JPH0353404Y2 - - Google Patents
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- JPH0353404Y2 JPH0353404Y2 JP3239487U JP3239487U JPH0353404Y2 JP H0353404 Y2 JPH0353404 Y2 JP H0353404Y2 JP 3239487 U JP3239487 U JP 3239487U JP 3239487 U JP3239487 U JP 3239487U JP H0353404 Y2 JPH0353404 Y2 JP H0353404Y2
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- JP
- Japan
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- tank
- pipe
- refrigerator
- refrigerant
- emitter
- Prior art date
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- Expired
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- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 8
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 2
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 13
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Landscapes
- Rigid Pipes And Flexible Pipes (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本考案は、イオンビーム描画装置等のイオンビ
ーム装置に使用して有効なガスフエーズイオン源
に関する。
ーム装置に使用して有効なガスフエーズイオン源
に関する。
[従来の技術]
最近、ガスフエーズイオン源を用いたイオンビ
ーム装置が開発されている。このガスフエーズイ
オン源は、先端が鋭く形成されたエミツタ先端に
例えばヘリウムガスを供給し、このヘリウムを強
電界によつて電離させ、イオン化するイオン源で
ある。
ーム装置が開発されている。このガスフエーズイ
オン源は、先端が鋭く形成されたエミツタ先端に
例えばヘリウムガスを供給し、このヘリウムを強
電界によつて電離させ、イオン化するイオン源で
ある。
このようなイオン源においては、ビーム電流を
増大させるため、エミツタを効率良く4°K程度に
冷却する必要がある。そのため、従来第2図に示
すような構造のものが開発されている。
増大させるため、エミツタを効率良く4°K程度に
冷却する必要がある。そのため、従来第2図に示
すような構造のものが開発されている。
第2図において、1は内部が高真空に保たれた
イオン源外壁、2は内部に冷媒、例えば液体ヘリ
ウム3を満たしたタンクで、イオン源外壁1の内
部にステンレス製のベローズ等を介して熱的に絶
縁された状態で支持されている。4はこのタンク
2の底部に固定された熱伝導性が高い電気絶縁物
質、例えばサフアイア、5はこのサフアイア4の
底部に固定された銅製のベース、6はこのベース
5の下部に着脱可能に取付けられたホルダで、こ
のホルダには先端が尖鋭に加工されたエミツタ7
が保持されている。8はこのエミツタ7に対向し
て配置された引出電極で、中央部にイオン通過用
穴8aが形成されており、また、この引出電極は
絶縁物質製の支持筒9を介して前記ベース5に固
定されている。10は前記エミツタ7の近傍に例
えばヘリウムガスを導入するためのパイプであ
る。11は冷凍器で、この冷凍器は回収パイプ1
2を介して回収された前記タンク2内で気化した
ヘリウムガスを液化するためのものであり、得ら
れた液体ヘリウムは供給パイプ13を介して前記
タンク2内に供給される。これらのパイプとして
はトランスフアーチユーブの如き二重管で、しか
もその間を真空に保つた構造のものが使用され、
ヘリウムガス及び液体ヘリウムの温度上昇をでき
るだけ抑えるようしてある。
イオン源外壁、2は内部に冷媒、例えば液体ヘリ
ウム3を満たしたタンクで、イオン源外壁1の内
部にステンレス製のベローズ等を介して熱的に絶
