JPH0362897A

JPH0362897A - 洗浄剤組成物

Info

Publication number: JPH0362897A
Application number: JP19662789A
Authority: JP
Inventors: Kozo Kitazawa; 北澤　宏造; Masayuki Takeda; 雅之武田
Original assignee: Kao Corp
Current assignee: Kao Corp
Priority date: 1989-07-31
Filing date: 1989-07-31
Publication date: 1991-03-18
Anticipated expiration: 2012-04-30
Also published as: JP2604632B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は電子部品用洗浄剤組成物、特にプリント基板か
らのはんだフラックス及びフラックス残渣の除去に使用
される洗浄剤組成物に関する。

〔従来の技術〕

一般に、電子機器等で使用されるプリント基板は、ガラ
ス、エポキシ樹脂等の積層板上に回路を作成し、この回
路にＩＣチップ等の電子部品をはんだ付けすることによ
って製造されるが、このはんだ付けを完全かつ速やかに
行うために、はんだ付けに先立ってフラックス処理が行
われている。

しかし、フラックスやフラックス残渣は回路の電気特性
等を悪化させるので、はんだ付は後洗浄剤を用いて除去
している。

この洗浄剤としては、これにで多くの水系又は溶媒系の
洗浄剤が提案されているが、実際には、引火点がなく、
化学的にも変化しにくい塩素系あるいはフロン系の溶剤
が使用されている。

また、近年、環境汚染が少なくかつ安全性の高い洗浄剤
として、米国特許＠４．５１１．４８８号明細書、同第
４．６４０．７１９号明細書、同第４．７４０．２４７
号明細書等に見られるようなリモネン、ピネン、ジペン
テン等のテルペン類も提案されている。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかし、これらの洗浄剤はいずれを取っても、フラック
ス除去性、耐劣化性及び低毒性という、洗浄剤組成物に
要求される条件のすべてを満たすようなものではなかっ
た。すなわち、塩素系及びフロン系の溶剤を用いる洗浄
剤は、安全性、毒性、環境汚染性等に大きな問題を有し
ており、水系洗浄剤は、溶剤系洗浄剤に比較して危険性
と毒性が低い点では好ましいが、フラックス除去性にお
いて数段劣っている。また、リモネンに代表されるテル
ペン類は、安全性とフラックス除去性を両立させ得る化
合物であるが、使用時に劣化しやすく耐久性が問題であ
るばかりでなく、天然物由来のために安定品質の物が得
難く、高価でかつ供給量に限界があり、工業用洗浄剤と
して実際的ではない。

従って、本発明は、上述のような従来技術のもつ欠点を
改良し、フラックス除去性、耐劣化性及び安全性に優れ
かつ環境汚染のない洗浄剤組成物を提供することを目的
とするものである。

〔課題を解決するための手段〕

斯かる実情において、本発明者らは鋭意研究を行った結
果、特定のアルコール又はエーテル化合物を含有する洗
浄剤組成物が上記条件を具備することを見出し、本発明
を完成した。

すなわち、本発明は、１又は２個の水酸基を有する炭素
数６〜２２のアルコール又は該アルコールの水酸基の水
素原子を炭素数１〜４の炭化水素基で置換したエーテル
化合物を５０重量％以上含有する電子部品用洗浄剤組成
物を提供するものである。

本発明で使用されるアルコール類は炭素数が６〜２２の
脂肪族系又は脂環族系のものであることが必要であり、
炭素数が５以下のものは操業上火災や爆発の危険が大き
く安全面で問題があり、また２２を超えるとフラックス
除去性が低下する。

その中でも炭素数１０〜１８のものが特に好ましい。ま
たアルコールの水酸基数は１又は２個であることが必要
であり、水酸基が３個以上のアルコールはフラックス除
去力が不充分である。斯かるアルコール類の具体例とし
ては、例えばヘキシルアルコール、オクチルアルコール
、ラウリルアルコール、オレイルアルコール、Ｃ２ｏの
ゲルベアルコール、２−シクロ−２−プロパツール、１
．２ドデカンジオール、　１．２−オクタテ゛カンジオ
ール等の天然あるいは台底アルコールが挙げられる。

