、更に化合物(IV)のR5が、3’−0,N
−保護デオキシヌクレオシドの5゛に位置する水酸基を
除いた残基の場合には、反応系(1)に化合物(1)を
添加し、化合物(IV)とした後、単離せずに、ヨウ素
水を加え、酸化反応を行わせることができる。
以下、実施例によって、本発明を更に具体的に説明する
。なお、本明細書において使用する略号の意味は以下の
通りである。
。なお、本明細書において使用する略号の意味は以下の
通りである。
Me;メチル基、Et;エチル基、n−Bu;n−ブチ
ル基、5−Bu;S−ブチル基、D M T r i
4.4 ’−ジメトキシトリチル基、T;チミン残基、
C;シトシン残基、Cb″;N4−ベンゾイルシトシン
残基、CPG;コンドロールド・ボア・グラス。
ル基、5−Bu;S−ブチル基、D M T r i
4.4 ’−ジメトキシトリチル基、T;チミン残基、
C;シトシン残基、Cb″;N4−ベンゾイルシトシン
残基、CPG;コンドロールド・ボア・グラス。
実施例1
5ミリモルのN−(2−ピリジル)−2”−フランカル
ボキサミド(化合物(1)におけるZが2−ピリジル基
、R1が2−フリル基である)と5ミリモルの2−クロ
ロフェニルオキシ−エチルオキシ−2,5−ジメチルフ
ェニルチオホスフィン(化合物(II)におけるR2が
2−クロロフェニル基、R3がエチル基 R4が2.5
−ジメチルフェニル基である)の重クロロホルム溶液を
まず調製した。
ボキサミド(化合物(1)におけるZが2−ピリジル基
、R1が2−フリル基である)と5ミリモルの2−クロ
ロフェニルオキシ−エチルオキシ−2,5−ジメチルフ
ェニルチオホスフィン(化合物(II)におけるR2が
2−クロロフェニル基、R3がエチル基 R4が2.5
−ジメチルフェニル基である)の重クロロホルム溶液を
まず調製した。
この溶液に、5ミリモルのトリーn−ブチルスタンニル
ベンゾトリアゾール(化合物〔■〕におけるR6が、n
−ブチル基及びXがベンゾトリアゾリル基である)と5
ミリモルの4−ジメチルアミノピリジン(化合物〔■〕
におけるR7が2−ピリジル基及びR1がメチル基であ
る)の重クロロホルム溶液を室温で加え、その後この混
合液に5ミリモルのメタノール(化合物(III)にお
けるR5がメチル基である)を室温で添加した。
ベンゾトリアゾール(化合物〔■〕におけるR6が、n
−ブチル基及びXがベンゾトリアゾリル基である)と5
ミリモルの4−ジメチルアミノピリジン(化合物〔■〕
におけるR7が2−ピリジル基及びR1がメチル基であ
る)の重クロロホルム溶液を室温で加え、その後この混
合液に5ミリモルのメタノール(化合物(III)にお
けるR5がメチル基である)を室温で添加した。
この混合液のH’NMRスペクトルを測定すると、反応
は30分で終了することが認められた。
は30分で終了することが認められた。
一方、N−(2−ピリジル)−2゛−フランカルボキサ
ミドを添加しない系で、同様の実験を行うと反応終結時
間は3時間であることが認められた。
ミドを添加しない系で、同様の実験を行うと反応終結時
間は3時間であることが認められた。
実施例2
トリーn−ブチルスタンニルベンゾトリアゾール(化合
物(■) 、2.04g、 5ミリモル)と4−ジメチ
ルアミノピリジン(化合物〔■) 、0.61g。
物(■) 、2.04g、 5ミリモル)と4−ジメチ
ルアミノピリジン(化合物〔■) 、0.61g。
5ミリモル)を重クロロホルム(5ml)に溶解し、こ
れにエチル−2−クロロフェニル−2,5−ジメチルフ
チエルチオホスファイト(化合物(II)、1.70.
5 ミリモル)と2−アセチルアミノピリジン(化合物
(1)におけるZは2−ピリジル基、R1はメチル基で
ある、0.68g、5 ミリモル)の重クロロホルム(
5ml)溶液を室温で加えた。
れにエチル−2−クロロフェニル−2,5−ジメチルフ
チエルチオホスファイト(化合物(II)、1.70.
