JP2720536B2 - 反応促進剤 - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 (イ)発明の目的 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ジオルガノオキシオルガノチオホスフィン
化合物とアルコール類とを出発物質として、トリオルガ
ノホスファイト化合物を製造する、反応を促進させる化
合物に関するものである。
化合物とアルコール類とを出発物質として、トリオルガ
ノホスファイト化合物を製造する、反応を促進させる化
合物に関するものである。
先に、本発明者らは、下記一般式(1)に従って、ジ
オルガノオキシオルガノチオホスフィン化合物〔II〕と
アルコール類〔III〕とを反応させることにより、トリ
オルガノホスファイト化合物〔IV〕を得ることを提案し
た(特開昭63−39894)。
オルガノオキシオルガノチオホスフィン化合物〔II〕と
アルコール類〔III〕とを反応させることにより、トリ
オルガノホスファイト化合物〔IV〕を得ることを提案し
た(特開昭63−39894)。
(上式中、R2及びR3は同一でも異なっていてもよいアル
キル基又はアリール基であるか或いはR2又はR3の一方
が、5′−O,N−保護デオキシヌクレオシドの3′に位
置する水酸基を除いた残基を表す。R4はアリール基を表
す。R5はアルキル基又はアリール基、或いは3′−O,N
−保護デオキシヌクレオシドの5′に位置する水酸基を
除いた残基又は3′−O,N−保護デオキシヌクレオチド
の5′に位置する水酸基を除いた残基を表す。Xはアゾ
リル基を表す。) 上記反応(1)によってトリオルガノホスファイト化
合物〔IV〕を製造する場合の利点は、原料である化合物
〔II〕が安定であること及び化合物〔IV〕の収率が良好
であること等である。
キル基又はアリール基であるか或いはR2又はR3の一方
が、5′−O,N−保護デオキシヌクレオシドの3′に位
置する水酸基を除いた残基を表す。R4はアリール基を表
す。R5はアルキル基又はアリール基、或いは3′−O,N
−保護デオキシヌクレオシドの5′に位置する水酸基を
除いた残基又は3′−O,N−保護デオキシヌクレオチド
の5′に位置する水酸基を除いた残基を表す。Xはアゾ
リル基を表す。) 上記反応(1)によってトリオルガノホスファイト化
合物〔IV〕を製造する場合の利点は、原料である化合物
〔II〕が安定であること及び化合物〔IV〕の収率が良好
であること等である。
反応(1)において、R2及びR3がアルキル基或はアリ
ール基の場合には、1回の反応は比較的速やかに進行
し、化合物〔IV〕を好収率で得ることができる場合もあ
るが、反応を繰り返し行う場合には、反応回数が多くな
るにつれて、長い反応時間を必要とする傾向がある。
ール基の場合には、1回の反応は比較的速やかに進行
し、化合物〔IV〕を好収率で得ることができる場合もあ
るが、反応を繰り返し行う場合には、反応回数が多くな
るにつれて、長い反応時間を必要とする傾向がある。
また、一般に化合物〔II〕としてデオキシヌクレオシ
ド−3′−O−チオホスファイト化合物(R2或はR3が、
デオキシヌクレオシドの3′に位置する水酸基を除いた
残基である場合)を用い、デオキシヌクレオシドホスフ
ァイト化合物を製造した後、酸化反応等を行い、オリゴ
デオキシヌクレオチドを製造する場合には、1回の反応
を行うのに比較的長い反応時間を必要とするうえ、反応
を繰り返し行う必要があるので、全工程を完結させるの
に更に長時間を要するため、反応(1)の反応時間を短
縮化することが望まれている。
ド−3′−O−チオホスファイト化合物(R2或はR3が、
デオキシヌクレオシドの3′に位置する水酸基を除いた
残基である場合)を用い、デオキシヌクレオシドホスフ
ァイト化合物を製造した後、酸化反応等を行い、オリゴ
デオキシヌクレオチドを製造する場合には、1回の反応
を行うのに比較的長い反応時間を必要とするうえ、反応
を繰り返し行う必要があるので、全工程を完結させるの
に更に長時間を要するため、反応(1)の反応時間を短
縮化することが望まれている。
本発明者らは、上記反応(1)を促進させる化合物を
提供することを課題とする。
提供することを課題とする。
(ロ)発明の構成 〔課題を解決するための手段〕 本発明者らは上記の課題を解決すべく鋭意研究した結
果、化合物〔I〕が有効であることを見出し、本発明を
完成するに至った。
果、化合物〔I〕が有効であることを見出し、本発明を
完成するに至った。
即ち、本発明は、下記一般式(1)で示されるトリオ
リガノホスファイト化合物の製造反応を促進する下記一
般式〔I〕で示される反応促進剤である。
リガノホスファイト化合物の製造反応を促進する下記一
般式〔I〕で示される反応促進剤である。
〔式中Zはアルキル基又はアルコキシ基の置換基を有す
ることがあり、ヘテロ原子として1〜3個の窒素原子、
酸素原子又はイオウ原子を有する単環又は二環式の複素
環式基を表す。R1はアルキル基、アリール基、フリル
基、フルフリル基、ピリジル基又はチエニル基を表
す。〕 (上式中、R2及びR3は同一でも異なっていてもよいアル
