JPH035950B2 - - Google Patents
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- JPH035950B2 JPH035950B2 JP15246185A JP15246185A JPH035950B2 JP H035950 B2 JPH035950 B2 JP H035950B2 JP 15246185 A JP15246185 A JP 15246185A JP 15246185 A JP15246185 A JP 15246185A JP H035950 B2 JPH035950 B2 JP H035950B2
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Landscapes
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は金属表面を主とした固体表面の研摩と
して行なわれるバフ研摩に使用されるバフ(羽
布)に関するものであり、金属研摩の分野で利用
されるものである。 〔従来の技術〕 バフ研摩は、布、皮革などの柔軟性材料を回転
体として構成したバフ(羽布)を用い、これを高
速度で回転させ、バフと加工物との間に発生する
圧力によつて、金属又は非金属の表面を機械的に
加工する方法である。この時研摩効率を高めるた
めに、バフの外周面に研摩材(砥粒)を接着剤で
固定するか、バフ外周面に研摩材(砥粒)が適当
な媒体によつて一時保持されるようにして使用す
ることもある。 バフ研摩は精密加工や超仕上などとは異なり、
一般的には寸法精度を目的とするものではなく主
として平滑面あるいはつや消し面を得るために行
なわる。しかもこれらが容易に、しかも迅速に目
的を達することができるので、その適用分野は広
範囲にわたつている。 バフ研摩に使用されるバフは、布、皮革などの
柔軟性材料が回転運動ができるよう軸対称に構成
されている。 バフの本体を構成する基材としてはいろいろな
柔軟材料が用いられているが、多量に用いられて
いるのは綿布で、次いでサイザル麻、フエルト、
皮革などの順になつており、バフ研摩の工程で使
いわけられている。(例えば、精密工作法(F)共立
出版株式会社431〜435頁、表面研摩法、朝倉書店
45〜51頁) バフ研摩では通常粗研摩、仕上研摩の2工程
が、とられる。粗研摩では研摩力が要求され、仕
上研摩では光沢発現力が要求される。 〔発明が解決しようとする問題点〕 これら従来のバフ材に於て、サイザル麻は繊維
が粗硬であるので、研摩力が要求される粗研摩に
は適しているが、光沢発現力の要求される仕上研
摩にはきずが多発して不適当である。また綿、フ
エルト、皮革は光沢発現力はあるが、研摩力は小
さく、仕上研摩にしか使えなかつた。 本発明は、光沢発現力と研摩力を同時に備えた
バフ基材を提供するものである。 〔問題点を解決するための手段及び作用〕 本発明は、ビスコース法で作られた再生繊維素
繊維の長繊維及び短繊維の単糸デニールが3デニ
ール以上40デニール以下、糸太さが100デニール
(53′s)以上1000デニール(5.3′s)以下である糸
を経45本/インチ〜80本/インチ、緯45本/イン
チ〜90本/インチで織成したバフ基材である。 ビスコース法で作られた再生繊維は表面にスキ
ン層と呼ばれる緻密な層を持つている。スキン層
は適度な硬さを持つており、研摩に適すると共に
摩耗が少なく耐久性が良好である。表面に凹凸が
あれば研摩材(砥粒)の保持または支持に好適で
ある。 この再生繊維の単糸デニールは3デニール以
上、40デニール以下であることが必要であり、6
デニールから15デニールが好ましい。3デニール
未満では研摩力が低下し、40デニールを越えると
光沢発現力が低下する。単糸デニールが3デニー
ルから40デニールの間にある場合、ビスコース法
再生繊維であることと相俟つて、研摩時の回転に
よる遠心力が加わつて繊維が研摩と光沢発現に適
した硬さになる。 このことを下表に示す。
して行なわれるバフ研摩に使用されるバフ(羽
布)に関するものであり、金属研摩の分野で利用