5 ミリモル)と2−アセチルアミノピリジン(化合物
(1)におけるZは2−ピリジル基、R1はメチル基で
ある、0.68g、5 ミリモル)の重クロロホルム(
5ml)溶液を室温で加えた。
その後、メタノール(化合物(II) 、0.2 ml
。
。
5果すモル)を室温で添加し、攪拌した[反応(3)]
。
。
反応開始より30分後、反応溶液のH’NMRスペクト
ルはエチルメチル−2−クロロフェニルホスファイト(
化合物(IV) )が85%収率で生成していることを
示した。
ルはエチルメチル−2−クロロフェニルホスファイト(
化合物(IV) )が85%収率で生成していることを
示した。
その後、反応液を30m1の飽和食塩水に加え、有ii
を30m1のジエチルエーテルで2回抽出した。
を30m1のジエチルエーテルで2回抽出した。
有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去
した。
した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、メ
タノール−クロロホルム(1: 10)の溶媒で展開し
た後、化合物(IV)を含むフラクシジンをとり、溶媒
を減圧留去し、エチルメチル−2−クロロフェニルホス
ファイト(IV) (0,2m5HHにおける沸点が
73−74℃である)を0.82g (70%)得た。
タノール−クロロホルム(1: 10)の溶媒で展開し
た後、化合物(IV)を含むフラクシジンをとり、溶媒
を減圧留去し、エチルメチル−2−クロロフェニルホス
ファイト(IV) (0,2m5HHにおける沸点が
73−74℃である)を0.82g (70%)得た。
以上のようにして得た化合物(rV)のH’NMRスペ
クトルは、以下のようであった(但し、標準物質HCD
C11TMS)。
クトルは、以下のようであった(但し、標準物質HCD
C11TMS)。
δ: 1.32ppm (t、3H,J=7.5Hz
、(CHsCHgO)P−) 。
、(CHsCHgO)P−) 。
3.68ppm Cd、30.J−10−0)Iz+
(CHsO)P−3。
(CHsO)P−3。
3.85 4.35ppm (m、2H,(CHxC
H,20)P−) 。
H,20)P−) 。
6.80−7.55ppm (情、4)1. (0−
CIC赳40) P−)実施例3〜6 化合物[I[)として、エチル−2−クロロフェニル−
2,5−ジメチルフェこルチオホスファイト、化合物〔
■〕として、トリーn−ブチルスタンニルベンゾトリア
ゾール、化合物〔■]として4−ジメチルアミノピリジ
ン、化合物(II[)として、メタノール及び化合物(
1)として下記の表1に示す構造式の化合物を用いて、
実施例2と同様の実験を行い、表1に示す結果を得た。
CIC赳40) P−)実施例3〜6 化合物[I[)として、エチル−2−クロロフェニル−
2,5−ジメチルフェこルチオホスファイト、化合物〔
■〕として、トリーn−ブチルスタンニルベンゾトリア
ゾール、化合物〔■]として4−ジメチルアミノピリジ
ン、化合物(II[)として、メタノール及び化合物(
1)として下記の表1に示す構造式の化合物を用いて、
実施例2と同様の実験を行い、表1に示す結果を得た。
表1
$1=重合化(1)の化合物〔■〕に対するモル比。
*2 :H’NMRスペクトルにより算出した化合物(
VDの収率。
VDの収率。
実施例7
CPGに担持された5′−0−ジメトキシトリチルチミ
ジン(担持量5マイクロモル/g、市販品)に塩化メチ
レン中3%トリクロロ酢酸を反応させて得たチミジンC
PGサポート(化合物〔■〕におけるR%は、CPGに
担持されたチミジン残基である。 5Qmg、 0.2
5マイクロモル)にジ−nブチル−3−ブチルスタンニ
ルベンゾトリアゾール(化合物(■) 、15.hg、
37.5マイクロモル)と4−ジメチルアミノピリジ
ン(化合物〔■〕、4.6+*g 、 37.5マイク
ロモル)の1,2−ジクロロエタン(0,05m1)溶
液を加え、直ちにR4−ベンゾイル−5”−〇−ジメト
キシトリチルデオキシシチジン−3°−0−(2−クロ
ロフェニルオキシ−2,5−ジメチルフェニルチオ)ホ
スフィン(化合物[1]におけるRtがR4−ベンゾイ
ル−5“−〇−ジメトキシトリチルデオキシシチジン残
基、R3が2−クロロフェニル基及びR4が2゜5−ジ
メチルフェニル基である。 7.hg 、 7.5マイ
クロモル)と2−アセチルアもノビリジン(化合物(1
) 、1.0 mg、 7.5マイクロモル)の1,2
−ジクロロエタン(0,05m1) 溶液を添加した〔
反応(4))。
ジン(担持量5マイクロモル/g、市販品)に塩化メチ
レン中3%トリクロロ酢酸を反応させて得たチミジンC
PGサポート(化合物〔■〕におけるR%は、CPGに
担持されたチミジン残基である。 5Qmg、 0.2
5マイクロモル)にジ−nブチル−3−ブチルスタンニ
ルベンゾトリアゾール(化合物(■) 、15.hg、
37.5マイクロモル)と4−ジメチルアミノピリジ
ン(化合物〔■〕、4.6+*g 、 37.5マイク
ロモル)の1,2−ジクロロエタン(0,05m1)溶
