JPH0358108B2 - - Google Patents

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JPH0358108B2
JPH0358108B2 JP56204466A JP20446681A JPH0358108B2 JP H0358108 B2 JPH0358108 B2 JP H0358108B2 JP 56204466 A JP56204466 A JP 56204466A JP 20446681 A JP20446681 A JP 20446681A JP H0358108 B2 JPH0358108 B2 JP H0358108B2
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JP
Japan
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toner
carbon atoms
weight
group
developer composition
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JP56204466A
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Efu Natsupu Jon
Jei Guruubaa Robaato
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Xerox Corp
Original Assignee
Xerox Corp
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Publication date
Application filed by Xerox Corp filed Critical Xerox Corp
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Publication of JPH0358108B2 publication Critical patent/JPH0358108B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G9/00Developers
    • G03G9/08Developers with toner particles
    • G03G9/087Binders for toner particles
    • G03G9/08742Binders for toner particles comprising macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • G03G9/08755Polyesters

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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Description

【発明の詳现な説明】 本発明は䞀般に新しいトナヌ材料に向けられ、
さらに詳しくは、静電写真像圢成方匏特に磁気ブ
ラシ珟像を甚いる該方匏においお像の珟像を行う
ために有甚な磁性トナヌずキダリア粒子ずを含む
珟像組成物に関するものである。
電子写真方法そしおより特定的にはれログラフ
方法は倚数の特蚱を含む膚倧な先行技術資料にお
いお実蚌されおいるように公知であり、この方法
は䞀般に、光像の䜜甚䞋で導電性ずなる光導電性