キル基又はアリール基であるか或いはR2又はR3の一方
が、5′−O,N−保護デオキシヌクレオシドの3′に位
置する水酸基を除いた残基を表す。R4はアリール基を表
す。R5はアルキル基又はアリール基、或いは3′−O,N
−保護デオキシヌクレオシドの5′に位置する水酸基を
除いた残基又は3′−O,N−保護デオキシヌクレオチド
の5′に位置する水酸基を除いた残基を表す。Xはアゾ
リル基を表す。) 以下、本発明を詳細に説明する。
ることがあり、ヘテロ原子として1〜3個の窒素原子、
酸素原子又はイオウ原子を有する単環又は二環式の複素
環式基を表す。R1はアルキル基、アリール基、フリル
基、フルフリル基、ピリジル基又はチエニル基を表
す。〕 (上式中、R2及びR3は同一でも異なっていてもよいアル
キル基又はアリール基であるか或いはR2又はR3の一方
が、5′−O,N−保護デオキシヌクレオシドの3′に位
置する水酸基を除いた残基を表す。R4はアリール基を表
す。R5はアルキル基又はアリール基、或いは3′−O,N
−保護デオキシヌクレオシドの5′に位置する水酸基を
除いた残基又は3′−O,N−保護デオキシヌクレオチド
の5′に位置する水酸基を除いた残基を表す。Xはアゾ
リル基を表す。) 以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の反応促進剤は前記一般式〔I〕で示される化
合物であり、複素環式基であるZとしては、ピリジル
基、2−メチルピリジル基、3−メチルピリジル基、4
−メチルピリジル基、キノリル基、ピリミジル基、ピラ
ゾリル基及びピラジニル基等の含窒素複素環式基、フリ
ル基等の含酸素複素環式基、チアゾリル基等の含イオウ
複素環式基等を挙げることができ、これらのうちで、ど
の複素環式基を用いるかについて特に限定はないが、化
合物〔I〕の製造原料として用いることができる一般式
〔V〕で示されるアミノ化合物が、容易に入手できるも
のか否かにより判断すると、ピリジル基、2−メチルピ
リジル基、3−メチルピリジル基、4−メチルピリジル
基、キノリル基及びフリル基等が好ましい。
合物であり、複素環式基であるZとしては、ピリジル
基、2−メチルピリジル基、3−メチルピリジル基、4
−メチルピリジル基、キノリル基、ピリミジル基、ピラ
ゾリル基及びピラジニル基等の含窒素複素環式基、フリ
ル基等の含酸素複素環式基、チアゾリル基等の含イオウ
複素環式基等を挙げることができ、これらのうちで、ど
の複素環式基を用いるかについて特に限定はないが、化
合物〔I〕の製造原料として用いることができる一般式
〔V〕で示されるアミノ化合物が、容易に入手できるも
のか否かにより判断すると、ピリジル基、2−メチルピ
リジル基、3−メチルピリジル基、4−メチルピリジル
基、キノリル基及びフリル基等が好ましい。
Z−NH2 〔V〕 (式中、Zは前記と同じ意味を表す。) 又、R1としては、メチル基、エチル基等のアルキル
基、フェニル基、トリル基等のアリール基或はピリジル
基、フリル基、チエニル基等の複素環式基を挙げること
ができる。これらのうちで、どのR1を用いるかについて
特に限定はないが、化合物〔I〕の単離及び精製の容易
さから判断すると、メチル基、フェニル基、フリル基及
びチエニル基等が好ましい。化合物〔I〕の具体例とし
て、例えば2−アセチルアミノピリジン、2−ベンゾイ
ルアミノピリジン、2−プロピオニルアミノピリジン、
N−2−ピリジニル−2−フランカルボキサミド、N−
(3−メチル−2−ピリジニル)−2−フランカルボキ
シアミド、N−(4−メチル−2−ピリジニル)−2−
フランカルボキサミド、N−(5−メチル−2−ピリジ
ニル)−2−フランカルボキサミド、N−2−ピリジニ
ル−2−チオフェンカルボキサミド、N−2−ピリジニ
ル−2−ピリジンカルボキサミド、8−アセチルアミノ
キノリン、2−アセチルアミノフラン、2−アセチルア
ミノ−1,3−チアゾール及び2−アセチルアミノピラジ
ン等がある。
基、フェニル基、トリル基等のアリール基或はピリジル
基、フリル基、チエニル基等の複素環式基を挙げること
ができる。これらのうちで、どのR1を用いるかについて
特に限定はないが、化合物〔I〕の単離及び精製の容易
さから判断すると、メチル基、フェニル基、フリル基及
びチエニル基等が好ましい。化合物〔I〕の具体例とし
て、例えば2−アセチルアミノピリジン、2−ベンゾイ
ルアミノピリジン、2−プロピオニルアミノピリジン、
N−2−ピリジニル−2−フランカルボキサミド、N−
(3−メチル−2−ピリジニル)−2−フランカルボキ
シアミド、N−(4−メチル−2−ピリジニル)−2−
フランカルボキサミド、N−(5−メチル−2−ピリジ
ニル)−2−フランカルボキサミド、N−2−ピリジニ
ル−2−チオフェンカルボキサミド、N−2−ピリジニ
ル−2−ピリジンカルボキサミド、8−アセチルアミノ
キノリン、2−アセチルアミノフラン、2−アセチルア
ミノ−1,3−チアゾール及び2−アセチルアミノピラジ
ン等がある。
本発明の反応促進剤は、例えば反応(2)に示すよう
に、アミン類(化合物〔V〕)と酸クロリド(化合物
〔VI〕)とをベンゼン等の溶媒中で反応させることによ
り、容易に製造することができる〔イズベスト アカド
