JPH0363905A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
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- JPH0363905A JPH0363905A JP19967089A JP19967089A JPH0363905A JP H0363905 A JPH0363905 A JP H0363905A JP 19967089 A JP19967089 A JP 19967089A JP 19967089 A JP19967089 A JP 19967089A JP H0363905 A JPH0363905 A JP H0363905A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
-
- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B2005/0002—Special dispositions or recording techniques
- G11B2005/0005—Arrangements, methods or circuits
- G11B2005/001—Controlling recording characteristics of record carriers or transducing characteristics of transducers by means not being part of their structure
- G11B2005/0013—Controlling recording characteristics of record carriers or transducing characteristics of transducers by means not being part of their structure of transducers, e.g. linearisation, equalisation
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/245—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features comprising means for controlling the reluctance of the magnetic circuit in a head with single gap, for co-operation with one track
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁束の変化を得るのにコイルを用いないで済
み、高速で高蜜度記録や極微小領域に磁場を発生させる
ことが可能な磁気ヘッドに関するのである。
み、高速で高蜜度記録や極微小領域に磁場を発生させる
ことが可能な磁気ヘッドに関するのである。
本出願人は、先にコイルを用いない「磁気ヘッド」（特
開昭６３−３７８１０）を発明した。この発明では、永
久磁石と感温磁性体薄膜及び、磁気ヘッドの磁極部とな
るべき低透磁率領域とは、互いに空間的に分離された構
造であった。
開昭６３−３７８１０）を発明した。この発明では、永
久磁石と感温磁性体薄膜及び、磁気ヘッドの磁極部とな
るべき低透磁率領域とは、互いに空間的に分離された構
造であった。
コイルを用いない磁気ヘッドの基本原理は、永久磁石か
らの磁束が、温度により透磁率が大きく変化する感温磁
性体薄膜と磁極部を含む磁気閉回路を通るようにしてお
き、感温磁性体薄膜を加熱することにより、磁気ヘッド
の磁極部に磁束の変化を生じさせるものである。
らの磁束が、温度により透磁率が大きく変化する感温磁
性体薄膜と磁極部を含む磁気閉回路を通るようにしてお
き、感温磁性体薄膜を加熱することにより、磁気ヘッド
の磁極部に磁束の変化を生じさせるものである。
永久磁石の内部磁気抵抗は、磁気飽和のため非常に大き
く、従来のように永久磁石と感温磁性体薄膜及び、磁極
部とが、互いに空間的に離れた形で磁気閉回路を構成し
た場合には、感温磁性体薄膜の加熱によりその透磁率を
