JPH0353494A - 薄膜el素子の構造 - Google Patents
薄膜el素子の構造Info
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- JPH0353494A JPH0353494A JP1184599A JP18459989A JPH0353494A JP H0353494 A JPH0353494 A JP H0353494A JP 1184599 A JP1184599 A JP 1184599A JP 18459989 A JP18459989 A JP 18459989A JP H0353494 A JPH0353494 A JP H0353494A
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- light emitting
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Links
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Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野
この発明は薄膜+7.1−、素子の構造に係り、特に。
発光体の発光効率を向トさせ、更に、低電圧駆動を可能
にした薄膜E 1.、素rの構造に関する。
にした薄膜E 1.、素rの構造に関する。
(ロ)従来技術・発明が解決しようとする問題点従来の
tす膜I1.素−rの構造としては2例えば、る。
tす膜I1.素−rの構造としては2例えば、る。
この第2図の薄膜Eし素子は、ガラス基鈑1の1−1に
第1の電極(透明電極)2をスパッタ等で膜形成して電
極パターンを構成し、次で、第1の絶縁層3を形成して
いる。さらに、この第1の絶縁層3の上にZnSを発光
母体とする発光層4を蒸着またはスパッタ等で形成した
後、真空中熱処理を施し、第2の絶縁層5をスパッタ等
で形成する。
第1の電極(透明電極)2をスパッタ等で膜形成して電
極パターンを構成し、次で、第1の絶縁層3を形成して
いる。さらに、この第1の絶縁層3の上にZnSを発光
母体とする発光層4を蒸着またはスパッタ等で形成した
後、真空中熱処理を施し、第2の絶縁層5をスパッタ等
で形成する。
そして、この第2の絶縁層5の上に第2の電極(背面電
極)6を形成したものである。
極)6を形成したものである。
しかし、上記した従来のものにおいては1発光閾値電圧
が180V、、前後であるため駆動電圧が高く、またZ
、S : M、またはZnS : T、F、以外の発光
層は発光効率が低いという欠点があった。
が180V、、前後であるため駆動電圧が高く、またZ
、S : M、またはZnS : T、F、以外の発光
層は発光効率が低いという欠点があった。
この発明は上記した点に鑑みてなされたものであり、そ
のI]I的とするところは、発光体の発光効率を向」ニ
させ、更に、低電圧駆動を可能にした一99膜[らL素
子の構造を提供することにある。
のI]I的とするところは、発光体の発光効率を向」ニ
させ、更に、低電圧駆動を可能にした一99膜[らL素
子の構造を提供することにある。
(ハ)問題を解決するための手段
この発明の薄膜EL素子の構造は、ガラス基板の一ヒに
、透明電極と、第1の絶縁層と1発光層と、第2−の絶
縁層と、背面電極とを順次積層した薄膜EL、素rにお
いて、11?1記発光層の発光母体はZoSにSeを混
合したZnS、−2Sexであり1発光中心はM、また
は希土類または希−L類化合物であり、発光層と第1の
絶縁層との間及び発光層と第2の絶縁層との間にはZn
S、からなる電−r加速層を設けたものである。
、透明電極と、第1の絶縁層と1発光層と、第2−の絶
縁層と、背面電極とを順次積層した薄膜EL、素rにお
いて、11?1記発光層の発光母体はZoSにSeを混
合したZnS、−2Sexであり1発光中心はM、また
は希土類または希−L類化合物であり、発光層と第1の
絶縁層との間及び発光層と第2の絶縁層との間にはZn
S、からなる電−r加速層を設けたものである。
(ニ)作用
この発明Iごよれば、ガラス基板のにに、透明電極と、
第1の絶縁層と、発光層と、第2の絶縁層と、背面電極
とを順次積層した薄膜EL素子において、前記発光層の
発光1:上体は/、oSにS6を混合したZ、Se−、
Se、であり、発光中心はM。または希−1一類または
希土類化合物であり、発光層と第1の絶縁層との間及び
発光層と第2の絶縁層との間にはZ、Seからなるiト
F加速層を設けたので、電子加速層は発光層内のホット
エレクトロンを加速させる。
第1の絶縁層と、発光層と、第2の絶縁層と、背面電極
とを順次積層した薄膜EL素子において、前記発光層の
発光1:上体は/、oSにS6を混合したZ、Se−、
Se、であり、発光中心はM。または希−1一類または
希土類化合物であり、発光層と第1の絶縁層との間及び
発光層と第2の絶縁層との間にはZ、Seからなるiト
F加速層を設けたので、電子加速層は発光層内のホット
エレクトロンを加速させる。
また1発光層の発光母体と発光中心とは大部分間jll
i鉛鉱構造となるからホットエレクトロンの動きを妨げ
るものが少なく、したがって、発光体の発光効率が向上
し、同時に発光層4+′f電圧が低)する。
i鉛鉱構造となるからホットエレクトロンの動きを妨げ
るものが少なく、したがって、発光体の発光効率が向上
し、同時に発光層4+′f電圧が低)する。
(ホ)実施例
この発明に係る%、’J膜IF、 L、素子の構造の実
施例を第1図に基づいて説明する。
施例を第1図に基づいて説明する。
なお、従来例と同一部分には同一符号を付してその説明
を省略する。
を省略する。
