JPH0357246A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JPH0357246A
JPH0357246A JP1191433A JP19143389A JPH0357246A JP H0357246 A JPH0357246 A JP H0357246A JP 1191433 A JP1191433 A JP 1191433A JP 19143389 A JP19143389 A JP 19143389A JP H0357246 A JPH0357246 A JP H0357246A
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cell
integrated circuit
semiconductor integrated
circuit device
cells
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JP1191433A
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Japanese (ja)
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Manabu Shibata
学 柴田
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/02Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
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    • H01L24/06Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
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    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits

Abstract

PURPOSE:To satisfy both a request from a maker's side and a request from a user's side by a method wherein an interconnection region is formed between I/O cells and outside pads and the cells and the pads are connected by the interconnection region by arbitrarily combining them. CONSTITUTION:An interconnection region 6 of a two-layer structure which can realize an interconnection in a right-angled direction is formed between I/O cells 3, 3a, 3b and outside pads 1, 1a, 1b. The cell 3a and the pad 1a which are not situated in opposite positions are connected by an interconnection 2a and the cell 3b and the pad 1b which are situated in opposite positions are connected by an interconnection 2b, respectively. Thereby, even when an optimum cell position requested on a maker's side and an optimum pad position requested on a user's side are not almost opposite, the cells 3, 3a, 3b and the pads 1, 1a, 1b can be connected by the region 6. That is to say, both the request from makers and the request from the users can be satisfied without changing these requests.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、半導体集積回路装置に適用して有効な技術に
関するもので、例えば、Bi−CMOSゲートアレイの
如き半導体集積回路装置に利用して有効な技術に関する
ものである. [従来の技術] Bi−CMOSゲートアレイ技術に関しては例えば「日
経エレクトロニクス4 1985年8月12日、p18
7〜p208に開示されている。
Detailed Description of the Invention [Industrial Application Field] The present invention relates to a technique that is effective when applied to a semiconductor integrated circuit device, for example, a technology that is effective when applied to a semiconductor integrated circuit device such as a Bi-CMOS gate array. It is about effective techniques. [Prior art] Bi-CMOS gate array technology is described in, for example, "Nikkei Electronics 4, August 12, 1985, p.
7 to p. 208.

ところで、係るゲートアレイの如きセミカスタム半導体
集積回路装置において,複数個のI/Oセルと外部パッ
ドとを各々大凡1対1に対応させた構或が考えられた. この大凡1対上に対応するI/Oセルと外部パッドとを
複数備える半導体集積回路装置の一例を示したのが第3
図である。
By the way, in a semi-custom semiconductor integrated circuit device such as a gate array, a structure has been considered in which a plurality of I/O cells and external pads are respectively provided in roughly one-to-one correspondence. The third example shows an example of a semiconductor integrated circuit device that includes a plurality of I/O cells and external pads that roughly correspond to one pair.
It is a diagram.

同図において,符号4はゲートアレイで構成される内部
回路を示しており、この内部回路4には、例えばBi−
CMOS回路等が形成されている.符号1は図示されな
いリードに接続される外部バソドを、3はI/Oセル(
外部インターフエイス回路)をそれぞれ示しており、こ
れらI/Oセル3,3〜3と外部パッド1,1〜lとは
それぞれ互いに大凡対向するよう配置され、該外部パツ
ド1とこの外部パッドlに大凡対向する位置の工/○セ
ル3とは、例えばアルミニウム等からなる配線2により
接続されている。
In the figure, reference numeral 4 indicates an internal circuit composed of a gate array, and this internal circuit 4 includes, for example, Bi-
CMOS circuits etc. are formed. Reference numeral 1 indicates an external bathode connected to a lead (not shown), and 3 indicates an I/O cell (
These I/O cells 3, 3-3 and external pads 1, 1-l are respectively arranged so as to be roughly opposed to each other, and external pad 1 and external pad l are connected to each other. The cell 3 located approximately opposite to the cell 3 is connected to the cell 3 by a wiring 2 made of, for example, aluminum.