ナウク アルミアン エスエスエル セル キム ナ
ウク(Izvest.Akad.Nauk Armyan.S.S.R.,Ser Khim.Nau
k)10,143(1957),CA 52,4641(1958)参照〕。この際
に、ピリジン等の塩基を存在させてもよい。
に、アミン類(化合物〔V〕)と酸クロリド(化合物
〔VI〕)とをベンゼン等の溶媒中で反応させることによ
り、容易に製造することができる〔イズベスト アカド
ナウク アルミアン エスエスエル セル キム ナ
ウク(Izvest.Akad.Nauk Armyan.S.S.R.,Ser Khim.Nau
k)10,143(1957),CA 52,4641(1958)参照〕。この際
に、ピリジン等の塩基を存在させてもよい。
(式中Z及びR1は、前記と同じ意味を表す。) 次に化合物〔I〕を、反応(1)の反応促進剤として
使用する方法について説明する。
使用する方法について説明する。
反応(1)におけるR2、R3、R4及びR5については、特
開昭63−39894において記載されたトリオリガノホスフ
ァイト化合物の製造反応の場合と同様であり、具体的に
は以下に示す通りである。
開昭63−39894において記載されたトリオリガノホスフ
ァイト化合物の製造反応の場合と同様であり、具体的に
は以下に示す通りである。
R2及びR3:同一でも異なっていてもよいアルキル基又は
アリール基であるか或いはR2又はR3の一方が、5′−O,
N−保護デオキシヌクレオシドの3′に位置する水酸基
を除いた残基を表す。更に具体的に示せば、メチル基、
エチル基;フェニル基、2−クロロフェニル基;N4−ベ
ンゾイル−5′−O−ジメトキシトリチルデオキシシチ
ジン残基、6−O−ジフェニルカルバモイル−2−N−
プロピオニル−5′−O−ジメトキシトリチル−2′−
デオキシグアノシン残基及び6−N,N−ジベンゾイル−
5′−O−ジメトキシトリチル−2′−デオキシアデノ
シン残基等を表す。
アリール基であるか或いはR2又はR3の一方が、5′−O,
N−保護デオキシヌクレオシドの3′に位置する水酸基
を除いた残基を表す。更に具体的に示せば、メチル基、
エチル基;フェニル基、2−クロロフェニル基;N4−ベ
ンゾイル−5′−O−ジメトキシトリチルデオキシシチ
ジン残基、6−O−ジフェニルカルバモイル−2−N−
プロピオニル−5′−O−ジメトキシトリチル−2′−
デオキシグアノシン残基及び6−N,N−ジベンゾイル−
5′−O−ジメトキシトリチル−2′−デオキシアデノ
シン残基等を表す。
R4:アリール基を表し、更に具体的に示せば、2,5−ジメ
チルフェニル基、フェニル基、2,4,6−トリメチルフェ
ニル基、2−クロロフェニル基、4−ニトロフェニル基
及びα−ナフチル基等を表す。
チルフェニル基、フェニル基、2,4,6−トリメチルフェ
ニル基、2−クロロフェニル基、4−ニトロフェニル基
及びα−ナフチル基等を表す。
R5:アルキル基又はアリール基、或いは3′−0,N−保護
デオキシヌクレオシドの5′に位置する水酸基を除いた
残基又は3′−0,N−保護デオキシヌクレオチドの5′
に位置する水酸基を除いた残基を表す。更に具体的に示
せば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロ
ピル基、n−ブチル基等;フェニル基、4−メチルフェ
ニル基等;N4−ベンゾイル−3′−0−レブリニル−
2′−デオキシシチジン残基、6−N,N−ジベンゾイル
−3′−O−t−ブチルジメチルシリル−2′−デオキ
シアデノシン残基及びp−2−クロロフェニル−(3′
→5′)−3′−O−ベンゾイルチミジンの5′に位置
する水酸基を除いた残基等を表す。
デオキシヌクレオシドの5′に位置する水酸基を除いた
残基又は3′−0,N−保護デオキシヌクレオチドの5′
に位置する水酸基を除いた残基を表す。更に具体的に示
せば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロ
ピル基、n−ブチル基等;フェニル基、4−メチルフェ
ニル基等;N4−ベンゾイル−3′−0−レブリニル−
2′−デオキシシチジン残基、6−N,N−ジベンゾイル
−3′−O−t−ブチルジメチルシリル−2′−デオキ
シアデノシン残基及びp−2−クロロフェニル−(3′
→5′)−3′−O−ベンゾイルチミジンの5′に位置
する水酸基を除いた残基等を表す。
化合物〔I〕と化合物〔II〕のモル比は、50〜1:1の
範囲が好ましいが、経済面を考慮すると、化合物〔I〕
を大過剰に用いるより、10〜1:1の範囲とするのがより
好ましい。
範囲が好ましいが、経済面を考慮すると、化合物〔I〕
を大過剰に用いるより、10〜1:1の範囲とするのがより
好ましい。
反応(1)は前掲の特開昭63−39894号公報に記載さ
れているように、トリアルキルスタンニルアゾール化合
物〔VII〕及び塩基〔VIII〕の存在下で、行わせること
が望ましく、この反応は、有機溶媒中で速やかに進行す
る。かかる溶媒としてはクロロホルム、塩化メチレン、
1,2−ジクロロエタン、ベンゼン及びピリジン等を挙げ
ることができる。これら有機溶媒は、その中に水が混在