図中、7は第1の絶縁層3十に電子ビーム蒸着法で形成
した7、、、Seからなる膜厚1000乃至1500人
の電子加速層であり、この電子加速層7は閃亜鉛鉱型の
結晶成長を促すため真空熱処理が施される。
した7、、、Seからなる膜厚1000乃至1500人
の電子加速層であり、この電子加速層7は閃亜鉛鉱型の
結晶成長を促すため真空熱処理が施される。
8は電子ビーム蒸着法またはスパッタ法等で形成した膜
厚4000人の発光層であり、この発光層8の発光1:
上体はZ、SにSeを混合したZ、、Se、Se、、で
あり、発光中心はM。または希−L類または希に類化合
物である。
厚4000人の発光層であり、この発光層8の発光1:
上体はZ、SにSeを混合したZ、、Se、Se、、で
あり、発光中心はM。または希−L類または希に類化合
物である。
なお、Xの値は0旧乃至0.5が適当である。
9は発光層8と第2の絶縁層5との間に形成した電子加
速層であり、この電子加速層9は電子加速層7と同様な
条件と処理とにより膜形成される。
速層であり、この電子加速層9は電子加速層7と同様な
条件と処理とにより膜形成される。
このように構成した薄膜E]−素fにおいて、電子加速
層7.9は発光層8内のホットエレクトロンを加速させ
る。
層7.9は発光層8内のホットエレクトロンを加速させ
る。
また、電子加速層7.9の結晶構造は閃亜鉛鉱型の結晶
構造であることにより、発光層8の発光母体であるZn
5l−XS−Xも大部分が閃亜鉛鉱型の結晶構造となり
、同様に、発光中心も大部分が閃亜鉛鉱型の結晶構造と
なる。
構造であることにより、発光層8の発光母体であるZn
5l−XS−Xも大部分が閃亜鉛鉱型の結晶構造となり
、同様に、発光中心も大部分が閃亜鉛鉱型の結晶構造と
なる。
このため、ホットエレクトロンの動きを妨げるものが少
なくなり発光効率が向−ヒし、同時に1発光閾値電圧を
低下させることができる。
なくなり発光効率が向−ヒし、同時に1発光閾値電圧を
低下させることができる。
(へ)発明の効果
この発明に係る薄膜[;、L素子の構造によれば上述の
ように構成したので1発光体の発光効率が向上し、更に
、低電圧駆動が可能になる。
ように構成したので1発光体の発光効率が向上し、更に
、低電圧駆動が可能になる。
また、低電J1駆動が可能であるから信頼性も向トし、
従来、用いていた(;i頼性に乏しい強誘電体も使用す
る必要がなくなる。
従来、用いていた(;i頼性に乏しい強誘電体も使用す
る必要がなくなる。
第1図はこの発明に係る薄膜lミl、素−rの(Iη造
の実施例を示す断面図である。 第2図は従来の実施例の断面図である。 主要部分の符号の説明 1ニガラス基板 2:第1の電極(透明電極) 3:第1の絶縁層 5:第2の絶縁層 6:第2の電極(背面電極) 7.9・電子加速層 8:発光層
の実施例を示す断面図である。 第2図は従来の実施例の断面図である。 主要部分の符号の説明 1ニガラス基板 2:第1の電極(透明電極) 3:第1の絶縁層 5:第2の絶縁層 6:第2の電極(背面電極) 7.9・電子加速層 8:発光層
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ガラス基板の上に、透明電極と、第1の絶縁層と、発
光層と、第2の絶縁層と、背面電極とを順次積層した薄
膜EL素子において、 前記発光層の発光母体はZnSにSeを混合したZnS
_1_−_xSe_xであり、発光中心はMeまたは希
土類または希土類化合物であり、発光層と第1の絶縁層
との間及び発光層と第2の絶縁層との間にはZnSeか
らなる電子加速層を設けたことを特徴とする薄膜EL素
子の構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1184599A JPH0353494A (ja) | 1989-07-19 | 1989-07-19 | 薄膜el素子の構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1184599A JPH0353494A (ja) | 1989-07-19 | 1989-07-19 | 薄膜el素子の構造 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0353494A true JPH0353494A (ja) | 1991-03-07 |
Family
ID=16156031
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1184599A Pending JPH0353494A (ja) | 1989-07-19 | 1989-07-19 | 薄膜el素子の構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0353494A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009085695A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Panasonic Corp | バイオセンサを用いた測定方法 |
-
1989
- 1989-07-19 JP JP1184599A patent/JPH0353494A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009085695A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Panasonic Corp | バイオセンサを用いた測定方法 |
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