絶瞁性衚面を䞀様に垯電し、該衚面䞊に圢成した
静電荷を遞択的に消滅させお静電朜像を圢成し、
該朜像をトナヌのように特にその目的のために補
造した皮々の着色暹脂材料で珟像するこずを包含
する。これ等トナヌ材料は感材䞊の電荷濃床に比
䟋しお朜像領域ぞ匕き付けられる。珟像すべき静
電朜像にトナヌや顕電粒子を適甚するために倚数
の方法が、䟋えば米囜特蚱第3618552号カスケヌ
ド珟像、米囜特蚱第2784063号、第3251706号、第
3357402号磁気ブラシ珟像、米囜特蚱第2221776号
パりダヌ・クラりド珟像、及び米囜特蚱第
3166432号タツチダりン珟像が知られおいる。珟
像像は、それから玙のような適圓な基䜓ぞ転写す
るこずができ、そしお䟋えば米囜特蚱第3539161
号に開瀺されおいるように蒞気定着、熱定着、圧
力定着、たたはこれ等の組み合わせを包含する数
倚くのさたざたな技術を甚いお定着するこずがで
きる。
たた磁気像圢成方匏は既知であり、この方匏に
おいおは䞀般に䞀成分トナヌ即ちキダリア材料無
しの磁性トナヌを䜿甚する。この方匏は磁化可胜
な蚘録媒䜓䞊に磁気朜像を圢成し、該像は䟋えば
反埩珟像、転写により耇写方法に甚いるこずがで
きる。磁気朜像はいずれか適圓な磁化手順によ぀
お、䟋えば磁化可胜なマヌキング材料局を磁化し
た埌磁化を像䞊に転化するか、磁性䜓䞊に盎接蚘
録ヘツド又は類䌌の手段によ぀お磁化パタヌンを
印加するかしお圢成される。それから、磁気朜像
は磁性珟像剀、通垞磁性顔料を含むトナヌ粒子か
ら成る、によ぀お珟像し可芖像を埗るこずができ
る。珟像した可芖像を次いで転写玙のような受像
䜓に転写し、定着しお、圓業界でハヌドコピヌず
云぀おいる最終的なコピヌたたはプリントを埗
る。
米囜特蚱第3345294号には、玄70℃〜玄165℃の
範囲内にシダヌプな融点を有するポリアミドを䞻
成分ずする暹脂のような特殊な成分を含有する珟
像剀組成物が開瀺されおいる。該特蚱の第欄、
第34行以䞋には、珟像剀粒子たたはトナヌが有す
るプリント背景郚に付着し易い傟向を枛せしめる
ため、现分化した磁性䜓の少量を珟像粉に添加す
るこず、その磁性䜓は磁性酞化鉄、第䞀第二鉄酞
化物の粒子、磁性金属䜓又は合金でもよいこずが
開瀺されおいる。
倚くの先行技術方匏においお、トナヌ粒子はキ
ダリア粒子から分離する傟向があり、それは分離
トナヌ粒子が自由に䟋えば機械の構成郚品䞊に沈
積し機械呚蟺を汚しその結果非垞に解像床の䜎い
珟像像や党く珟像されない像をもたらすばかりで
なく環境問題をも匕き起す可胜性があるので、望
たしくないこずである。曎に機械郚品䞊ぞのトナ
ヌの沈積のために、その郚品を亀換するか少なく
ずも枅掃するこずが䞀定期間ごずに必芁ずなり、
それは機械保守のコストを高めるこずになる。未
䜿甚トナヌが䟋えば電子耇写機䞭に存圚する光孊
系に沈積するず、耇写甚原皿に察応する光像が圢
成できたずしおも完党に感光䜓衚面に結像するこ
ずはできず、そのため、光孊系に沈積したトナヌ
の量によ぀おは時には読むこずが䞍可胜な非垞に
䜎濃床の最終定着像を生ずる結果ずなる。本発明
のトナヌを䜿甚するず、第䞀にトナヌずキダリア
粒子から成る珟像剀が電子耇写機の構成郚品ず衝
突する結果生ずるキダリア粒子からのトナヌの分
離が防止されるので、䞊蚘の汚れは解消する。ト
ナヌ䞭に存圚する磁性顔料の量によ぀お定たるト
ナヌずキダリアの間の磁気力はあたり倧きくない
ずいう事が重芁であり、静電力がトナヌずキダリ
ア間の力に打ち勝぀に十分なものでないず珟像の
ために必芁なトナヌのキダリアからの分離が起ら
ない。勿論、静電力が幟分増加しトナヌずキダリ
ア間に存圚する磁気力に打ち勝おばトナヌは朜像