また、エーテル化合物としては、上記アルコルの水酸基
の水素原子を炭素数１〜４の炭化水素基、例えばメチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−
ブチル基、１−ブチル基、ｔ−ブチル基で置換したもの
であり、これらは、例えば上記アルコール類に対応する
ハロゲン化炭化水素を反応させることによって得られる
。これらのエーテル化合物は優れたフラックス除去性を
有すると共に、アルコール臭がないという利点を有する
。これらのエーテル化合物の中でもメチルエーテルが最
も好ましい。

これらのアルコール類又はエーテル化合物は単独又は２
種以上を組合せて配合することができ、その配合量はフ
ラックス除去性を維持し、持続性を確保するために、本
発明洗浄剤組成物の５０重量％以上であることが必要で
あり、特に６０重量％以上が好ましい。

本発明の洗浄剤組成物に界面活性剤を配合することによ
って、更に効果を増大させることができる。

界面活性剤としてはアニオン性活性剤、カチオン性活性
剤、両イオン性活性剤等のいずれも使用することができ
るが、洗浄面への影響が少ないという点で非イオン系界
面活性剤が最もよい。例えばポリオキシアルキレンアル
キルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルフェノー
ルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキル脂肪酸エス
テル、ポリオキシアルキレンアリルフェノールエーテル
、ポリオキジアルキレンツルビクン脂肪酸エステル、ポ
リオキシアルキレンアルキルアミン、ソルビタン脂肪酸
エステル、ポリオキシアルキレン等が好ましく、そのな
かでも平均ＨＬＢ４〜１８の非イオン性界面活性剤が特
に優れた効果を発現する。

ここで、ポリオキシアルキレンとしては、エチレンオキ
サイド、プロピレンオキサイド又はブチレンオキサイド
の重合体が好ましい。

これらの界面活性剤の配合量は０．１〜３０重量％が好
ましく、０．１重量％より少ないとこれを加えたことに
よる効果が奏されず、また３０重量％を超えると界面活
性剤が洗浄表面に残留して、洗浄された部品の特性に影
響を及ぼすことがある。

本発明の洗浄剤組成物は、浸漬法、超音波洗浄法、揺動
法、スプレー法等の各種の洗浄方法において使用でき、
かつ好ましい結果を得ることができる。

本発明の洗浄剤を、フラックスの付着したプリント基板
の洗浄工程に用いる場合、例えば、まず本発明洗浄剤組
成物をいれた超音波洗浄槽で超音波洗浄し、次いで本発
明の洗浄剤組成物を満たした液浴槽において浸漬洗浄し
、最後に溶剤等でリンスする等の方法を連続的に行うこ
とにより、効率的に洗浄することができる。

〔実施例〕

以下、実施例を挙げて更に詳細に説明するが、本発明は
これらに限定されるものではない。

実施例１〜１２及び比較例１〜４ＩＣチップを装着したプリント配線板をフラックス処理
し、続いてハンダ処理してテストピースとした。このテ
ストピースを８０℃に保った洗浄液に浸漬し、５分間洗
浄後プリント配線板からのフラックスの除去性を目視で
評価した。尚、洗浄液としては第１表の組成の新液及び
新液に１０％のフラックス成分を含ませた劣化液を用い
た。結果は第１表のとおりである。

（評価基準） ◎：フラックス残着はなく、非常に良好。

○：フラックス残着がほとんどなく、良好。

△：フラックス残着かわずかにあり、やＳ悪い。

×：フラックスが残着し、悪い。

以下余白〔発明の効果〕畝上の如く、本発明の洗浄剤組成物は、優れたフラック
ス除去性を有すると共に、安全性がよく環境汚染の心配
もないので、電子部品、特にプリント基板のブラックス
洗浄工程に有利に使用できる。

以上

Claims

【特許請求の範囲】

１．　１又は２個の水酸基を有する炭素数６〜２２のア
ルコール又は該アルコールの水酸基の水素原子を炭素数
１〜４の炭化水素基で置換したエーテル化合物を５０重
量％以上含有する電子部品用洗浄剤組成物。
２．　更に界面活性剤を０．１〜３０重量％含有する請
求項１記載の洗浄剤組成物。
３．　界面活性剤がＨＬＢ４〜１８の非イオン性界面活
性剤である請求項２記載の洗浄剤組成物。