すると、それがアルコール類〔III〕と競争的に反応
し、化合物〔IV〕の収率を低下させるので、使用前に適
当な乾燥剤で十分に乾燥後、蒸留精製したものを用いた
方がよい。
れているように、トリアルキルスタンニルアゾール化合
物〔VII〕及び塩基〔VIII〕の存在下で、行わせること
が望ましく、この反応は、有機溶媒中で速やかに進行す
る。かかる溶媒としてはクロロホルム、塩化メチレン、
1,2−ジクロロエタン、ベンゼン及びピリジン等を挙げ
ることができる。これら有機溶媒は、その中に水が混在
すると、それがアルコール類〔III〕と競争的に反応
し、化合物〔IV〕の収率を低下させるので、使用前に適
当な乾燥剤で十分に乾燥後、蒸留精製したものを用いた
方がよい。
上記のトリアルキルスタンニルアゾール化合物〔VI
I〕は下式〔VII〕で、また塩基〔VIII〕は下式〔VIII〕
で表される。
I〕は下式〔VII〕で、また塩基〔VIII〕は下式〔VIII〕
で表される。
R6 3SnX 〔VII〕,R7NR8 2 〔VIII〕 上式におけるR6、R7及びR8は各々以下の基を表す。
R6:アルキル基を表し、更に具体的に示せば、メチル
基、エチル基、n−プロピル基及びn−ブチル基等の第
一級アルキル基;i−プロピル基及びs−ブチル基等の第
二級アルキル基;t−ブチル基等の第三級アルキル基等を
表す。
基、エチル基、n−プロピル基及びn−ブチル基等の第
一級アルキル基;i−プロピル基及びs−ブチル基等の第
二級アルキル基;t−ブチル基等の第三級アルキル基等を
表す。
R7:水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、更に
具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i
−プロピル基、n−ブチル基;フェニル基、4−メチル
フェニル基等を表す。
具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i
−プロピル基、n−ブチル基;フェニル基、4−メチル
フェニル基等を表す。
R8:アルキル基又は2個のR8が隣接する窒素原子ととも
にヘテロ原子として、1乃至2個の窒素原子、酸素原子
又はイオウ原子を含有してもよい複素環式基の残基を表
すか、或いはR7と2個のR8が隣接する窒素原子とともに
ヘテロ原子として、1乃至2個の窒素原子、酸素原子又
はイオウ原子を含有してもよい複素環の残基を表す。更
に具体的に示せば、アルキル基として、メチル基、エチ
ル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基
等を表し;2個のR8が隣接する窒素原子とともにヘテロ原
子として、1乃至2個の窒素原子、酸素原子又はイオウ
原子を含有してもよい複素環式基として、ピペリジノ
基、2,6−ジメチルピペリジノ基、ピロリル基、モルホ
リノ基、チオモルホリノ基、イミダゾリル基、2−メチ
ルイミダゾリル基、ベンズイミダゾリル基、1,2,4−ト
リアゾリル基、3−メチル−1,2,4−トリアゾリル基等
を表し;R7と2個のR8が隣接する窒素原子とともにヘテ
ロ原子として、1乃至2個の窒素原子、酸素原子又はイ
オウ原子を含有してもよい複素環として、ピリジン、2,
6−ジメチルピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、
オキサゾール、チアゾール、ピリミジン、ピラジン、キ
ノリン及びs−トリアジン等を表す。
にヘテロ原子として、1乃至2個の窒素原子、酸素原子
又はイオウ原子を含有してもよい複素環式基の残基を表
すか、或いはR7と2個のR8が隣接する窒素原子とともに
ヘテロ原子として、1乃至2個の窒素原子、酸素原子又
はイオウ原子を含有してもよい複素環の残基を表す。更
に具体的に示せば、アルキル基として、メチル基、エチ
ル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基
等を表し;2個のR8が隣接する窒素原子とともにヘテロ原
子として、1乃至2個の窒素原子、酸素原子又はイオウ
原子を含有してもよい複素環式基として、ピペリジノ
基、2,6−ジメチルピペリジノ基、ピロリル基、モルホ
リノ基、チオモルホリノ基、イミダゾリル基、2−メチ
ルイミダゾリル基、ベンズイミダゾリル基、1,2,4−ト
リアゾリル基、3−メチル−1,2,4−トリアゾリル基等
を表し;R7と2個のR8が隣接する窒素原子とともにヘテ
ロ原子として、1乃至2個の窒素原子、酸素原子又はイ
オウ原子を含有してもよい複素環として、ピリジン、2,
6−ジメチルピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、
オキサゾール、チアゾール、ピリミジン、ピラジン、キ
ノリン及びs−トリアジン等を表す。
反応(1)は、0℃〜35℃の範囲で行わせることが望
ましい。
ましい。
反応系(1)に化合物〔I〕を添加する方法について
は、特に限定はなく、例えば、予め化合物〔II〕に加え
ておく、化合物〔VII〕と化合物〔VIII〕に加えてお
く、或は化合物〔II〕、化合物〔VII〕及び化合物〔VII