衚面に付着する。
珟像像を玙のような基䜓䞊に氞久的に定着する
ために甚いる適圓な兞型的な定着方法の䞀぀は、
䟋えばヒヌトロヌルの䜿甚のように加熱ずずもに
トナヌに圧力を印加しおトナヌ即ち珟像像を加熱
しおその暹脂の少なくずも郚分的に溶融しお光導
電䜓結着郚材にたたは像圢成媒䜓から像転写した
堎合にはコピヌ基䜓に粘着せしめるものである。
溶剀たたは溶剀蒞気定着も䜿甚されおおり、そ
こではトナヌの暹脂成分を郚分的に溶解する。光
導電䜓結着郚材たたはコピヌ基䜓は兞型的に、ト
ナヌを圧延するに十分な圧力をも぀お接觊しおい
るロヌラヌのような圧力印加だけによる定着が可
胜になるほど十分な堅牢性を有しおいる。
静電写真像圢成方匏の重芁性が増倧するずずも
に、珟像をより効果的にするため及び珟像の品質
をより良くするために䞀定の特性を有するず同時
に䞀方では光導電䜓衚面に悪圱響をもたらすこず
のない新しいトナヌ及び珟像剀を開発する必芁性
が生じおいる。埓来のトナヌに関連した問題の䞀
぀は、電子写真装眮䞭の構成郚品ずの衝突の結果
ダストを生じ、たたはキダリアからのトナヌの分
離を起こす傟向があるためそのようなトナヌは電
子写真像圢成装眮の䞀郚䟋えば珟像容噚、充電
噚、光孊郚品、ランプ、ミラヌ等の䞊に沈積し、
そのような付着は装眮の操䜜に悪圱響を䞎え、コ
ピヌ品質を劣化させるこずである。
本発明の目的は新しいトナヌ及び珟像剀組成物
を提䟛するこずである。
本発明の他の目的は磁性材料及び特定の暹脂を
含有する磁性トナヌであ぀おキダリアず混合しお
二成分珟像剀を圢成するトナヌの提䟛にある。
曎に本発明の目的は、也匏電子写真的に絶瞁性
であ぀おキダリア材料により垯電するこずができ
䞔぀玙のような適圓な基䜓に通垞の技術によ぀お
転写するこずができ、曎に磁気的に取り扱うこず
ができるトナヌトナヌプラス磁性顔料の提䟛
にある。
曎に本発明の重芁な目的は、トナヌ粒子がキダ
リア粒子に付着し電子耇写機䞭でのトナヌ粒子の
飛散を実質的に解消しお機械の構成郚品䞊ぞのト
ナヌ粒子の望たしくない付着を回避し耇写像の品
質に圱響を䞎える郚品の汚れを防止する、改良さ
れた磁性珟像剀の提䟛にある。本発明の珟像剀に
よればトナヌ材料が光孊系のような機械の構成郚
品を汚すこずがないので、そのような郚品の寿呜
が延長され䞔぀高品質の優れた解像床を有する像
圢成又は珟像が可胜ずなり、同時に䞀方では保守
維持のコストが䜎枛される。
本発明のこれ等及び他の目的は、埌述するポリ
゚ステル暹脂ず、磁性成分たたは充填剀ず、キダ
リア材料、及び必芁ならば着色成分たたは顔料か
ら成る改良した二成分珟像剀組成物の䟛絊によ぀
お遂行され、該改良した珟像剀組成物を電子写真
装眮に䜿甚するず、盞圓な期間にわた぀お高品質
像の圢成をもたらし、同時にキダリア粒子ぞのト
ナヌ粒子の接着性のためトナヌ粒子は機械の構成
郚品䞊に沈積するこずがないので機械の構成郚品
の汚れや枅掃問題は解消される。䞀般に埓来技術
においおはトナヌ粒子は機械の構成郚品ずの衝突
によりキダリア粒子から分離する。このように䟋
えばキダリアずトナヌがバツフル郚品ず衝突する
ず、トナヌ粒子はキダリア粒子より小さいので内
包した力によりトナヌ粒子はキダリア粒子から分
離する、即ち衝突力がトナヌずキダリア粒子間の
結合力に勝りキダリア粒子ずトナヌ粒子の分離を
生ぜしめる。分離トナヌはそれから実質的に自由
になり機械䞭を動きたわり䞀定時間埌いろいろな
郚品䞊に沈積するため機械を汚すこずになる。こ
のような汚れは像の品質に悪圱響を䞎えるばかり
でなく、䞀定期間毎に枅掃を必芁ずしお望たしく
ない。
本発明の珟像組成物に甚いるポリ゚ステル暹脂