されるものである。 〔従来の技術〕 バフ研摩は、布、皮革などの柔軟性材料を回転
体として構成したバフ(羽布)を用い、これを高
速度で回転させ、バフと加工物との間に発生する
圧力によつて、金属又は非金属の表面を機械的に
加工する方法である。この時研摩効率を高めるた
めに、バフの外周面に研摩材(砥粒)を接着剤で
固定するか、バフ外周面に研摩材(砥粒)が適当
な媒体によつて一時保持されるようにして使用す
ることもある。 バフ研摩は精密加工や超仕上などとは異なり、
一般的には寸法精度を目的とするものではなく主
として平滑面あるいはつや消し面を得るために行
なわる。しかもこれらが容易に、しかも迅速に目
的を達することができるので、その適用分野は広
範囲にわたつている。 バフ研摩に使用されるバフは、布、皮革などの
柔軟性材料が回転運動ができるよう軸対称に構成
されている。 バフの本体を構成する基材としてはいろいろな
柔軟材料が用いられているが、多量に用いられて
いるのは綿布で、次いでサイザル麻、フエルト、
皮革などの順になつており、バフ研摩の工程で使
いわけられている。(例えば、精密工作法(F)共立
出版株式会社431〜435頁、表面研摩法、朝倉書店
45〜51頁) バフ研摩では通常粗研摩、仕上研摩の2工程
が、とられる。粗研摩では研摩力が要求され、仕
上研摩では光沢発現力が要求される。 〔発明が解決しようとする問題点〕 これら従来のバフ材に於て、サイザル麻は繊維
が粗硬であるので、研摩力が要求される粗研摩に
は適しているが、光沢発現力の要求される仕上研
摩にはきずが多発して不適当である。また綿、フ
エルト、皮革は光沢発現力はあるが、研摩力は小
さく、仕上研摩にしか使えなかつた。 本発明は、光沢発現力と研摩力を同時に備えた
バフ基材を提供するものである。 〔問題点を解決するための手段及び作用〕 本発明は、ビスコース法で作られた再生繊維素
繊維の長繊維及び短繊維の単糸デニールが3デニ
ール以上40デニール以下、糸太さが100デニール
(53′s)以上1000デニール(5.3′s)以下である糸
を経45本/インチ〜80本/インチ、緯45本/イン
チ〜90本/インチで織成したバフ基材である。 ビスコース法で作られた再生繊維は表面にスキ
ン層と呼ばれる緻密な層を持つている。スキン層
は適度な硬さを持つており、研摩に適すると共に
摩耗が少なく耐久性が良好である。表面に凹凸が
あれば研摩材(砥粒)の保持または支持に好適で
ある。 この再生繊維の単糸デニールは3デニール以
上、40デニール以下であることが必要であり、6
デニールから15デニールが好ましい。3デニール
未満では研摩力が低下し、40デニールを越えると
光沢発現力が低下する。単糸デニールが3デニー
ルから40デニールの間にある場合、ビスコース法
再生繊維であることと相俟つて、研摩時の回転に
よる遠心力が加わつて繊維が研摩と光沢発現に適
した硬さになる。 このことを下表に示す。
研摩機 自製乾式定圧研摩機
研摩速度 2000m/min
荷 重 0.5Kg/cm2
研摩時間 5秒
砥粒材 青棒K−1
被研摩物 SUS304(ステンレススチール)
研摩後、SUS304を白灯油で洗い、研摩前の重
量と研摩後の重量変化から研摩量を求める。 次に、光沢発現力は、以下に示す方法で評価し
た時の表面粗度で表わす。表面粗度の表わし方に
は、Re:中心線平均粗さ、Rmax:最大高さ、
Rz:10点平均粗さがあるが、Rzが肉眼判定結果
とよく対応する。Rzの算出はJIS B 0601に準
じた。 そして、Rzが小さくなるほど光沢発現力が良
好となる。単糸デニールに対する表面粗度を第2
図に示す。ここでRzが0.22μm以下のものが肉眼
で見ても光沢発現性が良好であるといえる。 〔表面粗度の評価〕 研摩機 自製乾式定圧研摩機 研摩速度 2000m/min 荷 重 0.5Kg/cm2 研摩時間 5秒 研摩剤 Uライム白(アルミナ系) 被研摩物 SUS304(ステンレススチール) 研摩後、表面粗度の測定を東京精密製サンフコ
ム554Aを使つて測定する。 以上のことから、本発明バフ基材は、単糸デニ
ールが3デニール以上40デニール以下にある糸が
用いられていることによつて、研摩時における研