I〕の混合液中に加える等、何れの方法により行っても
よい。
は、特に限定はなく、例えば、予め化合物〔II〕に加え
ておく、化合物〔VII〕と化合物〔VIII〕に加えてお
く、或は化合物〔II〕、化合物〔VII〕及び化合物〔VII
I〕の混合液中に加える等、何れの方法により行っても
よい。
以上の条件に従って反応を行えば、化合物〔I〕と化
合物〔II〕のモル比或は化合物〔II〕及び化合物〔II
I〕の有機基R2、R3及びR5により異なるが、反応は概し
て1時間以内で終結する。しかし、実際に反応を行う場
合には、H1NMR等により反応の終結を確認した方がよ
い。
合物〔II〕のモル比或は化合物〔II〕及び化合物〔II
I〕の有機基R2、R3及びR5により異なるが、反応は概し
て1時間以内で終結する。しかし、実際に反応を行う場
合には、H1NMR等により反応の終結を確認した方がよ
い。
本発明の反応促進剤〔I〕を反応系(1)に加え、ト
リオルガノホスフアイト化合物〔IV〕を製造した後、こ
れの単離及び精製を行う場合には、反応の終結をH1NM
R、ガスクロマトグラフィー或いは薄層クロマトグラフ
ィー等により確認した後、反応溶液を飽和食塩水等で洗
浄し、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、分別蒸留或はク
ロマトグラフィー等を用いて行うとよい。
リオルガノホスフアイト化合物〔IV〕を製造した後、こ
れの単離及び精製を行う場合には、反応の終結をH1NM
R、ガスクロマトグラフィー或いは薄層クロマトグラフ
ィー等により確認した後、反応溶液を飽和食塩水等で洗
浄し、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、分別蒸留或はク
ロマトグラフィー等を用いて行うとよい。
又、反応系(1)に反応促進剤〔I〕を添加し、トリ
オルガノホスファイト化合物〔IV〕を製造した後、これ
を単離及び精製せずに、次の反応等を行うことができ
る。例えば、化合物〔II〕でR2或は3の一方がアルキル
基或はアリール基で、その他方が5′−O,N−保護デオ
キシヌクレオシドの3′に位置する水酸基を除いた残基
で、更に化合物〔IV〕のR5が、3′−O,N−保護デオキ
シヌクレオシドの5′に位置する水酸基を除いた残基の
場合には、反応系(1)に化合物〔I〕を添加し、化合
物〔IV〕とした後、単離せずに、ヨウ素水を加え、酸化
反応を行わせることができる。
オルガノホスファイト化合物〔IV〕を製造した後、これ
を単離及び精製せずに、次の反応等を行うことができ
る。例えば、化合物〔II〕でR2或は3の一方がアルキル
基或はアリール基で、その他方が5′−O,N−保護デオ
キシヌクレオシドの3′に位置する水酸基を除いた残基
で、更に化合物〔IV〕のR5が、3′−O,N−保護デオキ
シヌクレオシドの5′に位置する水酸基を除いた残基の
場合には、反応系(1)に化合物〔I〕を添加し、化合
物〔IV〕とした後、単離せずに、ヨウ素水を加え、酸化
反応を行わせることができる。
以下、実施例によって、本発明を更に具体的に説明す
る。なお、本明細書において使用する略号の意味は以下
の通りである。
る。なお、本明細書において使用する略号の意味は以下
の通りである。
Me;メチル基、Et;エチル基、n−Bu;n−ブチル基、S−
Bu;S−ブチル基、DMTr:4,4′−ジメトキシトリチル基、
T;チミン残基、C;シトシン残基、Cbz;N4−ベンゾイルシ
トシン残基、CPG;コントロールド・ポア・グラス。
Bu;S−ブチル基、DMTr:4,4′−ジメトキシトリチル基、
T;チミン残基、C;シトシン残基、Cbz;N4−ベンゾイルシ
トシン残基、CPG;コントロールド・ポア・グラス。
実施例1 5ミリモルのN−(2−ピリジル)−2′−フランカ
ルボキサミド(化合物〔I〕におけるZが2−ピリジル
基、R1が2−フリル基である)と5ミリモルの2−クロ
ロフェニルオキシ−エチルオキシ−2,5−ジメチルフェ
ニルチオホスフィン(化合物〔II〕におけるR2が2−ク
ロロフェニル基、R3がエチル基、R4が2,5−ジメチルフ
ェニル基である)の重クロロホルム溶液をまず調製し
た。
ルボキサミド(化合物〔I〕におけるZが2−ピリジル
基、R1が2−フリル基である)と5ミリモルの2−クロ
ロフェニルオキシ−エチルオキシ−2,5−ジメチルフェ
ニルチオホスフィン(化合物〔II〕におけるR2が2−ク
ロロフェニル基、R3がエチル基、R4が2,5−ジメチルフ
ェニル基である)の重クロロホルム溶液をまず調製し
た。
この溶液に、5ミリモルのトリ−n−ブチルスタンニ
ルベンゾトリアゾール(化合物〔VII〕におけるR6がn
−ブチル基及びXがベンゾトリアゾリル基である)と5
ミリモルの4−ジメチルアミノピリジン(化合物〔VII
I〕におけるR7が2−ピリジル基及びR8がメチル基であ
る)の重クロロホルム溶液を室温で加え、その後この混
合液に5ミリモルのメタノール(化合物〔III〕におけ
るR5がメチル基である)を室温で添加した。
ルベンゾトリアゾール(化合物〔VII〕におけるR6がn
−ブチル基及びXがベンゾトリアゾリル基である)と5