すなわち、上記半導体集積回路装置においては、■/○
セル3.3〜3と外部パツド1,1〜1とが各々大凡1
対1に対応するよう構威されている。
That is, in the above semiconductor integrated circuit device, ■/○
Cells 3.3-3 and external pads 1, 1-1 are each approximately 1
It is configured to correspond to one-on-one.

なお,第3図においては図が煩雑になるのを避けるため
に、I/Oセル3,3〜3と外部パツド1,1〜↓とは
きちんと1対1に対応するよう配置されている。
In FIG. 3, in order to avoid complication of the drawing, the I/O cells 3, 3-3 and the external pads 1, 1-↓ are arranged in a one-to-one correspondence.

[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上記構成の半導体集積回路装置において
は以下の問題点がある。
[Problems to be Solved by the Invention] However, the semiconductor integrated circuit device having the above configuration has the following problems.

すなわち,メーカーサイドにおいては、上記外部バッド
1,1〜1に大凡l対1に対応するI/Oセル3,3〜
3の位置を、例えばノイズ等の特性面の向上を優先して
決定しているが,ユーザーサイドにおいては,上記外部
パッド1.1〜工に1対1に対応するリードピンの搭載
されるプリント基板上の位置を、該プリント基板の配線
レイアウトを最優先にして決定しているので,メーカー
サイドとユーザーサイドの要求する外部パッドの位置が
一致しなくなるという問題点がある。
That is, on the manufacturer's side, I/O cells 3, 3 to 1, which roughly correspond to the external pads 1 to 1,
The position of 3 is determined by giving priority to improving characteristics such as noise, but on the user side, the position of the printed circuit board on which lead pins are mounted in one-to-one correspondence with the external pads 1. Since the upper position is determined by giving top priority to the wiring layout of the printed circuit board, there is a problem that the positions of the external pads requested by the manufacturer and the user do not match.

このような問題点が生じると、通常はメーカーサイドの
要求する最適外部パッド(I/Oセル)位置に対応する
ようユーザーサイドにプリント基板の設計変更等をして
もらうことになるので、ユーザに迷惑をかけることにな
る。
When such a problem occurs, the user usually has to change the design of the printed circuit board to accommodate the optimal external pad (I/O cell) position requested by the manufacturer, so the user It will cause trouble.

本発明は係る問題点に鑑みなされたものであって、メー
カーサイドとユーザーサイドの要求(仕様)を変更させ
ることなく、共に満足させしむる半導体集積回路装置を
提供することを目的としている. [課題を解決するための手段コ 本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を説明すれば、下記のとおりである。
The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit device that satisfies both the manufacturer's and user's requirements (specifications) without changing them. [Means for Solving the Problems] Representative inventions disclosed in this application will be summarized as follows.

すなわち、工/○セルとこのI/Oセルの大凡対向する
位置に配置される外部パッドとを多数備え,このI/O
セルと該I/Oセルの大凡対向する位置に配置される外
部パッドとをそれぞれ接続するようにした半導体集積回
路装置において、前記I/Oセルと外部パッドとの間に
配線領域を形成したものである. [作用] 上記した手段によれば、I/Oセルと外部パッドとの間
に配線領域を形成するようにしたので,メーカーサイド
において要求される最適I/Oセル位置と、ユーザーサ
イドにおいて要求される最適外部パッド位置とが大凡対
向しなくとも、前記配線領域により、メーカーサイドに
おいて要求されるI/OセルとこのI/Oセルの対向位
置に配されていないユーザーサイドにおいて要求される
外部パッドとが接続可能になるという作用により,メー
カーサイドとユーザーサイドの要求(仕様)を変更する
ことなく,共に満足させるという上記目的が達威される
ことになる。
In other words, it is equipped with a large number of I/O cells and external pads arranged at positions roughly opposite to this I/O cell.
A semiconductor integrated circuit device in which a cell and an external pad arranged approximately opposite to the I/O cell are respectively connected, and a wiring region is formed between the I/O cell and the external pad. It is. [Function] According to the above-mentioned means, since a wiring area is formed between the I/O cell and the external pad, the optimum I/O cell position required by the manufacturer and the optimum I/O cell position required by the user can be adjusted. Even if the optimal external pad positions are not roughly opposed to each other, the wiring area allows the I/O cell required on the manufacturer's side to be connected to the external pad required on the user side that is not located at the opposite position of this I/O cell. As a result, the above objective of satisfying both the manufacturer's and user's requirements (specifications) without changing them will be achieved.