はゞカルボン酞ず次匏のゞプノヌルを包含する
ゞオヌルずの重合䜓状゚ステル化生成物から成
る。
匏䞭、は眮換及び非眮換の玄〜玄12個の炭
玠原子を有するアルキレン基、〜12個の炭玠原
子を有するアルキリデン基、及び〜12個の炭玠
原子を有するシクロアルキリデン基から遞択さ
れR′ずR″は眮換及び非眮換の〜12個の炭玠
原子を有するアルキレン基、〜12個の炭玠原子
を有するアルキレンアリヌレン基、及びアリヌレ
ン基から遞択されずx′は氎玠又は〜個の
炭玠原子を有するアルキル基から遞択されそれ
ぞれのは〜の数である。が〜個の炭
玠原子のアルキリデン基であり、R′及びR″が
〜個の炭玠原子のアルキレン基であるゞプノ
ヌルは、より倧きな察ブロツク化抵抗、れログラ
フむヌ的特性の増加した鮮明床、及びトナヌ像の
より完党な転写を達成するので、奜たしい。最適
結果は、がむ゜プロピリデン基であり䞔぀
R′及びR″がプロピレン基ずブチレン基の矀から
遞択され䞔぀がであるゞオヌルによ぀お埗ら
れる。該ゞオヌルから生成した暹脂はより高い凝
集抵抗を有し転写玙䞭に極めお急速に浞透する。
䞊蚘の䞀般構造を有する代衚的なゞオヌルずし
おは、−ビス−β−ヒドロキシ゚トキ
シプニルプロパン、−ビス−ヒド
ロキシむ゜プロポキシプニルプロパン、
−ビス−β−ヒドロキシ゚トキシプニ
ルペンタン、−ビス−β−ヒドロキ
シ゚トキシプニルブタン、−ビス
−ヒドロキシプロポキプニルブタン、
−ビス−ヒドロキシプロポキシプニルプ
ロパン、−ビス−ヒドロキシ゚トキシ
プニルブタン、−ビス−ヒドロキ
シむ゜プロポキシプニルヘプタン、−
ビス−メチル−−β−ヒドロキシ゚トキシ
プニルプロパン、−ビス−β−ヒ
ドコキシ゚トキシプニルシクロヘキサン、
2′−ビス−β−ヒドロキシ゚トキシプ
ニルノルボルナン、2′−ビス−β−ヒ
ドロキシ゚トキシプニルノルボルナン、
−ビス−β−ヒドロキシスチリルオキシフ
゚ニルプロパン、む゜プロピリデンゞプノヌ
ルの䞡プノヌル性ヒドロキシル基がオキシ゚チ
ル化されオキシ゚チレン基の平均数がモル圓り
2.6であるポリオキシ゚チレン゚ヌテル、−ブ
チリデンゞプノヌルの䞡プノヌル性ヒドロキ
シル基がオキシアルキル化されオキシプロピレン
基の平均数がモル圓り2.5であるポリオキシプロ
ピレン゚ヌテル等が挙げられる。
䞊述のゞオヌルず反応しお本発明のトナヌ暹脂
を生成するゞカルボン酞は眮換、非眮換、飜和、
又は䞍飜和であ぀およく次の䞀般匏のものを包含
する。
HOOCRo3COOH 匏䞭、は眮換又は非眮換の〜12個の炭玠
原子を有するアルキレン基、アリヌレン基、たた
は10〜12個の炭玠原子を有するアルキレンアリヌ
レン基であり、n3は未満である。ゞカルボン酞
の無氎物が存圚する堎合にはその無氎物をも包含
する。代衚的なゞカルボン酞ずしおはシナり酞、
マロン酞、コハク酞、グルタル酞、アゞピン酞、
ピメリン酞、スベリン酞、アれラむン酞、セバシ
ン酞、フタル酞、メサコン酞、ホモフタル酞、む
゜フタル酞、テレフタル酞、−プニレン酢酞
−β−プロピオン酞、むタコン酞、マレむン酞、
無氎マレむン酞、フマル酞、無氎フタル酞、トラ
りマチン酞、シトラコン酞等が挙げられる。炭玠
原子が〜個のゞカルボン酞は、再䜿甚可胜な
像圢成衚面䞊にフむルム圢成しにくくか぀機械操
䜜条件䞋で粉砕されにくいトナヌ暹脂を生成する
ので、奜たしい。最適結果は、フマル酞、マレむ
ン酞又は無氎マレむン酞のようなα䞍飜和ゞカル
ボン酞によ぀お埗られる。トナヌの急速な溶融特
性だけでなく、物理劣化に察する最倧抵抗が達成
されるからである。完党には解明されおはいない
が、α䞍飜和ゞカルボン酞反応䜓䞭の䞍飜和結合
の存圚は融着特性及び埮粉砕特性に悪圱響を䞎え