ミリモルの4−ジメチルアミノピリジン(化合物〔VII
I〕におけるR7が2−ピリジル基及びR8がメチル基であ
る)の重クロロホルム溶液を室温で加え、その後この混
合液に5ミリモルのメタノール(化合物〔III〕におけ
るR5がメチル基である)を室温で添加した。
この混合液のH1NMRスペクトルを測定すると、反応は3
0分で終了することが認められた。
0分で終了することが認められた。
一方、N−(2−ピリジル)−2′−フランカルボキ
サミドを添加しない系で、同様の実験を行うと反応終結
時間は3時間であることが認められた。
サミドを添加しない系で、同様の実験を行うと反応終結
時間は3時間であることが認められた。
実施例2 トリ−n−ブチルスタンニルベンゾトリアゾール(化
合物〔VII〕、2.04g,5ミリモル)と4−ジメチルアミノ
ピリジン(化合物〔VIII〕、0.61g,5ミリモル)を重ク
ロロホルム(5ml)に溶解し、これにエチル−2−クロ
ロフェニル−2,5−ジメチルフテェルチオホスファイト
(化合物〔II〕、1.70,5ミリモル)と2−アセチルアミ
ノピリジン(化合物〔I〕におけるZは2−ピリジル
基、R1はメチル基である、0.68g,5ミリモル)の重クロ
ロホルム(5ml)溶液を室温で加えた。
合物〔VII〕、2.04g,5ミリモル)と4−ジメチルアミノ
ピリジン(化合物〔VIII〕、0.61g,5ミリモル)を重ク
ロロホルム(5ml)に溶解し、これにエチル−2−クロ
ロフェニル−2,5−ジメチルフテェルチオホスファイト
(化合物〔II〕、1.70,5ミリモル)と2−アセチルアミ
ノピリジン(化合物〔I〕におけるZは2−ピリジル
基、R1はメチル基である、0.68g,5ミリモル)の重クロ
ロホルム(5ml)溶液を室温で加えた。
その後、メタノール(化合物〔III〕、0.2ml,5ミリモ
ル)を室温で添加し、撹拌した〔反応(3)〕。
ル)を室温で添加し、撹拌した〔反応(3)〕。
反応開始より30分後、反応溶液のH1NMRスペクトルは
エチルメチル−2−クロロフェニルホスフアイト(化合
物〔IV〕)が85%収率で生成していることを示した。
エチルメチル−2−クロロフェニルホスフアイト(化合
物〔IV〕)が85%収率で生成していることを示した。
その後、反応液を30mlの飽和食塩水に加え、有機層を
30mlのジエチルエーテルで2回抽出した。有機層を無水
硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。
30mlのジエチルエーテルで2回抽出した。有機層を無水
硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、
メタノール−クロロホルム(1:10)の溶媒で展開した
後、化合物〔IV〕を含むフラクションをとり、溶媒を減
圧留去し、エチルメチル−2−クロロフェニルホスフア
イト〔IV〕(0.2mmHgにおける沸点が73−74℃である)
を0.82g(70%)得た。
メタノール−クロロホルム(1:10)の溶媒で展開した
後、化合物〔IV〕を含むフラクションをとり、溶媒を減
圧留去し、エチルメチル−2−クロロフェニルホスフア
イト〔IV〕(0.2mmHgにおける沸点が73−74℃である)
を0.82g(70%)得た。
以上のようにして得た化合物〔IV〕のH1NMRスペクト
ルは、以下のようであった(但し、標準物質:CDCl3,TM
S)。
ルは、以下のようであった(但し、標準物質:CDCl3,TM
S)。
δ:1.32ppm〔t,3H,J=7.5Hz,(CH 3CH2O)P−〕, 3.68ppm〔d,3H,J=10.0Hz,(CH 3O)P−〕, 3.85−4.35ppm〔m,2H,(CH3CH 2O)P−〕, 6.80−7.55ppm〔m,4H,(O−ClC6 H 4O)P−〕 実施例3〜6 化合物〔II〕として、エチル−2−クロロフェニル−
2,5−ジメチルフェニルチオホスファイト、化合物〔VI
I〕として、トリ−n−ブチルスタンニルベンゾトリア
ゾール、化合物〔VIII〕として4−ジメチルアミノピリ
ジン、化合物〔III〕として、メタノール及び化合物
〔I〕として下記の表1に示す構造式の化合物を用い
て、実施例2と同様の実験を行い、表1に示す結果を得
た。
2,5−ジメチルフェニルチオホスファイト、化合物〔VI
I〕として、トリ−n−ブチルスタンニルベンゾトリア
ゾール、化合物〔VIII〕として4−ジメチルアミノピリ
ジン、化合物〔III〕として、メタノール及び化合物
〔I〕として下記の表1に示す構造式の化合物を用い
て、実施例2と同様の実験を行い、表1に示す結果を得
た。
実施例7 CPGに担持された5′−O−ジメトキシトリチルチミ
ジン(担持量5マイクロモル/g,市販品)に塩化メチレ
ン中3%トリクロロ酢酸を反応させて得たチミジンCPG
サポート(化合物〔III〕におけるR5は、CPGに担持され
たチミジン残基である。50mg,0.25マイクロモル)にジ
−n−ブチル−s−ブチルスタンニルベンゾトリアゾー
ル(化合物〔VII〕、15.3mg,37.5マイクロモル)と4−
ジメチルアミノピリジン(化合物〔VIII〕、4.6mg,37.5