摩力と光沢発現性に優れたものであるということ
ができる。 なお、ここでいうデニールとは繊維長さ9000メ
ートルあたりの重量で規定され、7000m長さで1
gの繊維は1デニール、3gの繊維は3デニール
であり、デニール数が大きいものほど太いもの表
わす。 また番手は一定に重さに対し長さがいくらかを
表わしたもので番号数字が大ききくなるほど細い
糸を表わす。 従つて、デニール(d)と番手(′s)とは、デニ
ール×番手=C≒5315の関係にあり、100デニー
ルは53′s、1000デニールは5.3′sである。 (番手は綿糸、毛糸、麻糸、絹紡糸、スフ糸な
どすべて紡績した糸に用いられ基準となる重さ、
長さは糸の種類により異なる) 本発明においては、長繊維及び短繊維のいずれ
も用いることができる。長繊維は通常、マルチフ
イラメントとして、短繊維は紡績糸として用いら
れる。短繊維紡積糸はマルルチフイラメント糸よ
り可撓性に富むため、単糸デニール、糸太さ、偏
平比共同一の場合に、マルチ糸よりも短繊糸の方
が光沢発現性に優れるが、耐久性ではその糸構造
に起因する繊維の脱落によりマルチフイラメント
より劣る。 繊維の偏平比(横断面における長軸と短軸の長
さの比)によつて研摩力と光沢発現力が変化す
る。本発明においては偏平比が10〜20であること
がより好ましい。 織物の密度はバフ研摩中のほつれおよび織物の
品位・品質に関係する。 織物の密度はインチ(25.4mm)当りの経糸、緯
糸の本数(経密度、緯密度)とて表わされ、経緯
密度45本/インチ未満では研摩中のほつれが大き
く、すぐに研摩力の低下をきたす。経密度80本/
インチ、緯密度90本/インチを越すと、製織中に
糸切れが多発し、結び目が多くなつて、織物の品
位・品質が著るしく低下する。これをバフ基材と
して用いた場合、結び目が盛り上つている為にそ
こが被研摩物に強く当り、他の部分より強く研摩
されることになる。 次に本発明を実施例により具体的に証明する。 実施例 1 ビスコース法による再生繊維素繊維の長繊維
600デニール/100フイラメント(単糸デニール6
デニール、偏平比、1)を経糸に、450デニー
ル/30フイラメント(単糸デニール15デニール、
偏平比、20)を緯糸に使つて平織に織成した。こ
の時の密度は経55本/インチ、緯糸は50本/イン
チであつた。 この織物をバイアスに切取り、これを16枚合わ
せて直径350ミリメートルのバフを作つた。 これを使つて次の条件で研摩したが、研摩力、
光沢発現力ともに良好な結果が得られた。 被研摩物:ステンレススチール(SUS 304) 周速度:2000m/min 荷 重:0.5Kg/cm2 研摩時間:5秒 研摩材:青棒K−1(酸化クロム粉末を油脂で
固めたもの) なお、研摩中にほつれの発生はなく、さらに耐
久性は良好であつた。 実施例 2 ビスコース法による再生繊維素繊維の長繊維
300デニール/100フイラメント(単糸デニール、
偏平比14)を2本合糸しこれを経糸に、300デニ
ール/10フイラメント(単糸デニール30デニー
ル、偏平比14)を緯糸に使つて平織に織成した。 この時の密度は経56本/インチ、緯糸は53本/
インチであつた。 この織物を使つてバフを作り前例と同条件で研
摩した。研摩中のほつれの発生はなく研摩力、光
沢発現力ともに良好な結果が得られた。 比較例 1 ビスコース法による再生繊維素繊維の単繊維
20′s(266d)(単糸デニール2デニール、偏平比
1)を経糸に、30′s(177d)(単糸デニール1.5デ
ニール、偏平比1)を緯糸に使つて平織に織成し
た。この時の密度は経74本/インチ緯83本/イン
チであつた。この織物を使つてバフを作り前例と
同条件で研摩した。 光沢発現力は良好であつた研摩力は劣つた。ホ
ツレの発生はなかつた耐久性は前例の経、緯、長
繊維使いのものに比較して劣つた。 〔発明の効果〕 本発明のバフ基材は研摩力と光沢発現力を兼備
し、しかもバフ基材として必要なほつれ防止能を
備えたものとなり、同一素材で研摩力の要求と光
沢発現力の要求を完全に満たすバフ材の提供が可
能となる。
量と研摩後の重量変化から研摩量を求める。 次に、光沢発現力は、以下に示す方法で評価し