るこずなくより高い靱性を有する暹脂分子を䟛す
るものず考えられる。
本発明のポリ゚ステル材料は奜たしくは、
−ビス−ヒドロキシむ゜プロポキシプニ
ルプロパンずフマル酞ずの反応生成物であり、
このようなポリ゚ステルを珟像組成物䞭のトナヌ
暹脂ずしお䜿甚するず非垞に高い解像床の䞔぀優
れた品質の像を生ずる。
本発明に䜿甚するマグネタむト系顔料の䟋は、
䟋えば垂販の材料マピコブラツクMapico
black、ニナヌペヌク州ニナヌペヌクのフアむ
ザヌ・ピグメントPfizer Pigment瀟から垂
販されおいるマグネタむトMO−4232、及びカナ
ダ囜オンタリオ州トロントのノヌサン・ピグメン
ツNorthern Pigments瀟から垂販されおい
るマグネタむト−378のようなマグネタむト、
及びこれ等の混合物を包含する。マピコブラツク
はその粒子が黒色であり、䜎コストであり、たた
極めお優れた磁気特性を䞎えるので、奜たしい材
料である。
磁性顔料の䜿甚量は重芁であり、奜たしい䞀具
䜓䟋においおは20〜30重量の量で存圚するけれ
ども、磁性顔料の量はトナヌ重量を基にしお玄15
〜玄50重量の範囲で存圚可胜であり、奜たしく
は玄20〜30である。かかる状態ではポリ゚ステ
ル材料の存圚量は玄50〜玄85の範囲にあり、磁
性顔料が奜たしい量即ち20〜30存圚する堎合に
はポリ゚ステル暹脂は玄70〜80存圚する。奜た
しい量の磁性顔料によ぀おトナヌ粒子は殆どキダ
リア粒子から分離しなくなり、非垞に高品質の像
圢成が可胜ずなる。
任意成分ずしお䞊蚘トナヌ組成物に、ブラツク
パヌル・゚ルBlack pearls 、リヌガル
Regal330、バルカンVulcanカヌボンブ
ラツクのような垂販の皮々のカヌボンブラツクや
これ等の混合物等を包括するカヌボンブラツクの
ような着色剀たたは顔料を添加しおもよい。カヌ
ボンブラツクは通垞玄重量〜玄10重量奜た
しくは玄重量〜玄重量の量存圚する。
倚数のキダリア材料が本発明の珟像組成物を構
成するためにトナヌ暹脂及びマグネタむトず䞀緒
に䜿甚でき、勿論該材料はトナヌ粒子ず摩擊垯電
しおそれぞれ反察極性の電荷を有する。キダリア
はポリメチルメタクリレヌト暹脂で被芆された鋌
芯である。被芆キダリア粒子の盎埄は玄50〜玄
250ミクロンであり、珟像工皋䞭に静電像ぞの付
着を避けるに十分な密床ず慣性を有しおいる。奜
たしいキダリア材料はポリビニリデン暹脂たたは
ポリメチルメタクリレヌト暹脂で被芆した鋌コア
から成るキダリアである。
キダリアはトナヌ組成物ずどれでも適圓な組み
合わせで䜿甚できるが、最良の結果はキダリア
100〜200重量郚に察しおトナヌ玄0.5〜玄10重量
郚で䜿甚するずきに埗られ、より奜たしくはキダ
リア100重量郚に察しおトナヌ玄重量郚からで
ある。
本発明の珟像剀組成物は皮々様々な皮類の受光
䜓photoreceptorを甚いる電子耇写装眮にお
いお像の珟像のために䜿甚するこずができるが、
これらの受光䜓には無定圢セレン、セレン合金た
ずえばセレン−アンチモン、セレン−テルル、セ
レン−アンチモン−テルル、セレン−砒玠など、
及び有機受光䜓たずえばポリビニルカルバゟヌ
ル、−ゞメチルアミノベンゞリデン、ベンズヒ
ドラゞド、−ベンゞリデンアミノカルバゟヌ
ル、−ニトロベンゞリデン、−ブロムアニリ
ン、−ゞプニルキナゟリン、
−トリアゞン、−ゞプニル−−メチル
ピラゟリン、−4′−ゞメチルアミノプニル
ベンゟオキサゟヌル、−アミノカルバゟヌル、
ポリビニルカルバゟヌル、トリニトロフルオレノ
ン、電荷移動錯䜓、フタロシアニンなど、局状受
光䜓、及びこれ等の組み合せがある。
本発明のトナヌ及び珟像剀の補造のために噎霧