縁された状態で支持されている。4はこのタンク
2の底部に固定された熱伝導性が高い電気絶縁物
質、例えばサフアイア、5はこのサフアイア4の
底部に固定された銅製のベース、6はこのベース
5の下部に着脱可能に取付けられたホルダで、こ
のホルダには先端が尖鋭に加工されたエミツタ7
が保持されている。8はこのエミツタ7に対向し
て配置された引出電極で、中央部にイオン通過用
穴8aが形成されており、また、この引出電極は
絶縁物質製の支持筒9を介して前記ベース5に固
定されている。10は前記エミツタ7の近傍に例
えばヘリウムガスを導入するためのパイプであ
る。11は冷凍器で、この冷凍器は回収パイプ1
2を介して回収された前記タンク2内で気化した
ヘリウムガスを液化するためのものであり、得ら
れた液体ヘリウムは供給パイプ13を介して前記
タンク2内に供給される。これらのパイプとして
はトランスフアーチユーブの如き二重管で、しか
もその間を真空に保つた構造のものが使用され、
ヘリウムガス及び液体ヘリウムの温度上昇をでき
るだけ抑えるようしてある。
[考案が解決しようとする問題点]
このように冷凍器11を用いてタンク2内で気
化したヘリウムガスを液化して再利用する場合に
は、タンク2内で気化したヘリウムガスを回収す
る回収パイプ12と冷凍器で液化された液体ヘリ
ウムタンク内に供給する供給パイプ13との2つ
のパイプが必要となるわけであるが、従来におい
ては同図で示すように回収及び供給パイプを単に
並列に配置した状態で使用しているため、余分な
スペースを必要とすると共に、熱的なロスを抑え
る面でも限界があつた。
化したヘリウムガスを液化して再利用する場合に
は、タンク2内で気化したヘリウムガスを回収す
る回収パイプ12と冷凍器で液化された液体ヘリ
ウムタンク内に供給する供給パイプ13との2つ
のパイプが必要となるわけであるが、従来におい
ては同図で示すように回収及び供給パイプを単に
並列に配置した状態で使用しているため、余分な
スペースを必要とすると共に、熱的なロスを抑え
る面でも限界があつた。
そこで、本考案はかかる不都合を解決すること
を目的とするものである。
を目的とするものである。
[問題点を解決するための手段]
上記目的を達成するために、本考案はエミツタ
と、該エミツタを冷却するための冷媒と、該冷媒
を収納するタンクと、該タンク内で気化した冷媒
ガスを回収するための回収パイプと、該回収パイ
プを介して回収された冷媒ガスを液化するための
冷凍器と、該冷凍器で液化された冷媒を前記タン
クに供給するための供給パイプと、前記エミツタ
近傍にイオン化すべきガスを供給するための手段
とを備えたガスフエーズイオン源において、前記
回収パイプの内部に前記供給パイプを設置したこ
とを特徴とする。
と、該エミツタを冷却するための冷媒と、該冷媒
を収納するタンクと、該タンク内で気化した冷媒
ガスを回収するための回収パイプと、該回収パイ
プを介して回収された冷媒ガスを液化するための
冷凍器と、該冷凍器で液化された冷媒を前記タン
クに供給するための供給パイプと、前記エミツタ
近傍にイオン化すべきガスを供給するための手段
とを備えたガスフエーズイオン源において、前記
回収パイプの内部に前記供給パイプを設置したこ
とを特徴とする。
以下、本考案の実施例を図面に基づいて詳説す
る。
る。
[実施例]
第1図は本考案の一実施例を示す構成略図であ
り、第2図と同一番号のものは同一構成要素を示
すものである。
り、第2図と同一番号のものは同一構成要素を示
すものである。
第1図において、14はタンク2と冷凍器11
とを接続するための例えばステンレスで形成され
たパイプで、このパイプは同心状に配置された第
1、第2,第3及び第4のパイプ14a,14
b,14c,14dから構成されている。この各
パイプのうち、第1のパイプ14a内は冷凍器1
1で得られた液体ヘリウムを通すためのもので、
タンク2側の先端が液体ヘリウム3に浸されてい
る。また、第1、第2のパイプ14aと14bと
の空間はその両側が断熱材で形成された蓋体15
a,15b(冷凍器11側に置かれる蓋体15b
は図示せず)で密封されて真空に保たれている。
さらに、第2、第3のパイプ14bと14cとの
空間はタンク2内で気化したヘリウムガスを通す
ためのもので、これらのタンク2側の端部はタン
ク上端部に置かれタンク内で気化したヘリウムガ
スが回収し易いようにしてある。さらに、また、
第3、第4のパイプ14cと14dとの空間はそ
の両端部が断熱材で形成された蓋体16a,16
b(冷凍器11側に置かれる蓋体16bは図示せ
ず)で密封されて真空に保たれており、この第4