[実施例] 以下、本発明の実施例を図面を参照しながら説明する. 第1図には本発明に係る半導体集積回路装置の実施例が
示されている.その概要を説明すれば次のとおりである
. 同図において、符号4はゲートアレイで構威される内部
回路を示しており,この内部回路4には,例えばBi−
CMOS回路等が形成されている。
[Examples] Examples of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows an embodiment of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention. The outline is as follows. In the figure, reference numeral 4 indicates an internal circuit comprised of a gate array, and this internal circuit 4 includes, for example, Bi-
CMOS circuits and the like are formed.

符号1,la,lbは図示されないリードに接続される
外部パッドを、3.3a,3bはI/Oセル(外部イン
ターフェイス回路)をそれぞれ示しており、該I/Oセ
ル3,3a,3bはメーカーサイドにおいて要求される
最適位置に,一方上記外部バッド1,la,lbはユー
ザーサイドにおいて要求される最適位置にそれぞれ配置
されている.I/Oセル3とこのI/Oセル3に対応す
る(接続されなければならない)外部パッド1とは従来
と同様に大凡対向する位置に配置されているが、I/O
セル3aとこのI/Oセル3aに対応する(接続されな
ければならない)外部バッド1a、I/Oセル3bとこ
のI/Oセル3bに対応する(接続されなければならな
い)外部パッド1bは、本実施例においては,それぞれ
互いに対向しない位置に配置されている。
Reference numerals 1, la, and lb indicate external pads connected to leads not shown, and 3.3a and 3b indicate I/O cells (external interface circuits), respectively. The external pads 1, la, and lb are placed at the optimum positions required by the manufacturer, while the external pads 1, la, and lb are placed at the optimum positions required by the user. The I/O cell 3 and the external pad 1 that corresponds to (must be connected to) this I/O cell 3 are placed at roughly opposing positions as in the past, but the I/O
The cell 3a and the external pad 1a that corresponds to (must be connected to) this I/O cell 3a, the I/O cell 3b and the external pad 1b that corresponds to (must be connected to) this I/O cell 3b, In this embodiment, they are arranged at positions that do not face each other.

ここで、本実施例の半導体集積回路装置にあっては.I
/Oセル3,3a,3bと外部パッド1,la,lbと
の間には、直角方向(図における縦横方向)の配線を可
能とする、例えばアルミニウム等よりなる2層構造の配
線領域6が形成されており、上記I/Oセル3aとこの
工/○セル3aの対向位置に配置されない外部パッド1
aとは配線領域6において形成される配線2aにより、
上記I/Oセル3bとこのI/Oセル3bの対向位置に
配置されない外部パッド1bとは配線領域6において形
成される配線2bによりそれぞれ接続された状態となっ
ている。
Here, in the semiconductor integrated circuit device of this embodiment. I
Between the /O cells 3, 3a, 3b and the external pads 1, la, lb, there is a wiring region 6 of a two-layer structure made of, for example, aluminum, which enables wiring in the perpendicular direction (vertical and horizontal directions in the figure). The external pad 1 is formed and is not placed at a position facing the I/O cell 3a and this cell 3a.
a refers to the wiring 2a formed in the wiring area 6,
The I/O cell 3b and the external pad 1b which is not placed opposite the I/O cell 3b are connected to each other by a wiring 2b formed in the wiring region 6.