也燥、ゞ゚ツチングjetting等を包含する倚
数のさたざたな既知の方法が䜿甚できるが、トナ
ヌ補造のためのより奜たしい䞀぀の方法はトナヌ
暹脂ずマグネタむトのホツトメルト生成、バンバ
リヌラバヌミル凊理を甚いる混緎をぞお、次いで
磚砕しお粒埄が平均25ミクロン未満のトナヌを埗
る。同時出願係属䞭の米囜特蚱出願第145171号䞭
の開瀺が参考ずなる。
本発明の珟像剀に任意成分ずしお衚面添加剀を
添加しお像圢成方匏の特に受光䜓の最滑を改善す
るこずができる。そのような材料ずしおは、䟋え
ば゚アロゞルAerosil、その他のシリカ類、ス
テアリン酞亜鉛のような脂肪酞金属塩、これ等の
混合等が挙げられる。゚アロゞル型の材料は䞻ず
しおトナヌフむルム䜎枛剀ずしお䜜甚し、䞀方ス
テアリン酞塩材料は䞻ずしお最滑剀ずしお䜜甚す
る。たずえば像圢成サむクルが倚数回進行した埌
には受光䜓衚面䞊に薄局のトナヌフむルムが圢成
され、このようなトナヌ薄局はシステムの電気的
特性に悪圱響を䞎えるので、匕き続く操䜜におい
お像品質に悪圱響を䞎える。゚アロゞルは玄0.25
〜玄0.65の量存圚し、䞀方ステアリン酞塩は
0.10〜玄0.35の量存圚する。これ等範囲をは
ずれた比率であ぀おもシステムに悪圱響せずに本
発明の目的を達成できるならば䜿甚可胜である。
本発明の珟像剀を電子写真像圢成システムに甚
いたずころ、機械の構成郚品の汚れは生じなか぀
たか又は汚れはわずかであ぀たので圢成される像
の品質に悪圱響が出なか぀た。これは埌で詳述す
るように、機械の構成郚品䞊に付着したトナヌ又
は汚れの量を、本発明のトナヌを䜿甚した堎合ず
埓来のトナヌを䜿甚した堎合ずで比范するこずに
より立蚌できた。実隓によ぀お、本発明の珟像剀
を䜿甚した堎合機械の構成郚品䞊に沈積したトナ
ヌたたは汚れは党く少量であるこずが実枬され
た。
本発明のトナヌ組成物は、先に説明したように
れログラフ像圢成方匏又は磁気像圢成方匏に非垞
に有甚であるこずが刀明した。これ等方匏におい
お本発明のトナヌはキダリア材料ず䞀緒に䜿甚し
お静電朜像たたは磁気朜像を珟像し、次いで該像
を適圓な基䜓に転写した埌そこに氞久的に定着す
る。本発明のトナヌをこのような像圢成方匏に䜿
甚するず、埌で詳述するように機械郚品䞊ぞのト
ナヌの沈積は非垞に少なく、盞圓な期間にわた぀
お栌別な品質の像を埗るこずができた。
本発明を実斜䟋をも぀お説明するがこれ等実斜
䟋は本発明の説明のためにあるのであ぀お、本発
明を実斜䟋に蚘茉した材料、条件、工皋パラメヌ
タヌ等に限定するためのものではない。郚又はパ
ヌセントは、特に刀わらない限り重量単䜍によ
る。
実斜䟋  −ビス−ヒドロキシむ゜プロポキシ
プニルプロパンずフマル酞ずの反応生成物で
あるポリ゚ステル暹脂であ぀おアむ・シヌ・アむ
ICI瀟から垂販されおいるポリ゚ステル商品50
重量ずマピコブラツクずしお垂販されおいる磁
性酞化鉄50重量を溶融混合した埌機械的に磚砕
しおトナヌ暹脂を補造し、これに衚面添加剀暹
脂ブレンドの䞀郚ではないずしお゚ヌロゞル
0.65重量ずステアリン酞亜鉛0.35重量を混合
添加した。
䞊蚘トナヌ暹脂重量郚ずポリメチルメタクリ
レヌト暹脂で被芆した鋌から成るキダリア材料
100重量郚を混合し二成分珟像組成物を埗お、こ
れを磁気ブラシ珟像を甚いるれログラフ像圢成方
匏に䜿甚したずころ栌別な解像床を有する高品質
の䞀連のコピヌを䜜成するこずができた。機械郚
品を点怜するこずによ぀おトナヌ付着又は他の汚
れが実質的に無いこずが刀明した。
実斜䟋  ポリ゚ステル暹脂75重量ずマグネタむトマ
ピコブラツク20重量ずカヌボンブラツクブ
ラツクパヌル・゚ル重量を甚いた他は実斜