変化させても、磁極部での磁束の変化が大きく得られな
いという問題があり、永久磁石の内部磁気抵抗を小さく
させるため、磁化方向に垂直な断面積を大きくする必要
があるなど、大形の永久磁石を使用しなければならなか
った。また、従来は、永久磁石から、透磁率の大きい磁
路を経て、磁気ヘッドの磁極部に磁束が導かれているた
めに、高密度記録に有利な単磁極磁気ヘッドの形成が困
難であった。
く、従来のように永久磁石と感温磁性体薄膜及び、磁極
部とが、互いに空間的に離れた形で磁気閉回路を構成し
た場合には、感温磁性体薄膜の加熱によりその透磁率を
変化させても、磁極部での磁束の変化が大きく得られな
いという問題があり、永久磁石の内部磁気抵抗を小さく
させるため、磁化方向に垂直な断面積を大きくする必要
があるなど、大形の永久磁石を使用しなければならなか
った。また、従来は、永久磁石から、透磁率の大きい磁
路を経て、磁気ヘッドの磁極部に磁束が導かれているた
めに、高密度記録に有利な単磁極磁気ヘッドの形成が困
難であった。
本発明の薄膜磁気ヘッドは、永久磁石の内部磁気抵抗が
むしろ大きい方が良いような構造とすることにより、永
久磁石を薄膜化できるようにして、高密度垂直磁気記録
にも便利で、高速応答の微細な単磁極磁気ヘッドとなり
得る薄膜磁気ヘッドを堤供することを目的としている。
むしろ大きい方が良いような構造とすることにより、永
久磁石を薄膜化できるようにして、高密度垂直磁気記録
にも便利で、高速応答の微細な単磁極磁気ヘッドとなり
得る薄膜磁気ヘッドを堤供することを目的としている。
上記目的を達成するために、本発明の薄膜磁気ヘッドに
おいては、永久磁石を薄膜状に形成し、この薄膜永久磁
石からの磁束を感温磁性体薄膜で短絡させるように薄膜
永久磁石上に直接または極薄膜の非磁性薄膜を介して感
温磁性体薄膜を形成しておき、この感温磁性体薄膜の温
度をマイクロヒータやレーザ光照射などにより昇温させ
て、薄膜永久磁石の端面に磁場発生のための磁極を露出
させるように構成している。
おいては、永久磁石を薄膜状に形成し、この薄膜永久磁
石からの磁束を感温磁性体薄膜で短絡させるように薄膜
永久磁石上に直接または極薄膜の非磁性薄膜を介して感
温磁性体薄膜を形成しておき、この感温磁性体薄膜の温
度をマイクロヒータやレーザ光照射などにより昇温させ
て、薄膜永久磁石の端面に磁場発生のための磁極を露出
させるように構成している。
非常に薄い薄膜永久磁石の長さ方向に磁化させると、永
久磁石としての内部磁気抵抗は非常に大きくなる。この
薄膜永久磁石を室温では、透磁率の高い感温磁性体薄膜
で覆うことにより、磁束が短絡されるので、これらの外
部には磁束の漏洩が非常に少なくなる。一般に感温磁性
体は、そのキュリー温度Ｔｃ近くになると常磁性体に近
付くので、透磁率は小さくなる。このように、室温より
少し高い温度にキュリー温度Ｔｃがある感温磁性体薄膜
を選び、本発明のような構造にし、これをキュリー温度
Ｔｃ近く、または、それ以上に加熱すれば、薄膜永久磁
石からの磁束が短絡されなくなるので、薄膜永久磁石の
端に磁極が現れる、すなわち、磁極が露出するようにな
り、薄膜永久磁石は、単磁極磁気ヘッドとして作用する
ことになる。感温磁性体薄膜の加熱は、マイクロヒータ
やレーザ光照射などにより行う事ができるが、薄膜永久
磁石と感温磁性体薄膜とは、密着した構造になるので、
これらが共に昇温することになる。この場合、加熱を感
温磁性体薄膜側から行うと、薄膜永久磁石の昇温か少な
くて済み、好都合である。
久磁石としての内部磁気抵抗は非常に大きくなる。この
薄膜永久磁石を室温では、透磁率の高い感温磁性体薄膜
で覆うことにより、磁束が短絡されるので、これらの外
部には磁束の漏洩が非常に少なくなる。一般に感温磁性
体は、そのキュリー温度Ｔｃ近くになると常磁性体に近
付くので、透磁率は小さくなる。このように、室温より
少し高い温度にキュリー温度Ｔｃがある感温磁性体薄膜
を選び、本発明のような構造にし、これをキュリー温度
Ｔｃ近く、または、それ以上に加熱すれば、薄膜永久磁
石からの磁束が短絡されなくなるので、薄膜永久磁石の
端に磁極が現れる、すなわち、磁極が露出するようにな
り、薄膜永久磁石は、単磁極磁気ヘッドとして作用する
ことになる。感温磁性体薄膜の加熱は、マイクロヒータ