また、I/Oセル3とこのI/Oセル3の対向位置に配
置される外部パッド1とは、従来と同様な配[2により
接続された状態となっている6このように構成される半
導体集積回路装置によれば次のような効果を得ることが
できる。
In addition, the I/O cell 3 and the external pad 1 arranged opposite to the I/O cell 3 are connected by the same arrangement as in the past. According to the semiconductor integrated circuit device, the following effects can be obtained.

すなわちyI/Oセル3,3a,3bと外部バッド1,
la,lbとの間に配線領域6を形成するようにしたの
で、メーカーサイドにおいて要求される最適I/Oセル
位置と,ユーザーサイドにおいて要求される最適外部パ
ッド位置とが大凡対向しなくとも、前記配線領域6によ
り、メーカーサイドにおいて要求される工/○セル3a
,3bとこのI/Oセル3a,3bの対向位置に配され
でいないユーザーサイドにおいて要求される外部バッド
la,lbとが接続可能になるという作用により、メー
カーサイドとユーザーサイドの要求(仕様)を変更する
ことなく、共に満足することが可能になる. 第2図には本発明に係る半導体集積回路装置の他の実施
例が示されている. 同図において,符号11.11〜11は外部パッドを,
11aは該外部パッドll中の入力用の外部パッドを、
llbは該外部パッド1↓中の出力用の外部パッドをそ
れぞれ示しており、これら外部バッド11,lla,l
lbの内方には多数のI/Oセルが配置されている.符
号20は上記入力用の外部パッドllaに対応する(接
続されなければならない)入力用のI/Oセルを、21
は上記出力用の外部パッドllbに対応する(接続され
なければならない)出力用のI/Oセルをそれぞれ示し
ており、これらI/Oセル20,21の内方には点線で
示されるゲートアレイで構成される内部回路33が形成
されている。上記I/Oセル20.21はメーカーサイ
ドにおいて要求される最適位置に、また上記外部パッド
11,1la,llbはユーザーサイドにおいて要求さ
れる最適位置にそれぞれ配置されている。上記I/Oセ
ル20,21と外部パッド11,lla,11bとの間
には上記実施例と同様な配線領域16が形成されており
,上記入力用の外部パッドl1aと入力用のI/Oセル
2oとは該配線領域16に形成される配線12により、
上記出力用の外部パッドllbと出力用のI/Oセル2
1とは該配線領域l6に形成される配線14によりそれ
ぞれ接続されており、また入力用のI/Oセル20と出
力用のI/Oセル21とは内部回路33において形成さ
れる配[22により接続されている。
That is, yI/O cells 3, 3a, 3b and external pad 1,
Since the wiring area 6 is formed between la and lb, the optimum I/O cell position required on the manufacturer side and the optimum external pad position required on the user side do not have to be roughly opposite. Due to the wiring area 6, the required work on the manufacturer side/○ cell 3a
, 3b and the external pads la, lb required on the user side that are not placed opposite the I/O cells 3a, 3b can be connected, thereby meeting the requirements (specifications) of the manufacturer side and the user side. It becomes possible to satisfy both without changing. FIG. 2 shows another embodiment of the semiconductor integrated circuit device according to the present invention. In the same figure, symbols 11.11 to 11 indicate external pads,
11a is an external pad for input in the external pad ll,
llb indicates the external pad for output in the external pad 1↓, and these external pads 11, lla, l
A large number of I/O cells are arranged inside the lb. Reference numeral 20 designates an I/O cell for input corresponding to (must be connected to) the external pad lla for input, and 21
indicate output I/O cells that correspond to (must be connected to) the above-mentioned output external pad llb, and inside these I/O cells 20 and 21 are gate arrays indicated by dotted lines. An internal circuit 33 is formed. The I/O cells 20, 21 are placed at optimal positions required by the manufacturer, and the external pads 11, 1la, and llb are placed at optimal positions required by the user. A wiring area 16 similar to that in the above embodiment is formed between the I/O cells 20, 21 and the external pads 11, lla, 11b, and the input external pad l1a and the input I/O The cell 2o is defined by the wiring 12 formed in the wiring region 16.
The above external pad llb for output and I/O cell 2 for output
1 are connected to each other by a wiring 14 formed in the wiring region l6, and the input I/O cell 20 and the output I/O cell 21 are connected to each other by a wiring 22 formed in the internal circuit 33. connected by.