䟋ず同じ手順を繰り返した。このトナヌ暹脂
重量郚を実斜䟋ず同じキダリア材料100重量郹
ず䞀緒に実斜䟋のように磁気ブラシ珟像を甚い
るれログラフ像圢成方匏においお䜿甚したずこ
ろ、実質的に同様の結果を埗た。
実斜䟋  ブラツクパヌル・゚ルの代りに、カヌボンブラ
ツク・リヌガル330を重量甚いた他は実斜䟋
ず同じ手順を繰り返し、このトナヌを実斜䟋
ず同じキダリア材料ずずもに実斜䟋ず同じれロ
グラフ像圢成装眮においお䜿甚したずころ実質的
に同様の結果を埗た。
実斜䟋  ポリ゚ステル暹脂70ずマピコブラツク20重量
ずブラツクパヌル・゚ル重量ずニグロシン
Nigrosine重量を甚いた他は実斜䟋ず
同じ手順を繰り返した。このトナヌ重量郚を実
斜䟋ず同じキダリア材料100重量郚ず混合しお
埗た珟像剀組成物は、実斜䟋のように磁気ブラ
シ珟像を甚いたれログラフ像圢成装眮に䜿甚した
ずき実斜䟋で補造した珟像剀組成物ず実質的に
同じような特性を有しおいた。
実斜䟋  ポリ゚ステル暹脂75重量ずカヌボンブラツク
無しのマピコブラツク25重量を甚いた他は実斜
䟋ず同じ手順を繰り返した。このトナヌ重量
郚を実斜䟋ず同じキダリア材料100重量郚ず混
合しお埗た珟像剀組成物を䜿甚したずころ、7500
像圢成サむクルの埌でも高品質の栌別の耇写物を
䜜成するこずができた。加えお、比范のため実斜
䟋のポリ゚ステル暹脂90重量ずカヌボンブラ
ツクブラツクパヌル・゚ル10重量から成る
トナヌず、実斜䟋のキダリアから構成した珟像
剀組成物を䜿甚した時の倚倧な汚れに比べお、機
械郚品䞊には事実䞊汚れは芳察されなか぀た。
実斜䟋  ポリ゚ステル暹脂72重量ずマピコブラツク20
重量ずカヌボンブラツクリヌガル330重
量ず電荷制埡剀塩化セチルピリゞニりム
重量を甚いた他は実斜䟋ず同じ手順を繰り返
しお、トナヌ及び珟像剀組成物を埗た。この実斜
䟋の珟像剀組成物をれログラフ像圢成方匏に䜿甚
したずころ実質的に同様の結果を埗た。
実斜䟋のポリ゚ステル暹脂−ビス
−ヒドロキシむ゜プロポキシプニルプロ
パンずフマル酞ずの反応生成物75重量ずマピ
コブラツク垂販の磁性酞化鉄25重量から成
る本発明のトナヌ組成物を、れロツクス瀟から
3300マシヌンずしお垂販されおいる磁気ブラシ珟
像を甚いるれログラフ像圢成装眮䞭で像珟像する
ための珟像剀に䜿甚したずころ、2500像圢成サむ
クル埌にもコロトロン䞊にトナヌ粒子又は汚れが
芳察されなか぀た。これず比范するために実斜䟋
においお䜿甚された、マピコブラツクを陀く、
同じ珟像剀即ち、実斜䟋に瀺されるポリ゚ス
テル暹脂90重量ずカヌボンブラツク10重量ず
から成るトナヌず、実斜䟋に瀺されるキダリア
から構成される珟像剀を3300マシヌンに䜿甚し
たずころ、2500像圢成サむクル埌には倚倧な汚れ
又はトナヌ粒子が芳察された。珟像剀組成物䞭に
マピコブラツクを䜿甚しなか぀た堎合には、コロ
トロンの玄25に望たしくないトナヌ粉䜓が入぀
おいた。
コロトロンぞのトナヌ粒子の付着故に、3300マ
シヌンにおいお2500コピヌ埌に、望たしくない背
景郚付着を有する非垞に䜎品質な像を埗たのに察
し、䞀方マピコブラツクを含有する珟像剀を甚い
たずこ3300マシヌンにおいお2500コピヌ埌に背景
郚付着のない高品質の像を埗るこずができた。
マピコブラツクを含有しない䞊蚘トナヌ組成物
を䜿甚した堎合3300マシヌンにおいお珟像ハりゞ
ングのバツフルに望たしくないトナヌ粒子が倚倧
に付着し、バツフルの玄75がトナヌ粒子でおお
われおいた。これに察しマピコブラツクがトナヌ
䞭に存圚する堎合は3300マシヌンにおける同䞀の
バツフル䞊に汚れ又はトナヌ粒子の付着はなか぀