た時の表面粗度で表わす。表面粗度の表わし方に
は、Re:中心線平均粗さ、Rmax:最大高さ、
Rz:10点平均粗さがあるが、Rzが肉眼判定結果
とよく対応する。Rzの算出はJIS B 0601に準
じた。 そして、Rzが小さくなるほど光沢発現力が良
好となる。単糸デニールに対する表面粗度を第2
図に示す。ここでRzが0.22μm以下のものが肉眼
で見ても光沢発現性が良好であるといえる。 〔表面粗度の評価〕 研摩機 自製乾式定圧研摩機 研摩速度 2000m/min 荷 重 0.5Kg/cm2 研摩時間 5秒 研摩剤 Uライム白(アルミナ系) 被研摩物 SUS304(ステンレススチール) 研摩後、表面粗度の測定を東京精密製サンフコ
ム554Aを使つて測定する。 以上のことから、本発明バフ基材は、単糸デニ
ールが3デニール以上40デニール以下にある糸が
用いられていることによつて、研摩時における研
摩力と光沢発現性に優れたものであるということ
ができる。 なお、ここでいうデニールとは繊維長さ9000メ
ートルあたりの重量で規定され、7000m長さで1
gの繊維は1デニール、3gの繊維は3デニール
であり、デニール数が大きいものほど太いもの表
わす。 また番手は一定に重さに対し長さがいくらかを
表わしたもので番号数字が大ききくなるほど細い
糸を表わす。 従つて、デニール(d)と番手(′s)とは、デニ
ール×番手=C≒5315の関係にあり、100デニー
ルは53′s、1000デニールは5.3′sである。 (番手は綿糸、毛糸、麻糸、絹紡糸、スフ糸な
どすべて紡績した糸に用いられ基準となる重さ、
長さは糸の種類により異なる) 本発明においては、長繊維及び短繊維のいずれ
も用いることができる。長繊維は通常、マルチフ
イラメントとして、短繊維は紡績糸として用いら
れる。短繊維紡積糸はマルルチフイラメント糸よ
り可撓性に富むため、単糸デニール、糸太さ、偏
平比共同一の場合に、マルチ糸よりも短繊糸の方
が光沢発現性に優れるが、耐久性ではその糸構造
に起因する繊維の脱落によりマルチフイラメント
より劣る。 繊維の偏平比(横断面における長軸と短軸の長
さの比)によつて研摩力と光沢発現力が変化す
る。本発明においては偏平比が10〜20であること
がより好ましい。 織物の密度はバフ研摩中のほつれおよび織物の
品位・品質に関係する。 織物の密度はインチ(25.4mm)当りの経糸、緯
糸の本数(経密度、緯密度)とて表わされ、経緯
密度45本/インチ未満では研摩中のほつれが大き
く、すぐに研摩力の低下をきたす。経密度80本/
インチ、緯密度90本/インチを越すと、製織中に
糸切れが多発し、結び目が多くなつて、織物の品
位・品質が著るしく低下する。これをバフ基材と
して用いた場合、結び目が盛り上つている為にそ
こが被研摩物に強く当り、他の部分より強く研摩
されることになる。 次に本発明を実施例により具体的に証明する。 実施例 1 ビスコース法による再生繊維素繊維の長繊維
600デニール/100フイラメント(単糸デニール6
デニール、偏平比、1)を経糸に、450デニー
ル/30フイラメント(単糸デニール15デニール、
偏平比、20)を緯糸に使つて平織に織成した。こ
の時の密度は経55本/インチ、緯糸は50本/イン
チであつた。 この織物をバイアスに切取り、これを16枚合わ
せて直径350ミリメートルのバフを作つた。 これを使つて次の条件で研摩したが、研摩力、
光沢発現力ともに良好な結果が得られた。 被研摩物:ステンレススチール(SUS 304) 周速度:2000m/min 荷 重:0.5Kg/cm2 研摩時間:5秒 研摩材:青棒K−1(酸化クロム粉末を油脂で
固めたもの) なお、研摩中にほつれの発生はなく、さらに耐
久性は良好であつた。 実施例 2 ビスコース法による再生繊維素繊維の長繊維
300デニール/100フイラメント(単糸デニール、
偏平比14)を2本合糸しこれを経糸に、300デニ
ール/10フイラメント(単糸デニール30デニー
ル、偏平比14)を緯糸に使つて平織に織成した。 この時の密度は経56本/インチ、緯糸は53本/
インチであつた。 この織物を使つてバフを作り前例と同条件で研