のパイプ14dがタンク11の上端部に固定され
ている。尚、図示しないが各パイプの間には所望
の〓間を維持するための断熱材で形成されたアン
カーが設けてあり、また、各アンカーは内側のパ
イプに対してできるだけ小さい面積で接触するよ
うな形状にしてある。
とを接続するための例えばステンレスで形成され
たパイプで、このパイプは同心状に配置された第
1、第2,第3及び第4のパイプ14a,14
b,14c,14dから構成されている。この各
パイプのうち、第1のパイプ14a内は冷凍器1
1で得られた液体ヘリウムを通すためのもので、
タンク2側の先端が液体ヘリウム3に浸されてい
る。また、第1、第2のパイプ14aと14bと
の空間はその両側が断熱材で形成された蓋体15
a,15b(冷凍器11側に置かれる蓋体15b
は図示せず)で密封されて真空に保たれている。
さらに、第2、第3のパイプ14bと14cとの
空間はタンク2内で気化したヘリウムガスを通す
ためのもので、これらのタンク2側の端部はタン
ク上端部に置かれタンク内で気化したヘリウムガ
スが回収し易いようにしてある。さらに、また、
第3、第4のパイプ14cと14dとの空間はそ
の両端部が断熱材で形成された蓋体16a,16
b(冷凍器11側に置かれる蓋体16bは図示せ
ず)で密封されて真空に保たれており、この第4
のパイプ14dがタンク11の上端部に固定され
ている。尚、図示しないが各パイプの間には所望
の〓間を維持するための断熱材で形成されたアン
カーが設けてあり、また、各アンカーは内側のパ
イプに対してできるだけ小さい面積で接触するよ
うな形状にしてある。
かかる構成において、タンク2内で気化したヘ
リウムガスは第2、第3のパイプ14bと14c
との空間を通つて冷凍器11に導かれ、この冷凍
器によつて液化される。得られた液体ヘリウムは
第1のパイプ14a内を通つてタンク2内に導入
される。このとき、液体ヘリウムが通過する第1
のパイプ14aの外周は従来のように真空槽だけ
で熱シールドされることなく、真空槽の他にさら
にタンク内で気化したヘリウムガス槽で熱シール
ドされることになるため、熱シールド効果が向上
し、液体ヘリウムの消費を最小限に抑えることが
可能となる。
リウムガスは第2、第3のパイプ14bと14c
との空間を通つて冷凍器11に導かれ、この冷凍
器によつて液化される。得られた液体ヘリウムは
第1のパイプ14a内を通つてタンク2内に導入
される。このとき、液体ヘリウムが通過する第1
のパイプ14aの外周は従来のように真空槽だけ
で熱シールドされることなく、真空槽の他にさら
にタンク内で気化したヘリウムガス槽で熱シール
ドされることになるため、熱シールド効果が向上
し、液体ヘリウムの消費を最小限に抑えることが
可能となる。
尚、前述の説明は本考案の一例であり、実施に
あたつては幾多の変形が考えられる。例えば上記
実施例ではタンクと冷凍器とを接続するパイプに
おいて、液体ヘリウムと液体ヘリウムガスとの間
には真空の空間を形成したが、断熱材を充填して
も良い。
あたつては幾多の変形が考えられる。例えば上記
実施例ではタンクと冷凍器とを接続するパイプに
おいて、液体ヘリウムと液体ヘリウムガスとの間
には真空の空間を形成したが、断熱材を充填して
も良い。
また、上記実施例ではタンクと冷凍器とを接続
するパイプを4重構造となしたが、これに限定さ
れることなく、5重構造以上となし液体ヘリウム
とヘリウムガス及びヘリウムガスと大気との間に
形成する真空の空間の数を2層以上となせば、熱
授受をより一層少なくすることが可能となる。
するパイプを4重構造となしたが、これに限定さ
れることなく、5重構造以上となし液体ヘリウム
とヘリウムガス及びヘリウムガスと大気との間に
形成する真空の空間の数を2層以上となせば、熱
授受をより一層少なくすることが可能となる。
また、冷凍器11で発生する振動をできるだけ
タンク側に伝達しないようにパイプ14の全長あ
るいは中間部の例えばコーナー部分を蛇腹状に加
工し、振動を吸収できるようにしても良い。
タンク側に伝達しないようにパイプ14の全長あ
るいは中間部の例えばコーナー部分を蛇腹状に加
工し、振動を吸収できるようにしても良い。
[効果]
以上詳述した如く本考案によれば、タンクで気
化したヘリウムガス回収用パイプと液体ヘリウム
供給とを実質的に一本のパイプで行なうことがで
きるため、タンクと冷凍器とを接続するにあた
り、デツドスペースを生じることなく効率良く配
管することが可能となる。また、熱シールド効果
により熱的ロスを従来よりもさらに低減させるこ
とが可能となる。
化したヘリウムガス回収用パイプと液体ヘリウム