液を加え、直ちにR4−ベンゾイル−5”−〇−ジメト
キシトリチルデオキシシチジン−3°−0−(2−クロ
ロフェニルオキシ−2,5−ジメチルフェニルチオ)ホ
スフィン(化合物[1]におけるRtがR4−ベンゾイ
ル−5“−〇−ジメトキシトリチルデオキシシチジン残
基、R3が2−クロロフェニル基及びR4が2゜5−ジ
メチルフェニル基である。 7.hg 、 7.5マイ
クロモル)と2−アセチルアもノビリジン(化合物(1
) 、1.0 mg、 7.5マイクロモル)の1,2
−ジクロロエタン(0,05m1) 溶液を添加した〔
反応(4))。
室温で1分間振蕩反応させた後、反応液をG−4グラス
フイルターを通して炉別し、残留したCPGサポートを
3mlのピリジンで3回洗浄した。
フイルターを通して炉別し、残留したCPGサポートを
3mlのピリジンで3回洗浄した。
その後ピリジン/水(0,95創10.05m1)混合
物中のヨウ素(25,4s+g、 100マイクロモル
)を加え、室温で2分間振蕩反応させた0反応液はG−
4グラスフイルタ・−を通して濾別され、残ったCPG
サポートを3mlのピリジンで4回及び3−1の塩化メ
チレンで3回洗浄した。
物中のヨウ素(25,4s+g、 100マイクロモル
)を加え、室温で2分間振蕩反応させた0反応液はG−
4グラスフイルタ・−を通して濾別され、残ったCPG
サポートを3mlのピリジンで4回及び3−1の塩化メ
チレンで3回洗浄した。
そのサポートの一部のトリチルカチオンテストは98%
の収率で上記反応が進行していることを示した。この収
率は生成物の脱保護により生成した脱保護体のHPLC
分析により6!認された。
の収率で上記反応が進行していることを示した。この収
率は生成物の脱保護により生成した脱保護体のHPLC
分析により6!認された。
即ち、上記のCPGサポートに5yn−4−ニトロベン
ズアルドキシム(33,2mg、 200マイクロモル
)をp−ジオキサン(0,2m1)と水(0,2m1)
に溶解した溶液を加え室温で10時間反応させた。
ズアルドキシム(33,2mg、 200マイクロモル
)をp−ジオキサン(0,2m1)と水(0,2m1)
に溶解した溶液を加え室温で10時間反応させた。
この混合物を濾過し、濾液をfi縮し、残渣に80%酢
酸(1!u+1 )を加え、室温で30分間反応させた
。
酸(1!u+1 )を加え、室温で30分間反応させた
。
酢酸及び水を減圧留去し、残渣に水(1+ml)とエー
テル(5ml)を加え、脱保護体を水で抽出した。
テル(5ml)を加え、脱保護体を水で抽出した。
更に水層を5耐のエーテルで2回洗浄した後、その水層
のHPLC分析を行った結果、それはデオキシシチジン
とチミジンのダイマー(d(CpT)。
のHPLC分析を行った結果、それはデオキシシチジン
とチミジンのダイマー(d(CpT)。
(IV’) )とチミジン(dT)が約98:2の割合
で生成していることを示した(第1図)。
で生成していることを示した(第1図)。
実施例8〜11
化合物〔■〕として、R4−ベンゾイル−5゛0−ジメ
トキシトリチルデオキシシチジン−3゜0−(2−クロ
ロフェニルオキシ−2,5−ジメチルフェニルチオ)ホ
スフィン(R”がR4−ベンゾイル−5°−O−ジメト
キシトリチルデオキシシチジン残基、R3が2−クロロ
フェニル基及びR4が2.5−ジメチルフェニル基であ
る)、化合物〔■]としてジ−n−ブチル−5−ブチル
スタンニルベンゾトリアゾール、化合物〔■〕として4
−ジメチルアミノピリジン、化合物(II)として、チ
ミジンCPGサポート(5マイクロモル/g、市販品)
を用いて、実施例7と同様の実験を行い、表2に示す結
果を得た。
トキシトリチルデオキシシチジン−3゜0−(2−クロ
ロフェニルオキシ−2,5−ジメチルフェニルチオ)ホ
スフィン(R”がR4−ベンゾイル−5°−O−ジメト
キシトリチルデオキシシチジン残基、R3が2−クロロ
フェニル基及びR4が2.5−ジメチルフェニル基であ
る)、化合物〔■]としてジ−n−ブチル−5−ブチル
スタンニルベンゾトリアゾール、化合物〔■〕として4
−ジメチルアミノピリジン、化合物(II)として、チ
ミジンCPGサポート(5マイクロモル/g、市販品)
を用いて、実施例7と同様の実験を行い、表2に示す結
果を得た。
[発明の効果]
本発明は、ジオルガノオキシオルガノチオホスフィン化
合物とアルコール類とを反応させることにより、トリオ
ルガノホスファイト化合物を得る反応を促進する効果を
有する。
合物とアルコール類とを反応させることにより、トリオ
ルガノホスファイト化合物を得る反応を促進する効果を
有する。
特に、デオキシヌクレオシド−3’ −0−チオホスフ
ァイト化合物を出発原料として、反応(1)によりデオ
キシヌクレオシドホスファイト化合物を製造し、その後
酸化反応等を行った後、オリゴデオキシヌクレオチドを
製造する場合には、反応を促進する効果が顕著である。
ァイト化合物を出発原料として、反応(1)によりデオ
キシヌクレオシドホスファイト化合物を製造し、その後
酸化反応等を行った後、オリゴデオキシヌクレオチドを
製造する場合には、反応を促進する効果が顕著である。