やレーザ光照射などにより行う事ができるが、薄膜永久
磁石と感温磁性体薄膜とは、密着した構造になるので、
これらが共に昇温することになる。この場合、加熱を感
温磁性体薄膜側から行うと、薄膜永久磁石の昇温か少な
くて済み、好都合である。
感温磁性体薄膜を加熱するのに、橋梁構造のマイクロヒ
ータを用いた場合の実施例について、斜視図の第１図の
図面を参照して説明する。Ｓｉの基板Ｉ上に、０．５μ
ｍ厚の熱酸化５ｉｆｔ模２ａと、約１μｍのスパッタ５
ｉＯｙ膜２ｂとの間には、局部的に微細な空洞部６を形
成してあり、この空洞部６上の５ｉＯｔ膜２ｂには、例
えばＣｏ−Ｎｉ合金から成る０、２μｍ厚、５μｍ幅、
２０μｍ長の薄膜永久磁石３及び、この薄膜永久磁石３
を覆・う形で、厚み約１μｍの感温磁性体薄［４が形成
されている。この感温磁性体薄膜４として、アモルファ
ス材料であるＣｏ −Ｚｒ −Ｍｏ −Ｎｉ系のスパッ
タ薄膜を用いると、組成比の調整により、そのキュリー
温度Ｔｃを、室温から１００℃まで、またはそれ以上の
温度範囲の任意の値に設定することができる。更に、白
金ｐｔから成るマイクロヒータ５の加熱部分は、空洞部
６上の感温磁性体薄膜４や薄膜永久磁石３のある領域に
位置するように形成しである。マイクロヒータ５への電
力供給は、その電極部７ａ、７ｂから行われる。尚、空
洞部６は、次のようにして形成することができる。熱酸
化Ｓｉｎｇ膜２ａの形成後、空洞部６となるべき領域に
、ＡＩを蒸着、パターン形成し、その上にスパッタ５ｉ
ｆｔ膜２ｂを形成する。
ータを用いた場合の実施例について、斜視図の第１図の
図面を参照して説明する。Ｓｉの基板Ｉ上に、０．５μ
ｍ厚の熱酸化５ｉｆｔ模２ａと、約１μｍのスパッタ５
ｉＯｙ膜２ｂとの間には、局部的に微細な空洞部６を形
成してあり、この空洞部６上の５ｉＯｔ膜２ｂには、例
えばＣｏ−Ｎｉ合金から成る０、２μｍ厚、５μｍ幅、
２０μｍ長の薄膜永久磁石３及び、この薄膜永久磁石３
を覆・う形で、厚み約１μｍの感温磁性体薄［４が形成
されている。この感温磁性体薄膜４として、アモルファ
ス材料であるＣｏ −Ｚｒ −Ｍｏ −Ｎｉ系のスパッ
タ薄膜を用いると、組成比の調整により、そのキュリー
温度Ｔｃを、室温から１００℃まで、またはそれ以上の
温度範囲の任意の値に設定することができる。更に、白
金ｐｔから成るマイクロヒータ５の加熱部分は、空洞部
６上の感温磁性体薄膜４や薄膜永久磁石３のある領域に
位置するように形成しである。マイクロヒータ５への電
力供給は、その電極部７ａ、７ｂから行われる。尚、空
洞部６は、次のようにして形成することができる。熱酸
化Ｓｉｎｇ膜２ａの形成後、空洞部６となるべき領域に
、ＡＩを蒸着、パターン形成し、その上にスパッタ５ｉ
ｆｔ膜２ｂを形成する。
そして、ｐｔのマイクロヒータ５のパターン形成後、Ｎ
ａＯＨ水溶液などでＡＩを溶出し、空洞部６を形成する
。空洞部６となるＡＩパターン寸法は、例えば、２μｍ
厚、１０μｍ幅、 ３０μｍ長程度とする。また、各種
パターン形成は、公知のフォトリソグラフィにより行う
ことができる。
ａＯＨ水溶液などでＡＩを溶出し、空洞部６を形成する
。空洞部６となるＡＩパターン寸法は、例えば、２μｍ
厚、１０μｍ幅、 ３０μｍ長程度とする。また、各種
パターン形成は、公知のフォトリソグラフィにより行う
ことができる。
本実施例では、感温磁性体薄膜４の加熱にマイクロヒー
タ５を用いたが、マイクロヒータ５を用いないで、空洞
ｉ１６上の感温磁性体薄Ｈ４を薄膜永久磁石と共に、半
導体レーザや発光ダイオードなどで照射加熱することも
できる。
タ５を用いたが、マイクロヒータ５を用いないで、空洞
ｉ１６上の感温磁性体薄Ｈ４を薄膜永久磁石と共に、半
導体レーザや発光ダイオードなどで照射加熱することも
できる。
本発明は、上述のように構成されているので、マイクロ
ヒータやレーザ光照射などで、感温磁性体薄膜をパルス
的に加熱することができる。このとき、薄膜永久磁石も
一緒に加熱されるが、この薄膜永久磁石のキュリー温度
を感温磁性体薄膜のそれより充分大きく選んでおく必要
がある。加熱により、薄膜永久磁石からの磁束が、感温
磁性体薄膜により短絡され難くなるので、薄膜永久磁石
の端面に、磁極か露出し、この薄膜永久磁石は、単磁極
磁気ヘッドのように働く。薄膜永久磁石は、０．１μｍ