供給とを実質的に一本のパイプで行なうことがで
きるため、タンクと冷凍器とを接続するにあた
り、デツドスペースを生じることなく効率良く配
管することが可能となる。また、熱シールド効果
により熱的ロスを従来よりもさらに低減させるこ
とが可能となる。
第1図は本考案の一実施例を示す構成略図、第
2図は従来例を説明するための図である。 1:イオン源外壁、2:タンク、3:液体ヘリ
ウム、4:サフアイア、5:ベース、6:ホル
ダ、7:エミツタ、8:引出電極、8a:イオン
通過用穴、9:支持筒、10:パイプ、11:冷
凍器、12:回収パイプ、13:供給パイプ、1
4:パイプ、14a乃至14d:第1乃至第4の
パイプ。
2図は従来例を説明するための図である。 1:イオン源外壁、2:タンク、3:液体ヘリ
ウム、4:サフアイア、5:ベース、6:ホル
ダ、7:エミツタ、8:引出電極、8a:イオン
通過用穴、9:支持筒、10:パイプ、11:冷
凍器、12:回収パイプ、13:供給パイプ、1
4:パイプ、14a乃至14d:第1乃至第4の
パイプ。
Claims (1)
- エミツタと、該エミツタを冷却するための冷媒
と、該冷媒を収納するタンクと、該タンク内で気
化した冷媒ガスを回収するための回収パイプと、
該回収パイプを介して回収された冷媒ガスを液化
するための冷凍器と、該冷凍器で液化された冷媒
を前記タンクに供給するための供給パイプと、前
記エミツタ近傍にイオン化すべきガスを供給する
ための手段とを備えたガスフエーズイオン源にお
いて、前記回収パイプの内部に前記供給パイプを
設置したことを特徴とするガスフエーズイオン
源。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3239487U JPH0353404Y2 (ja) | 1987-03-05 | 1987-03-05 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3239487U JPH0353404Y2 (ja) | 1987-03-05 | 1987-03-05 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63139754U JPS63139754U (ja) | 1988-09-14 |
JPH0353404Y2 true JPH0353404Y2 (ja) | 1991-11-21 |
Family
ID=30839029
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3239487U Expired JPH0353404Y2 (ja) | 1987-03-05 | 1987-03-05 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0353404Y2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5134439B2 (ja) * | 2008-05-30 | 2013-01-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオンビーム装置 |
US8779380B2 (en) * | 2008-06-05 | 2014-07-15 | Hitachi High-Technologies Corporation | Ion beam device |
JP5033844B2 (ja) * | 2009-06-30 | 2012-09-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオン顕微鏡 |
JP5969586B2 (ja) * | 2014-12-26 | 2016-08-17 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオンビーム装置 |
JP7002593B2 (ja) * | 2020-04-22 | 2022-01-20 | 株式会社日立ハイテク | ガリウム集束イオンビームとイオン顕微鏡複合装置 |
-
1987
- 1987-03-05 JP JP3239487U patent/JPH0353404Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS63139754U (ja) | 1988-09-14 |
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