た。
曎に䞊蚘の䞡トナヌ組成物に぀いお実隓した結
果、マピコブラツクを含有しない䞊蚘珟像剀組成
物を䜿甚するずフむルタヌ装眮䞊に秒圓り、平方
ミリメヌタヌ圓り60粒子のトナヌが付着したのに
察しマピコブラツクを含有する䞊蚘珟像剀組成物
を䜿甚するず同䞀フむルタヌ装眮䞊に秒圓り、平
方ミリメヌタヌ圓り粒子のトナヌが付着した。
本発明の珟像剀組成物においおトナヌ粒子は䞻
ずしお倚くのれログラフ像圢成システム䞭に存圚
する磁気ブラシ珟像システムによ぀お生ずる磁界
のためにキダリア粒子に付着するず考えられる。
本明现曞の蚘茉により圓業者であれば他の実斜
䟋を想起するこずができよう。それ等は本発明の
範囲に含たれる。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  マグネタむト系顔料玄20重量〜玄50重量
    、及びゞカルボン酞ず次匏 匏䞭、は眮換及び非眮換の玄〜玄12個の炭
    玠原子を有するアルキレン基、〜12個の炭玠原
    子を有するアルキリデン基、及び〜12個の炭玠
    原子を有するシクロアルキリデン基から遞択さ
    れR′ずR″は眮換及び非眮換の〜12個の炭玠
    原子を有するアルキレン基、〜12個の炭玠原子
    を有するアルキレンアリヌレン基、及びアリヌレ
    ン基から遞択されずX′は氎玠又は〜個
    の炭玠原子を有するアルキル基から遞択されそ
    れぞれのは〜の数であるのゞプノヌル
    を含むゞオヌルずの重合䜓状゚ステル化生成物か
    らなる暹脂玄50重量〜玄80重量およびポリメ
    チルメタクリレヌト暹脂で被芆された鋌芯から成
    るキダリア材料を含んでなる改良された二成分非
    汚染性珟像剀組成物。  マグネタむト系顔料がマピコブラツクであ぀
    お20〜30重量の量存圚しおおり、ポリ゚ステル
    が−ビス−ヒドロキシむ゜プロポキシ
    プニルプロパンずフマル酞ずの反応生成物で
    あ぀お玄70〜80重量の量存圚しおいる、特蚱請
    求の範囲第項蚘茉の珟像剀組成物。  着色剀ずしおカヌボンブラツクが玄〜玄10
    重量の量添加されおいる、特蚱請求の範囲第
    項蚘茉の珟像剀組成物。  (a) れログラフ匏造圢成装眮を甚意し、 (b) ゞカルボン酞ず次匏 匏䞭、は眮換及び非眮換の玄〜玄12個の
    炭玠原子を有するアルキレン基、〜12個の炭
    玠原子を有するアルキリデン基、及び〜12個
    の炭玠原子を有するシクロアルキリデン基から
    遞択されR′ずR″は眮換及び非眮換の〜12
    個の炭玠原子を有するアルキレン基、〜12個
    の炭玠原子を有するアルキレンアリヌレン基、
    及びアリヌレン基から遞択されずX′は氎
    玠又は〜個の炭玠原子を有するアルキル基
    から遞択されそれぞれのは〜の数であ
    るのゞプノヌルを含むゞオヌルずの重合䜓
    状゚ステル化生成物からなる暹脂玄50重量〜
    箄80重量、玄20重量〜玄50重量のマグネ
    タむト系顔料およびポリメチルメタクリレヌト
    暹脂で被芆された鋌芯から成るキダリア材料を
    含んでなる改良された二成分非汚染性珟像剀組
    成物を前蚘装眮に加え、 (c) 前蚘像圢成装眮に静電朜像を圢成し、そしお (d) 圢成された像を珟像する、 こずを特城ずする耐汚れ−像を埗るためのそしお
    像圢成装眮䞭ぞの望たしくないトナヌ粒子の付着
    を防止するための方法。
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