マイクロモル)の1,2−ジクロロエタン(0.05ml)溶液
を加え、直ちにN4−ベンゾイル−5′−O−ジメトキシ
トリチルデオキシシチジン−3′−O−(2−クロロフ
ェニルオキシ−2,5−ジメチルフェニルチオ)ホスフィ
ン(化合物[II]におけるR2がN4−ベンゾイル−5′−
O−ジメトキシトリチルデオキシシチジン残基、R3が2
−クロロフェニル基及びR4が2,5−ジメチルフェニル基
である。7.0mg,7.5マイクロモル)と2−アセチルアミ
ノピリジン(化合物〔I〕、1.0mg,7.5マイクロモル)
の1,2−ジクロロエタン(0.05ml)溶液を添加した〔反
応(4)〕。
ジン(担持量5マイクロモル/g,市販品)に塩化メチレ
ン中3%トリクロロ酢酸を反応させて得たチミジンCPG
サポート(化合物〔III〕におけるR5は、CPGに担持され
たチミジン残基である。50mg,0.25マイクロモル)にジ
−n−ブチル−s−ブチルスタンニルベンゾトリアゾー
ル(化合物〔VII〕、15.3mg,37.5マイクロモル)と4−
ジメチルアミノピリジン(化合物〔VIII〕、4.6mg,37.5
マイクロモル)の1,2−ジクロロエタン(0.05ml)溶液
を加え、直ちにN4−ベンゾイル−5′−O−ジメトキシ
トリチルデオキシシチジン−3′−O−(2−クロロフ
ェニルオキシ−2,5−ジメチルフェニルチオ)ホスフィ
ン(化合物[II]におけるR2がN4−ベンゾイル−5′−
O−ジメトキシトリチルデオキシシチジン残基、R3が2
−クロロフェニル基及びR4が2,5−ジメチルフェニル基
である。7.0mg,7.5マイクロモル)と2−アセチルアミ
ノピリジン(化合物〔I〕、1.0mg,7.5マイクロモル)
の1,2−ジクロロエタン(0.05ml)溶液を添加した〔反
応(4)〕。
室温で1分間振蕩反応させた後、反応液をG−4グラ
スフィルターを通して炉別し、残留したCPGサポートを3
mlのピリジンで3回洗浄した。
スフィルターを通して炉別し、残留したCPGサポートを3
mlのピリジンで3回洗浄した。
その後ピリジン/水(0.95ml/0.05ml)混合物中のヨ
ウ素(25.4mg,100マイクロモル)を加え、室温で2分間
振蕩反応させた。反応液はG−4グラスフィルターを通
して濾別され、残ったCPGサポートを3mlのピリジンで4
回及び3mlの塩化メチレンで3回洗浄した。
ウ素(25.4mg,100マイクロモル)を加え、室温で2分間
振蕩反応させた。反応液はG−4グラスフィルターを通
して濾別され、残ったCPGサポートを3mlのピリジンで4
回及び3mlの塩化メチレンで3回洗浄した。
そのサポートの一部のトリチルカチオンテストは98%
の収率で上記反応が進行していることを示した。この収
率は生成物の脱保護により生成した脱保護体のHPLC分析
により確認された。
の収率で上記反応が進行していることを示した。この収
率は生成物の脱保護により生成した脱保護体のHPLC分析
により確認された。
即ち、上記のCPGサポートにsyn−4−ニトロベンズア
ルドキシム(33.2mg,200マイクロモル)をp−ジオキサ
ン(0.2ml)と水(0.2ml)に溶解した溶液を加え室温で
10時間反応させた。この混合物を濾過し、濾液を濃縮
し、残渣に80%酢酸(15ml)を加え、室温で30分間反応
させた。酢酸及び水を減圧留去し、残渣に水(1ml)と
エーテル(5ml)を加え、脱保護体を水で抽出した。更
に水層を5mlのエーテルで2回洗浄した後、その水層のH
PLC分析を行った結果、それはデオキシシチジンとチミ
ジンのダイマー〔d(CpT),〔IV′〕〕とチミジン〔d
T〕が約98:2の割合で生成していることを示した(第1
図)。
ルドキシム(33.2mg,200マイクロモル)をp−ジオキサ
ン(0.2ml)と水(0.2ml)に溶解した溶液を加え室温で
10時間反応させた。この混合物を濾過し、濾液を濃縮
し、残渣に80%酢酸(15ml)を加え、室温で30分間反応
させた。酢酸及び水を減圧留去し、残渣に水(1ml)と
エーテル(5ml)を加え、脱保護体を水で抽出した。更
に水層を5mlのエーテルで2回洗浄した後、その水層のH
PLC分析を行った結果、それはデオキシシチジンとチミ
ジンのダイマー〔d(CpT),〔IV′〕〕とチミジン〔d
T〕が約98:2の割合で生成していることを示した(第1
図)。
実施例8〜11 化合物〔II〕として、N4−ベンゾイル−5′−O−ジ
メトキシトリチルデオキシシチジン−3′−O−(2−
クロロフェニルオキシ−2,5−ジメチルフェニルチオ)
ホスフィン(R2がN4−ベンゾイル−5′−O−ジメトキ
シトリチルデオキシシチジン残基、R3が2−クロロフェ
ニル基及びR4が2,5−ジメチルフェニル基である)、化
合物〔VII〕としてジ−n−ブチル−s−ブチルスタン
ニルベンゾトリアゾール、化合物〔VIII〕として4−ジ
メチルアミノピリジン、化合物〔III〕として、チミジ
ンCPGサポート(5マイクロモル/g,市販品)を用いて、
実施例7と同様の実験を行い、表2に示す結果を得た。
メトキシトリチルデオキシシチジン−3′−O−(2−
クロロフェニルオキシ−2,5−ジメチルフェニルチオ)
ホスフィン(R2がN4−ベンゾイル−5′−O−ジメトキ