程度の厚みにすることも可能で、磁気記録用のヘッドと
して使用すれば、極薄の単磁極磁気ヘッドとなるので、
高密度の記録が可能である。
ヒータやレーザ光照射などで、感温磁性体薄膜をパルス
的に加熱することができる。このとき、薄膜永久磁石も
一緒に加熱されるが、この薄膜永久磁石のキュリー温度
を感温磁性体薄膜のそれより充分大きく選んでおく必要
がある。加熱により、薄膜永久磁石からの磁束が、感温
磁性体薄膜により短絡され難くなるので、薄膜永久磁石
の端面に、磁極か露出し、この薄膜永久磁石は、単磁極
磁気ヘッドのように働く。薄膜永久磁石は、０．１μｍ
程度の厚みにすることも可能で、磁気記録用のヘッドと
して使用すれば、極薄の単磁極磁気ヘッドとなるので、
高密度の記録が可能である。
微細な空洞上に、加熱部か形成されているので、その熱
容量は小さく、低消費電力の高速応答磁気ヘッドとなり
得る。感温磁性体の中には、室温付近のある温度領域に
おいて、昇温により、透磁率が大となる材料もあるが、
このような感温磁性体を用いて、本発明の薄膜磁気ヘッ
ドを構成すれば、非加熱時に薄膜永久磁石の磁極が露出
するようにさせることもできる。
容量は小さく、低消費電力の高速応答磁気ヘッドとなり
得る。感温磁性体の中には、室温付近のある温度領域に
おいて、昇温により、透磁率が大となる材料もあるが、
このような感温磁性体を用いて、本発明の薄膜磁気ヘッ
ドを構成すれば、非加熱時に薄膜永久磁石の磁極が露出
するようにさせることもできる。
第１図は、本発明において、感温磁性体薄膜４をマイク
ロヒータ５で加熱するようにした場合の一実施例の斜視
図で、空洞部６付近の部位の寸法を拡大強調して示した
図面である。 ■・・・基板（Ｓｉ）、 ２ａ、２ｂ・・・ＳｉＯ２膜
、３・・・薄膜永久磁石、 ４・・・感温磁性体薄膜、
５・・・マイクロヒータ、 ６・・・空洞部、 ７
ａ、７ｂ・・・電極
ロヒータ５で加熱するようにした場合の一実施例の斜視
図で、空洞部６付近の部位の寸法を拡大強調して示した
図面である。 ■・・・基板（Ｓｉ）、 ２ａ、２ｂ・・・ＳｉＯ２膜
、３・・・薄膜永久磁石、 ４・・・感温磁性体薄膜、
５・・・マイクロヒータ、 ６・・・空洞部、 ７
ａ、７ｂ・・・電極
Claims (1)
- １、永久磁石と感温磁性体薄膜とを組み合わせた磁気ヘ
ッドにおいて、永久磁石を薄膜化させ、該薄膜永久磁石
上に感温磁性体薄膜を重ねた構造となし、該感温磁性体
薄膜を加熱することにより、その透磁率を変化させて、
前記薄膜永久磁石の端面に磁極を露出させるようにした
ことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1199670A JP2791802B2 (ja) | 1989-07-31 | 1989-07-31 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1199670A JP2791802B2 (ja) | 1989-07-31 | 1989-07-31 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0363905A true JPH0363905A (ja) | 1991-03-19 |
| JP2791802B2 JP2791802B2 (ja) | 1998-08-27 |
Family
ID=16411668
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1199670A Expired - Lifetime JP2791802B2 (ja) | 1989-07-31 | 1989-07-31 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2791802B2 (ja) |
-
1989
- 1989-07-31 JP JP1199670A patent/JP2791802B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2791802B2 (ja) | 1998-08-27 |
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