第1図は、実施例7で製造されたオリゴデオキシヌクレ
オチド〔■゛〕の脱保護生成物の高速液体クロマトグラ
フィーの溶離曲線を示し、dTはチミジンを、d (C
p T)はデオキシシチジンとチミジンのダイマーをそ
れぞれ意味する。
オチド〔■゛〕の脱保護生成物の高速液体クロマトグラ
フィーの溶離曲線を示し、dTはチミジンを、d (C
p T)はデオキシシチジンとチミジンのダイマーをそ
れぞれ意味する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記一般式(1)で示されるトリオリガノホスファ
イト化合物の製造反応を促進する下記一般式〔 I 〕で
示される反応促進剤。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Zはアルキル基又はアルコキシ基の置換基を有す
ることがあり、ヘテロ原子として1〜3個の窒素原子、
酸素原子又はイオウ原子を有する単環又は二環式の複素
環式基を表す。R^1はアルキル基、アリール基、フリ
ル基、フルフリル基、ピリジル基又はチエニル基を表す
。〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ (上式中、R^2及びR^3は同一でも異なっていても
よいアルキル基又はアリール基であるか或いはR^2又
はR^3の一方は、5′−O,N−保護デオキシヌクレ
オシドの3′に位置する水酸基を除いた残基を表す。R
^4はアリール基を表す。R^5はアルキル基又はアリ
ール基、或いは3′−O,N−保護デオキシヌクレオシ
ドの5′に位置する水酸基を除いた残基又は3′−O,
N−保護デオキシヌクレオチドの5′に位置する水酸基
を除いた残基を表す。 Xはアゾリル基を表す。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1200310A JP2720536B2 (ja) | 1989-08-03 | 1989-08-03 | 反応促進剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1200310A JP2720536B2 (ja) | 1989-08-03 | 1989-08-03 | 反応促進剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0365243A true JPH0365243A (ja) | 1991-03-20 |
JP2720536B2 JP2720536B2 (ja) | 1998-03-04 |
Family
ID=16422190
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1200310A Expired - Lifetime JP2720536B2 (ja) | 1989-08-03 | 1989-08-03 | 反応促進剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2720536B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001139550A (ja) * | 1999-11-17 | 2001-05-22 | Shionogi & Co Ltd | アミド化合物の新規用途 |
US8106051B2 (en) | 2001-09-14 | 2012-01-31 | Shionogi & Co., Ltd. | Utilities of amide compounds |
US9694318B2 (en) | 2012-11-13 | 2017-07-04 | Mitsubishi Hitachi Power Systems, Ltd. | Catalyst structure for exhaust gas cleaning |
-
1989
- 1989-08-03 JP JP1200310A patent/JP2720536B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001139550A (ja) * | 1999-11-17 | 2001-05-22 | Shionogi & Co Ltd | アミド化合物の新規用途 |
US8106051B2 (en) | 2001-09-14 | 2012-01-31 | Shionogi & Co., Ltd. | Utilities of amide compounds |
US9694318B2 (en) | 2012-11-13 | 2017-07-04 | Mitsubishi Hitachi Power Systems, Ltd. | Catalyst structure for exhaust gas cleaning |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2720536B2 (ja) | 1998-03-04 |
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