このように、本実施例においては,メーカーサイドにお
いて要求される最適I/Oセル21の位置と,ユーザー
サイドにおいて要求される最適外部パッドllbの位置
とが大凡対向していないが,前記配線領域16により、
メーカーサイドにおいて要求されるI/Oセル21とこ
のI/Oセル21の対向位置に配されていないユーザー
サイドにおいて要求される外部パッドllbとが接続可
能になっており、上記実施例と同様にメーカーサイドと
ユーザーサイドの要求(仕様)を変更することなく、共
に満足することが可能となっている。
As described above, in this embodiment, the position of the optimum I/O cell 21 required on the manufacturer side and the position of the optimum external pad llb required on the user side are not approximately opposed to each other; 16,
The I/O cell 21 required on the manufacturer side can be connected to the external pad llb required on the user side which is not placed in the opposite position to this I/O cell 21, as in the above embodiment. This makes it possible to satisfy both the manufacturer's and user's requirements (specifications) without changing them.

しかも、本実施例においては,内部回路33内に形成さ
れる配,II22の長さを極力短くし得るようになって
いるので,入力用の外部パッドlla、配線12、入力
用のI/Oセル20.配線22,出力用のI/Oセル2
1、配,iitl4、出力用ノ外部パッドllbのライ
ンをモニター用として利用した場合には、そのバスディ
レイを極めて小さくできるという効果が期待できるよう
になっている。
Moreover, in this embodiment, since the length of the wiring II22 formed in the internal circuit 33 can be made as short as possible, the external pad lla for input, the wiring 12, Cell 20. Wiring 22, I/O cell 2 for output
1. If the output external pad llb line is used for monitoring, it can be expected that the bus delay can be made extremely small.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that the present invention is not limited to the above Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor.

例えば、上記実施例おいては、配線領域は2層配線構造
となっているが,3層以上の配線構造を採用することも
可能である。。
For example, in the above embodiment, the wiring area has a two-layer wiring structure, but it is also possible to adopt a wiring structure of three or more layers. .

また、上記実施例おいては、ゲートアレイにより構成さ
れた半導体集積回路装置に対する適用例が述べられてい
るが、本発明は,例えばセミカスタムタイプの半導体集
積回路装置等に対しても適用可能であり,要は複数個の
I/Oセルと外部パッドとを各々大凡1対1に対応させ
るよう構成されていた半導体集積回路装置全てに対して
適用可能である. また、上記実施例おいては、Bi−CMOS回路を含ん
でなる半導体集積回路装置に対する適用例が述べられて
いるが、本発明は他の回路素子を含んでなる半導体集積
回路装置に対しても適用できるというのはいうまでもな
い。
Further, in the above embodiment, an example of application to a semiconductor integrated circuit device configured with a gate array is described, but the present invention can also be applied to, for example, a semi-custom type semiconductor integrated circuit device. In short, it is applicable to all semiconductor integrated circuit devices that are configured so that a plurality of I/O cells and external pads correspond approximately one-to-one. Further, in the above embodiment, an example of application to a semiconductor integrated circuit device including a Bi-CMOS circuit is described, but the present invention also applies to a semiconductor integrated circuit device including other circuit elements. Needless to say, it is applicable.