シトリチルデオキシシチジン残基、R3が2−クロロフェ
ニル基及びR4が2,5−ジメチルフェニル基である)、化
合物〔VII〕としてジ−n−ブチル−s−ブチルスタン
ニルベンゾトリアゾール、化合物〔VIII〕として4−ジ
メチルアミノピリジン、化合物〔III〕として、チミジ
ンCPGサポート(5マイクロモル/g,市販品)を用いて、
実施例7と同様の実験を行い、表2に示す結果を得た。
[発明の効果] 本発明は、ジオルガノオキシオルガノチオホスフィン
化合物とアルコール類とを反応させることにより、トリ
オルガノホスファイト化合物を得る反応を促進する効果
を有する。
化合物とアルコール類とを反応させることにより、トリ
オルガノホスファイト化合物を得る反応を促進する効果
を有する。
特に、デオキシヌクレオシド−3′−O−チオホスフ
ァイト化合物を出発原料として、反応(1)によりデオ
キシヌクレオシドホスファイト化合物を製造し、その後
酸化反応等を行った後、オリゴデオキシヌクレオチドを
製造する場合には、反応を促進する効果が顕著である。
ァイト化合物を出発原料として、反応(1)によりデオ
キシヌクレオシドホスファイト化合物を製造し、その後
酸化反応等を行った後、オリゴデオキシヌクレオチドを
製造する場合には、反応を促進する効果が顕著である。
第1図は、実施例7で製造されたオリゴデオキシヌクレ
オチド〔IV′〕の脱保護生成物の高速液体クロマトグラ
フィーの溶離曲線を示し、dTはチミジンを、d(CpT)
はデオキシシチジンとチミジンのダイマーをそれぞれ意
味する。
オチド〔IV′〕の脱保護生成物の高速液体クロマトグラ
フィーの溶離曲線を示し、dTはチミジンを、d(CpT)
はデオキシシチジンとチミジンのダイマーをそれぞれ意
味する。
Claims (1)
- 【請求項1】下記一般式(1)で示されるトリオリガノ
ホスファイト化合物の製造反応を促進する下記一般式
〔I〕で示される反応促進剤。 〔式中Zはアルキル基又はアルコキシ基の置換基を有す
ることがあり、ヘテロ原子として1〜3個の窒素原子、
酸素原子又はイオウ原子を有する単環又は二環式の複素
環式基を表す。R1はアルキル基、アリール基、フリル
基、フルフリル基、ピリジル基又はチエニル基を表
す。〕 (上式中、R2及びR3は同一でも異なっていてもよいアル
キル基又はアリール基であるか或いはR2又はR3の一方
は、5′−O,N−保護デオキシヌクレオシドの3′に位
置する水酸基を除いた残基を表す。R4はアリール基を表
す。R5はアルキル基又はアリール基、或いは3′−O,N
−保護デオキシヌクレオシドの5′に位置する水酸基を
除いた残基又は3′−O,N−保護デオキシヌクレオチド
の5′に位置する水酸基を除いた残基を表す。Xはアゾ
リル基を表す。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1200310A JP2720536B2 (ja) | 1989-08-03 | 1989-08-03 | 反応促進剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1200310A JP2720536B2 (ja) | 1989-08-03 | 1989-08-03 | 反応促進剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0365243A JPH0365243A (ja) | 1991-03-20 |
JP2720536B2 true JP2720536B2 (ja) | 1998-03-04 |
Family
ID=16422190
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1200310A Expired - Lifetime JP2720536B2 (ja) | 1989-08-03 | 1989-08-03 | 反応促進剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2720536B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5278983B2 (ja) * | 1999-11-17 | 2013-09-04 | 塩野義製薬株式会社 | アミド化合物の新規用途 |
US7429593B2 (en) | 2001-09-14 | 2008-09-30 | Shionogi & Co., Ltd. | Utilities of amide compounds |
JP5896883B2 (ja) | 2012-11-13 | 2016-03-30 | 三菱日立パワーシステムズ株式会社 | 排ガス浄化用触媒構造体 |
-
1989
- 1989-08-03 JP JP1200310A patent/JP2720536B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0365243A (ja) | 1991-03-20 |
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