摩した。研摩中のほつれの発生はなく研摩力、光
沢発現力ともに良好な結果が得られた。 比較例 1 ビスコース法による再生繊維素繊維の単繊維
20′s(266d)(単糸デニール2デニール、偏平比
1)を経糸に、30′s(177d)(単糸デニール1.5デ
ニール、偏平比1)を緯糸に使つて平織に織成し
た。この時の密度は経74本/インチ緯83本/イン
チであつた。この織物を使つてバフを作り前例と
同条件で研摩した。 光沢発現力は良好であつた研摩力は劣つた。ホ
ツレの発生はなかつた耐久性は前例の経、緯、長
繊維使いのものに比較して劣つた。 〔発明の効果〕 本発明のバフ基材は研摩力と光沢発現力を兼備
し、しかもバフ基材として必要なほつれ防止能を
備えたものとなり、同一素材で研摩力の要求と光
沢発現力の要求を完全に満たすバフ材の提供が可
能となる。
第1図は、単位時間当りの研摩量をバフ基材の
単糸デニールに対して示したものである。第2図
は、研摩された被研摩物の表面粗度をバフ基材の
上記デニールに対して示したものである。
単糸デニールに対して示したものである。第2図
は、研摩された被研摩物の表面粗度をバフ基材の
上記デニールに対して示したものである。
Claims (1)
- 1 ビスコース法で作られた再生繊維素繊維フイ
ラメントの単糸デニールが3デニール以上40デニ
ール以下で糸太さが100デニール(53′s)以上
1000デニール(5.3′s)以下である糸を、経密度45
本/インチ以上80本/インチ以下、緯密度45本/
インチ以上90本/インチ以下で織成したバフ基
材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15246185A JPS6215082A (ja) | 1985-07-12 | 1985-07-12 | バフ基材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15246185A JPS6215082A (ja) | 1985-07-12 | 1985-07-12 | バフ基材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6215082A JPS6215082A (ja) | 1987-01-23 |
JPH035950B2 true JPH035950B2 (ja) | 1991-01-28 |
Family
ID=15541020
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15246185A Granted JPS6215082A (ja) | 1985-07-12 | 1985-07-12 | バフ基材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6215082A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6464780A (en) * | 1987-09-02 | 1989-03-10 | Asahi Chemical Ind | Manufacture of abrasive cloth |
JP4304584B2 (ja) | 2003-06-18 | 2009-07-29 | 株式会社ジェイテクト | チルトヒンジ機構および電動パワーステアリング装置 |
JP5294004B2 (ja) | 2008-08-05 | 2013-09-18 | 株式会社ジェイテクト | ステアリング装置 |
-
1985
- 1985-07-12 JP JP15246185A patent/JPS6215082A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6215082A (ja) | 1987-01-23 |
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---|---|---|
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