[発明の効果] 本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば下記のとおりである
[Effects of the Invention] The effects obtained by typical inventions disclosed in this application are briefly explained below.

すなわち,I/Oセルとこの工/○セルの大凡対向する
位置に配置される外部パッドとを多数備え、この工/○
セルと該I/Oセルの大凡対向する位置に配置される外
部パッドとをそれぞれ接続するようにした半導体集積回
路装置において、前記I/Oセルと外部パッドとの間に
配8領域を形成するようにしたので、メーカーサイドに
おいて要求される最適I/Oセル位置と,ユーザーサイ
ドにおいて要求される最適外部パッド位置とが大凡対向
しなくとも、前記配線領域により、メーカーサイドにお
いて要求される工/○セルとこのI/Oセルの対向位置
に配されていないユーザーサイドにおいて要求される外
部パッドとが接続可能になる。その結果,メーカーサイ
ドとユーザーサイドの要求(仕様)を変更することなく
、共に満足することが可能になる.
In other words, it is equipped with a large number of I/O cells and external pads arranged at positions roughly opposite to this work/○ cell, and this work/○
In a semiconductor integrated circuit device in which a cell and an external pad arranged at a position roughly opposite to the I/O cell are respectively connected, an interconnection area is formed between the I/O cell and the external pad. As a result, even if the optimum I/O cell position required by the manufacturer side and the optimum external pad position required by the user side are not roughly opposed, the wiring area allows the required processing/processing time to be achieved by the manufacturer side. ○ It becomes possible to connect the cell to an external pad required on the user side that is not placed opposite the I/O cell. As a result, it becomes possible to satisfy both the manufacturer's and user's requirements (specifications) without changing them.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明に係る半導体集積回路装置の実施例の要
部の平面図、 第2図は本発明に係る半導体集積回路装置の他の実施例
の平面図、 第3図は従来技術に係る半導体集積回路装置の要部の平
面図である. 1 v 1 a r l b + 1 1 + 1 1
 a + 1 l b ・・・・外部パッド.2.2a
,2b,12.14・=・配線、3.3a,3b,20
.21”I/Oセル、6,16・・・・配線領域、 第 1 図
FIG. 1 is a plan view of a main part of an embodiment of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention, FIG. 2 is a plan view of another embodiment of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention, and FIG. 3 is a plan view of a prior art. FIG. 2 is a plan view of the main parts of such a semiconductor integrated circuit device. 1 v 1 a r l b + 1 1 + 1 1
a + 1 l b ...external pad. 2.2a
, 2b, 12.14 = wiring, 3.3a, 3b, 20
.. 21” I/O cell, 6, 16... wiring area, Fig. 1

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、I/OセルとこのI/Oセルの大凡対向する位置に
配置される外部パッドとを多数備え、このI/Oセルと
該I/Oセルの大凡対向する位置に配置される外部パッ
ドとをそれぞれ接続するようにした半導体集積回路装置
において、前記I/Oセルと外部パッドとの間に配線領
域を形成したことを特徴とする半導体集積回路装置。 2、前記I/Oセルと外部パッドとの接続は、前記配線
領域により任意の組合せでできることを特徴とする特許
請求の範囲第1項の半導体集積回路装置。 3、前記半導体集積回路装置にはゲートアレイが形成さ
れていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載ま
たは第2項記載の半導体集積回路装置。
[Claims] 1. An I/O cell and a large number of external pads arranged at positions approximately opposite to the I/O cell, the I/O cell and the I/O cell at positions approximately opposite to each other. 1. A semiconductor integrated circuit device, wherein a wiring region is formed between the I/O cell and the external pad, in the semiconductor integrated circuit device, the I/O cell and the external pad being connected to each other. 2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the connection between the I/O cell and the external pad can be made in any combination using the wiring area. 3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1 or 2, wherein a gate array is formed in the semiconductor integrated circuit device.
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